JP2010219080A - 光学装置、ステージ装置、光学系及び露光装置 - Google Patents

光学装置、ステージ装置、光学系及び露光装置 Download PDF

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Abstract

【課題】光学素子の形状を高精度に制御性良く調整することができ、周辺部材の変形を招きにくい光学装置、ステージ装置、光学系及び露光装置を提供する。
【解決手段】投影光学系85は、一つの光学素子1Aを、それを保持すると共に光学素子1Aの形状を調整する光学装置30Aを介して鏡筒86に固定している。光学装置30Aは、光学素子1Aを保持する保持部3Aと、鏡筒86の一部に固定される固定部4Aと、を有して光学素子1Aを支持する剛性部材としての支持部材2Aと、鏡筒の一部6Aには接続されずに、支持部材2Aの表面又は内部に取り付けられて支持部材2Aに内力を発生させることによって光学素子1Aに変形力を加えるアクチュエータ素子7Aと、を有する。
【選択図】図1

Description

本発明は、光学装置、ステージ装置、光学系及び露光装置に関する。
投影露光装置において、投影光学系を構成する光学素子(レンズやミラー)を保持すると共にその形状を調整し、ボルトなどの締結部材を介して投影光学系の鏡筒フレームなどの固定部材に固定される光学装置は知られている(特許文献1〜3を参照)。また、投影露光装置において、原板(レチクルやマスク)や基板(ウエハやガラスプレート)をステージ本体(スライダ)に搭載した状態でその形状を調整するステージ装置も知られている(特許文献4を参照)。
特開2000−195788号公報 特表2003−532138号公報 特開2004−031491号公報 特許02694043号明細書
特許文献1は、光学素子の形状を調整する力の反力が投影光学系の鏡筒に伝わって他の光学素子の位置ズレを生じ、結果的に収差の増大を招く。特許文献2は、光学素子を保持する部材を変形させているので感度が高すぎて微小変形には不向きである。特許文献3は、光学素子を保持する部材とリングとの間に二次元板バネと二次元アクチュエータが設けられており、光学装置の剛性と固有振動数が低くなり、形状調整の制御が困難である。特許文献4も、レチクルに駆動部を直接取り付けており、感度が高すぎて微小変形には不向きである。
そこで、本発明は、光学素子の形状を高精度に制御性良く調整することができ、周辺部材の変形を招きにくい光学装置、ステージ装置、光学系及び露光装置を提供することを例示的な目的とする。
本発明の一側面としての光学系は、複数の光学素子から構成され、前記複数の光学素子を鏡筒に収納する光学系であって、前記複数の光学素子の少なくとも一つの光学素子は、当該光学素子を保持すると共に前記光学素子の形状を調整する光学装置を介して前記鏡筒に固定され、前記光学装置は、前記光学素子を保持する保持部と、前記鏡筒の一部に固定される固定部からなる剛性部材としての支持部材と、前記鏡筒の一部には接続されずに、前記支持部材の表面又は内部に取り付けられて前記支持部材に内力を発生させることによって前記光学素子に変形力を加えるアクチュエータ素子と、を有することを特徴とする。
本発明の別の側面としてのステージ装置は、被駆動体を支持すると共に前記被駆動体の形状を調整するステージ装置であって、前記被駆動体を吸着する吸着手段を備えたチャックと、前記チャックの表面又は内部に取り付けられて前記チャックに内力を発生させることによって前記被駆動体に変形力を加えるアクチュエータ素子と、を有することを特徴とする。
本発明は、光学素子の形状を高精度に制御性良く調整することができ、周辺部材の変形を招きにくい光学装置、ステージ装置、光学系及び露光装置を提供することができる。
図1(a)は本発明の実施例1の光学装置の断面図であり、図1(b)は図1(a)のA−A断面図である。 図1(a)に示す光学素子の平面図である。 図3(a)は本発明の実施例2の光学装置の断面図であり、図3(b)は図3(a)のB矢視平面図である。 図4(a)は本発明の実施例3の光学装置の平面図であり、図4(b)は図4(a)のC−C断面図である。 本発明の実施例4の光学装置の平面図である。 図6(a)は本発明の実施例5のステージ装置の斜視図であり、図6(b)は図6(a)に示すステージ装置のD−D断面図である。 図7(a)は本発明の実施例6のステージ装置の平面図であり、図7(b)は図7(a)に示すステージ装置のE−E断面図である。 本発明を適用可能な露光装置の光路図である。
以下、添付図面を参照して、本発明の実施例について説明する。まず、本発明を適用可能な露光装置50を、図8を参照して説明する。ここで、図8は、露光装置の光路図である。露光装置50は、光源部60、照明光学系70、原板ステージ装置80、投影光学系85、基板ステージ装置90を有する。
光源部60は、光源である水銀ランプ62と、水銀ランプ62からの光を集光及び反射する集光ミラー64を有する。なお、光源の種類は特に限定されない。
照明光学系70は、光源部60からの光で原板(マスク、レチクル)12を照明する光学系である。照明光学系70の構成も特に限定されない。ここでは、コールドミラー71は、露光に使用される光(露光光)Lを反射し、露光に使用されない不要な光を透過し、一部の波長の光は吸収する。光Lは、コンデンサレンズ73によって集光され、オプティカルインテグレータ74によって均一化され、絞り75を経て光源形状が調節される。その後、光Lは、コンデンサレンズ76、折り曲げミラー77、マスキングブレード78、結像レンズ79を経て原板12に照射される。
原板12は原板ステージ装置80によって駆動される。投影光学系85は、原板12のパターンの像を基板16に投影し、原板12と基板16を共役に維持する。投影光学系85は、複数の光学素子から構成され、これらの複数の光学素子を鏡筒86に収納する。基板16は基板ステージ装置90によって駆動される。
図1(a)は実施例1の光学装置30Aの断面図であり、図1(b)は図1(a)のA−A断面図である。図2は、図1(a)に示す光学素子1Aの平面図である。光学装置30Aは、光学系を構成する光学素子1Aを保持すると共に光学素子1Aの形状を調整する。光学装置30Aは、支持部材2Aと、アクチュエータ素子7Aと、を有する。
光学素子1Aは形状調整の対象であり、本実施例では、図8に示す投影光学系85を構成するミラーである。光学素子1Aは、図2に示すように、露光に使用される光が照射されて所定の表面形状を有する有効領域1aと、有効領域1aの外周の非照射領域1bと、非照射領域1bの周囲に等間隔(120度間隔)で設けられた3つの突起部1cと、を有する。非照射領域1bは、例えば有効領域1aを保持するものであっても良いし、光学素子1Aの一部であっても良い。突起部1cは、光学素子1Aに一体で加工されたもの、若しくはガラス、金属などの材料を光学素子1Aに接着したものであるが、材質や形状は限定されない。
支持部材2Aは、光学素子1Aを支持する剛性部材であり、保持部3Aと、固定部4Aと、を有する。
各保持部3Aは、光学素子1Aの対応する突起部1cに固定されて光学素子1Aを保持し、金属などの剛性材料から構成される。固定方法は、接着、溶接、ボルトなどを使用することができる。保持部3Aは固定部4Aと一体であるか、固定部4Aに接着、溶接、ボルトなどの固定手段によって固定される。この結果、支持部材2Aは、特許文献3のように二次元バネが介在しておらず全体として剛性及び固有振動数を高く維持することができる。このため、光学装置30Aは、制御性に優れている。
固定部4Aは、保持部3A及び光学素子1Aを支持する。また、固定部4Aは、締結部5を介して光学系の鏡筒の一部(フレーム)6Aにボルトやナットなどで固定される金属などから構成される剛性部材である。図1(b)に示すように、固定部4Aは、中空円盤形状(リング形状)を有する。締結部5は、固定部4Aと鏡筒の一部6Aのどちらかの一方に設けられればよい。
アクチュエータ素子7Aは、支持部材2Aに内力を発生させることによって光学素子1Aに変形力を加える変位部材である。即ち、アクチュエータ素子7Aは変形力を支持部材2Aに加えるが、その反力を外部部材に加えない。また、複数のアクチュエータ素子7Aを固定部4Aに配置して駆動してもその合力はゼロとなり、光学素子1Aの剛体移動である変位やチルトが生じないので、新たな光学収差は発生しない。更に、アクチュエータ素子7Aは、固定部4Aと保持部3Aとの接続部Tから離れて設けられているので、支持部材2Aの剛性を低減しない。
アクチュエータ素子7Aは、支持部材2A以外の部材には接続されておらず、締結部5や鏡筒の一部6Aには接続されない。これは、これらに反力を及ぼさないためである。この結果、鏡筒に収納された他の光学素子を変形させるおそれが極めて小さくなる。なお、アクチュエータ素子7Aは、駆動部であるが、電力を得て変位する部材であり、電源やケーブルなどが締結部5や鏡筒の一部6Aに接続されてもよい。
アクチュエータ素子7Aは、支持部材2Aの表面(裏面も含む)又は内部に取り付けられている。特に、内部に設けられれば光学装置30Aの小スペース化に有利である。支持部材2Aの表面又は内部であるから、保持部3Aの表面又は内部でもよいが、固定部4Aの表面又は内部に設けられれば変形感度は減少して微小変形が容易になる。
図1(a)では、アクチュエータ素子7Aは固定部4Aの内部に設けられている。より詳細には、図1(b)に示すように、アクチュエータ素子7Aは、固定部4Aに設けた設置用空間4c内に設置されて、アクチュエータ素子7Aの両側には固定部4Aの一部分4a、4bが残っている。アクチュエータ素子7Aは、図1(b)の矢印に示すように、固定部4Aと保持部3Aを介して光学素子1Aに変形力を加える。アクチュエータ素子7Aは、空圧素子、圧電素子、磁歪素子、リニアモータなどを利用することができるが、その種類、数、変形力の方向や強さは限定されない。
光学装置30Aは光学素子1Aを微小に変形させることができる。固定部4Aにある力Fを印加した場合の固定部4Aのある位置における変形量Xは、力Fの作用点と位置間の剛性Kによって決まる。X=F/Kというフックの法則により、アクチュエータ素子7Aで発生させる力Fが一定であれば、固定部4Aの剛性が高くなればなるほどその変形量は小さくなる。
よって、光学素子1Aを微小に変形させて形状を補正したい場合には、アクチュエータ素子7Aの分解能に基づいて固定部4Aの剛性を設計すれば、微小な形状を調整することができる。支持部材2Aの剛性が高くなれば光学装置30Aの固有振動数が高くなり、制御上有利である。
図3(a)は、実施例2の光学装置30Bの断面図であり、図3(b)は、図3(a)をB方向から見た平面図である。光学装置30Bは、固定部4Aの表面に貼り付けてあるシート状の圧電素子を用いたアクチュエータ素子7Bを有する、本実施例では、固定部4Aの内部に駆動機構設置用の空間を加工しなくてよいので製造が容易になる。アクチュエータ素子7Bは、固定部4Aの上面(表面)に貼り付けずに下面(裏面)に貼り付けてもよいし、上面と下面の両方に必要な数だけ貼り付けてもよい。また、固定部4Aの上下面以外に貼り付けてもよい。
図4(a)は実施例3の光学装置30Cの平面図であり、図4(b)は図4(a)のC−C断面図である。光学装置30Cは、光学系を構成する光学素子1Cを保持すると共に光学素子1Cの形状を調整する。光学素子1Cは、本実施例では、図8に示す投影光学系85を構成するレンズである。光学素子1Cの外周には接着剤8が塗布され、光学素子1Cは接着剤8を介して支持部材2Cに固定されている。
支持部材2Cは、断面L字形状を有するリング部材であり、接着剤8に接触している部分が保持部であり、締結部5を介して鏡筒の一部6Cに接続している部分が固定部である。保持部は、実施例1や実施例2のように離散的ではなく連続的に設けられている。
支持部材2Cは内部にアクチュエータ素子7Aを有し、これにより、光学素子1Cの面形状を調整することができる。アクチュエータ素子7Aの位置や数は限定されない。鏡筒の一部6Cは、光学素子1Cを透過した光が通過する開口部6Cを有する。
図5は、実施例4の光学装置30Dの平面図である。光学装置30Dは、光学装置30Aの構成要素に加えて、計測器9と、演算モジュール(演算手段)10、制御モジュール(制御手段)11を更に有する。
計測器9は、センサ9aと増幅器9bを有して光学素子1Aの形状を計測する。センサ9aからの計測信号は増幅器9bで増幅される。増幅器9bで増幅された信号は演算モジュール10に送られる。センサ9aはレーザ干渉計、静電容量センサ、渦電流センサ、歪ゲージなどが考えられるが、これらに限定されない。センサ9aは、その種類に応じた位置に設置される。例えば、静電容量センサ、渦電流センサ、歪ゲージの場合は光学素子1Aの有効領域1a以外の位置に必要な数だけ計測点を配置して、計測点における変位情報に基づいて光学素子1Aの面形状を測定する。光学素子1Aに計測点の配置が困難な場合には固定部4Aに計測点を配置してもよい。
演算モジュール10は、増幅器9bによる計測結果に基づいて光学素子1Aの形状と設定された形状との差を計算する。その後、面形状の差分データと、変形駆動の敏感度によって各駆動機構の駆動量が算出され、駆動量が制御モジュール11に送られる。変形駆動の敏感度とは、アクチュエータ素子7Aが単位の力又は変位を与えたときの光学素子1Aの面変形の量であり、前もって計算又は計測によって取得しておく。
制御モジュール11は、演算モジュール10が計算した前記差が小さくなるようにアクチュエータ素子7Aに駆動指令を出す。アクチュエータ素子7Aが、所望の駆動を行うことで光学素子1Aの面形状が調整される。
演算モジュール10と制御モジュール11は、コンピュータのプロセッサとして具現化され、露光装置50に備わっているものを使用してもよい。また、計測器9、演算モジュール10、制御モジュール11は光学装置30B及び30C、後述するステージ装置30E及び30Fにも適用可能である。
図6(a)は、実施例5のステージ装置30Eの斜視図であり、図6(b)は図6(a)のD−D断面図である。ステージ装置30Eは、原板12を保持及び駆動すると共に原板12の形状を調整する。原板12はステージ装置30Eによって駆動される被駆動体であり、不図示の基板に露光されるパターンを有する。ステージ装置30Eは、チャックと、複数のアクチュエータ素子7Bと、不図示のステージ本体(スライダ)と、を有し、図8に示す原板ステージ装置80に適用することができる。
原板12は透過型であるため、そのパターンを反映する回折光は一対の支持部材2Eの間を通って基部6Eの開口部6Eを通過する。原板12が反射型である場合には基部6Eの開口は不要である。
チャックは、一対の支持部材2Eと、基部6Eと、支持部材2Eを基部6Eに固定する不図示の固定手段と、を有し、被駆動体である原板を吸着する吸着手段を各支持部材2Eに備えている。
各支持部材2Eは原板12を吸着する真空吸着チャックとして機能する。支持部材2Eは、その上面2Eに形成された真空排気溝13と、一端が真空排気溝13に接続されて支持部材2Eの内部を延びて他端が支持部材2Eの側面2Eから外部の不図示の配管に接続される真空排気通路14と、を含む真空吸着機構を有する。不図示の配管は更に真空ポンプなどの吸引手段に接続されている。支持部材2Eは、不図示の吸引手段によって不図示の配管、真空排気通路14及び真空排気溝13を介して原板12の裏面の両縁部を吸引及び支持する。
支持部材2Eは基部6Eに不図示の固定手段を介して固定されており、基部6Eは不図示のステージ本体に更に搭載される。
複数のアクチュエータ素子7Bは支持部材2Eの側面2Eに配置されるシート状の圧電素子であり、支持部材2Eに内力を発生させることによって真空吸着面を介して原板12に変形力を加える変位部材である。アクチュエータ素子7Bはアクチュエータ素子7Aと同様の様々なアクチュエータを使用することができ、支持部材2Eの内部に設けられてもよい。十分小さな変形駆動の分解能を得るには、固定部4Aの剛性を十分高くなるように設計すればよい。
図7(a)は本発明の実施例6のステージ装置30Fの平面図であり、図7(b)は図7(a)に示すステージ装置30FのE−E断面図である。ステージ装置30Fは、基板16を保持及び駆動すると共に基板16の形状を調整する。基板16はステージ装置30Fによって駆動される被駆動体である。ステージ装置30Fは、チャックと、複数のアクチュエータ素子7Bと、不図示のステージ本体(スライダ)と、を有し、図8に示す基板ステージ装置90に適用することができる。
チャックは、支持部材2Fと、平板状の基部6Eと、支持部材2Fを基部6Fに固定する不図示の固定手段と、を有し、被駆動体である基板を吸着する吸着手段を支持部材2Fに備えている。吸着手段を備えたチャックは、本実施例にあるように、真空吸着チャックであってもよいし、その他のチャック(静電チャックなど)であってもよい。
支持部材2Fは基板16を吸着する真空チャックとして機能し、円筒形状を有する。支持部材2Fは真空吸着機構を有する。真空吸着機構は、その上面2Fの基板搭載領域に形成された複数の同心円状の真空排気溝17と、一端が真空排気溝17に接続されて支持部材2Fの内部を延びて他端が支持部材2Fの側面2Fから外部の不図示の配管に接続される真空排気通路18と、を含む。不図示の配管は更に真空ポンプなどの吸引手段に接続されている。支持部材2Fは、不図示の吸引手段によって不図示の配管と真空排気通路18を介して吸引された真空排気溝17を介して基板16の裏面を吸引及び支持する。
支持部材2Fは基部6Fに不図示の固定手段を介して固定され、基部6Fは不図示のステージ本体(スライダ)に更に搭載される。
複数のアクチュエータ素子7Bは支持部材2Eの上面2Fの縁部に周方向に配置されるシート状の圧電素子であり、アクチュエータ素子7Bの駆動力により支持部材2Fは変形する。アクチュエータ素子7Bはアクチュエータ素子7Aと同様の様々なアクチュエータを使用することができ、アクチュエータ素子7Bの設置位置は限定されず、支持部材2Fの側面2Fや内部に設けられてもよい。支持部材2Fの変形は真空吸着面を介して基板16に伝達され、基板16を変形させる。十分小さな変形駆動の分解能を得るには、支持部材2Fの剛性を十分高くなるように設計すればよい。
デバイス製造方法は、前述の露光装置を使用して感光剤を塗布した基板を露光する工程と、その基板を現像する工程と、他の周知の工程と、を経ることにより製造される。デバイスには半導体集積回路素子、液晶表示素子等がある。
以上、説明したように、光学装置30A〜30Fによれば、光学素子、原板又は基板の面形状を微小に調整することができる。また、アクチュエータ素子の反力は鏡筒や周辺部材に直接伝わらないのでそれらの変形は非常に小さい。アクチュエータ素子は、支持部材(又はチャック)の表面又は内部に設置されるので光学装置やステージ装置の小型化に有利である。
光学装置は、露光装置における、投影光学系、原板ステージ装置、基板ステージ装置の用途に適用することができる。露光装置は、デバイスを製造する用途に適用することができる。
1A、1C 光学素子
2A、2C、2E、2F 支持部材
3A 保持部
4A 固定部
6A、6C 鏡筒の一部
7A、7B アクチュエータ素子
9 計測器
10 演算モジュール(演算手段)
11 制御モジュール(制御手段)
12 原板(被駆動体)
16 基板(被駆動体)
30A〜30D 光学装置
30E、30F、80、90 ステージ装置
50 露光装置
85 投影光学系
86 鏡筒

Claims (8)

  1. 複数の光学素子から構成され、前記複数の光学素子を鏡筒に収納する光学系であって、
    前記複数の光学素子の少なくとも一つの光学素子は、当該光学素子を保持すると共に前記光学素子の形状を調整する光学装置を介して前記鏡筒に固定され、
    前記光学装置は、
    前記光学素子を保持する保持部と、前記鏡筒の一部に固定される固定部と、を有して前記光学素子を支持する剛性部材としての支持部材と、
    前記鏡筒の一部には接続されずに、前記支持部材の表面又は内部に取り付けられて前記支持部材に内力を発生させることによって前記光学素子に変形力を加えるアクチュエータ素子と、
    を有することを特徴とする光学系。
  2. 前記光学素子の形状を計測する計測器と、
    当該計測器による計測結果に基づいて前記光学素子の形状と設定された形状との差を計算する演算手段と、
    当該演算手段が計算した前記差が小さくなるように前記アクチュエータ素子に駆動指令を出す制御手段と、
    を更に有することを特徴とする請求項1に記載の光学系。
  3. 請求項1又は2に記載の光学系を有する露光装置。
  4. 被駆動体を支持すると共に前記被駆動体の形状を調整するステージ装置であって、
    前記被駆動体を吸着する吸着手段を備えたチャックと、
    前記チャックの表面又は内部に取り付けられて前記チャックに内力を発生させることによって前記被駆動体に変形力を加えるアクチュエータ素子と、
    を有することを特徴とするステージ装置。
  5. 前記被駆動体の形状を計測する計測器と、
    当該計測器による計測結果に基づいて前記被駆動体の形状と設定された形状との差を計算する演算手段と、
    当該演算手段が計算した前記差が小さくなるように前記アクチュエータ素子に駆動指令を出す制御手段と、
    を更に有することを特徴とする請求項4に記載のステージ装置。
  6. 請求項4又は5に記載のステージ装置を有することを特徴とする露光装置。
  7. 光学系を構成する複数の光学素子の少なくとも一つの光学素子を保持すると共に前記光学素子の形状を調整する光学装置であって、
    前記光学素子を保持する保持部と、前記光学系の鏡筒の一部に固定される固定部と、を有して前記光学素子を支持する剛性部材としての支持部材と、
    前記鏡筒の一部には接続されずに、前記支持部材の表面又は内部に取り付けられて前記支持部材に内力を発生させることによって前記光学素子に変形力を加えるアクチュエータ素子と、
    を有することを特徴とする光学装置。
  8. 請求項3又は6に記載の露光装置を使用して基板を露光するステップと、
    露光された前記基板を現像するステップと、
    を有することを特徴とするデバイス製造方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2012248849A (ja) * 2011-05-25 2012-12-13 Carl Zeiss Smt Gmbh 照明光学ユニットを設定する方法及び装置
CN113933948A (zh) * 2020-06-29 2022-01-14 上海微电子装备(集团)股份有限公司 镜组调节机构、可调式光学系统及光刻设备

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2694043B2 (ja) * 1990-10-08 1997-12-24 キヤノン株式会社 投影型露光装置
JPH10312957A (ja) * 1997-05-09 1998-11-24 Canon Inc 露光方法およびデバイス製造方法
JP2000195788A (ja) * 1998-12-23 2000-07-14 Carl Zeiss Stiftung Trading As Carl Zeiss 光学システム、特にマイクロリソグラフィ―に用いられる投影照明ユニット
JP2001343575A (ja) * 2000-03-31 2001-12-14 Nikon Corp 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにマイクロデバイスの製造方法。
JP2002519843A (ja) * 1998-06-20 2002-07-02 カール・ツアイス・スティフツング・トレーディング・アズ・カール・ツアイス 光学系、特にマイクロリソグラフィの投影露光装置
JP2003532138A (ja) * 2000-04-25 2003-10-28 エーエスエムエル ユーエス,インコーポレイテッド 光学系における収差の能動補償のための装置、システム、および方法
JP2004031491A (ja) * 2002-06-24 2004-01-29 Nikon Corp 光学素子保持機構、光学系鏡筒及び露光装置
JP2007206643A (ja) * 2006-02-06 2007-08-16 Canon Inc 光学素子駆動装置、露光装置およびデバイス製造方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2694043B2 (ja) * 1990-10-08 1997-12-24 キヤノン株式会社 投影型露光装置
JPH10312957A (ja) * 1997-05-09 1998-11-24 Canon Inc 露光方法およびデバイス製造方法
JP2002519843A (ja) * 1998-06-20 2002-07-02 カール・ツアイス・スティフツング・トレーディング・アズ・カール・ツアイス 光学系、特にマイクロリソグラフィの投影露光装置
JP2000195788A (ja) * 1998-12-23 2000-07-14 Carl Zeiss Stiftung Trading As Carl Zeiss 光学システム、特にマイクロリソグラフィ―に用いられる投影照明ユニット
JP2001343575A (ja) * 2000-03-31 2001-12-14 Nikon Corp 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにマイクロデバイスの製造方法。
JP2003532138A (ja) * 2000-04-25 2003-10-28 エーエスエムエル ユーエス,インコーポレイテッド 光学系における収差の能動補償のための装置、システム、および方法
JP2004031491A (ja) * 2002-06-24 2004-01-29 Nikon Corp 光学素子保持機構、光学系鏡筒及び露光装置
JP2007206643A (ja) * 2006-02-06 2007-08-16 Canon Inc 光学素子駆動装置、露光装置およびデバイス製造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012248849A (ja) * 2011-05-25 2012-12-13 Carl Zeiss Smt Gmbh 照明光学ユニットを設定する方法及び装置
CN113933948A (zh) * 2020-06-29 2022-01-14 上海微电子装备(集团)股份有限公司 镜组调节机构、可调式光学系统及光刻设备

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