JP2010219080A - 光学装置、ステージ装置、光学系及び露光装置 - Google Patents
光学装置、ステージ装置、光学系及び露光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010219080A JP2010219080A JP2009060372A JP2009060372A JP2010219080A JP 2010219080 A JP2010219080 A JP 2010219080A JP 2009060372 A JP2009060372 A JP 2009060372A JP 2009060372 A JP2009060372 A JP 2009060372A JP 2010219080 A JP2010219080 A JP 2010219080A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical
- optical element
- shape
- support member
- optical system
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
【解決手段】投影光学系85は、一つの光学素子1Aを、それを保持すると共に光学素子1Aの形状を調整する光学装置30Aを介して鏡筒86に固定している。光学装置30Aは、光学素子1Aを保持する保持部3Aと、鏡筒86の一部に固定される固定部4Aと、を有して光学素子1Aを支持する剛性部材としての支持部材2Aと、鏡筒の一部6Aには接続されずに、支持部材2Aの表面又は内部に取り付けられて支持部材2Aに内力を発生させることによって光学素子1Aに変形力を加えるアクチュエータ素子7Aと、を有する。
【選択図】図1
Description
2A、2C、2E、2F 支持部材
3A 保持部
4A 固定部
6A、6C 鏡筒の一部
7A、7B アクチュエータ素子
9 計測器
10 演算モジュール(演算手段)
11 制御モジュール(制御手段)
12 原板(被駆動体)
16 基板(被駆動体)
30A〜30D 光学装置
30E、30F、80、90 ステージ装置
50 露光装置
85 投影光学系
86 鏡筒
Claims (8)
- 複数の光学素子から構成され、前記複数の光学素子を鏡筒に収納する光学系であって、
前記複数の光学素子の少なくとも一つの光学素子は、当該光学素子を保持すると共に前記光学素子の形状を調整する光学装置を介して前記鏡筒に固定され、
前記光学装置は、
前記光学素子を保持する保持部と、前記鏡筒の一部に固定される固定部と、を有して前記光学素子を支持する剛性部材としての支持部材と、
前記鏡筒の一部には接続されずに、前記支持部材の表面又は内部に取り付けられて前記支持部材に内力を発生させることによって前記光学素子に変形力を加えるアクチュエータ素子と、
を有することを特徴とする光学系。 - 前記光学素子の形状を計測する計測器と、
当該計測器による計測結果に基づいて前記光学素子の形状と設定された形状との差を計算する演算手段と、
当該演算手段が計算した前記差が小さくなるように前記アクチュエータ素子に駆動指令を出す制御手段と、
を更に有することを特徴とする請求項1に記載の光学系。 - 請求項1又は2に記載の光学系を有する露光装置。
- 被駆動体を支持すると共に前記被駆動体の形状を調整するステージ装置であって、
前記被駆動体を吸着する吸着手段を備えたチャックと、
前記チャックの表面又は内部に取り付けられて前記チャックに内力を発生させることによって前記被駆動体に変形力を加えるアクチュエータ素子と、
を有することを特徴とするステージ装置。 - 前記被駆動体の形状を計測する計測器と、
当該計測器による計測結果に基づいて前記被駆動体の形状と設定された形状との差を計算する演算手段と、
当該演算手段が計算した前記差が小さくなるように前記アクチュエータ素子に駆動指令を出す制御手段と、
を更に有することを特徴とする請求項4に記載のステージ装置。 - 請求項4又は5に記載のステージ装置を有することを特徴とする露光装置。
- 光学系を構成する複数の光学素子の少なくとも一つの光学素子を保持すると共に前記光学素子の形状を調整する光学装置であって、
前記光学素子を保持する保持部と、前記光学系の鏡筒の一部に固定される固定部と、を有して前記光学素子を支持する剛性部材としての支持部材と、
前記鏡筒の一部には接続されずに、前記支持部材の表面又は内部に取り付けられて前記支持部材に内力を発生させることによって前記光学素子に変形力を加えるアクチュエータ素子と、
を有することを特徴とする光学装置。 - 請求項3又は6に記載の露光装置を使用して基板を露光するステップと、
露光された前記基板を現像するステップと、
を有することを特徴とするデバイス製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009060372A JP2010219080A (ja) | 2009-03-13 | 2009-03-13 | 光学装置、ステージ装置、光学系及び露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009060372A JP2010219080A (ja) | 2009-03-13 | 2009-03-13 | 光学装置、ステージ装置、光学系及び露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010219080A true JP2010219080A (ja) | 2010-09-30 |
JP2010219080A5 JP2010219080A5 (ja) | 2012-04-26 |
Family
ID=42977642
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009060372A Pending JP2010219080A (ja) | 2009-03-13 | 2009-03-13 | 光学装置、ステージ装置、光学系及び露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2010219080A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012248849A (ja) * | 2011-05-25 | 2012-12-13 | Carl Zeiss Smt Gmbh | 照明光学ユニットを設定する方法及び装置 |
CN113933948A (zh) * | 2020-06-29 | 2022-01-14 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 镜组调节机构、可调式光学系统及光刻设备 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2694043B2 (ja) * | 1990-10-08 | 1997-12-24 | キヤノン株式会社 | 投影型露光装置 |
JPH10312957A (ja) * | 1997-05-09 | 1998-11-24 | Canon Inc | 露光方法およびデバイス製造方法 |
JP2000195788A (ja) * | 1998-12-23 | 2000-07-14 | Carl Zeiss Stiftung Trading As Carl Zeiss | 光学システム、特にマイクロリソグラフィ―に用いられる投影照明ユニット |
JP2001343575A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-12-14 | Nikon Corp | 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにマイクロデバイスの製造方法。 |
JP2002519843A (ja) * | 1998-06-20 | 2002-07-02 | カール・ツアイス・スティフツング・トレーディング・アズ・カール・ツアイス | 光学系、特にマイクロリソグラフィの投影露光装置 |
JP2003532138A (ja) * | 2000-04-25 | 2003-10-28 | エーエスエムエル ユーエス,インコーポレイテッド | 光学系における収差の能動補償のための装置、システム、および方法 |
JP2004031491A (ja) * | 2002-06-24 | 2004-01-29 | Nikon Corp | 光学素子保持機構、光学系鏡筒及び露光装置 |
JP2007206643A (ja) * | 2006-02-06 | 2007-08-16 | Canon Inc | 光学素子駆動装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
-
2009
- 2009-03-13 JP JP2009060372A patent/JP2010219080A/ja active Pending
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2694043B2 (ja) * | 1990-10-08 | 1997-12-24 | キヤノン株式会社 | 投影型露光装置 |
JPH10312957A (ja) * | 1997-05-09 | 1998-11-24 | Canon Inc | 露光方法およびデバイス製造方法 |
JP2002519843A (ja) * | 1998-06-20 | 2002-07-02 | カール・ツアイス・スティフツング・トレーディング・アズ・カール・ツアイス | 光学系、特にマイクロリソグラフィの投影露光装置 |
JP2000195788A (ja) * | 1998-12-23 | 2000-07-14 | Carl Zeiss Stiftung Trading As Carl Zeiss | 光学システム、特にマイクロリソグラフィ―に用いられる投影照明ユニット |
JP2001343575A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-12-14 | Nikon Corp | 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにマイクロデバイスの製造方法。 |
JP2003532138A (ja) * | 2000-04-25 | 2003-10-28 | エーエスエムエル ユーエス,インコーポレイテッド | 光学系における収差の能動補償のための装置、システム、および方法 |
JP2004031491A (ja) * | 2002-06-24 | 2004-01-29 | Nikon Corp | 光学素子保持機構、光学系鏡筒及び露光装置 |
JP2007206643A (ja) * | 2006-02-06 | 2007-08-16 | Canon Inc | 光学素子駆動装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012248849A (ja) * | 2011-05-25 | 2012-12-13 | Carl Zeiss Smt Gmbh | 照明光学ユニットを設定する方法及び装置 |
CN113933948A (zh) * | 2020-06-29 | 2022-01-14 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 镜组调节机构、可调式光学系统及光刻设备 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8202671B2 (en) | Protective apparatus, mask, mask forming apparatus, mask forming method, exposure apparatus, device fabricating method, and foreign matter detecting apparatus | |
JP2004031491A (ja) | 光学素子保持機構、光学系鏡筒及び露光装置 | |
EP1079223A1 (en) | Aberration measuring instrument and measuring method, projection exposure apparatus provided with the instrument and device-manufacturing method using the measuring method, and exposure method | |
US20070014036A1 (en) | Retainer, exposure apparatus, and device fabrication method | |
JP5168507B2 (ja) | 光学素子保持機構、光学系鏡筒及び露光装置 | |
JP2011119551A (ja) | 光学部材変形装置、光学系、露光装置、デバイスの製造方法 | |
TW200848828A (en) | Optical element holding apparatus | |
JP2010219080A (ja) | 光学装置、ステージ装置、光学系及び露光装置 | |
JP2002141270A (ja) | 露光装置 | |
JP5127515B2 (ja) | 光学素子保持装置 | |
JP6808381B2 (ja) | 保持装置、投影光学系、露光装置、および物品製造方法 | |
TW552469B (en) | Apparatus and method of holding mask, and exposure apparatus | |
JP2007173323A (ja) | 光学特性測定装置、露光装置、光学特性測定方法及びデバイスの製造方法 | |
JP2011035102A (ja) | 光学素子の保持装置、それを用いた露光装置、及びデバイスの製造方法 | |
US8355218B2 (en) | Optical element position adjusting mechanism and optical element position adjusting method, exposure apparatus using same, and device manufacturing method | |
TW201007376A (en) | Deforming mechanism, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
JP2010135492A (ja) | 露光装置およびデバイス製造方法 | |
JP2006066836A (ja) | 光学部材の支持構造、及び露光装置 | |
JP4174262B2 (ja) | 光学要素の支持構造、光学系、光学系の調整方法、露光装置、露光方法、半導体デバイス製造方法 | |
JP2017116868A (ja) | リソグラフィ装置、物品の製造方法、ステージ装置及び計測装置 | |
JP5556155B2 (ja) | 光学部材変形装置、光学系、露光装置、デバイスの製造方法 | |
US20130250271A1 (en) | Stage assembly with secure device holder | |
JP2001201846A (ja) | 枠部材、マスクと露光装置 | |
JP6929024B2 (ja) | 光学装置、露光装置及び物品の製造方法 | |
US20110065051A1 (en) | Supporting device, optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120313 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120313 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130213 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130219 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130618 |