JP6929024B2 - 光学装置、露光装置及び物品の製造方法 - Google Patents
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Description
前記反射面の反対側の面に取り付けられる第1の永久磁石と、前記ベースプレートの前記第1の永久磁石に対向する位置に配置される第2の永久磁石とを含む補正ユニットと、前記反射面の反対側の面に前記第1の永久磁石とは異なる位置に取り付けられる第3の磁石と、前記ベースプレートの前記第3の磁石に対向する位置に配置されるコイルとを含むアクチュエータと、を有し、前記補正ユニットは、前記反射面の形状を測定する計測部により計測された形状誤差を低減するように前記光学素子に力を加え、 前記補正ユニットにより前記反射面の形状誤差を低減した状態で、前記変位センサの計測値に基づいて、前記光学装置の光学特性を変更するために前記アクチュエータにより前記光学素子に力を加えて前記反射面の形状を変える、ことを特徴とする。
次に、図2及び図3を参照して第1実施形態の光学装置10及び形状誤差の補正方法について説明する。光学装置10は、例えば、反射ミラー型の露光装置に用いられる大口径凹面ミラー装置である。図2は、光学装置の断面図である。光学装置10は、ミラー1とベースプレート5と複数の形状誤差補正ユニット(補正ユニット)2とを備える。ミラー1は、光を反射する反射面1aと、反射面の反対側の面である裏面1bとを有する光学素子である。ミラー1は、固定部材6を介して、ベースプレート5に固定されている。ベースプレート5は、裏面1bに離間して配置されている。
次に、図4及び図5を参照して第2実施形態の光学装置20及び形状誤差の補正方法について説明する。なお、図4及び図5において、第1実施形態と共通する部材には同じ符号を付し、その説明を省略する。図4は、第2実施形態に係る光学装置の断面図である。光学装置20は、例えば、反射ミラー型の露光装置に用いられる大口径凹面ミラー装置であり、図1の露光装置ではミラー1に適用されうる。第2実施形態の光学装置20は、例えば、露光装置の投影光学系に含まれるミラー1の反射面1aを変形させることによって投影光学系の光学収差や、投影像の倍率や歪みやフォーカスを補正する。光学装置20は、ミラー1と、ベースプレート5と、複数のアクチュエータ7と、複数の変位センサ14と、制御部11とを含む。
本実施形態にかかる物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程(基板を露光する工程)と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。さらに、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
2 補正ユニット
3 ミラー側磁石
4 ベース側磁石
5 ベース
Claims (11)
- 光学素子の反射面を変形させる光学装置であって、
前記反射面の反対側の面に離間して配置されるベースプレートと、
前記ベースプレートと前記反射面の反対側の面との距離を計測する変位センサと、
前記反射面の反対側の面に取り付けられる第1の永久磁石と、前記ベースプレートの前記第1の永久磁石に対向する位置に配置される第2の永久磁石とを含む補正ユニットと、
前記反射面の反対側の面に前記第1の永久磁石とは異なる位置に取り付けられる第3の磁石と、前記ベースプレートの前記第3の磁石に対向する位置に配置されるコイルとを含むアクチュエータと、を有し、
前記補正ユニットは、前記反射面の形状を測定する計測部により計測された形状誤差を低減するように前記光学素子に力を加え、
前記補正ユニットにより前記反射面の形状誤差を低減した状態で、前記変位センサの計測値に基づいて、前記光学装置の光学特性を変更するために前記アクチュエータにより前記光学素子に力を加えて前記反射面の形状を変える、ことを特徴とする光学装置。 - 前記アクチュエータは、前記補正ユニットが前記光学素子に力を加える位置とは異なる前記光学素子の位置に力を加えることを特徴とする請求項1に記載の光学装置。
- 前記補正ユニットは、前記反射面の形状を保持させるように前記光学素子に力を加えることを特徴とする請求項1または2に記載の光学装置。
- 前記補正ユニットは、前記第1の永久磁石と前記第2の永久磁石により発生する反発力または吸引力により、前記反射面の形状を補正することを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の光学装置。
- 前記第2の永久磁石の極性を変えることで、前記反発力と前記吸引力を切り替えることを特徴とする請求項4に記載の光学装置。
- 前記第2の永久磁石の極性は、前記反射面の形状を測定する計測部により計測された形状誤差に基づいて変えることを特徴とする請求項5に記載の光学装置。
- 前記第2の永久磁石の位置を調整することで、前記第1の永久磁石と前記第2の永久磁石との距離を調整する調整機構をさらに有することを特徴とする請求項1ないし6のうちいずれか1項に記載の光学装置。
- 前記調整機構は、前記反射面の形状を測定する計測部により計測された形状誤差に基づいて前記第2の永久磁石の位置を調整することを特徴とする請求項7に記載の光学装置。
- 前記アクチュエータは、前記変位センサが計測した前記距離に基づいて駆動することを特徴とする請求項1ないし8のいずれか1項に記載の光学装置。
- 請求項1ないし9のいずれか1項に記載の光学装置を有することを特徴とする露光装置。
- 請求項10に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記露光された前記基板を現像する工程と、を含み、
現像された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
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