JP6336274B2 - 光学装置、投影光学系、露光装置、および物品の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、ミラーの反射面を変形させる光学装置、それを用いた投影光学系、露光装置、および物品の製造方法に関する。

半導体デバイスなどの製造に用いられる露光装置の解像度を向上させるため、露光装置における投影光学系の光学収差を補正することが求められている。特許文献１には、投影光学系に含まれるミラーの反射面を変形させることによって投影光学系の光学収差を補正する光学装置が提案されている。

特許文献１に記載された光学装置では、ミラーはその周縁部において支持部材によって支持されており、ミラーの裏面（反射面の反対側の面）に力を加える複数のパッシブアクチュエータと複数のアクティブアクチュエータとが設けられている。複数のパッシブアクチュエータは、ミラーの加工や組み立てに起因する誤差など、時間の経過に対する形状変動が小さいミラーの形状誤差を補正するために用いられる。一方で、複数のアクティブアクチュエータは、１枚の基板を露光する期間に生じる誤差など、時間の経過に対する形状変動が大きいミラーの形状誤差を補正するために用いられる。

特開２００５−４１４６号公報

露光装置には、投影光学系の光学収差をリアルタイムかつ高精度に補正することが求められているため、光学装置には、投影光学系に用いられるミラーの反射面を高速かつ高精度に変形する必要がある。それを実現するためには、アクチュエータの駆動に対するミラーの反射面の変形量（ミラーの敏感度）が小さく、駆動制御が簡単に行えることが好ましい。本発明者は、ミラーの中心部を固定部材によりベースプレートに固定する光学装置では、単位量の外力を受けたときの変形が小さい（剛性の高い）アクチュエータをミラーの中心から遠い位置に配置することによりミラーの敏感度を小さくできることを見出した。このようにミラーの敏感度を小さくする着想については、特許文献１に記載されていない。

そこで、本発明は、ミラーの反射面を高速かつ高精度に変形させる上で有利な光学装置を提供することを例示的目的とする。

上記目的を達成するために、本発明の一側面としての光学装置は、ミラーの反射面を変形させる光学装置であって、ベースプレートと、前記ミラーの中心を含む前記ミラーの一部を前記ベースプレートに固定する固定部材と、前記ミラーに接続される第１端と前記ベースプレートに接続される第２端とをそれぞれ有し、前記反射面の反対側の裏面にそれぞれ力を加えて前記反射面を変形させる複数のアクチュエータと、を含み、前記複数のアクチュエータは、前記反射面を変形させる複数の第１アクチュエータおよび複数の第２アクチュエータを含み、前記複数の第２アクチュエータの各々は、単位量の外力を受けたときにおける前記第１端と前記第２端との距離の変化が前記複数の第１アクチュエータの各々より大きく、前記複数の第１アクチュエータは、各第１アクチュエータと前記ミラーの中心との距離が、前記ミラーの中心と前記ミラーの外周との距離の半分より長くなるように配置されている、ことを特徴とする。

本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。

本発明によれば、例えば、ミラーの反射面を高速かつ高精度に変形させる上で有利な光学装置を提供することができる。

第１実施形態の光学装置の構成例を示す概略図である。 第１アクチュエータをヒンジ部材を介してミラーおよびベースプレートに接続する構成を示す概略図である。 第１実施形態の光学装置の構成例を示す概略図である。 第１アクチュエータと第２アクチュエータとの配置に関する解析モデル１を示す図である。 第１アクチュエータと第２アクチュエータとの配置に関する解析モデル２を示す図である。 第１アクチュエータと第２アクチュエータとの配置に関する解析モデル３を示す図である。 解析モデル１〜３におけるミラーの敏感度の解析結果を示す図である。 第１実施形態の光学装置の構成例を示す概略図である。 露光装置の構成例を示す概略図である。

以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材ないし要素については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。

＜第１実施形態＞
第１実施形態の光学装置１００について、図１を参照しながら説明する。図１（ａ）は、第１実施形態の光学装置１００を示す断面図である。第１実施形態の光学装置１００は、例えば、露光装置の投影光学系に含まれるミラー１の反射面１ａを変形させることによって投影光学系の光学収差を補正する。第１実施形態の光学装置１００は、ベースプレート６と、固定部材７と、複数のアクチュエータと、複数の変位センサ３と、制御部１０とを含みうる。

ミラー１は、光を反射する反射面１ａと、反射面１ａの反対側の面である裏面１ｂとを有し、ミラー１の中心を含むミラー１の一部（以下、中心部）が固定部材７を介してベースプレート６に固定されている。このようにミラー１の中心部をベースプレート６に固定するのは、露光装置の投影光学系に用いられるミラー１においては、ミラー１の中心部に光が照射されないことが多く、ミラー１の中心部を変形させる必要性が小さいからである。

複数のアクチュエータの各々は、ミラー１に接続される第１端とベースプレート６に接続される第２端とを有し、ミラー１の裏面１ｂに力を加える。また、複数のアクチュエータは、複数の第１アクチュエータ２と、単位量の外力を受けたときにおける第１端と第２端との距離の変化が第１アクチュエータ２より大きい複数の第２アクチュエータ４とを含む。以下では、単位量の外力を受けたときにおける第１端と第２端との距離の変化のことを「剛性」と呼ぶ。

複数の第１アクチュエータ２の各々は、ミラー１とベースプレート６との間に配置され、ミラー１の中心とミラー１の外周との中間位置より外側における領域（以下、外側領域）に力を加える。各第１アクチュエータ２は、ミラー１の裏面１ｂに接続する第１端２ａとベースプレート６に接続する第２端２ｂとを有し、第１端２ａと第２端２ｂとの距離を変化させるように変形する。これにより、第１端２ａが接続された裏面１ｂの箇所に力を加えることができる。第１アクチュエータ２としては、例えば、ピエゾアクチュエータや磁歪アクチュエータ、電動のねじ部材など、高い剛性を有するアクチュエータが用いられうる。ここで、図１では、第１アクチュエータ２の第１端２ａとミラー１の裏面１ｂとが直接に接続され、第２端２ｂとベースプレート６とが直接に接続されているが、それに限られるものではない。第１アクチュエータ２の第１端２ａとミラー１の裏面１ｂとが弾性体や剛体などを介して接続され、第２端２ｂとベースプレート６とが弾性体や剛体などを介して接続されてもよい。例えば、図２に示すように、第１アクチュエータ２の第１端２ａとミラー１の裏面１ｂとがヒンジ部材８を介して接続されてもよい。また、第１アクチュエータ２の第２端２ｂとベースプレート６とがヒンジ部材８を介して接続されてもよい。このようにヒンジ部材８を用いることにより、第１アクチュエータ２の駆動力をミラー１の形状誤差となる他の成分をほとんど発生させることなくミラー１の裏面１ｂに効率よく伝達させることができる。

複数の変位センサ３の各々は、各第１アクチュエータ２の近傍に設けられており、各第１アクチュエータ２における第１端２ａと第２端２ｂとの間の変位を検出する。以下では、第１アクチュエータ２における第１端２ａと第２端２ｂとの間の変位を「駆動変位」と呼ぶ。このように複数の変位センサ３を設けることにより、各変位センサ３で検出された各第１アクチュエータ２の駆動変位に基づいて各第１アクチュエータ２のフィードバック制御を行うことができる。例えば、第１アクチュエータ２としてピエゾアクチュエータを用いた場合、ピエゾアクチュエータにはヒステリシスが生じるため、ピエゾアクチュエータでは、指令値（電圧）に相当する駆動変位が得られないことがある。そのため、光学装置１００では、複数の第１アクチュエータの各々における駆動状態を示す情報を検出するセンサを設けることが好ましい。第１実施形態では、当該センサとして変位センサ３が用いられ、駆動状態を示す情報として第１アクチュエータ２の駆動変位が検出される。そして、第１アクチュエータ２としてピエゾアクチュエータを用いた場合、各ピエゾアクチュエータは、変位センサ３によって検出された駆動変位（変位センサ３の出力）と目標変位との差に基づいた指令値によってフィードバック制御される。

ここで、第１実施形態の光学装置１００では、第１アクチュエータ２の駆動状態を示す情報を検出するセンサとして変位センサ３が設けられているが、それに限られるものではない。例えば、変位センサ３の代わりに、第１アクチュエータの駆動力を検出する力センサを設けてもよい。力センサは、第１アクチュエータ２の第１端２ａとミラー１の裏面１ｂとの間、もしくは第２端２ｂとベースプレート６との間に配置されうる。そして、力センサは、第１アクチュエータ２の駆動状態を示す情報として、第１アクチュエータ２がミラー１の裏面１ｂに加える力、即ち、第１アクチュエータ２の駆動力を検出する。このように力センサを設ける場合では、力センサによって検出された駆動力に基づいて各第１アクチュエータ２がフィードバック制御される。

このように第１アクチュエータ２には、駆動状態を示す情報を検出するセンサを設ける必要があり、そのセンサからの出力に基づいて第１アクチュエータ２の制御が行われる。そのため、ミラー１の反射面１ａを変形する際における各アクチュエータの制御の複雑さやコストの観点から、第１アクチュエータ２の数をできるだけ少なくすることが好ましい。そこで、第１実施形態の光学装置１００では、複数の第１アクチュエータ２に加えて、第１アクチュエータより剛性が低く、かつ第１アクチュエータ２より数が多い複数の第２アクチュエータ４が用いられる。

複数の第２アクチュエータ４の各々は、ミラー１とベースプレート６との間に配置され、ミラー１の裏面１ｂに力を加える。各第２アクチュエータ４としては、第１アクチュエータ２より剛性の低いアクチュエータが用いられる。例えば、互いに接触しない可動子４ａと固定子４ｂとを含む非接触型のアクチュエータ（リニアモータや静電アクチュエータ、電磁石など）を第２アクチュエータ４として用いるとよい。そして、可動子４ａと固定子４ｂとのうち一方（第１端を含む）がベースプレート６に固定され、他方（第２端を含む）がミラー１の裏面１ｂに固定される。第１実施形態では、可動子４ａがミラー１の裏面に固定され、固定子４ｂが部材５を介してベースプレート６に固定されている。これにより、各第２アクチュエータ４は、ミラー１の裏面１ｂに力を加えてミラー１とベースプレート６との間の距離を変更することができる。ここで、第２アクチュエータ４には、第１アクチュエータ２と異なり、第２アクチュエータ４の駆動状態を示す情報を検出するセンサ（例えば変位センサ）が設ける必要がない。これは、第２アクチュエータ４として用いられる非接触型のアクチュエータにはヒステリシスが生じにくく、第２アクチュエータ４への指令値（電流または電圧）に相当する駆動変位が得られるからである。即ち、第２アクチュエータ４では、変位センサの検出結果を用いてフィードバック制御する必要が生じないからである。また、第２アクチュエータ４は、第１アクチュエータ２に用いられるような剛性の高いアクチュエータと、それに直列に接続された弾性体（コイルばねや板ばねなど）を含むように構成されてもよい。

制御部１０は、ＣＰＵやメモリなどを有し、ミラー１の反射面１ａの形状と目標形状との偏差に基づいて各第１アクチュエータ２の駆動と各第２アクチュエータ４の駆動とをフィードバック制御する。ミラー１の反射面１ａの形状は、例えば、各第１アクチュエータ２に設けられた変位センサ３の検出結果に基づいて算出されてもよいし、図３に示すように、ミラー１の反射面１ａの形状を計測する計測部３０を用い、その計測結果から取得されてもよい。計測部３０としては、例えば、干渉計やシャック・ハルトマンセンサなどが用いられうる。計測部３０を用いる場合は、変位センサ３を設けなくてもよい。また、目標形状は、光学装置１００が含まれる投影光学系の光学収差が許容範囲に収まるように決定されうる。

次に、第１実施形態の光学装置１００における複数の第１アクチュエータ２と複数の第２アクチュエータ４との配置について、図１（ｂ）を参照しながら説明する。図１（ｂ）は、第１実施形態の光学装置１００における複数のアクチュエータの配置例を示す図である。図１（ｂ）において、黒丸は第１アクチュエータ２を示し、白丸は第２アクチュエータ４を示す。

露光装置においては、投影光学系の光学収差をリアルタイムかつ高精度に補正することが求められているため、光学装置では、ミラー１の反射面１ａを高速かつ高精度に変形させることが好ましい。第１実施形態の光学装置１００では、第１アクチュエータ２として、ピエゾアクチュエータや磁歪アクチュエータなど応答速度が比較的高いアクチュエータが適用される。また、第２アクチュエータ４としても、リニアモータや静電アクチュエータ、電磁石など応答速度が比較的高いアクチュエータが適用される。そして、複数の第１アクチュエータ２および複数の第２アクチュエータ４は、ミラー１の反射面１ａの形状が目標形状に近づくように制御部１０によって制御される。これにより、ミラー１の反射面１ａを高速に変形させることを実現することができる。

一方で、ミラー１の反射面１ａを高精度に変形させるためには、各アクチュエータ（第１アクチュエータ２や第２アクチュエータ４）の駆動に対するミラー１の反射面１ａにおける敏感度（以下、ミラー１の敏感度）を小さくすることが好ましい。ミラー１の敏感度とは、例えば、アクチュエータを所定量だけ駆動した際にミラー１の反射面１ｂが変形する量のことであり、ミラー１として大口径かつ薄型のミラーが用いられる場合、ミラー１が大口径かつ薄型になるにつれて大きくなりうる。そのため、ミラー１を高精度に変形させるためには非常に高い駆動分解能が要求され、駆動制御が難しくなる。さらに、アクチュエータの駆動範囲と駆動分解能との比（通常、ダイナミックレンジと呼ばれる）の非常に大きいアクチュエータが要求され、このような広いダイナミックレンジを有するアクチュエータを製造できないことも考えられる。よって、大口径かつ薄型のミラーがミラー１として用いられる場合は、特に、ミラー１の敏感度を小さくすることが望まれる。このようにミラー１の敏感度を小さくすることで、例えば、ミラー１の反射面１ａに小さな変形を生じさせる際において、各第１アクチュエータ２および各第２アクチュエータ４の制御を容易にすることができる。また、ミラー１の敏感度を小さくすることで、各アクチュエータの駆動力に誤差が生じている場合があっても、その駆動力の誤差に対するミラー１の反射面１ａの変形を小さくすることができる。そこで、第１実施形態の光学装置１００では、ミラー１の敏感度が小さくなるように複数の第１アクチュエータ２と複数の第２アクチュエータ４とが配置されている。ここで、複数の第１アクチュエータ２と複数の第２アクチュエータ４との配置に対するミラー１の敏感度を解析した結果について、図４〜図７を参照しながら説明する。

以下に、複数の第１アクチュエータ２と複数の第２アクチュエータ４との配置が互いに異なる３つの解析モデル１〜３を用いて、ミラー１の敏感度を解析した結果について説明する。ミラー１の敏感度の解析において用いられたミラー１および光学装置１００の各部の諸元は表１に示すとおりである。表１において、ピエゾアクチュエータは第１アクチュエータ２として用いられ、リニアモータは可動子４ａの磁石と、磁石にギャップを介して対向するように配置される固定子４ｂのコイルからなり、第２アクチュエータとして用いられる。また、ミラー１の敏感度の解析では、複数のアクチュエータ（第１アクチュエータ２または第２アクチュエータ４）を配置する位置は３つの解析モデル１〜３で同じである。そして、解析モデル１〜３では、表２に示すように、ミラー１の中心からＤ_３／２の距離だけ離れた第１位置１１に８個、Ｄ_４／２の距離だけ離れた第２位置１２に１６個、およびＤ_５／２の距離だけ離れた第３位置１３に１６個のアクチュエータが配置される。

まず、３つの解析モデル１〜３について、図４〜図６を参照しながら説明する。図４は、第１アクチュエータ２を用いずに、複数の第２アクチュエータ４のみを配置した解析モデル１を示す図である。図４（ａ）は、解析モデル１を横（Ｙ方向）から見たときの図を示し、図４（ｂ）は、解析モデル１における複数の第２アクチュエータ４の配置を示す図である。図５は、８個の第１アクチュエータ２を第２位置１２に等間隔で配置した解析モデル２を示す図である。図５（ａ）は、解析モデル２を横（Ｙ方向）から見たときの図を示し、図５（ｂ）は、解析モデル２における複数の第１アクチュエータ２および複数の第２アクチュエータ４の配置を示す図である。図６は、８個の第１アクチュエータ２を第３位置１３に等間隔で配置した解析モデル３を示す図である。図６（ａ）は、解析モデル３を横（Ｙ方向）から見たときの図を示し、図６（ｂ）は、解析モデル３における複数の第１アクチュエータ２および複数の第２アクチュエータ４の配置を示す図である。

次に、解析モデル１〜３におけるミラー１の敏感度の解析結果について、図７を参照しながら説明する。図７は、各アクチュエータ（第１アクチュエータ２または第２アクチュエータ４）の駆動力に１ｍＮの誤差が生じた場合におけるミラー１の反射面１ａの変形量を、ミラー１の敏感度として解析した結果を示す図である。図７（ａ）は、解析モデル１における反射面１ａの変形量を示す図であり、図７（ｂ）は、解析モデル２における反射面１ａの変形量を示す図であり、図７（ｃ）は、解析モデル３における反射面１ａの変形量を示す図である。また、図７（ｄ）は、各解析モデル１〜３と反射面１ａの変形量との関係を示す図である。図７に示すように、解析モデル１では反射面１ａの変形量が０．８４ｎｍＲＭＳであるのに対し、解析モデル２では反射面１ａの変形量が０．１９ｎｍＲＭＳと小さくなり、解析モデル３では反射面１ａの変形量が０．０３ｎｍＲＭＳと更に小さくなる。つまり、解析モデル３では、反射面１ａの変形量を、解析モデル１に対して３．６％まで小さくすることができる。これは、ミラー１の中心部を固定部材７によってベースプレート６に固定する光学装置１００では、ミラー１の外周に近づくにつれてミラー１の剛性が低くなり、アクチュエータの駆動力における小さな誤差に対してもミラー１が敏感に変形しうることを意味する。

上述の解析結果より、ミラー１の中心部を固定する第１実施形態の光学装置１００では、高い剛性を有する複数の第１アクチュエータ２が、ミラー１の裏面１ｂにおける外側領域に力を加えるように配置されることが望ましい。即ち、各第１アクチュエータ２とミラー１の中心との距離が、ミラー１の中心とミラー１の外周との距離の半分より長くなるように各第１アクチュエータ２を配置する。このとき、複数の第１アクチュエータ２を、アクチュエータの駆動力に対する敏感度が最も大きくなるミラー１の外周に近づけて配置することが好ましい。例えば、ミラー１の中心とミラー１の外周との間の距離に対する、第１アクチュエータ２とミラー１の中心との間の距離の割合が９０％以上になるように、複数の第１アクチュエータ２を配置するとよい。また、複数の第１アクチュエータ２が、各第１アクチュエータ２とミラー１の中心との距離が各第２アクチュエータ４とミラー１の中心との距離の最大値以上になるように配置される。例えば、基板を露光するための光が照射されるミラー１の反射面１ａの部分の変形が複数の第２アクチュエータ４によって行われるように、複数の第２アクチュエータ４を複数の第１アクチュエータ２の内側（ミラー１の中心側）に配置することが好ましい。

ここで、ミラー１の反射面１ｂに頻繁に生じうる２θ成分を含む誤差を補正するため、複数の第１アクチュエータ２のうち４つの第１アクチュエータ２ａ〜２ｄを、図１（ｂ）に示すように、ミラー１の中心に対して等しい角度で配置するとよい。即ち、４つの第１アクチュエータ２ａ〜２ｄを、隣接する２つの第１アクチュエータ２とミラー１の中心とが成す角度が９０度になるように配置するとよい。また、各第１アクチュエータ２とミラー１の中心との距離が複数の第１アクチュエータ２において等しくなるように、複数の第１アクチュエータ２を配置するとよい。これにより、各第１アクチュエータ２が受け持つミラー１の質量をほぼ均等にすることができるため、ミラー１の反射面１ｂの形状が目標形状に近づくように各第１アクチュエータ２の駆動および各第２アクチュエータ４の駆動を制御することが更に容易になる。一方、ミラー１の中心とミラー１の外周との間の距離に対する各第１アクチュエータ２とミラー１の中心との距離の割合が、複数の第１アクチュエータ２において等しくなるように、複数の第１アクチュエータ２を配置してもよい。これは、ミラー１の形状が、例えば四角形状など円形ではない場合に有効である。

上述したように、第１実施形態の光学装置１００は、中心部が固定部材７を介してベースプレート６に固定されたミラー１の裏面１ｂに力を加えるために、複数の第１アクチュエータ２と複数の第２アクチュエータとを含む。また、複数の第１アクチュエータ２は、第２アクチュエータ４より高い剛性をそれぞれ有し、各第１アクチュエータ２とミラー１の中心との距離が、各第２アクチュエータのミラー１の中心との距離の最大値以上になるように配置される。さらに、各第１アクチュエータ２は、ミラー１の裏面１ｂにおける外周領域に力を加えるように配置されるとよい。そして、制御部１０が、ミラー１の反射面１ａの形状と目標形状との偏差に基づいて各第１アクチュエータ２および各第２アクチュエータ４を制御する。これにより、光学装置１００は、ミラー１の反射面１ａの形状を高速かつ高精度に変形させることができる。

ここで、第１実施形態の光学装置１００では、第１アクチュエータ２として、ピエゾアクチュエータや磁歪アクチュエータなど、第２アクチュエータ４より高い剛性を有するアクチュエータが用いられたが、それに限られるものではない。例えば、図８に示すように、第１アクチュエータ２として、リニアモータや静電アクチュエータ、電磁石など、互いに接触しない可動子２０ａと固定子２０ｂとを有する、第２アクチュエータ４と同じ種類のアクチュエータ２０を用いてもよい。この場合、第１アクチュエータ２としてのアクチュエータ２０の近傍に設けられた変位センサ３からの出力に基づいて、各アクチュエータ２０の変位量のサーボ制御が行われる。これにより、第１アクチュエータ２にサーボ剛性が加わり、第１アクチュエータ２はあたかもメカ的な剛性が向上したような特性を示す。このようにして第１アクチュエータ２の剛性を第２アクチュエータ４の剛性より高くすることができ、第１アクチュエータとしてピエゾアクチュエータや磁歪アクチュエータなどを用いた場合と同様の効果を得ることができる。

＜露光装置の実施形態＞
本実施形態の露光装置について、図９を参照しながら説明する。本実施形態の露光装置５０は、照明光学系ＩＬと、投影光学系ＰＯと、マスク５５を保持して移動可能なマスクステージＭＳと、基板５６を保持してい移動可能な基板ステージＷＳとを含みうる。また、露光装置５０は、基板５６を露光する処理を制御する制御部５１を含みうる。

照明光学系ＩＬに含まれる光源（不図示）から射出された光は、照明光学系ＩＬに含まれるスリット（不図示）によって、例えば、Ｙ方向に長い円弧状の照明領域をマスク５５上に形成することができる。マスク５５および基板５６は、マスクステージＭＳおよび基板ステージＷＳによってそれぞれ保持されており、投影光学系ＰＯを介して光学的にほぼ共役な位置（投影光学系ＰＯの物体面および像面の位置）に配置される。投影光学系ＰＯは、所定の投影倍率（例えば１／２倍）を有し、マスク５５に形成されたパターンを基板５６に投影する。そして、マスクステージＭＳおよび基板ステージＷＳを、投影光学系ＰＯの物体面と平行な方向（例えばＸ方向）に、投影光学系ＰＯの投影倍率に応じた速度比で走査させる。これにより、マスク５５に形成されたパターンを基板５６に転写することができる。

投影光学系ＰＯは、例えば、図９に示すように、平面鏡５２と、凹面鏡５３と、凸面鏡５４とを含むように構成されうる。照明光学系ＩＬから出射し、マスク５５を透過した露光光は、平面鏡５２の第１面５２ａにより光路を折り曲げられ、凹面鏡５３の第１面５３ａに入射する。凹面鏡５３の第１面５３ａにおいて反射した露光光は、凸面鏡５４において反射し、凹面鏡５３の第２面５３ｂに入射する。凹面鏡５３の第２面５３ｂにおいて反射した露光光は、平面鏡５２の第２面５２ｂにより光路を折り曲げられ、基板上に結像する。このように構成された投影光学系ＰＯでは、凸面鏡５４の表面が光学的な瞳となる。 上述した露光装置５０の構成において、第１実施形態の光学装置１００は、例えば、ミラー１としての凹面鏡５３の反射面を変形する装置として用いられうる。第１実施形態の光学装置１００を露光装置５０に用いることにより、凹面鏡５３の反射面（第１面５３ａおよび第２面５３ｂ）を高速かつ高精度に変形させることができ、投影光学系ＰＯにおける光学収差をリアルタイムかつ高精度に補正することができる。ここで、露光装置５０における制御部５１は、光学装置１００におけるアクチュエータを制御するための制御部１０を含むように構成されてもよい。

＜物品の製造方法の実施形態＞
本発明の実施形態にかかる物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程（基板を露光する工程）と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。

以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。

Claims (17)

1. ミラーの反射面を変形させる光学装置であって、
   ベースプレートと、
   前記ミラーの中心を含む前記ミラーの一部を前記ベースプレートに固定する固定部材と、
   前記ミラーに接続される第１端と前記ベースプレートに接続される第２端とをそれぞれ有し、前記反射面の反対側の裏面にそれぞれ力を加えて前記反射面を変形させる複数のアクチュエータと、
   を含み、
   前記複数のアクチュエータは、前記反射面を変形させる複数の第１アクチュエータおよび複数の第２アクチュエータを含み、
   前記複数の第２アクチュエータの各々は、単位量の外力を受けたときにおける前記第１端と前記第２端との距離の変化が前記複数の第１アクチュエータの各々より大きく、
   前記複数の第１アクチュエータは、各第１アクチュエータと前記ミラーの中心との距離が、前記ミラーの中心と前記ミラーの外周との距離の半分より長くなるように配置されている、ことを特徴とする光学装置。
2. ミラーの反射面を変形させる光学装置であって、
   ベースプレートと、
   前記ミラーの中心を含む前記ミラーの一部を前記ベースプレートに固定する固定部材と、
   前記ミラーに接続される第１端と前記ベースプレートに接続される第２端とをそれぞれ有し、前記反射面の反対側の裏面にそれぞれ力を加えて前記反射面を変形させる複数のアクチュエータと、
   を含み、
   前記複数のアクチュエータは、前記反射面を変形させる複数の第１アクチュエータおよび複数の第２アクチュエータを含み、
   前記複数の第２アクチュエータの各々は、単位量の外力を受けたときにおける前記第１端と前記第２端との距離の変化が前記複数の第１アクチュエータの各々より大きく、
   前記複数の第１アクチュエータおよび前記複数の第２アクチュエータは、各第１アクチュエータと前記ミラーの中心との距離が、各第２アクチュエータと前記ミラーの中心との距離の最大値以上になるように配置されている、ことを特徴とする光学装置。
3. 前記複数の第１アクチュエータは、各第１アクチュエータと前記ミラーの中心との距離が前記複数の第１アクチュエータにおいて等しくなるように配置されている、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の光学装置。
4. 前記複数の第１アクチュエータは、前記ミラーの中心と前記ミラーの外周との距離に対する各第１アクチュエータと前記中心との距離の割合が、前記複数の第１アクチュエータにおいて等しくなるように配置されている、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の光学装置。
5. 前記第１アクチュエータの数は、前記第２アクチュエータの数より少ない、ことを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載の光学装置。
6. 前記複数の第１アクチュエータは、前記ミラーの中心に対して等しい角度で配置された４つの前記第１アクチュエータを含む、ことを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載の光学装置。
7. 前記反射面の形状を計測する計測部と、
   前記計測部によって計測された前記反射面の形状と目標形状との偏差に基づいて各第１アクチュエータおよび各第２アクチュエータの駆動を制御する制御部と、
   を更に含む、ことを特徴とする請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載の光学装置。
8. 前記複数の第１アクチュエータの各々における駆動状態を示す情報を検出するセンサと、
   前記センサからの出力に基づいて各第１アクチュエータおよび各第２アクチュエータの駆動を制御する制御部と、
   を更に含む、ことを特徴とする請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載の光学装置。
9. 各第１アクチュエータは、前記第１端と前記第２端との距離を変化させるように変形することによって前記裏面に力を加える、ことを特徴とする請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載の光学装置。
10. 各第１アクチュエータは、ピエゾアクチュエータ、磁歪アクチュエータおよびねじ部材のうち少なくとも１つを含む、ことを特徴とする請求項９に記載の光学装置。
11. 各第２アクチュエータは、互いに接触しない固定子と可動子とを有し、
    前記固定子および前記可動子のうち一方は前記裏面に接続され、他方は前記ベースプレートに接続されている、ことを特徴とする請求項１乃至１０のうちいずれか１項に記載の光学装置。
12. 各第２アクチュエータは、リニアモータ、静電アクチュエータおよび電磁石のうち少なくとも１つを含む、ことを特徴とする請求項１１に記載の光学装置。
13. 前記複数の第２アクチュエータは、円周方向における前記複数の第１アクチュエータの間に配置されたアクチュエータを含む、ことを特徴とする請求項１乃至１２のうちいずれか１項に記載の光学装置。
14. 前記複数の第２アクチュエータは、前記複数の第１アクチュエータの各々と前記固定部材との間に配置されたアクチュエータを含む、ことを特徴とする請求項１乃至１３のうちいずれか１項に記載の光学装置。
15. マスクのパターンを基板に投影する投影光学系であって、
    請求項１乃至１４のうちいずれか１項に記載の光学装置を含む、ことを特徴とする投影光学系。
16. 基板を露光する露光装置であって、
    請求項１５に記載の投影光学系を含む、ことを特徴とする露光装置。
17. 請求項１６に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
    前記ステップで露光された前記基板を現像するステップと、
    を有することを特徴とする物品の製造方法。