JP2015126037A - 光学装置、投影光学系、露光装置、および物品の製造方法 - Google Patents
光学装置、投影光学系、露光装置、および物品の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015126037A JP2015126037A JP2013268090A JP2013268090A JP2015126037A JP 2015126037 A JP2015126037 A JP 2015126037A JP 2013268090 A JP2013268090 A JP 2013268090A JP 2013268090 A JP2013268090 A JP 2013268090A JP 2015126037 A JP2015126037 A JP 2015126037A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mirror
- actuators
- actuator
- optical device
- center
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/2008—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the reflectors, diffusers, light or heat filtering means or anti-reflective means used
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/06—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the phase of light
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/0816—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements
- G02B26/0825—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a flexible sheet or membrane, e.g. for varying the focus
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70258—Projection system adjustments, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of projection system
- G03F7/70266—Adaptive optics, e.g. deformable optical elements for wavefront control, e.g. for aberration adjustment or correction
Abstract
Description
第1実施形態の光学装置100について、図1を参照しながら説明する。図1(a)は、第1実施形態の光学装置100を示す断面図である。第1実施形態の光学装置100は、例えば、露光装置の投影光学系に含まれるミラー1の反射面1aを変形させることによって投影光学系の光学収差を補正する。第1実施形態の光学装置100は、ベースプレート6と、固定部材7と、複数のアクチュエータと、複数の変位センサ3と、制御部10とを含みうる。
本実施形態の露光装置について、図9を参照しながら説明する。本実施形態の露光装置50は、照明光学系ILと、投影光学系POと、マスク55を保持して移動可能なマスクステージMSと、基板56を保持してい移動可能な基板ステージWSとを含みうる。また、露光装置50は、基板56を露光する処理を制御する制御部51を含みうる。
本発明の実施形態にかかる物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程(基板を露光する工程)と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
Claims (15)
- ミラーの反射面を変形させる光学装置であって、
ベースプレートと、
前記ミラーの中心を含む前記ミラーの一部を前記ベースプレートに固定する固定部材と、
前記ミラーに接続される第1端と前記ベースプレートに接続される第2端とを有し、前記反射面の反対側の裏面にそれぞれ力を加える複数のアクチュエータと、
を含み、
前記複数のアクチュエータは、複数の第1アクチュエータと、単位量の外力を受けたときにおける前記第1端と前記第2端との距離の変化が前記第1アクチュエータより大きい複数の第2アクチュエータとを含み、
前記複数の第1アクチュエータは、各第1アクチュエータと前記ミラーの中心との距離が、前記ミラーの中心と前記ミラーの外周との距離の半分より長くなるように配置されている、ことを特徴とする光学装置。 - ミラーの反射面を変形させる光学装置であって、
ベースプレートと、
前記ミラーの中心を含む前記ミラーの一部を前記ベースプレートに固定する固定部材と、
前記ミラーに接続される第1端と前記ベースプレートに接続される第2端とを有し、前記反射面の反対側の裏面にそれぞれ力を加える複数のアクチュエータと、
を含み、
前記複数のアクチュエータは、複数の第1アクチュエータと、単位量の外力を受けたときにおける前記第1端と前記第2端との距離の変化が前記第1アクチュエータより大きい複数の第2アクチュエータとを含み、
前記複数の第1アクチュエータおよび前記複数の第2アクチュエータは、各第1アクチュエータと前記ミラーの中心との距離が、各第2アクチュエータと前記ミラーの中心との距離の最大値以上になるように配置されている、ことを特徴とする光学装置。 - 前記複数の第1アクチュエータは、各第1アクチュエータと前記ミラーの中心との距離が前記複数の第1アクチュエータにおいて等しくなるように配置されている、ことを特徴とする請求項1又は2に記載の光学装置。
- 前記複数の第1アクチュエータは、前記ミラーの中心と前記ミラーの外周との距離に対する各第1アクチュエータと前記中心との距離の割合が、前記複数の第1アクチュエータにおいて等しくなるように配置されている、ことを特徴とする請求項1又は2に記載の光学装置。
- 前記第1アクチュエータの数は、前記第2アクチュエータの数より少ない、ことを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれか1項に記載の光学装置。
- 前記複数の第1アクチュエータは、前記ミラーの中心に対して等しい角度で配置された4つの前記第1アクチュエータを含む、ことを特徴とする請求項1乃至5のうちいずれか1項に記載の光学装置。
- 前記反射面の形状を計測する計測部と、
前記計測部によって計測された前記反射面の形状と目標形状との偏差に基づいて各第1アクチュエータおよび各第2アクチュエータの駆動を制御する制御部と、
を更に含む、ことを特徴とする請求項1乃至6のうちいずれか1項に記載の光学装置。 - 前記複数の第1アクチュエータの各々における駆動状態を示す情報を検出するセンサと、
前記センサからの出力に基づいて各第1アクチュエータおよび各第2アクチュエータの駆動を制御する制御部と、
を更に含む、ことを特徴とする請求項1乃至6のうちいずれか1項に記載の光学装置。 - 各第1アクチュエータは、前記第1端と前記第2端との距離を変化させるように変形することによって前記裏面に力を加える、ことを特徴とする請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載の光学装置。
- 各第1アクチュエータは、ピエゾアクチュエータ、磁歪アクチュエータおよびねじ部材のうち少なくとも1つを含む、ことを特徴とする請求項9に記載の光学装置。
- 各第2アクチュエータは、互いに接触しない固定子と可動子とを有し、
前記固定子および前記可動子のうち一方は前記裏面に接続され、他方は前記ベースプレートに接続されている、ことを特徴とする請求項1乃至10のうちいずれか1項に記載の光学装置。 - 各第2アクチュエータは、リニアモータ、静電アクチュエータおよび電磁石のうち少なくとも1つを含む、ことを特徴とする請求項11に記載の光学装置。
- マスクのパターンを基板に投影する投影光学系であって、
請求項1乃至12のうちいずれか1項に記載の光学装置を含む、ことを特徴とする投影光学系。 - 基板を露光する露光装置であって、
請求項13に記載の投影光学系を含む、ことを特徴とする露光装置。 - 請求項14に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
前記ステップで露光された前記基板を現像するステップと、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013268090A JP6336274B2 (ja) | 2013-12-25 | 2013-12-25 | 光学装置、投影光学系、露光装置、および物品の製造方法 |
TW103140484A TWI556010B (zh) | 2013-12-25 | 2014-11-21 | 光學設備、投影光學系統、曝光設備、及製造物品的方法 |
US14/560,026 US9465294B2 (en) | 2013-12-25 | 2014-12-04 | Optical apparatus, projection optical system, exposure apparatus, and method of manufacturing article |
KR1020140178952A KR101882190B1 (ko) | 2013-12-25 | 2014-12-12 | 광학장치, 투영 광학계, 노광장치, 및 물품의 제조방법 |
CN201410806274.XA CN104749764B (zh) | 2013-12-25 | 2014-12-22 | 光学装置、投影光学系统、曝光装置和制造物品的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013268090A JP6336274B2 (ja) | 2013-12-25 | 2013-12-25 | 光学装置、投影光学系、露光装置、および物品の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015126037A true JP2015126037A (ja) | 2015-07-06 |
JP6336274B2 JP6336274B2 (ja) | 2018-06-06 |
Family
ID=53399815
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013268090A Active JP6336274B2 (ja) | 2013-12-25 | 2013-12-25 | 光学装置、投影光学系、露光装置、および物品の製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9465294B2 (ja) |
JP (1) | JP6336274B2 (ja) |
KR (1) | KR101882190B1 (ja) |
CN (1) | CN104749764B (ja) |
TW (1) | TWI556010B (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20170142886A (ko) | 2016-06-17 | 2017-12-28 | 캐논 가부시끼가이샤 | 위치 조정 기구, 노광 장치 및 물품의 제조 방법 |
WO2018008364A1 (ja) * | 2016-07-06 | 2018-01-11 | キヤノン株式会社 | 光学装置、露光装置及び物品の製造方法 |
JP2018101112A (ja) * | 2016-12-21 | 2018-06-28 | キヤノン株式会社 | 光学装置、露光装置、および物品の製造方法 |
JP2019028352A (ja) * | 2017-08-01 | 2019-02-21 | キヤノン株式会社 | 光学装置、これを用いた露光装置、および物品の製造方法 |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014225639A (ja) * | 2013-04-16 | 2014-12-04 | キヤノン株式会社 | ミラーユニット及び露光装置 |
CN105093848B (zh) * | 2015-08-06 | 2018-01-16 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种曝光设备 |
JP6742717B2 (ja) * | 2015-12-10 | 2020-08-19 | キヤノン株式会社 | 光学装置、それを備えた露光装置、および物品の製造方法 |
JP2017129685A (ja) * | 2016-01-19 | 2017-07-27 | キヤノン株式会社 | 光学装置、投影光学系、露光装置およびデバイス製造方法 |
JP6853659B2 (ja) * | 2016-12-09 | 2021-03-31 | キヤノン株式会社 | 決定方法、光学装置、投影光学系、露光装置及び物品の製造方法 |
KR101931959B1 (ko) * | 2018-07-02 | 2019-03-20 | 한화시스템 주식회사 | 변형 거울 장치 및 그 구동 방법 |
CN108983414B (zh) * | 2018-08-30 | 2024-01-30 | 京东方科技集团股份有限公司 | 光学反射镜、光学反射镜系统及曝光机 |
WO2020061348A2 (en) * | 2018-09-21 | 2020-03-26 | Canon Virginia, Inc. | Injection molding system |
CN113050362B (zh) * | 2019-12-27 | 2024-04-26 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 光学邻近修正方法及掩膜版 |
CN114527565A (zh) * | 2022-01-20 | 2022-05-24 | 中芯集成电路(宁波)有限公司 | 一种可变焦的反射镜及其制造方法 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004064076A (ja) * | 2002-07-23 | 2004-02-26 | Nikon Corp | 変形ミラー構造体、変形ミラーの制御方法及び露光装置 |
JP2005004146A (ja) * | 2002-07-03 | 2005-01-06 | Nikon Corp | 反射光学素子及び露光装置 |
JP2006295023A (ja) * | 2005-04-14 | 2006-10-26 | Canon Inc | 光学装置及びそれを備えた露光装置 |
JP2007103657A (ja) * | 2005-10-04 | 2007-04-19 | Canon Inc | 光学素子保持装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
JP2007316132A (ja) * | 2006-05-23 | 2007-12-06 | Canon Inc | 反射装置 |
JP2008112756A (ja) * | 2006-10-27 | 2008-05-15 | Canon Inc | 光学素子駆動装置及びその制御方法、露光装置、並びにデバイス製造方法 |
JP2011035102A (ja) * | 2009-07-31 | 2011-02-17 | Canon Inc | 光学素子の保持装置、それを用いた露光装置、及びデバイスの製造方法 |
JP2013106014A (ja) * | 2011-11-16 | 2013-05-30 | Nikon Corp | 変形可能な反射光学素子及びその駆動方法、光学系、並びに露光装置 |
JP2013535115A (ja) * | 2010-07-01 | 2013-09-09 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 光学系及びマルチファセットミラー |
JP2015070214A (ja) * | 2013-09-30 | 2015-04-13 | キヤノン株式会社 | 光学装置、投影光学系、露光装置および物品の製造方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005024615A (ja) * | 2003-06-30 | 2005-01-27 | Canon Inc | 曲率を有する反射部材とそれを用いた光学系 |
CN101004555A (zh) * | 2006-01-16 | 2007-07-25 | 中国科学院电工研究所 | 可调节反射式光学物镜装调系统 |
JP2007317713A (ja) * | 2006-05-23 | 2007-12-06 | Canon Inc | 光学素子駆動装置 |
DE102008032853A1 (de) * | 2008-07-14 | 2010-01-21 | Carl Zeiss Smt Ag | Optische Einrichtung mit einem deformierbaren optischen Element |
DE102009033191A1 (de) * | 2009-07-07 | 2011-01-13 | Technische Universität Dresden | Reduzierung der dynamischen Deformation von Translationsspiegeln mit Hilfe von trägen Massen |
JP5535108B2 (ja) * | 2011-02-18 | 2014-07-02 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光源装置 |
-
2013
- 2013-12-25 JP JP2013268090A patent/JP6336274B2/ja active Active
-
2014
- 2014-11-21 TW TW103140484A patent/TWI556010B/zh active
- 2014-12-04 US US14/560,026 patent/US9465294B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2014-12-12 KR KR1020140178952A patent/KR101882190B1/ko active IP Right Grant
- 2014-12-22 CN CN201410806274.XA patent/CN104749764B/zh active Active
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005004146A (ja) * | 2002-07-03 | 2005-01-06 | Nikon Corp | 反射光学素子及び露光装置 |
JP2004064076A (ja) * | 2002-07-23 | 2004-02-26 | Nikon Corp | 変形ミラー構造体、変形ミラーの制御方法及び露光装置 |
JP2006295023A (ja) * | 2005-04-14 | 2006-10-26 | Canon Inc | 光学装置及びそれを備えた露光装置 |
JP2007103657A (ja) * | 2005-10-04 | 2007-04-19 | Canon Inc | 光学素子保持装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
JP2007316132A (ja) * | 2006-05-23 | 2007-12-06 | Canon Inc | 反射装置 |
JP2008112756A (ja) * | 2006-10-27 | 2008-05-15 | Canon Inc | 光学素子駆動装置及びその制御方法、露光装置、並びにデバイス製造方法 |
JP2011035102A (ja) * | 2009-07-31 | 2011-02-17 | Canon Inc | 光学素子の保持装置、それを用いた露光装置、及びデバイスの製造方法 |
JP2013535115A (ja) * | 2010-07-01 | 2013-09-09 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 光学系及びマルチファセットミラー |
JP2013106014A (ja) * | 2011-11-16 | 2013-05-30 | Nikon Corp | 変形可能な反射光学素子及びその駆動方法、光学系、並びに露光装置 |
JP2015070214A (ja) * | 2013-09-30 | 2015-04-13 | キヤノン株式会社 | 光学装置、投影光学系、露光装置および物品の製造方法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20170142886A (ko) | 2016-06-17 | 2017-12-28 | 캐논 가부시끼가이샤 | 위치 조정 기구, 노광 장치 및 물품의 제조 방법 |
WO2018008364A1 (ja) * | 2016-07-06 | 2018-01-11 | キヤノン株式会社 | 光学装置、露光装置及び物品の製造方法 |
KR20190020139A (ko) * | 2016-07-06 | 2019-02-27 | 캐논 가부시끼가이샤 | 광학 장치, 노광 장치 및 물품의 제조 방법 |
KR102165797B1 (ko) | 2016-07-06 | 2020-10-14 | 캐논 가부시끼가이샤 | 광학 장치, 노광 장치 및 물품의 제조 방법 |
JP2018101112A (ja) * | 2016-12-21 | 2018-06-28 | キヤノン株式会社 | 光学装置、露光装置、および物品の製造方法 |
JP2019028352A (ja) * | 2017-08-01 | 2019-02-21 | キヤノン株式会社 | 光学装置、これを用いた露光装置、および物品の製造方法 |
US10884236B2 (en) | 2017-08-01 | 2021-01-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical device, projection optical system, exposure apparatus using the same, and method for manufacturing article |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9465294B2 (en) | 2016-10-11 |
US20150177481A1 (en) | 2015-06-25 |
KR101882190B1 (ko) | 2018-07-26 |
KR20150075361A (ko) | 2015-07-03 |
CN104749764A (zh) | 2015-07-01 |
TWI556010B (zh) | 2016-11-01 |
TW201525524A (zh) | 2015-07-01 |
CN104749764B (zh) | 2017-08-29 |
JP6336274B2 (ja) | 2018-06-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6336274B2 (ja) | 光学装置、投影光学系、露光装置、および物品の製造方法 | |
JP6168957B2 (ja) | 光学装置、投影光学系、露光装置および物品の製造方法 | |
US9678444B2 (en) | Optical apparatus, projection optical system, exposure apparatus, and method of manufacturing article | |
JP2015065246A (ja) | 光学装置、光学系、露光装置及び物品の製造方法 | |
JP2016092366A (ja) | 光学装置、投影光学系、露光装置、および物品の製造方法 | |
TWI631430B (zh) | Optical device, projection optical system, exposure device, and article manufacturing method | |
JP2016092309A (ja) | 光学装置、投影光学系、露光装置、および物品の製造方法 | |
JP6808381B2 (ja) | 保持装置、投影光学系、露光装置、および物品製造方法 | |
KR102165797B1 (ko) | 광학 장치, 노광 장치 및 물품의 제조 방법 | |
JP2013195479A (ja) | 光偏向器、光走査装置、画像形成装置及び画像投影装置 | |
CN108227401B (zh) | 光学装置、曝光装置以及物品的制造方法 | |
KR102319819B1 (ko) | 광학장치, 투영 광학계, 노광장치, 및 물품 제조방법 | |
JP2018066959A (ja) | 光学装置、投影光学系、露光装置及び物品の製造方法 | |
WO2018043314A1 (ja) | 光学装置、投影光学系、露光装置、および物品の製造方法 | |
JP6853659B2 (ja) | 決定方法、光学装置、投影光学系、露光装置及び物品の製造方法 | |
JP2021189378A (ja) | 変形装置、露光装置、および物品の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20161221 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170920 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20171006 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171128 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180406 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180502 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6336274 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |