JP6742717B2 - 光学装置、それを備えた露光装置、および物品の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、光学装置、それを備えた露光装置、および物品の製造方法に関する。

光学系を構成する光学素子の製造誤差、組立誤差等により生じる収差等を補正することができる光学装置がある。この光学装置は、反射面の形状を変形可能なミラーを含み、たとえば、投影光学系を介して光を物体に投影する装置（露光装置、レーザ加工装置等）に用いられる。光学装置を投影光学系の光路内に配置し、ミラーの形状を調整することで、収差等を補正することができる。ミラーの形状の調整は、ミラーの裏面に備えられた複数の駆動部により行われるが、駆動部の発熱によりミラーを所望の形状に変形することが困難な場合がある。そこで、特許文献１では、駆動部（電磁石ユニット）を冷却する冷却ユニットを備えた光学装置（反射装置）を開示している。

特開２００７−３１６１３２号公報

複数の駆動部は、ミラーの変形のしやすさ等により、それぞれ発熱量が異なる。特許文献１の光学装置は、全駆動部を一様に冷却するため、最も発熱量が多い駆動部に合わせて冷却ユニットの冷却能力を設定している。これは、冷却ユニットの大形化およびコスト増を招く。

本発明は、例えば、光学系の性能改善の点で有利な光学装置を提供することを目的とする。

上記課題を解決するために、本発明は、光学素子を変形させる光学装置であって、光学素子に取り付けられた第１磁性部材と、第１磁性部材と非接触に対向して配置される第１コイルと、を含み、光学素子を変形させる第１アクチュエータユニットと、光学素子に取り付けられた第２磁性部材と、第２磁性部材と非接触に対向して配置される第２コイルと、を含み、光学素子を変形させる第２アクチュエータユニットと、第１コイルと第２コイルを冷却する冷却部と、を備え、第１アクチュエータユニットが発生する推力は、第２アクチュエータユニットが発生する推力より大きく、冷却部は、第１コイルに連結され、第１コイルから発生した熱を伝える第１伝熱体と、第２コイルに連結され、第２コイルから発生した熱を伝える第２伝熱体と、を含み、第１伝熱体と第２伝熱体はそれぞれ棒状の形状であり、第１伝熱体の径は、第２伝熱体の径よりも大きいことを特徴とする。

本発明によれば、例えば、光学系の性能改善の点で有利な光学装置を提供することができる。

第１実施形態に係る光学装置を適用した露光装置の構成を示す概略図である 光学装置の基本構成を示す概略図である。 第１実施形態に係る光学装置の冷却手段の構成を示す概略図である。 第２実施形態に係る光学装置の冷却手段の構成を示す概略図である。 第３実施形態に係る光学装置の冷却手段の構成を示す概略図である。

以下、本発明を実施するための形態について図面などを参照して説明する。

（第１実施形態）
図１は本発明の第１実施形態に係る光学装置を適用した露光装置の構成を示す概略図である。露光装置５０は、照明光学系ＩＬと、投影光学系ＰＯと、マスク５５を保持して移動可能なマスクステージＭＳと、基板５６を保持して移動可能な基板ステージＷＳと、制御部５１と、を有する。以下の図において、上下方向（鉛直方向）にＺ軸を取り、Ｚ軸に垂直な平面内に互いに直交するＸ軸およびＹ軸を取っている。照明光学系ＩＬは、光源およびスリット（いずれも不図示）を含む。照明光学系ＩＬは、光源から出射した光をスリットにより、たとえば、ＸＹ方向に長い円弧状に整形し、スリット光をマスク５５に照明する。マスクステージＭＳ及び基板ステージＷＳは、それぞれマスク５５及び基板５６を保持し、投影光学系ＰＯを介して光学的にほぼ共役な位置（投影光学系ＰＯの物体面及び像面の位置）に配置される。投影光学系ＰＯは、所定の投影倍率を有し、マスク５５に形成されたパターンを基板５６に投影する。制御部５１は、マスクステージＭＳ及び基板ステージＷＳを、投影光学系ＰＯの物体面と平行な方向（例えばＹ方向）に、投影光学系ＰＯの投影倍率に応じた速度比で走査させる。これにより、マスク５５に形成されたパターンを基板５６に転写することができる。

投影光学系ＰＯは、平面鏡５２と、凹面鏡５３と、凸面鏡５４と、を含む。照明光学系ＩＬから出射し、マスク５５を透過した露光光は、平面鏡５２の第１面５２ａにより光路を折り曲げられ、凹面鏡５３の第１面５３ａに入射する。第１面５３ａは、反射面であり、入射した露光光は、第１面５３ａで反射し、凸面鏡５４に入射する。入射した光は、凸面鏡５４により反射され、第１面５３ａに入射する。第１面５３ａで再び反射した露光光は、平面鏡５２の第２面５２ｂにより光路を折り曲げられ、基板上に結像する。このように構成された投影光学系ＰＯでは、凸面鏡５４の表面が光学的な瞳となる。第１実施形態に係る光学装置は、凹面鏡５３の第１面５３ａを変形させ、投影光学系ＰＯにおける光学収差を精度よく補正する。

図２（Ａ）〜（Ｃ）は、光学装置の基本構成を示す概略図である。図２（Ａ）は、光学装置１００の断面図である。図２（Ｂ）は、ミラー裏面における磁石の配置を示した概略図である。図２（Ｃ）は、冷却プレートに結合する伝熱部材と冷媒の流路を示す概略図である。図２（Ａ）に示すように光学装置１００は、ミラー固定部１０２と、アクチュエータユニット１０３と、磁石固定部１０６と、基準プレート１２１と、センサ１２３と、伝熱体１２４および冷却プレート１２５（冷却部）と、不図示の制御部とを含む。光学装置１００は、ミラー固定部１０２を介してミラー１０１を裏面から保持する。ミラー１０１は、薄鏡であり、反射面には使用する光の波長に適したコーティングが施されている。材質は、熱歪みによる形状誤差の発生を抑えるために、低熱膨張光学ガラスを用いる。また、外径が０．１ｍから２ｍ程度、厚みが数ｍｍオーダーから数ｃｍ程度のものを用いることができ、本実施形態では、外形１ｍ、厚さは１ｃｍ程度のものを用いる。

基準プレート１２１は、ミラー固定部１０２と、コイル固定部１２２と、センサ１２３と、を保持する。材質としては、アクチュエータ等からの発熱の影響を抑えるために低熱膨張材を用いる。ミラー固定部１０２は、ミラー１０１と重心が一致するようにしてミラー１０１を固定し、また、基準プレート１２１の中心に配置される。ミラー固定部１０２の形状は、円筒形状であり、材質としては基準プレート１２１と同様に低熱膨張材を用いる。本実施形態では、基準プレート１２１およびミラー固定部１０２は、それぞれ同じ材質からなる。

アクチュエータユニット１０３は、可動子である磁石（磁性部材）１０４と当該磁石１０４と非接触に対向して配置される固定子であるコイル１０５とで構成されるボイスコイルモータである。図２（Ｂ）に示すように磁石１０４は、ミラー１０１の裏面に放射状に配置されている。磁石１０４は、磁石固定部１０６を介してミラー１０１に配置される。磁石１０４としては、例えば、磁束密度が高いネオジム磁石が用いられる。磁石固定部１０６と磁石１０４との間、および磁石固定部１０６とミラー１０１との間は接着剤で固定されている。磁石固定部１０６は、磁石１０４の熱歪みの影響がミラー１０１に及ぶのを低減するため、ミラー１０１と同じ材質の低熱膨張材である。コイル１０５は、磁石１０４に対向し微小な間隔離れた位置になるようコイル固定部１２２を介して基準プレート１２１に固定される。アクチュエータユニット１０３の配置および個数は、ミラー１０１の目標形状および必要精度により決定される。

アクチュエータユニット１０３は、コイル１０５に電流を流すことによって、磁石１０４とコイル１０５とを結んだ軸方向にローレンツ力が発生するものであり、ミラー１０１の反射面を所望の形状に変位させることが可能な推力、及び駆動量をもっている。コイル１０５と磁石１０４との間隔は、例えば０．１ｍｍから１ｍｍ程度に近接させる必要がある。複数のアクチュエータユニット１０３は、センサ１２３が取得したミラー１０１の形状に関する情報に基づいて、ミラー１０１が目標形状となるように制御部（不図示）に制御され、駆動する。この際、ミラー固定部１０２は、ミラー１０１を変位不能に固定しているので、各アクチュエータユニット１０３が発生させる力の差により、ミラー１０１は、Ｘ方向には並進せず、Ｘ方向に垂直な軸周りにも回転しない。例えば、ミラー固定部１０２は、各アクチュエータユニット１０３が発生させる力の差により発生したモーメントに対向するモーメントを発生させる。この結果、ミラー１０１の姿勢を必要な精度範囲内に保つことができ、ミラー１０１の姿勢制御は不要となる。

図２（Ａ）に示すように、センサ１２３は、ミラー裏面と対向する位置に基準プレート１２１上に複数個配置され、基準プレート１２１を基準にミラー裏面との距離を計測しミラー１０１の形状を取得する。また、図２（Ｂ）に示すようにセンサ１２３は、放射状に配置されているが、配置や個数は目的とするミラー１０１の目標形状および必要精度により決定される。

伝熱体１２４は、コイル１０５と放熱部としての冷却プレート１２５とを連結し、コイル１０５が発生する熱を冷却プレート１２５に伝熱する。伝熱体１２４は、熱伝導性の良い部材からなり、たとえば、銅、アルミあるいはヒートパイプなどを用いる。伝熱体１２４の形状は、たとえば、棒状であり、長さと太さは、コイル１０５の発熱量と必要な熱抵抗値から決まる。また、コイル１０５と伝熱体１２４とは、接着剤を介して結合している。図２（Ｃ）に示すように、伝熱体１２４と冷却プレート１２５との結合箇所は、冷却プレート上に放射状に設けられる。冷却プレート１２５は、内部に流路１２６が形成され、不図示の温調器から温度制御された冷媒が供給される。伝熱体１２４で回収されたコイル１０５の熱は、冷却プレート１２５に形成された流路１２６に回収される。冷却プレート１２５は、銅やアルミなどの熱伝導性の良い材料を用いるとよい。冷媒の流量、流路１２６の形状は、コイル１０５の熱を回収するのに必要な熱抵抗値と冷媒の圧力損失などから決定される。本実施形態では、圧力損失を低減させるために、流路１２６は複数系統の並列構成となっている。また、冷却プレート１２５は、組み立て性を考慮し分割した構成としてもよい。

アクチュエータユニット１０３は、コイル１０５に電流を流すことで推力を発生するため、駆動時にコイル１０５が発熱する。コイル１０５の熱は、空気層を介してコイル１０５から磁石１０４、磁石１０４からミラー１０１に伝熱する。すると、ミラー１０１は熱変形を起こしミラー１０１を所望の形状に変形することが困難になりうる。また、コイル固定部１２２を介してコイル１０５の熱が基準プレート１２１に伝わり、伝わった熱により変形すると、それに伴いミラー１０１がミラー固定部１０２を介して変形する。また、基準プレート１２１が熱変形すると、センサ１２３の位置がずれ、ミラー１０１の形状を精度良く計測できなくなる。本実施形態では、上述のように、伝熱体１２４を介してコイル１０５の熱を冷却プレート１２５で回収し、基準プレート１２１およびミラー１０１の熱変形を抑えている。

ミラー１０１の目標形状によっては、各アクチュエータユニット１０３に要求される推力、すなわち、各コイル１０５の発熱量が異なる。ミラー１０１等の熱変形を抑えるためには、最も発熱量の大きなコイル１０５に合わせて、たとえば、伝熱体１２４を太くしたり、冷却プレート１２５の厚みを増したり、冷媒の流量を増大させたりする必要がある。これは、装置の大形化およびコスト増を招く。各アクチュエータユニット１０３の推力は、ミラー１０１、ミラー固定部１０２、基準プレート１２１の構成やミラー１０１の目標形状に基づいて決まる。コイル１０５の発熱量は、当該推力に基づいて推定することができる。光学装置１００の構成は、推定したコイル１０５の発熱量により決定される。

図３は、第１実施形態に係る光学装置の冷却手段の構成を示す概略図である。なお、図２（Ａ）で説明した構成要素と同一のものには同一の符号を付し、説明を省略する。光学装置３００は、ミラー固定部１０２の近傍における冷却手段の構成が図２（Ａ）の構成と異なる。すなわち、ミラー固定部１０２（ミラー１０１の中心）の近傍に配置されるアクチュエータユニット１０３ａとミラー１０１の中心から離れた位置に設けられるアクチュエータユニット１０３ｂとに備えられた冷却手段の構成が異なる。アクチュエータユニット１０３ａは、コイル１０５ａと磁石１０４ａとで構成され、アクチュエータユニット１０３ｂは、コイル１０５ｂと磁石１０４ｂとで構成される。コイル１０５ａおよびコイル１０５ｂは、それぞれ伝熱体が接続される。コイル１０５ａには、伝熱体１２４ａが接続され、コイル１０５ｂには、伝熱体１２４ａよりも径が小さい伝熱体１２４ｂが接続される。伝熱体１２４ｂは、冷却プレート１２５と連結される。伝熱体１２４ａは、端部にペルチェ素子３０１が固定され、ペルチェ素子３０１の放熱面にはヒートシンク３０３が設けられている。ペルチェ素子３０１は、伝熱体１２４ａとコイル１０５ａとの連結部周辺に備えられた温度センサ（計測部）３０２の計測結果に基づいて、制御部（不図示）により温度制御される。具体的には、温度センサ３０２の値が基準温度（たとえば、環境温度である２３度）となるようにペルチェ素子に流す電流値が制御部（不図示）により制御される。以上のように、アクチュエータユニット１０３ｂに備えられた冷却手段は、伝熱体１２４ｂと、コイル１０５ｂから伝熱体１２４ｂを介して伝わった熱を一律に放熱する放熱部としての冷却プレート１２５と、を含む。一方、アクチュエータユニット１０３ａに備えられた冷却手段は、伝熱体１２４ａと、コイル１０５ａから伝熱体１２４ａを介して伝わった熱の放熱量を調節できる放熱部としてのペルチェ素子３０１と、を含む。なお、ヒートシンク３０３は水冷式でも空冷式でもよい。あるいは、ヒートシンクを用いずにペルチェ素子３０１の放熱面を冷却プレート１２５と連結して放熱してもよい。

本実施形態では、ミラー１０１の中心部にミラー固定部１０２を連結することでミラー１０１を固定している。この場合、ミラー固定部１０２（ミラーを保持する部分）に近いアクチュエータユニット１０３ａは、ミラー固定部１０２から離れた位置のアクチュエータユニット１０３ｂよりも大きな推力を必要とする。たとえば、一次元の片持ち梁はたわみ量が一定の場合、支持点からの距離の３乗に反比例して荷重（推力）が小さくなる。また、ミラー１０１の厚みは、ミラーを支持するミラー固定部１０２の周辺が最も厚く、ミラー固定部１０２から離れるにつれて薄くなっていく。したがって、ミラー固定部１０２周辺のアクチュエータユニット１０３ａは、ミラー１０１を目標形状に変形するために大きな推力を必要とし、コイル１０５ａは、コイル１０５ｂよりも発熱量が大きくなる。発熱量が大きくなるコイルは、たとえば、ミラーの厚み、ミラー固定部１０２とコイルが配置される位置との距離を含むパラメータに基づいて推定することができる。

本実施形態では、伝熱体１２４ａの径を伝熱体１２４ｂの径よりも太くし、さらに伝熱体１２４ａの端部にペルチェ素子３０１を設けることにより、ミラー１０１の外周部のコイル１０５ｂよりもコイル１０５ａに対する冷却能力を強化している。コイル１０５ａよりもミラー固定部１０２から離れた位置にあり、発熱量が相対的に小さいコイル１０５ｂは、伝熱体１２４ａよりも径が細い伝熱体１２４ｂおよび冷却プレート１２５により冷却される。

ミラー１０１の目標形状に応じてコイルの発熱量は変動するが、特に発熱量の大きいミラー固定部１０２周辺のコイル１０５ａは、発熱量の変動幅も大きい。本実施形態では、フィードバック制御によりペルチェ素子３０１の電流値を制御しているので、コイル１０５ａの発熱量に応じて冷却力（放熱量）を制御（調節）できる。また、ペルチェ素子３０１は、コイル１０５ａに近い伝熱体１２４ａの温度に基づいて制御部（不図示）により制御されているので、コイル１０５ａを効率よく冷却できる。もし、ペルチェ素子３０１の替わりに、一定温度（２３℃）の冷媒が供給されるヒートシンクを用いると、ヒートシンクとコイル１０５ａ間の熱抵抗（伝熱体１２４ａなど）の影響によりコイル１０５ａの冷却効率は低下することになる。本実施形態では、ペルチェ素子３０１の冷却負荷を低減するために、伝熱体１２４ａは、ミラー１０１の外周部の伝熱体１２４ｂよりも太くし、コイル１０５ａとペルチェ素子３０１との熱抵抗値を下げている。

なお、本実施形態では、ペルチェ素子３０１を用いているが、ペルチェ素子３０１の替わりに温度フィードバック方式のヒートシンクを用いてもよい。その場合、各ヒートシンクに流れる冷媒の温度を温度センサ３０２に基づいて、フィードバック制御することになる。また、本実施形態では、光学素子１０１はミラーであるが透過性の光学素子でもよい。その場合、アクチュエータユニット１０３、冷却プレート１２５、ペルチェ素子３０１は光学素子の光が透過しない非有効領域に配置する。さらに、アクチュエータユニット１０３ａを直接冷却する構成でもよく、伝熱体１２４ａは必ずしも必須ではない。

以上のように、本実施形態の光学装置３００は、各コイルの発熱量に応じた適切な冷却手段の構成となっており、装置サイズおよびコストの点で有利である。そして、本実施形態によれば、光学系の性能改善の点で有利な光学装置を提供することができる。

（第２実施形態）
図４は、第２実施形態に係る光学装置の冷却手段の構成を示す概略図である。なお、第１実施形態で説明した構成要素と同一のものには同一の符号を付し、説明を省略する。本実施形態に係る光学装置４００が第１実施形態と異なる点は、ミラー固定部１０２の周辺に備えられた伝熱体１２４ａが冷却プレート１２５を貫通している点である。

この構成によれば、コイル１０５ａの熱は伝熱体１２４ａを介して、ペルチェ素子３０１およびヒートシンク３０３に加え、冷却プレート１２５に伝熱し回収される。したがって、本実施形態では、第１実施形態に比べ、ペルチェ素子３０１の冷却負荷を低減できるため、小型のペルチェ素子３０１を選択できる。また、ペルチェ素子３０１の制御電流を下げることで省エネルギー化を実現できる。本実施形態の光学装置も、第１実施形態と同様の効果を奏する。

（第３実施形態）
図５は、第３実施形態に係る光学装置の冷却手段の構成を示す概略図である。なお、上記実施形態で説明した構成要素と同一のものには同一の符号を付し、説明を省略する。本実施形態に係る光学装置５００が上記実施形態と異なる点は、冷却プレートを含まない点、および基準プレート５０１の構成である。本実施形態の基準プレート５０１は、冷媒が流れる流路５０２を有する。流路５０２は、伝熱体１２４ａおよび１２４ｂの近傍に配置される。流路の直径と長さはコイルの発熱量や必要な熱抵抗値に応じて決定される。また、本実施形態では、流路５０２は、複数系統の並列構成となっている。並列構成で各流路の長さを短くすることで、圧力損失を低減でき、かつ、冷媒の温度上昇による冷却能力の悪化を低減できる。さらに、本実施形態の伝熱体１２４ａおよび伝熱体１２４ｂの直径は、各伝熱体と基準プレート５０１との隙間５０３が１０μｍから１ｍｍ程度になるように構成されている。

コイル１０５ａおよびコイル１０５ｂで発生した熱は、伝熱体１２４ａおよび１２４ｂに伝熱し、隙間５０３の空気層を介して基準プレート５０１に伝熱し、流路５０２で回収される。この場合、隙間５０３に熱伝導率の良い熱伝導部材を挿入することで、冷却効果を向上させることができる。発熱量の大きなコイル１０５ａに連結する伝熱体１２４ａは、端部にペルチェ素子３０１を有し、流路５０２の冷却能力を補い、コイル１０５ｂに比べ冷却能力が強化されている。

本実施形態は、上記実施形態と比べて、別体の冷却プレート１２５がないため、装置サイズおよび装置構成の点で有利である。特に、基準プレート５０１内に流路５０２が形成されているため、基準プレート５０１の温度は冷媒と略等しい温度となり、光学装置５００の置かれている環境温度が変動しても、基準プレート５０１の温度変動は低減される。本実施形態の光学装置も、第１実施形態および第２実施形態と同様の効果を奏する。なお、上記実施形態の基準プレートは、本実施形態の基準プレート５０１と置き換えてもよい。

なお、上記実施形態では、露光装置に適用する例を説明したが、上記実施形態に係る光学装置を適用可能な装置は、例えば、ＥＵＶ光の照射により基板上にレジストの潜像パターンを形成するリソグラフィ装置がある。その他、レーザ加工装置、眼底撮影装置、望遠鏡等にも適用可能である。

（物品の製造方法）
本発明の実施形態にかかる物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程（基板を露光する工程）と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。さらに、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。

以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は、これらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。

１０１ 光学素子
１０３ａ、ｂ アクチュエータユニット
１０４ａ、ｂ 磁性部材
１０５ａ、ｂ コイル
１２４ａ、ｂ 伝熱体
１２５ 冷却プレート
３０１ ペルチェ素子
３０３ ヒートシンク
１２１ 基準プレート
３０２ 計測部

Claims (12)

1. 光学素子を変形させる光学装置であって、
   前記光学素子に取り付けられた第１磁性部材と、前記第１磁性部材と非接触に対向して配置される第１コイルと、を含み、前記光学素子を変形させる第１アクチュエータユニットと、
   前記光学素子に取り付けられた第２磁性部材と、前記第２磁性部材と非接触に対向して配置される第２コイルと、を含み、前記光学素子を変形させる第２アクチュエータユニットと、
   前記第１コイルと前記第２コイルを冷却する冷却部と、を備え、
   前記第１アクチュエータユニットが発生する推力は、前記第２アクチュエータユニットが発生する推力より大きく、
   前記冷却部は、前記第１コイルに連結され、前記第１コイルから発生した熱を伝える第１伝熱体と、前記第２コイルに連結され、前記第２コイルから発生した熱を伝える第２伝熱体と、を含み、
   前記第１伝熱体と前記第２伝熱体はそれぞれ棒状の形状であり、前記第１伝熱体の径は、前記第２伝熱体の径よりも大きいことを特徴とする光学装置。
2. 前記冷却部が前記第１コイルを冷却する第１冷却力は、前記冷却部が前記第２コイルを冷却する第２冷却力より大きいことを特徴とする請求項１に記載の光学装置。
3. 前記第１冷却力は前記第１コイルの発熱量により決定され、前記第２冷却力は前記第２コイルの発熱量により決定されることを特徴とする請求項２に記載の光学装置。
4. 前記第１コイルの発熱量は、前記光学素子の厚みを含むパラメータに基づき推定されることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の光学装置。
5. 前記光学素子を保持し、前記第１コイルと前記第２コイルが配置される基準プレートを備え、
   前記第１コイルの発熱量は、前記基準プレートが前記光学素子を保持する部分と前記第１コイルが配置される位置との距離を含むパラメータに基づき推定され、
   前記第２コイルの発熱量は、前記基準プレートが前記光学素子を保持する部分と前記第２コイルが配置される位置との距離を含むパラメータに基づいて推定されることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の光学装置。
6. 前記第１コイルと前記第２コイルの近傍の温度を計測する計測部と、
   前記冷却部の冷却力を制御する制御部と、を備え、
   前記制御部は、前記計測部の計測結果に基づいて、前記冷却力を制御することを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載の光学装置。
7. 前記第１コイルに連結され、前記第１コイルから発生した熱を伝える第１伝熱体は、前記第１コイルから伝わった熱の放熱量を調節する第１放熱部と、前記第１コイルから伝わった熱を一律に放熱する第２放熱部を備え、
   前記制御部は、前記計測結果に基づいて、前記第１放熱部の放熱量を制御することを特徴とする請求項６に記載の光学装置。
8. 前記計測部は、前記第１コイルの近傍の温度を計測することを特徴とする請求項６又は７に記載の光学装置。
9. 前記光学素子を保持し、前記第１コイルと前記第２コイルが配置される基準プレートを備え、
   前記冷却部は、冷媒を流す流路を内部に備えた前記基準プレートを含むことを特徴とする請求項１ないし８のいずれか１項に記載の光学装置。
10. 前記光学素子は表面に反射面を有するミラーであり、
    前記ミラーの裏面に設けられることを特徴とする請求項１ないし９のいずれか１項に記載の光学装置。
11. 請求項１ないし１０のいずれか１項に記載の光学装置を有することを特徴とする露光装置。
12. 請求項１１に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
    前記露光された前記基板を現像する工程と、を含み
    現像された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。

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