JP2005251788A - 位置決め装置およびそれを用いた露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 大ストロークで移動する粗動ステージと、該粗動ステージに対して小ストロークで移動する微動ステージを有する位置決め装置であって、前記粗動ステージの加減速にともなう力を前記微動ステージに伝達する少なくとも2つの継手を有し、該継手は前記粗動ステージの加減速時に前記微動ステージの少なくとも2つの側面から同一方向に力を付与する。
【選択図】 図1
Description
小林昭監修,「超精密生産技術体系 第3巻 計測・制御技術」,初版,1995年7月15日フジ・テクノシステム発行,p20−27
前記粗動ステージの加減速にともなう力を前記微動ステージに伝達する少なくとも2つの継手を有し、該継手は前記粗動ステージの加減速時に前記微動ステージの少なくとも2つの側面から力を付与することを特徴としている。
図1は実施例1に係るレチクルステージを示す図である。レチクルステージは粗動ステージ3および微動ステージ2を有する。粗動ステージ3は定盤4の上面で移動可能に支持されており、粗動用リニアモータ6によって走査方向としてのY軸方向に大ストロークで移動可能となっている。粗動用リニアモータ6は、ベースに支持されたコイルユニット(不図示)からなる固定子6aと、粗動ステージ2に固定された磁石ユニットからなる可動子6bを有し、固定子6aと可動子6bとの間でローレンツ力を発生させることで粗動ステージ3を駆動する。なお、粗動ステージの駆動機構はリニアモータにかぎるものではなく、その他の駆動機構であってもよい。
図4は実施例2に係るレチクルステージを示す図である。図1と同様の機能を有する構成要素に対しては同じ符号を付して詳細な説明は省略する。実施例2においては、走査方向と垂直な方向の両側面にも電磁継手10を設けている。具体的には、微動ステージのY軸と垂直な2側面と、X軸と垂直な2側面に対してそれぞれ磁性体板8が設けられており、各磁性体板をY軸方向の両側から挟み込むように粗動ステージには電磁石9が設けられている。
実施例1および実施例2に記載の位置決め装置は、レチクルステージにかぎらず高精度が要求される位置決め装置で適用可能である。したがって、上述の例では走査方向に一軸方向で粗動する構成を述べたが、二軸方向で粗動する構成であってもよい。図6は、上述の位置決め装置をレチクルステージまたはウェハステージおよびその両方として搭載した半導体デバイス製造用の露光装置を示す図である。
次に、この露光装置を利用した半導体デバイスの製造プロセスを説明する。図7は半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す図である。ステップ1(回路設計)では半導体デバイスの回路設計を行う。ステップ2(マスク作製)では設計した回路パターンに基づいてマスクを作製する。
2 微動ステージ
3 粗動ステージ
4 定盤
5 微動用リニアモータ
6 粗動用リニアモータ
7 電磁継手
8 Iコア
9 Eコア
10 開口部
11 レーザ干渉計
12 変形量検出手段
13 永久磁石
14 空芯コイル
15 ヨーク
16 コイル支持部
101 照明系ユニット
102 レチクルステージ
103 投影系ユニット
104 ウェハステージ
105 露光装置本体
Claims (13)
- 大ストロークで移動する粗動ステージと、該粗動ステージに対して小ストロークで移動する微動ステージを有する位置決め装置であって、
前記粗動ステージの加減速にともなう力を前記微動ステージに伝達する少なくとも2つの継手を有し、
該継手は前記粗動ステージの加減速時に前記微動ステージの少なくとも2つの側面から同一方向に力を付与することを特徴とする位置決め装置。 - 前記継手は前記粗動ステージの加減速方向に垂直な2つの側面から力を付与することを特徴とする請求項1に記載の位置決め装置。
- 大ストロークで移動する粗動ステージと、該粗動ステージに対して小ストロークで移動する微動ステージを有する位置決め装置であって、
前記粗動ステージの加減速にともなう力を前記微動ステージに伝達する少なくとも2つの継手を有し、
該継手は前記微動ステージの少なくとも1つの側面に複数個を設けられることを特徴とする位置決め装置。 - 前記粗動ステージの加減速時における前記微動ステージの変形量情報に基づいて、該変形を補正するように、各継手から前記微動ステージに付与する力を制御する制御手段を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の位置決め装置。
- 前記微動ステージに搭載された位置決め対象としての基板と、
前記微動ステージの変形、または前記微動ステージに対する前記基板の変位を検出する検出手段と、
前記検出手段からの出力に基づいてリアルタイムに前記継手から前記微動ステージに付与する力を制御する制御手段とを有することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の位置決め装置。 - 前記継手が電流および/または磁力を利用した電磁アクチュエータを有することを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の位置決め装置。
- 前記粗動ステージの等速時には、前記継手は力を付与しないことを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の位置決め装置。
- 前記微動ステージは、前記粗動ステージに対してリニアモータによって非接触に駆動することを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の位置決め装置。
- 所定方向に大ストロークで移動する粗動ステージと、該粗動ステージに対して小ストロークで移動する微動ステージを有する位置決め装置であって、
前記微動ステージは、前記所定方向の前後に磁性体板を有し、
前記粗動ステージは、前記磁性体板をそれぞれで前記所定方向の両側から挟み込むように設けられた一対の電磁石を有することを特徴とする位置決め装置。 - 前記電磁石は前記粗動ステージが前記所定方向に加減速をともない移動する際に力を発生することを特徴とする請求項9に記載の位置決め装置。
- 原版のパターンを基板に露光する露光装置であって、前記原版および/または基板を請求項1〜10のいずれかに記載の位置決め装置を用いて位置決めすることを特徴とする露光装置。
- 前記微動ステージの変形量もしくは前記微動ステージに搭載された原版および/または基板の前記微動ステージに対する変位量を所定値と比較するステップと、前記比較結果に応じて露光作業を中断するステップと、前記微動ステージの変形量もしくは前記微動ステージに搭載された原版および/または基板の前記微動ステージに対する変位量を前記微動ステージが停止した状態で測定するステップと、前記測定値をオフセット値として制御部のメモリに格納するステップと、前記オフセット値を前記微動ステージの制御に反映するステップとを有することを特徴とする請求項11に記載の露光装置。
- デバイス製造方法であって、請求項12に記載の露光装置を用いてデバイスを製造する工程を有することを特徴とするデバイス製造方法。
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