CN103376667B - 一种用于曝光装置的掩模台 - Google Patents

Abstract

一种用于曝光装置的掩模台，包括：机械预对准台，其包括承版台、X向预对准机构和Y向预对准机构，所述承版台用于固定至少两种不同尺寸的掩模版，所述X向预对准机构用于实现不同尺寸掩模版的X向预对准，所述Y向预对准机构用于实现不同尺寸掩模版的Y向预对准；驱动机构，其包括Y向粗动电机、X向微动电机，所述Y向粗动电机驱动机械预对准台沿Y向进行扫描移动，以进行大行程扫描，所述X向微动电机驱动机械预对准台沿X向移动，以实现X/Rz向的微调。本发明的驱动机构采用单层驱动结构，降低小物距曝光装置中掩模台的结构设计复杂度，机械预对准台实现了大小掩模版的兼容功能，且所述驱动机构取消了传统的机械导向结构，有效简化了掩模台结构。

Description

一种用于曝光装置的掩模台

技术领域

本发明涉及一种掩模台，特别是涉及一种用于大视场曝光装置的掩模台。

背景技术

现有技术中的光刻装置，主要用于集成电路(IC)或平板显示领域以及其它微型器件的制造。通过光刻装置，具有不同掩模图案的多层掩模在精确对准下依次成像在涂覆有光刻胶的晶片上，例如半导体晶片或LCD板。光刻装置大体上分为两类，一类是步进光刻装置，掩模图案一次曝光成像在晶片的一个曝光区域，随后晶片相对于掩模移动，将下一个曝光区域移动到掩模图案和投影物镜下方，再一次将掩模图案曝光在晶片的另一曝光区域，重复这一过程直到晶片上所有曝光区域都拥有掩模图案的像。另一类是步进扫描光刻装置，在上述过程中，掩模图案不是一次曝光成像，而是通过投影光场的扫描移动成像。在掩模图案成像过程中，掩模与晶片同时相对于投影系统和投影光束移动。在上述的光刻设备中，需具有相应的装置作为掩模版和硅片的载体，装载有掩模版/硅片的载体产生精确的相互运动来满足光刻需要。上述掩模版的载体被称之为承版台，硅片/基板的载体被称之为承片台。

在扫描光刻装置中，掩模台一般通过微动台和粗动台构成，微动台完成掩模版的精密微调，粗动台完成掩模版的大行程扫描曝光运动。随着平板显示行业的飞速发展，基板尺寸在不断增加，已经由原来的G1(基板尺寸300*400)发展到现在的G10(基板尺寸2850*3150)，曝光视场大小的需求也随之增大，在IC领域应用的单镜头已经难以满足曝光视场不断增大的需求，为此业内提出一种拼接镜头的曝光装置方案来解决视场大小问题。对于拼接镜头大视场曝光装置，采用掩模版尺寸也随之增大，比如：G4.5到G6以下，一般采用520*610mm和520*800mm，而G6以上则采用850*1200mm和850*1400mm，甚至更大。同时由于拼接镜头的物距在光学设计上存在难度，一般在20mm左右，这都给拼接镜头曝光装置的掩模台设计带来技术难题。

日本专利JP2009258391提出了应用于拼接镜头掩模台方案，。该专利采用四个放大倍率的物镜在非扫描向间隔排列，并采用双掩模台技术方案。第一掩模台支撑吸附第一掩模版，并在扫描向进行运动。利用测量镜以及干涉仪系统进行位置测量。第二掩模台支撑吸附第二掩模版，并且安装在第一掩模台上，并可通过三组调节机构进行水平向位置调节。对准系统测量掩模版的相对排列，控制系统基于对准系统的检测结果来控制调节第一和第二掩模台的排列以及第一和第二掩模版的排列。该方案很好的解决了拼接方案带来掩模台尺寸增大的问题，但没有很好解决物镜物距偏小的问题。

美国专利US6597435提出一种双掩模曝光方案，利用三自由度电机以及重力补偿技术构建一种粗微动一体式的单层掩模台结构。扫描Y向运动通过两组长行程电机完成，X/Rz向两个方向运动而是通过两组微动电机组成。该专利由于采用单层粗微动一体式结构，可以很好解决拼接镜头物距偏小等问题，但X向微动电机磁铁和Y向长行程电机是一体式，且为动磁铁方式，电机制造成本高昂。

在美国专利US20080239276中，提出一种掩模台结构，该专利采用粗微动架构方式由微动台保证掩模台的定位精度。但由于微动台布局于粗动台之上，对物镜物距的要求很大，难以应用于拼接镜头平板显示光刻机领域。

发明内容

本发明的目的在于提供一种用于曝光装置的掩模台以解决物镜物距偏小和掩模版大小尺寸的兼容问题。

本发明提供了一种用于曝光装置的掩模台，包括：机械预对准台，其包括承版台、X向预对准机构和Y向预对准机构；所述承版台用于承载尺寸不同的至少两种掩模版；所述X向预对准机构包括设置在承版台X向相对两侧边缘的至少一对X向定位组件，所述每对X向定位组件中至少有一个是能够沿X向移动的，并且通过所述各对X向定位组件卡紧掩模版的X向相对两侧边，使掩模版的X向中心与承版台的X向中心对准，实现掩模版的X向预对准；所述Y向预对准机构包括设置在承版台Y向相对两侧边缘的至少两对Y向定位组件，每一对Y向定位组件对应一种尺寸的掩模版，所述每一对Y向定位组件中至少有一个是能够沿Y向移动的，并且通过所述一对Y向定位组件卡紧掩模版的Y向相对两侧边，使掩模版的Y向中心与承版台的Y向中心对准，实现掩模版的Y向预对准；驱动机构，包括设置于同一平面内的Y向粗动电机、X向微动电机，所述Y向粗动电机驱动机械预对准台沿Y向进行扫描移动，所述X向微动电机驱动所述机械预对准台沿X向移动，以实现X/Rz向的微调；其中，X、Y向分别是水平面内相互垂直的两个方向，Rz向表示在XY平面内的旋转方向。

作为优选，所述一对X向定位组件包括分别设置在承版台X向相对两侧边缘的X向定位销和X向定位杆；所述X向定位销的设置位置使得当掩模版X向的一侧边抵顶在X向定位销上时，所述掩模版的X向中心与承版台的X向中心对准；所述X向定位杆在一第一X向驱动装置的驱动下能够沿X向移动，用于当掩模版X向的一侧边抵顶在X向定位销上时卡紧该掩模版X向的另一侧边。

作为优选，所述Y向预对准机构对应于Y向尺寸最大的掩模版设有一对第一Y向定位组件，所述Y向预对准机构对应于其余尺寸的掩模版分别设有一对第二Y向定位组件。

作为优选，所述一对第一Y向定位组件包括分别设置在承版台Y向相对两侧边缘的Y向固定式定位销和Y向定位杆，所述Y向固定式定位销的设置位置使得当尺寸所述Y向尺寸最大的掩模版Y向的一侧边抵顶在Y向固定式定位销上时，所述Y向尺寸最大的掩模版的Y向中心与承版台的Y向中心对准；所述Y向定位杆在一Y向驱动装置的驱动下能够沿Y向移动，用于当Y向尺寸最大的掩模版Y向的一侧边抵顶在Y向固定式定位销上时卡紧所述Y向尺寸最大的掩模版Y向的另一侧边。

作为优选，所述一对第二Y向定位组件包括分别设置在承版台Y向相对两侧边缘的Y向移动式定位销和Y向定位杆，当承版台承载有所述其余尺寸的掩模版时，所述Y向移动式定位销在一第二X向驱动装置的驱动下沿X向移动到一设置位置，所述设置位置使得当所述其余尺寸的掩模版Y向的一侧边抵顶在Y向移动式定位销上时，所述其余尺寸的掩模版的Y向中心与承版台的Y向中心对准；所述Y向定位杆在一Y向驱动装置的驱动下能够沿Y向移动，用于当所述其余尺寸的掩模版Y向的一侧边抵顶在Y向移动式定位销上时卡紧所述其余尺寸的掩模版Y向的另一侧边。

作为优选，所述第一Y向定位组件和各所述第二Y向定位组件共用一个Y向定位杆。

作为优选，所述掩模版通过真空吸附固定在承版台上。

作为优选，所述掩模台还包括电机连接板，用于连接驱动机构和机械预对准台，使得驱动机构能够带动机械预对准台运动。

作为优选，所述掩模台还包括设置在Y向粗动电机的两侧的垂向支撑机构，用于为所述机械预对准台的移动提供垂向支撑。

作为优选，所述垂向支撑机构为气浮垫。

作为优选，所述Y向粗动电机和所述X向微动电机各有两个，所述两个Y向粗动电机分布在承版台的两侧，所述两个微动电机沿Y向设置在承版台的一侧。

作为优选，分布在同一侧的Y向粗动电机和两个X向微动电机是一体式结构。

作为优选，所述Y向粗动电机包括Y向粗动电机动子和Y向粗动电机定子，所述Y向粗动电机动子固定在所述电机连接板的下表面。

作为优选，所述X向微动电机包括X向微动电机动子和X向微动电机定子，所述X向微动电机动子固定在所述电机连接板的侧面。

作为优选，所述X向微动电机动子包括线圈座和线圈，所述线圈座固定在承版台一侧，所述线圈固定在线圈座上，所述X向微动电机定子包括磁铁座和固定在磁铁座上的至少两组微动磁铁，所述每组微动磁铁包括两块不同极性的磁铁分别对称设置于所述线圈的上下两侧，相邻两组微动磁铁之间极性交错排列，线圈通上电流后，X向微动电机沿X向输出磁力。

作为优选，所述分布在同一侧的Y向粗动电机和两个X向微动电机包括设置在一线圈座上的粗动线圈和微动线圈，以及设置在一磁铁座上的粗动磁铁和微动磁铁，所述粗动磁铁和微动磁铁分别对应设置于所述粗动线圈和微动线圈的上下两侧，并使所述粗动线圈和微动线圈通电后，Y向粗动电机和X向微动电机分别沿Y向和X向输出磁力。

由于采用了以上技术方案，与现有技术相比，本发明具有以下优点：

本发明的一种用于曝光装置的掩模台，所述驱动机构采用单层驱动结构，同时提供Y向扫描运动和X/Rz向精密微调功能，解决了传统层叠式多自由度驱动机构布局方式所带来的垂向布局问题，可以降低小物距曝光装置中掩模台的结构设计复杂度。

另外，通过本发明的机械预对准台实现不同大小掩模版的水平向预对准功能，解决了掩模版大小尺寸的兼容问题，提高了掩模版的使用拓展性，并且本发明的驱动机构的Y向粗动电机和微动电机，能够为掩模版提供长行程扫描功能和X/Rz向的精密调节功能，取消了传统的机械导向结构，简化了掩模台的结构，此外，本发明还提供了一种一体式的粗微动电机，进一步简化了掩模台的驱动结构。

附图说明

图1为本发明的拼接镜头曝光装置结构示意图；

图2为本发明的拼接镜头曝光装置结构的俯视图；

图3为本发明的掩模台结构的主视图；

图4为本发明的掩模台结构的俯视图；

图5为本发明一实施例的X向微动电机结构的主视图；

图6为图5的X向微动电机结构的俯视图；

图7为本发明的机械预准台结构示意图；

图8为本发明另一实施例的X向微动电机结构的主视图；

图9为图8的X向微动电机结构的俯视图。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。

本发明提供一种大视场拼接镜头曝光装置的掩模台，具有水平向精密微调和大行程扫描运动功能，并具有机械预对准和兼容大小尺寸掩模版功能。

图1为拼接曝光装置结构示意图，从图中可以看出，拼接镜头曝光装置主要包括照明系统101、掩模台102、投影物镜103、基板台104。照明系统101位于掩模台102的上方，为曝光装置提供曝光光源，掩模台102支撑和定位大小不同的掩模版，在图1、2、3和4中示为掩模版105，所述掩模版固定在承版台(未图示)上，投影物镜103位于掩模台102和基板台104之间，由多组镜头P1、P2...拼接而成，组成大视场曝光装置，基板台104承载基板106，为基板106提供支撑和定位功能。

图2为拼接镜头曝光装置结构示意图的俯视图，从图2中可以看出各拼接镜头P1、P2...的布局位置，通过各镜头的交叉布局，将单个镜头的小视场拼接构成大的曝光视场，以将掩模版105上大的曝光图形201曝光在基板台104上。

本发明对于拼接镜头的布局方式不做任何限制，可以是本领域任何适合的拼接曝光装置。另外，对于物距偏小但与掩模版大小尺寸兼容的其他曝光装置，也是本发明所保护范围，并不限制在本发明所示出的拼接镜头曝光装置方案内。

图3、图4分别为本发明的掩模台结构的主视图和俯视图。从图中可以看出，掩模台的驱动机构由两个Y向粗动电机和两个X向微动电机构成(在本发明的图中的X轴和Y轴仅为了便于参考，不旨在限制本发明)。Y向粗动电机由Y向粗动电机定子307和Y向粗动电机动子303构成，所述Y向粗动电机动子303固定在电机连接板304下方，所述电机连接板304的一侧与机械预对准台301的承版台刚性连接，所述Y向粗动电机定子307固定在气浮导轨306和308上，所述Y向粗动电机动子303可相对于气浮导轨306和308沿Y向移动，从而通过电机连接板304带动机械预对准台301相对于气浮导轨306和308沿Y向移动。两个X向微动电机包括两个X向微动电机动子403和一个X向微动电机定子，所述两个X向微动电机动子共用一个微动电机定子404，所述X向微动电机定子404通过微动电机定子固定座405固定在气浮导轨308上，所述两个X向微动电机动子403固定在气浮导轨308一侧的电机连接板304的侧面，所述X向微动电机动子403可相对于气浮导轨308沿X向移动，从而通过电机连接板304带动机械预对准台301相对于气浮导轨308沿X向移动。在曝光过程中，两个X向微动电机同时为掩模台的扫描运动提供X/Rz向导向功能和提供X/Rz向的精密微调。设置在Y向粗动电机两侧的气浮垫305与所述电机连接版304气浮连接，为机械预对准台301的移动提供垂向支撑结构，以及提供无摩擦支撑。

图5、图6分别为本发明的X向微动电机结构的主视图和俯视图。所述X向微动电机动子403包括线圈座501和线圈502，所述线圈座501固定在承版台一侧，所述线圈502固定在线圈座501上，所述X向微动电机定子包括磁铁座503以及固定在磁铁座上的至少两组微动磁铁，所述每组微动磁铁包括两块不同极性的磁铁504、505分别对称设置于所述线圈502的上下两侧，相邻两组微动磁铁之间极性交错排列，通过上下两组不同极性的磁铁构成磁场，使得线圈502通上电流后，X向微动电机沿X向输出磁力。本发明为了便于说明，对电机动子的磁铁N、S极性的排布方式只是提出了其中一种，其他布局方式也在本发明的保护范围内。

图7为本发明的机械预对准台的结构示意图。机械预对准台301包括承版台、X向预对准装置和Y向预对准装置。所述承版台用于承载和固定X向尺寸相同而Y向尺寸不同的掩模版，在图6中所述Y向小尺寸掩模版为605，Y向大尺寸掩模版为606。所述X向预对准机构包括设置在承版台X向相对两侧边缘的一对X向定位组件，所述一对X向定位组件中至少有一个是能够沿X向移动的，并且通过所述一对X向定位组件卡紧掩模版的X向相对两侧边，使掩模版的X向中心与承版台的X向中心对准，实现掩模版的X向预对准；所述Y向预对准机构包括设置在承版台Y向相对两侧边缘的至少两对Y向定位组件，每一对Y向定位组件对应一种掩模版，每一对Y向定位组件中至少有一个是能够沿Y向移动的，并且通过所述一对Y向定位组件卡紧掩模版的Y向相对两侧边，使掩模版的Y向中心与承版台的Y向中心对准，实现掩模版的Y向预对准。

所述一对X向定位组件包括分别设置在承版台X向相对两侧边缘的X向定位销610和X向定位杆603；所述X向定位销610的设置位置使得当掩模版605/606X向的一侧边抵顶在X向定位销610上时，所述掩模版605/606的X向中心与承版台的X向中心对准；所述X向定位杆603和第一X向驱动装置604连接，所述X向定位杆603固定在承版台的负X向边缘，所述X向定位杆603在第一X向驱动装置604的驱动下能够沿X向移动，用于当掩模版X向的一侧边抵顶在X向定位销610上时卡紧该掩模版X向的另一侧边。

所述Y向预对准机构对应于Y向大尺寸掩模版606设有一对第一Y向定位组件，所述Y向预对准机构对应于Y向小尺寸掩模版605设有一对第二Y向定位组件。所述一对第一Y向定位组件包括分别设置在承版台Y向相对两侧边缘的Y向固定式定位销611和Y向定位杆607，所述Y向固定式定位销611的设置位置使得当Y向大尺寸掩模版606Y向的一侧边抵顶在Y向固定式定位销上611时，所述Y向大尺寸掩模版606的Y向中心与承版台的Y向中心对准；所述Y向定位杆607和Y向驱动装置608固定连接，所述Y向驱动装置608固定在承版台的负Y向的边缘，所述Y向定位杆607在Y向驱动装置608的驱动下能够沿Y向移动，用于当Y向大尺寸掩模版606Y向的一侧边抵顶在Y向固定式定位销611上时卡紧所述Y向大尺寸掩模版606Y向的另一侧边。所述一对第二Y向定位组件包括分别设置在承版台Y向相对两侧边缘的Y向移动式定位销602和Y向定位杆607，所述Y向移动式定位销602与第二X向驱动装置601连接，所述第二X向驱动装置601固定在承版台的正Y向边缘，当所述Y向小尺寸掩模版605上版时，所述Y向移动式定位销602在第二X向驱动装置601的驱动下沿X向移动到设置位置，所述设置位置使得当Y向小尺寸掩模版605Y向的一侧边抵顶在Y向移动式定位销602上时，所述Y向小尺寸掩模版605的Y向中心与承版台的Y向中心对准；所述Y向定位杆607在Y向驱动装置608的驱动下能够沿Y向移动，用于当Y向小尺寸掩模版605Y向的一侧边抵顶在Y向移动式定位销上时卡紧所述Y向小尺寸掩模版605Y向的另一侧边。

当承版台承载有Y向小尺寸掩模版605时，首先驱动第二X向驱动装置601使得Y向移动式定位销602沿X轴向承版台中间方向移动设定位置，所述Y向移动式定位销602为Y向小尺寸掩模版605正Y方向提供预对准作用，然后驱动第一X向驱动装置604使得所述X向定位杆604沿X方向移动，通过X向定位杆604沿X方向调整Y向小尺寸掩模版605的位置，同时驱动Y向驱动装置608使得所述Y向定位杆607沿Y方向移动，通过Y向定位杆607沿Y方向调整Y向小尺寸掩模版605的位置，从而实现Y向小尺寸掩模版605的X向和Y向的预对准。

当承版台承载有Y向大尺寸掩模版606时，所述Y向移动式定位销602静止在远离Y向大尺寸掩模版606的位置，驱动第一X向驱动装置604使得所述X向定位杆603沿X方向移动，通过X向定位杆603沿X方向调整Y向大尺寸掩模版606的位置，同时驱动Y向驱动装置608使得所述Y向定位杆607沿Y方向移动，通过Y向定位杆607沿Y方向调整Y向大尺寸掩模版606的位置，从而实现Y向大尺寸掩模版606的X向和Y向的预对准。

在本发明的一个实施例中，所述驱动机构由两组各自独立的Y向粗动电机和微动电机构成，并提供扫描运动和X/Rz向精密微调。

在本发明的另一实施例中，掩模台驱动装置由分布在同一侧的Y向粗动电机和两个微动电机一体组成，如图8、图9所示。该一体组成的电机主要包括设置在线圈座701上的粗动线圈702和微动线圈703，以及设置在磁铁座706上的粗动磁铁704和微动磁铁705。所述粗动线圈702和微动线圈703均固定在线圈座701上，粗动磁铁704和微动磁铁705均固定在磁铁座706上，且所述粗动磁铁704和微动磁铁705分别对应设置于所述粗动线圈702和微动线圈703的上下两侧。所述线圈座701和若干组粗动线圈702构成Y向粗动电机的动子，若干组不同极性间隔排列的粗动磁铁704和磁铁座706构成Y向粗动电机定子，为掩模台提供长行程驱动力。而所述线圈座701、两组Y向布局的微动线圈703构成两组X向微动电机动子，不同极性间隔排列的微动磁铁705和磁铁座706构成X向微动电机定子，使得所述粗动线圈702和微动线圈703通电后，Y向粗动电机和X向微动电机分别沿Y向和X向输出磁力，为掩模台X/Rz向精密调节提供驱动力，同时为掩模台的水平向运动提供水平向导向。

本发明为了便于说明，对电机动子的磁铁N、S极性的排布方式只是提出了其中一种，其他布局方式也在本发明的保护范围内。

本发明的一种大视场拼接镜头曝光装置的掩模台的机械预对准台为掩模版提供掩模支撑和机械预对准功能以及大小掩模的兼容功能，从而提高掩模台的应用拓展性，且掩模台的驱动机构取消了传统的机械导向结构，有效简化了掩模台的结构。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (13)

1.一种用于曝光装置的掩模台，其特征在于，包括：

机械预对准台，包括承版台、X向预对准机构和Y向预对准机构；所述承版台用于承载尺寸不同的至少两种掩模版；所述X向预对准机构包括设置在承版台X向相对两侧边缘的至少一对X向定位组件，所述每对X向定位组件中有一个是能够沿X向移动的，其余固定在所述承版台上，并且通过所述各对X向定位组件卡紧掩模版的X向相对两侧边，使掩模版的X向中心与承版台的X向中心对准，实现掩模版的X向预对准；所述Y向预对准机构包括设置在承版台Y向相对两侧边缘的至少两对Y向定位组件，每一对Y向定位组件对应一种尺寸的掩模版，所述每对Y向定位组件中有一个是能够沿Y向移动的，其余固定在所述承版台上，并且通过所述一对Y向定位组件卡紧掩模版的Y向相对两侧边，使掩模版的Y向中心与承版台的Y向中心对准，实现掩模版的Y向预对准；

驱动机构，包括设置于同一平面内的Y向粗动电机、X向微动电机，所述Y向粗动电机驱动所述机械预对准台沿Y向进行扫描移动，所述X向微动电机驱动机械预对准台沿X向移动，以实现X/Rz向的微调；

其中，X、Y向分别是水平面内相互垂直的两个方向，Rz向表示在XY平面内的旋转方向；

所述Y向预对准机构对应于Y向尺寸最大的掩模版设有一对第一Y向定位组件，所述Y向预对准机构对应于其余尺寸的掩模版分别设有一对第二Y向定位组件；

所述一对第一Y向定位组件包括分别设置在承版台Y向相对两侧边缘的Y向固定式定位销和Y向定位杆，所述Y向固定式定位销的设置位置使得当所述Y向尺寸最大的掩模版Y向的一侧边抵顶在Y向固定式定位销上时，所述Y向尺寸最大的掩模版的Y向中心与承版台的Y向中心对准；所述Y向定位杆在一Y向驱动装置的驱动下能够沿Y向移动，用于当Y向尺寸最大的掩模版Y向的一侧边抵顶在Y向固定式定位销上时卡紧所述Y向尺寸最大的掩模版Y向的另一侧边；

所述一对第二Y向定位组件包括分别设置在承版台Y向相对两侧边缘的Y向移动式定位销和Y向定位杆，当承版台承载有所述其余尺寸的掩模版时，所述Y向移动式定位销在一第二X向驱动装置的驱动下沿X向移动到一设置位置，所述设置位置使得当所述其余尺寸的掩模版Y向的一侧边抵顶在Y向移动式定位销上时，所述其余尺寸的掩模版的Y向中心与承版台的Y向中心对准；所述Y向定位杆在一Y向驱动装置的驱动下能够沿Y向移动，用于当所述其余尺寸的掩模版Y向的一侧边抵顶在Y向移动式定位销上时卡紧所述其余尺寸的掩模版Y向的另一侧边。

2.如权利要求1所述的掩模台，其特征在于，所述一对X向定位组件包括分别设置在承版台X向相对两侧边缘的X向定位销和X向定位杆；所述X向定位销的设置位置使得当掩模版X向的一侧边抵顶在X向定位销上时，所述掩模版的X向中心与承版台的X向中心对准；所述X向定位杆在一第一X向驱动装置的驱动下能够沿X向移动，用于当掩模版X向的一侧边抵顶在X向定位销上时卡紧该掩模版X向的另一侧边。

3.如权利要求1所述的掩模台，其特征在于，所述第一Y向定位组件和各所述第二Y向定位组件共用一个Y向定位杆。

4.如权利要求1所述的掩模台，其特征在于，所述掩模版通过真空吸附固定在承版台上。

5.如权利要求1所述的掩模台，其特征在于，所述掩模台还包括电机连接板，用于连接驱动机构和机械预对准台，使得驱动机构能够带动机械预对准台运动。

6.如权利要求1所述的掩模台，其特征在于，所述掩模台还包括设置在Y向粗动电机的两侧的垂向支撑机构，用于为所述机械预对准台的移动提供垂向支撑。

7.如权利要求6所述的掩模台，其特征在于，所述垂向支撑机构为气浮垫。

8.如权利要求1所述的掩模台，其特征在于，所述Y向粗动电机和所述X向微动电机各有两个，所述两个Y向粗动电机分布在承版台的两侧，所述两个微动电机沿Y向设置在承版台的一侧。

9.如权利要求8所述的掩模台，其特征在于，分布在同一侧的Y向粗动电机和两个X向微动电机是一体式结构。

10.如权利要求5所述的掩模台，其特征在于，所述Y向粗动电机包括Y向粗动电机动子和Y向粗动电机定子，所述Y向粗动电机动子固定在所述电机连接板的下表面。

11.如权利要求5所述的掩模台，其特征在于，所述X向微动电机包括X向微动电机动子和X向微动电机定子，所述X向微动电机动子固定在所述电机连接板的侧面。

12.如权利要求11所述的掩模台，其特征在于，所述X向微动电机动子包括线圈座和线圈，所述线圈座固定在承版台一侧，所述线圈固定在线圈座上，所述X向微动电机定子包括磁铁座和固定在磁铁座上的至少两组微动磁铁，所述每组微动磁铁包括两块不同极性的磁铁分别对称设置于所述线圈的上下两侧，相邻两组微动磁铁之间极性交错排列，线圈通上电流后，X向微动电机沿X向输出磁力。

13.如权利要求9所述的掩模台，其特征在于，所述分布在同一侧的Y向粗动电机和两个X向微动电机包括设置在一线圈座上的粗动线圈和微动线圈，以及设置在一磁铁座上的粗动磁铁和微动磁铁，所述粗动磁铁和微动磁铁分别对应设置于所述粗动线圈和微动线圈的上下两侧，并使所述粗动线圈和微动线圈通电后，Y向粗动电机和X向微动电机分别沿Y向和X向输出磁力。