CN2653554Y - 黄光微影设备曝光机之可调节型掩膜版吸附台 - Google Patents
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Abstract
一种黄光微影设备曝光机之可调节型掩膜版吸附台，包括机座、中心工作台、中心工作台角度调整机构三部分，其特征在于在中心工作台上包括掩膜版调整定位机构。本实用新型的优越性在于：本案可调节型掩膜版吸附台结构充分考虑了掩膜版吸附台的通用性，它可以适用于多种规格尺寸大小的掩膜版进行曝光工作，解决了传统掩膜版吸附台缺乏通用性的问题。
Description
(一)技术领域：
本实用新型涉及一种黄光微影设备曝光机之吸附台的设计，特别是一种适用于多种规格尺寸大小掩膜板的黄光微影设备曝光机之可调节型掩膜版吸附台的设计。
(二)背景技术：
在电子技术日新月异发展的今天，各种新型的新材料、新产品不断出现。有非常多种类的非半导体新产品的制造过程需要采用半导体工艺进行表面加工处理，在材料的表面进行微电路的加工制造。而对于半导体工艺技术来说，黄光微影设备曝光机是半导体加工工艺工序中的一个极其重要的设备，其工作性能的高低直接决定产品的生产良率。半导体加工工艺的发展历程是一个伴随着半导体晶片尺寸不断增大的过程，同时也是黄光微影设备曝光机的更新换代的过程，随着长晶技术的发展，晶片的外径尺寸越来越大，从2英寸、3英寸、4英寸、6英寸、8英寸以至12英寸，适应于每一代半导体加工工艺的黄光微影设备曝光机，其结构的设计充分适应了晶片尺寸的增大，所以曝光机的吸附台也做的越来越大。但几乎所有曝光机厂商都将掩膜版吸附台设计成对应于其加工的晶片的单一固定的尺寸规格。这样给采用半导体生产工艺技术进行非半导体产品生产的尤其是使用大小不一的晶片和掩膜版的新产品生产厂家，在设备的使用上造成不便。传统的黄光微影设备曝光机之吸附台只能对应一种尺寸的掩膜版进行曝光，机台的通用程度很低。
(三)发明内容：
本实用新型的目的在于设计一种黄光微影设备曝光机之可调节型掩膜版吸附台，它能克服常规掩膜版吸附台上述所说的尺寸单一的缺点，增强了其工作的通用性，使之可以适用于多种规格尺寸的掩膜版进行曝光工作。
本实用新型的技术方案：一种黄光微影设备曝光机之可调节型掩膜版吸附台，包括机座、中心工作台、中心工作台角度调整机构三部分，其特征在于在中心工作台上包括掩膜版调整定位机构。
上述所说的机座是支撑中心工作台和中心工作台角度调整机构并与曝光机机台相联结的机构；所说的中心工作台角度调整机构是用来调整中心工作台在机座上的角度的；所说的中心工作台是用来吸附和固定掩膜版且其上有掩膜版调整定位机构的机构；所说的掩膜版调整定位机构由限位片、限位螺母，限位螺杆三部分所组成，通过移动限位螺母调整限位片在限位螺杆上的位置，可以达到对不同规格尺寸的掩膜版的通用性。
上述所说的中心工作台相邻侧面上有用来固定限位螺杆的螺纹孔，其数量各不少于2个；
上述所说的掩膜版调整定位机构的限位片与限位螺杆相配合的通孔不少于2个；
上述所说的掩膜版调整定位机构的限位片其安装后的上表面应高于中心工作台的上表面；
上述所说掩膜版调整定位机构的限位螺杆是用来支撑和调整限位片位置的，其数量不少于2个；
上述所说的掩膜版调整定位机构的限位螺母与限位螺杆的对应关系为一根螺杆对应两个螺母且联结后其高度应低于中心工作台上表面；
上述所说的掩膜版调整定位机构亦可由限位片、限位螺杆、限位弹簧、限位螺母四部分组成，其限位弹簧替代了靠近中心工作台的限位螺母，使其在调整的时候调整外侧限位螺母即可；
上述所说的掩膜版调整定位机构每组固定于中心工作台侧面上，其数量可以是位于相邻侧面上的两组，也可以是位于三个侧面上的三组或位于四个侧面上的四组；
本实用新型的优越性在于：本案可调节型掩膜版吸附台结构充分考虑了掩膜版吸附台的通用性，它可以适用于多种规格尺寸大小的掩膜版进行曝光工作，解决了传统掩膜版吸附台缺乏通用性的问题。
(四)附图说明：
附图1为本发明所涉一种黄光微影设备曝光机之可调节型掩膜版吸附台立体结构示意图。
附图2为本发明所涉一种黄光微影设备曝光机之可调节型掩膜版吸附台之中心工作台爆炸图。
附图3为本发明所涉一种黄光微影设备曝光机之可调节型掩膜版吸附台加载掩膜版后的示意图。
附图4为本发明所涉一种黄光微影设备曝光机之可调节型掩膜版吸附台之两组不同的调整结构示意图。
其中：10为机座本体，20为中心工作台角度调整机构本体，30为中心工作台本体，31为中心工作台上的吸附槽，32a、32b分别为中心工作台的两相邻侧面，33为中心工作台上用来固定掩膜版调整定位机构的螺孔，40为掩膜版调整定位机构本体，41为限位螺杆，42为限位片，43a、43b为限位螺母，44为限位弹簧，45为限位片上的通孔，50为掩膜版本体。
(五)具体实施方式：
实施例1：一种黄光微影设备曝光机之可调节型掩膜版吸附台，包括机座10、中心工作台30、中心工作台角度调整机构20三部分，其特征在于在中心工作台30上包括掩膜版调整定位机构40。
上述所说的机座10是支撑中心工作台30和中心工作台角度调整机构20并与曝光机机台相联结的机构；所说的中心工作台角度调整机构20是用来调整中心工作台30在机座10上的角度的；所说的中心工作台30是用来吸附和固定掩膜版50且其上有掩膜版调整定位机构40的机构；所说的掩膜版调整定位机构40由限位片42、限位螺母43a、43b、限位螺杆41三部分所组成，通过移动限位螺母43a、43b调整限位片42在限位螺杆41上的位置，可以达到对不同规格尺寸的掩膜版50的通用性。
上述所说的中心工作台30相邻侧面32a、32b上有用来固定限位螺杆41的螺纹孔33，其数量各不少于2个；
上述所说的掩膜版调整定位机构40的限位片42与限位螺杆41相配合的通孔45不少于2个；
上述所说的掩膜版调整定位机构40的限位片42其安装后的上表面应高于中心工作台30的上表面；
上述所说掩膜版调整定位机构40的限位螺杆41是用来支撑和调整限位片42位置的，其数量不少于2个；
上述所说的掩膜版调整定位机构40的限位螺母43a、43b与限位螺杆41的对应关系为一根限位螺杆41对应两个限位螺母43a、43b且联结后其高度应低于中心工作台30上表面。
实施例2：上述所说的掩膜版调整定位机构40亦可由限位片42、限位螺杆41、限位弹簧44、限位螺母43b四部分组成，其限位弹簧44替代了靠近中心工作台30的限位螺母43a，使其在调整的时候调整外侧限位螺母43b即可。
实施例3：上述所说的掩膜版调整定位机构40每组固定于中心工作台30侧面上，其数量也可以是位于三个侧面上的三组或位于四个侧面上的四组。
Claims (9)
1、一种黄光微影设备曝光机之可调节型掩膜版吸附台，包括机座、中心工作台、中心工作台角度调整机构三部分，其特征在于在中心工作台上包括掩膜版调整定位机构。
2、根据权利要求1所说的一种黄光微影设备曝光机之可调节型掩膜版吸附台，其特征在于所说的机座是支撑中心工作台和中心工作台角度调整机构并与曝光机机台相联结的机构；所说的中心工作台角度调整机构是用来调整中心工作台在机座上的角度的；所说的中心工作台是用来吸附和固定掩膜版且其上有掩膜版调整定位机构的机构；所说的掩膜版调整定位机构由限位片、限位螺母，限位螺杆三部分所组成，通过移动限位螺母调整限位片在限位螺杆上的位置，可以达到对不同规格尺寸的掩膜版的通用性。
3、根据权利要求1所说的一种黄光微影设备曝光机之可调节型掩膜版吸附台，其特征在于所说的中心工作台相邻侧面上有用来固定限位螺杆的螺纹孔，其数量各不少于2个。
4、根据权利要求1所说的一种黄光微影设备曝光机之可调节型掩膜版吸附台，其特征在于所说的掩膜版调整定位机构的限位片与限位螺杆相配合的通孔不少于2个。
5、根据权利要求1所说的一种黄光微影设备曝光机之可调节型掩膜版吸附台，其特征在于所说的掩膜版调整定位机构的限位片其安装后的上表面应高于中心工作台的上表面。
6、根据权利要求1所说的一种黄光微影设备曝光机之可调节型掩膜版吸附台，其特征在于所说掩膜版调整定位机构的限位螺杆是用来支撑和调整限位片位置的，其数量不少于2个；
7、根据权利要求1所说的一种黄光微影设备曝光机之可调节型掩膜版吸附台，其特征在于所说的掩膜版调整定位机构的限位螺母与限位螺杆的对应关系为一根螺杆对应两个螺母且联结后其高度应低于中心工作台上表面。
8、根据权利要求1所说的一种黄光微影设备曝光机之可调节型掩膜版吸附台，其特征在于所说的掩膜版调整定位机构亦可由限位片、限位螺杆、限位弹簧、限位螺母四部分组成，其限位弹簧替代了靠近中心工作台的限位螺母，使其在调整的时候调整外侧限位螺母即可。
9、根据权利要求1所说的一种黄光微影设备曝光机之可调节型掩膜版吸附台，其特征在于所说的掩膜版调整定位机构每组固定于中心工作台侧面上，其数量可以是位于相邻侧面上的两组，也可以是位于三个侧面上的三组或位于四个侧面上的四组。
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| CN 200320112204 CN2653554Y (zh) | 2003-11-14 | 2003-11-14 | 黄光微影设备曝光机之可调节型掩膜版吸附台 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103116428A (zh) * | 2013-01-30 | 2013-05-22 | 无锡力合光电传感技术有限公司 | 一种在衬底上固定掩膜版的装置、使用方法及其用途 |
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2003
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