JPWO2018181912A1 - 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び移動体の駆動方法 - Google Patents
移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び移動体の駆動方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2018181912A1 JPWO2018181912A1 JP2019510257A JP2019510257A JPWO2018181912A1 JP WO2018181912 A1 JPWO2018181912 A1 JP WO2018181912A1 JP 2019510257 A JP2019510257 A JP 2019510257A JP 2019510257 A JP2019510257 A JP 2019510257A JP WO2018181912 A1 JPWO2018181912 A1 JP WO2018181912A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- actuator
- moving body
- thrust
- movement stage
- moving
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
- G03F7/70725—Stages control
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70758—Drive means, e.g. actuators, motors for long- or short-stroke modules or fine or coarse driving
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70791—Large workpieces, e.g. glass substrates for flat panel displays or solar panels
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D3/00—Control of position or direction
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D3/00—Control of position or direction
- G05D3/12—Control of position or direction using feedback
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
- H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
- H01L21/68764—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by a movable susceptor, stage or support, others than those only rotating on their own vertical axis, e.g. susceptors on a rotating caroussel
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
Abstract
Description
Claims (23)
- 所定方向に移動可能な第1移動体と、
前記第1移動体が相対移動可能に設けられ、前記所定方向へ移動可能な第2移動体と、
前記第2移動体を支持するベースと、
前記第2移動体を前記ベースに対して前記所定方向に相対移動させる推力を、第1推力として前記第1移動体に付与する第1アクチュエータと、前記推力を前記第1推力よりも大きな第2推力として前記第1移動体に付与する第2アクチュエータと、を含み、前記第1及び第2移動体を前記所定方向に関して、前記ベースに対して相対駆動させるアクチュエータユニットと、
前記第1及び第2アクチュエータを制御し、前記第1及び第2移動体を前記ベースに対して相対移動させる際に要求される推力に基づいて、前記第1及び第2アクチュエータの少なくとも何れか一方のアクチュエータを制御する制御系と、を備える移動体装置。 - 前記アクチュエータユニットは、前記第2移動体を加減速移動させる推力を、前記第2アクチュエータを介して前記第1移動体に付与する請求項1に記載の移動体装置。
- 前記第1アクチュエータは、前記アクチュエータユニットにより前記第1移動体および前記第2移動体が前記ベースに対して相対移動している際に、前記第1移動体を前記第2移動体に対して相対移動させる請求項1又は2に記載の移動体装置。
- 前記第2アクチュエータは、空気圧を推力に変換する空圧アクチュエータである請求項1〜3のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 前記第2アクチュエータは、前記第1及び第2移動体間における振動を減衰する減衰部を備える請求項1〜4のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 前記第1アクチュエータは、電磁力を推力に変換するリニアモータである請求項1〜5のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 前記第1及び第2アクチュエータは、前記所定方向に平行に方向を中心に、同軸上に設けられる請求項1〜6の何れか一項に記載の移動体装置。
- 前記アクチュエータユニットは、前記第1及び第2移動体を前記所定方向である第1方向に相対移動させる第1アクチュエータユニットを含み、
前記第1アクチュエータユニットは、前記第1方向に交差する第2方向に離間して複数設けられる請求項1〜7のいずれか一項に記載の移動体装置。 - 前記アクチュエータユニットは、前記第1及び第2移動体を前記第2方向に相対移動させる第2アクチュエータユニットを含み、
前記第2アクチュエータユニットは、前記第1方向に離間して複数設けられる請求項8に記載の移動体装置。 - 前記制御系は、前記第1移動体の駆動目標位置に基づくフィードフォワード制御を行い、前記アクチュエータユニットの前記第2アクチュエータを用いる請求項1〜9のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 前記制御系は、前記駆動目標位置に対する前記第1移動体の位置誤差に基づくフィードバック制御を行い、
前記フィードバック制御では、高帯域での位置制御に前記第1アクチュエータを用いるとともに、低帯域での位置制御に前記第2アクチュエータを用いる請求項10に記載の移動体装置。 - 前記制御系は、前記高帯域と前記低帯域との間の中帯域において、前記第2アクチュエータを用いて前記フィードバック制御を行う請求項11に記載の移動体装置。
- 請求項1〜12のいずれか一項に記載の移動体装置と、
前記移動体装置の前記第1移動体に保持された物体に対してエネルギビームを用いて所定のパターンを形成するパターン形成装置と、を備える露光装置。 - 前記物体は、フラットパネルディスプレイに用いられる基板である請求項13に記載の露光装置。
- 前記物体は、少なくとも一辺の長さ又は対角長が500mm以上である請求項14に記載の露光装置。
- 請求項14又は15に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと、
露光された前記基板を現像することと、を含むフラットパネルディスプレイの製造方法。 - 請求項13に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと、
露光された前記物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。 - 所定方向に移動可能な第1移動体、及び前記第1移動体が相対移動可能に設けられ、前記所定方向へ移動可能な第2移動体を、前記所定方向に関して、前記第2移動体を支持するベースに対して相対駆動させることと、
前記第2移動体を前記ベースに対して前記所定方向に相対移動させる推力を、第1推力として、第1アクチュエータを用いて前記第1移動体に付与することと、
前記第2移動体を前記ベースに対して前記所定方向に相対移動させる推力を、前記第1推力よりも大きな第2推力として、第2アクチュエータを用いて前記第1移動体に付与することと、
前記第1及び第2アクチュエータを制御し、前記第1及び第2移動体を前記ベースに対して相対移動させる際に要求される推力に基づいて、前記第1及び第2アクチュエータの少なくとも何れか一方のアクチュエータを制御することと、を含む移動体の駆動方法。 - 前記第2アクチュエータを用いて前記第1移動体に付与することでは、前記第2移動体を加減速移動させる推力を前記第2アクチュエータを介して前記第1移動体に付与する請求項18に記載の移動体の駆動方法。
- 前記第1アクチュエータを用いて前記第1移動体に付与することでは、前記第1移動体および前記第2移動体が前記ベースに対して相対移動している際に、前記第1移動体を前記第2移動体に対して相対移動させる請求項18又は19に記載の移動体の駆動方法。
- 前記相対移動させることは、前記第1移動体の駆動目標位置に基づくフィードフォワード制御を含み、
前記制御することでは、前記フィードフォワード制御で、前記第2アクチュエータを用いる請求項18〜20のいずれか一項に記載の移動体の駆動方法。 - 前記相対移動させることは、前記駆動目標位置に対する前記第1移動体の位置誤差に基づくフィードバック制御を含み、
前記制御することでは、前記フィードバック制御で、高帯域での位置制御に前記第1アクチュエータを用いるとともに、低帯域での位置制御に前記第2アクチュエータを用いる請求項21に記載の移動体の駆動方法。 - 前記制御することでは、前記フィードバック制御で、前記高帯域と前記低帯域との間の中帯域において、前記第2アクチュエータを用いる請求項22に記載の移動体の駆動方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022195713A JP7472958B2 (ja) | 2017-03-31 | 2022-12-07 | 移動体装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017071013 | 2017-03-31 | ||
JP2017071013 | 2017-03-31 | ||
PCT/JP2018/013656 WO2018181912A1 (ja) | 2017-03-31 | 2018-03-30 | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び移動体の駆動方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022195713A Division JP7472958B2 (ja) | 2017-03-31 | 2022-12-07 | 移動体装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2018181912A1 true JPWO2018181912A1 (ja) | 2020-02-13 |
Family
ID=63676422
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019510257A Pending JPWO2018181912A1 (ja) | 2017-03-31 | 2018-03-30 | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び移動体の駆動方法 |
JP2022195713A Active JP7472958B2 (ja) | 2017-03-31 | 2022-12-07 | 移動体装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022195713A Active JP7472958B2 (ja) | 2017-03-31 | 2022-12-07 | 移動体装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JPWO2018181912A1 (ja) |
KR (2) | KR102441111B1 (ja) |
CN (1) | CN110709793B (ja) |
TW (1) | TWI797114B (ja) |
WO (1) | WO2018181912A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113323512A (zh) * | 2020-02-28 | 2021-08-31 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 版盒解锁装置及掩模传输版库设备 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000106344A (ja) * | 1998-07-29 | 2000-04-11 | Canon Inc | ステ―ジ装置、露光装置およびデバイス製造方法ならびにステ―ジ駆動方法 |
JP2003045785A (ja) * | 2001-08-01 | 2003-02-14 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
JP2004104023A (ja) * | 2002-09-12 | 2004-04-02 | Ckd Corp | 微動装置 |
JP2004221251A (ja) * | 2003-01-14 | 2004-08-05 | Canon Inc | 露光装置 |
JP2005251788A (ja) * | 2004-03-01 | 2005-09-15 | Canon Inc | 位置決め装置およびそれを用いた露光装置 |
JP2007027331A (ja) * | 2005-07-14 | 2007-02-01 | Canon Inc | 駆動装置及びこれを用いた露光装置並びにデバイス製造方法 |
JP2009087371A (ja) * | 2008-12-24 | 2009-04-23 | Canon Inc | 位置決め装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
JP2014090198A (ja) * | 2007-03-05 | 2014-05-15 | Nikon Corp | 移動体装置及びパターン形成装置、並びに移動体駆動方法 |
WO2015147039A1 (ja) * | 2014-03-26 | 2015-10-01 | 株式会社ニコン | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10270535A (ja) * | 1997-03-25 | 1998-10-09 | Nikon Corp | 移動ステージ装置、及び該ステージ装置を用いた回路デバイス製造方法 |
AU4395999A (en) * | 1998-07-03 | 2000-01-24 | Nikon Corporation | Exposure system, method of manufacture thereof, method of wafer transfer, deviceand method of manufacture device |
JP4211272B2 (ja) * | 2002-04-12 | 2009-01-21 | 株式会社ニコン | 露光装置及び露光方法 |
US20060061218A1 (en) * | 2004-09-21 | 2006-03-23 | Nikon Corporation | Dual force wafer table |
JP2008147280A (ja) * | 2006-12-07 | 2008-06-26 | Nikon Corp | 露光装置 |
JP2008182210A (ja) * | 2006-12-27 | 2008-08-07 | Canon Inc | ステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
CN103782239B (zh) * | 2011-08-30 | 2017-09-05 | 株式会社尼康 | 基板处理装置及基板处理方法、曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法、及平板显示器的制造方法 |
JP5807841B2 (ja) * | 2011-08-30 | 2015-11-10 | 株式会社ニコン | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 |
JP2014098731A (ja) * | 2012-11-13 | 2014-05-29 | Nikon Corp | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 |
JP6181956B2 (ja) * | 2013-03-26 | 2017-08-16 | キヤノン株式会社 | ステージ装置、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
JP6727554B2 (ja) * | 2015-03-31 | 2020-07-22 | 株式会社ニコン | 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び露光方法 |
-
2018
- 2018-03-30 JP JP2019510257A patent/JPWO2018181912A1/ja active Pending
- 2018-03-30 KR KR1020197028599A patent/KR102441111B1/ko active IP Right Grant
- 2018-03-30 KR KR1020227028955A patent/KR102595405B1/ko active IP Right Grant
- 2018-03-30 TW TW107111169A patent/TWI797114B/zh active
- 2018-03-30 CN CN201880035547.1A patent/CN110709793B/zh active Active
- 2018-03-30 WO PCT/JP2018/013656 patent/WO2018181912A1/ja active Application Filing
-
2022
- 2022-12-07 JP JP2022195713A patent/JP7472958B2/ja active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000106344A (ja) * | 1998-07-29 | 2000-04-11 | Canon Inc | ステ―ジ装置、露光装置およびデバイス製造方法ならびにステ―ジ駆動方法 |
JP2003045785A (ja) * | 2001-08-01 | 2003-02-14 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
JP2004104023A (ja) * | 2002-09-12 | 2004-04-02 | Ckd Corp | 微動装置 |
JP2004221251A (ja) * | 2003-01-14 | 2004-08-05 | Canon Inc | 露光装置 |
JP2005251788A (ja) * | 2004-03-01 | 2005-09-15 | Canon Inc | 位置決め装置およびそれを用いた露光装置 |
JP2007027331A (ja) * | 2005-07-14 | 2007-02-01 | Canon Inc | 駆動装置及びこれを用いた露光装置並びにデバイス製造方法 |
JP2014090198A (ja) * | 2007-03-05 | 2014-05-15 | Nikon Corp | 移動体装置及びパターン形成装置、並びに移動体駆動方法 |
JP2009087371A (ja) * | 2008-12-24 | 2009-04-23 | Canon Inc | 位置決め装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
WO2015147039A1 (ja) * | 2014-03-26 | 2015-10-01 | 株式会社ニコン | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113323512A (zh) * | 2020-02-28 | 2021-08-31 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 版盒解锁装置及掩模传输版库设备 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102441111B1 (ko) | 2022-09-06 |
KR102595405B1 (ko) | 2023-10-27 |
WO2018181912A1 (ja) | 2018-10-04 |
TW201843706A (zh) | 2018-12-16 |
KR20220122785A (ko) | 2022-09-02 |
CN110709793A (zh) | 2020-01-17 |
JP2023029356A (ja) | 2023-03-03 |
CN110709793B (zh) | 2024-03-08 |
KR20190122777A (ko) | 2019-10-30 |
TWI797114B (zh) | 2023-04-01 |
JP7472958B2 (ja) | 2024-04-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6558721B2 (ja) | 移動体装置及び移動方法、露光装置及び露光方法、並びにフラットパネルディスプレイの製造方法及びデバイス製造方法 | |
US6894449B2 (en) | Vibration control device, stage device and exposure apparatus | |
JP6551762B2 (ja) | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
WO2006009254A1 (ja) | 支持装置、ステージ装置、露光装置、及びデバイスの製造方法 | |
JP6563600B2 (ja) | 振動絶縁デバイス、リソグラフィ装置、および振動絶縁システムを調節する方法 | |
TW200302507A (en) | Stage device and exposure device | |
JP7472958B2 (ja) | 移動体装置、露光装置、及びデバイス製造方法 | |
JP2014098731A (ja) | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
JP5807841B2 (ja) | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
WO2006001282A1 (ja) | 位置決め装置、位置決め方法、露光装置、露光方法、及びデバイスの製造方法 | |
JP4122815B2 (ja) | リニアモータおよびステージ装置並びにリニアモータの制御方法 | |
JP2003031646A (ja) | ステージ装置および露光装置 | |
JP2001217172A (ja) | ステージ装置及び露光装置 | |
JP2013214024A (ja) | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20201125 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210106 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20210304 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210817 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20211015 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211216 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220419 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20220617 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220810 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20221025 |