JP6181956B2 - ステージ装置、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
ステージ装置、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 Download PDFInfo
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Description
F=m×a・・・(1)
式2を満たすようにすることにより、微動ステージ14のz方向への駆動で、電磁石52と磁性材51との対向面積が変化する区間を設ける。(図5)
電磁アクチュエータ41,42が発生する推力と電磁石52と磁性材51との対向面積との関係は、以下の式3で定式化できることが知られている。ここで、Fは推力、Kは電磁石、磁性材の透磁率、ギャップ等で決まる係数、Iは電流、Sは対向面積である。
F∝K×I2×S・・・(3)
次に、デバイス(半導体デバイス、液晶表示デバイス等)の製造方法について説明する。半導体デバイスは、ウエハに集積回路を作る前工程と、前工程で作られたウエハ上の集積回路チップを製品として完成させる後工程を経ることにより製造される。前工程は、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたウエハを露光する工程と、ウエハを現像する工程を含む。後工程は、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディング)と、パッケージング工程(封入)を含む。液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板に感光剤を塗布する工程と、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたガラス基板を露光する工程と、ガラス基板を現像する工程を含む。本実施形態のデバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
Claims (17)
- 粗動ステージと、前記粗動ステージから第1方向に間隔をおいて配置された微動ステージと、前記粗動ステージおよび前記微動ステージの一方に配置された第1のコアと前記粗動ステージおよび前記微動ステージの他方に配置された第2のコアとを含み前記第1方向に直交する第2方向に前記微動ステージを加減速させる電磁アクチュエータと、前記電磁アクチュエータを制御する制御部と、を備えたステージ装置であって、
前記制御部は、前記第1のコアと前記第2のコアとの対向面積の変化に応じて前記電磁アクチュエータの前記第2方向における推力の指令値を補正することを特徴とするステージ装置。 - 前記指令値を補正するための補正量は、前記対向面積が第1面積の場合よりも、前記第1面積よりも小さな第2面積の場合のほうが大きいことを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。
- 前記対向面積が変わらない間の前記補正量は一定であることを特徴とする請求項2に記載のステージ装置。
- 前記粗動ステージに対する前記微動ステージの前記第1方向への相対位置が変化することにより前記対向面積が変化し、前記制御部は前記相対位置に基づいて前記指令値を補正することを特徴とする請求項2又は3に記載のステージ装置。
- 前記第1のコアの前記第1方向の長さと前記第2のコアの前記第1方向の長さとの差の絶対値は、前記相対位置の変化する範囲の大きさよりも小さい、ことを特徴とする、請求項4に記載のステージ装置。
- 前記制御部は、前記相対位置と前記補正量との関係を示す情報に基づいて前記指令値を補正する、ことを特徴とする、請求項4又は5に記載のステージ装置。
- 前記微動ステージを前記第2方向に位置決めするリニアモータをさらに備え、
前記情報は、前記相対位置を変化させながら前記微動ステージを前記第2方向に沿って駆動させたときの前記リニアモータの前記第2方向における推力の指令値を用いて生成される、ことを特徴とする請求項6に記載のステージ装置。 - 前記対向面積が、それが採りうる最大面積よりも小さな面積のときの前記補正量は、前記対向面積が前記小さな面積の状態で前記微動ステージを前記第2方向に移動させたときの前記第2方向における前記リニアモータの推力の指令値が、前記対向面積が前記最大面積である状態で前記微動ステージを前記第2方向に移動させたときの前記第2方向における前記リニアモータの推力の指令値と同等になるように、設定されることを特徴とする請求項7に記載のステージ装置。
- 前記情報は、前記相対位置を変化させながら前記微動ステージを前記第2方向に沿って駆動させたときの前記微動ステージの位置指令値と前記微動ステージの位置の差を用いて生成される、ことを特徴とする請求項6に記載のステージ装置。
- 前記対向面積が、それが採りうる最大面積よりも小さな面積のときの前記指令値の補正量は、前記対向面積が前記小さな面積の状態で前記微動ステージを移動させたときの、前記差の最大値が、前記対向面積が前記最大面積である状態で前記微動ステージを前記第1方向に移動させたときの前記差の最大値と同等になるように、設定されることを特徴とする請求項9に記載のステージ装置。
- 粗動ステージと、前記粗動ステージから第1方向に間隔をおいて配置された微動ステージと、前記粗動ステージおよび前記微動ステージの一方に配置された第1のコアと前記粗動ステージおよび前記微動ステージの他方に配置された第2のコアとを含み前記第1方向に直交する第2方向に前記微動ステージを加減速させる電磁アクチュエータと、前記電磁アクチュエータを制御する制御部と、を備えたステージ装置であって、
前記制御部は、前記第1のコアと前記第2のコアとの対向面積の変化に応じて生じる前記電磁アクチュエータの前記第2方向における推力の変化を補正することを特徴とするステージ装置。 - 粗動ステージと、前記粗動ステージから第1方向に間隔をおいて配置された微動ステージと、前記粗動ステージおよび前記微動ステージの一方に配置された第1のコアと前記粗動ステージおよび前記微動ステージの他方に配置された第2のコアとを含み前記第1方向に直交する第2方向に前記微動ステージを加減速させる電磁アクチュエータと、前記電磁アクチュエータを制御する制御部と、を備えたステージ装置であって、
前記制御部は、前記第1のコアと前記第2のコアとの対向面積の変化に応じた補正量で前記電磁アクチュエータの前記第2方向における推力の指令値を補正することを特徴とするステージ装置。 - 前記補正量は、前記対向面積が第1面積の場合よりも、前記第1面積よりも小さな第2面積の場合のほうが大きいことを特徴とする請求項12に記載のステージ装置。
- 前記第1方向は、前記第1のコアの、前記第2のコアと対向する面に沿った方向であることを特徴とする請求項1ないし13のいずれか1項に記載のステージ装置。
- 前記第1のコアはEコアであり、前記第2のコアはIコアであることを特徴とする請求項1ないし14のいずれか1項に記載のステージ装置。
- 原版のパターンを基板に形成するリソグラフィ装置であって、
前記原版および前記基版の少なくともいずれかを保持する請求項1ないし15のいずれか1項に記載のステージ装置を備える、ことを特徴とするリソグラフィ装置。 - 請求項16に記載のリソグラフィ装置を用いて基板にパターンを形成する工程と、
前記工程でパターンが形成された基板を現像する工程と、
を含み、
前記現像した前記基板からデバイスを製造することを特徴とするデバイス製造方法。
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