JP5807841B2 - 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 - Google Patents
移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5807841B2 JP5807841B2 JP2011187777A JP2011187777A JP5807841B2 JP 5807841 B2 JP5807841 B2 JP 5807841B2 JP 2011187777 A JP2011187777 A JP 2011187777A JP 2011187777 A JP2011187777 A JP 2011187777A JP 5807841 B2 JP5807841 B2 JP 5807841B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- holding member
- object holding
- exposure apparatus
- moving body
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70758—Drive means, e.g. actuators, motors for long- or short-stroke modules or fine or coarse driving
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
- H01L21/0271—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
- H01L21/0272—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers for lift-off processes
Description
Claims (12)
- 水平面に平行な二次元平面内の第1方向に沿った位置を移動可能な第1移動体と、
前記第1移動体に設けられ、前記第1移動体と共に前記第1方向に沿った位置を移動可能、且つ前記第1移動体に対して前記二次元平面内で前記第1方向に直交する第2方向に沿った位置を移動可能な第2移動体と、
物体を保持し、前記第2移動体に誘導されて前記二次元平面に沿って移動する物体保持部材と、
前記第1方向に関して前記第1移動体の一側に配置され、前記物体保持部材が前記第2方向に沿って移動する際に該物体保持部材の前記第1方向に関する一側の領域を下方から支持するとともに、前記物体保持部材と共に前記第1方向に沿って移動可能な第1ガイド部材と、
前記第1方向に関して前記第1移動体の他側に配置され、前記物体保持部材が前記第2方向に沿って移動する際に該物体保持部材の前記第1方向に関する他側の領域を下方から支持するとともに、前記物体保持部材と共に前記第1方向に沿って移動可能な第2ガイド部材と、を備える移動体装置。 - 前記物体保持部材は、前記第1及び第2ガイド部材に非接触支持される請求項1に記載の移動体装置。
- 前記物体保持部材は、該物体保持部材と前記第1ガイド部材との間、及び該物体保持部材と第2ガイド部材との間に供給される気体の静圧により前記第1及び第2ガイド部材上に非接触浮上する請求項2に記載の移動体装置。
- 前記物体保持部材を前記第2移動体に対して前記第1及び第2方向、並びに前記水平面に直交する軸回りに微少駆動するアクチュエータを更に備える請求項1〜3のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 前記物体保持部材は、前記アクチュエータが発生する推力により前記水平面に沿って前記第2移動体に誘導される請求項4に記載の移動体装置。
- 前記第1移動体と前記第1及び第2ガイド部材とを物理的に連結する連結部材を更に備える請求項1〜5のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 請求項1〜6のいずれか一項に記載の移動体装置と、
前記物体保持部材に保持された前記物体にエネルギビームを用いて所定のパターンを形成するパターン形成装置と、を備える露光装置。 - 前記物体に対して前記パターンを形成する際、前記移動体装置は、前記物体を前記エネルギビームに対して前記第2方向に沿って相対移動させる請求項7に記載の露光装置。
- 前記物体は、フラットパネルディスプレイ装置に用いられる基板である請求項7又は8に記載の露光装置。
- 前記基板は、少なくとも一辺の長さ又は対角長が500mm以上である請求項9に記載の露光装置。
- 請求項9又は10に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと、
露光された前記物体を現像することと、を含むフラットパネルディスプレイの製造方法。 - 請求項7又は8に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと、
露光された前記物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011187777A JP5807841B2 (ja) | 2011-08-30 | 2011-08-30 | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 |
KR1020197036024A KR102202760B1 (ko) | 2011-08-30 | 2012-08-30 | 이동체 장치, 노광 장치, 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법 및 디바이스 제조 방법 |
TW101131501A TWI581069B (zh) | 2011-08-30 | 2012-08-30 | 移動體裝置、曝光裝置、平板顯示器之製造方法、及元件製造方法 |
PCT/JP2012/005462 WO2013031221A1 (ja) | 2011-08-30 | 2012-08-30 | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 |
KR1020147007385A KR20140068999A (ko) | 2011-08-30 | 2012-08-30 | 이동체 장치, 노광 장치, 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법 및 디바이스 제조 방법 |
TW106107473A TWI635371B (zh) | 2011-08-30 | 2012-08-30 | 移動體裝置、曝光裝置、平板顯示器之製造方法、及元件製造方法 |
TW107126727A TWI710862B (zh) | 2011-08-30 | 2012-08-30 | 移動體裝置、曝光裝置、平板顯示器之製造方法、及元件製造方法 |
CN201280042125.XA CN103765554B (zh) | 2011-08-30 | 2012-08-30 | 移动体装置、曝光装置、平板显示器的制造方法、及元件制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011187777A JP5807841B2 (ja) | 2011-08-30 | 2011-08-30 | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013051289A JP2013051289A (ja) | 2013-03-14 |
JP5807841B2 true JP5807841B2 (ja) | 2015-11-10 |
Family
ID=47755749
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011187777A Active JP5807841B2 (ja) | 2011-08-30 | 2011-08-30 | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5807841B2 (ja) |
KR (2) | KR102202760B1 (ja) |
CN (1) | CN103765554B (ja) |
TW (3) | TWI581069B (ja) |
WO (1) | WO2013031221A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6331300B2 (ja) * | 2013-09-13 | 2018-05-30 | 日本精工株式会社 | テーブル装置、及び搬送装置 |
TWI762610B (zh) * | 2017-03-31 | 2022-05-01 | 日商尼康股份有限公司 | 物體保持裝置、處理裝置、平板顯示器的製造方法、元件製造方法以及物體保持方法 |
WO2018181912A1 (ja) * | 2017-03-31 | 2018-10-04 | 株式会社ニコン | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び移動体の駆動方法 |
TWI791036B (zh) | 2017-10-05 | 2023-02-01 | 日商索尼股份有限公司 | 光源裝置及投射型顯示裝置 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE60032568T2 (de) * | 1999-12-01 | 2007-10-04 | Asml Netherlands B.V. | Positionierungsapparat und damit versehener lithographischer Apparat |
JP4826149B2 (ja) * | 2005-06-15 | 2011-11-30 | 株式会社安川電機 | 長ストローク移動可能なアライメントステージ |
JP2008090718A (ja) * | 2006-10-04 | 2008-04-17 | Nsk Ltd | 位置決め装置 |
JP5448070B2 (ja) * | 2007-03-05 | 2014-03-19 | 株式会社ニコン | 移動体装置、パターン形成装置及びパターン形成方法、デバイス製造方法、並びに移動体駆動方法 |
JP2008221444A (ja) * | 2007-03-15 | 2008-09-25 | Danaher Motion Japan Kk | ガントリー型xyステージ |
US8699001B2 (en) * | 2009-08-20 | 2014-04-15 | Nikon Corporation | Object moving apparatus, object processing apparatus, exposure apparatus, object inspecting apparatus and device manufacturing method |
US20110085150A1 (en) * | 2009-09-30 | 2011-04-14 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
US20110123913A1 (en) * | 2009-11-19 | 2011-05-26 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposing method, and device fabricating method |
US20110164238A1 (en) * | 2009-12-02 | 2011-07-07 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and device fabricating method |
-
2011
- 2011-08-30 JP JP2011187777A patent/JP5807841B2/ja active Active
-
2012
- 2012-08-30 TW TW101131501A patent/TWI581069B/zh active
- 2012-08-30 TW TW107126727A patent/TWI710862B/zh active
- 2012-08-30 KR KR1020197036024A patent/KR102202760B1/ko active IP Right Grant
- 2012-08-30 WO PCT/JP2012/005462 patent/WO2013031221A1/ja active Application Filing
- 2012-08-30 KR KR1020147007385A patent/KR20140068999A/ko active Application Filing
- 2012-08-30 TW TW106107473A patent/TWI635371B/zh active
- 2012-08-30 CN CN201280042125.XA patent/CN103765554B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2013031221A1 (ja) | 2013-03-07 |
JP2013051289A (ja) | 2013-03-14 |
TWI581069B (zh) | 2017-05-01 |
TWI710862B (zh) | 2020-11-21 |
CN103765554B (zh) | 2016-11-23 |
CN103765554A (zh) | 2014-04-30 |
TW201723680A (zh) | 2017-07-01 |
KR20190137970A (ko) | 2019-12-11 |
KR20140068999A (ko) | 2014-06-09 |
KR102202760B1 (ko) | 2021-01-13 |
TWI635371B (zh) | 2018-09-11 |
TW201842417A (zh) | 2018-12-01 |
TW201314381A (zh) | 2013-04-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10627725B2 (en) | Movable body apparatus, pattern forming apparatus and pattern forming method, device manufacturing method, manufacturing method of movable body apparatus, and movable body drive method | |
JP6558721B2 (ja) | 移動体装置及び移動方法、露光装置及び露光方法、並びにフラットパネルディスプレイの製造方法及びデバイス製造方法 | |
JP6551762B2 (ja) | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2013214691A (ja) | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
JP5807841B2 (ja) | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2014098731A (ja) | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2016186570A (ja) | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2012058391A (ja) | 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
JP6132079B2 (ja) | 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2011244608A (ja) | リニアモータ、移動体装置、露光装置、デバイス製造方法、及びフラットパネルディスプレイの製造方法 | |
JP5772196B2 (ja) | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び移動体装置の組立方法。 | |
KR102151930B1 (ko) | 노광 장치, 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법, 및 디바이스 제조 방법 | |
JP6573131B2 (ja) | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2016153911A (ja) | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2013214024A (ja) | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2015079908A (ja) | 駆動装置、露光装置、及びデバイス製造方法 | |
JP2013214028A (ja) | 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140825 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150817 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150830 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5807841 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |