JP2009016385A - ステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明は、第1ステージ104と、第1ステージ104上に搭載された第2ステージ105とを備えたステージ装置である。リニアモータ103は、第1ステージ104に対して第2ステージ105を位置決めする。複数の電磁石106a〜dは、第1ステージ104に対して第2ステージ105を加減速する。制御器は、第2ステージ105の回転に起因して電磁石が発生するモーメントを低減するように電磁石106a〜dを制御する。
【選択図】図1
Description
図1に、本発明におけるステージ装置の一例を示す。このステージ装置は、原版(レチクル)に形成されたパターンを基板上に転写する露光装置の原版(レチクル)を支持するステージとして構成されているが、基板を支持するステージ等にも使用しうる。
第2の実施形態を第5図に示す。第2の実施形態では、第1の実施形態に比して微動リニアモータ103の軸数を少なくし、電磁石106a〜dで並進のアシスト及び回転方向の位置決めを行う。
第3の実施形態を第6図に示す。第3の実施形態では、微動ステージ105と粗動ステージ104との連結部において歪ゲージ等の力測定器107を複数設置する。そして、この複数の力測定器107により微動ステージ105に発生するモーメントを測定し、発生したモーメントを相殺するように各電磁石106a〜dの磁束指令値に対しての補正値を算出する。この補正値を磁束指令値に対して乗算若しくは加算を行い推力の補正を行う。このときの力測定には微動リニアモータ103の反力を見ても良い。すなわち、リニアモータの電流値を検出し、検出された電流値に応じて各電磁石106a〜dの磁束指令値に対しての補正値を算出すればよい。
以下、本発明のステージ装置が適用される例示的な露光装置を説明する。投影露光装置は図7に示すように、照明装置、原版(レチクル)を搭載した原版ステージ、投影光学系、基板を搭載した基板ステージとを有する。露光装置は、原版に形成された回路パターンを基板に投影し転写するものであり、ステップアンドリピート投影露光方式又はステップアンドスキャン投影露光方式であってもよい。
次に、図8及び図9を参照して、上述の露光装置を利用したデバイス製造方法の実施例を説明する。図8は、デバイス(ICやLSIなどの半導体チップ、LCD、CCD等)の製造を説明するためのフローチャートである。ここでは、半導体チップの製造方法を例に説明する。
Claims (8)
- 第1ステージと、
前記第1ステージの上に搭載された第2ステージと、
前記第1ステージに対して前記第2ステージを位置決めするリニアモータと、
前記第1ステージに対して前記第2ステージを加減速する複数の電磁石と、
前記複数の電磁石を制御する制御器と、を備え、
前記制御器は、前記第2ステージの回転に起因して前記電磁石が発生するモーメントを低減するように前記電磁石を制御することを特徴とするステージ装置。 - 前記第1ステージに対する前記第2ステージの回転量を計測する計測器をさらに備え、
前記制御器は、前記計測器による計測結果に基づいて前記電磁石を制御することを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。 - 前記計測器は、前記第2ステージと前記複数の電磁石とのギャップを計測する複数のギャップセンサ、または前記第2ステージの位置を計測する複数の干渉計であることを特徴とする請求項2に記載のステージ装置。
- 前記第2ステージに発生するモーメントを計測する計測器をさらに備え、
前記制御器は、前記計測器による計測結果に基づいて前記電磁石を制御することを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。 - 前記制御器は、前記第2ステージの駆動目標を前記計測器による計測結果に応じて補正し、前記補正された駆動目標に基づいて前記電磁石を制御することを特徴とする請求項2乃至請求項4のいずれか1項に記載のステージ装置。
- 前記制御器は、前記第2ステージの駆動目標を前記リニアモータの電流値に応じて補正し、前記補正された駆動目標に基づいて前記電磁石を制御することを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。
- 原版に形成されたパターンを基板上に転写する露光装置であって、
前記原版及び前記基板の少なくともいずれかが、請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載のステージ装置により支持されることを特徴とする露光装置。 - 請求項7に記載の露光装置を用いて、原版に形成されたパターンを基板上に転写する工程と、
前記パターンが転写された基板を現像する工程と、を備えることを特徴とするデバイス製造方法。
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