KR20090004506A - 스테이지 장치, 노광장치 및 디바이스 제조방법 - Google Patents

스테이지 장치, 노광장치 및 디바이스 제조방법 Download PDF

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KR20090004506A
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요시히사 히야마
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캐논 가부시끼가이샤
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Abstract

본 발명은, 제 1 스테이지(104)와, 제 1 스테이지(104) 위에 탑재된 제 2 스테이지(105)를 구비한 스테이지 장치를 개시한다. 리니어 모터(103)는, 제 1 스테이지(104)에 대하여 제 2 스테이지(105)를 위치 결정한다. 복수의 전자석(106a∼106d)은, 제 1 스테이지(104)에 대하여 제 2 스테이지(105)를 가감속한다. 제어기는, 제 2 스테이지(105)의 회전에 기인해서 전자석(106a∼106d)이 발생하는 모멘트를 감소시키도록 전자석(106a∼106d)을 제어한다.
스테이지, 노광장치, 리니어 모터, 전자석

Description

스테이지 장치, 노광장치 및 디바이스 제조방법{STAGE APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE}
본 발명은 스테이지 장치, 노광장치 및 디바이스 제조방법에 관한 것이다.
반도체 소자 제조에 이용되는 노광장치로서는, 소위 스텝퍼(stepper)와 스캐너가 공지되어 있다. 스텝퍼는 스테이지 장치 상의 반도체 웨이퍼를 투영 렌즈 아래로 스텝 이동시키면서, 레티클 상에 형성되어 있는 패턴 상을 투영 렌즈를 통해서 스테이지 장치 상의 반도체 웨이퍼 상에 축소 투영하여, 그 패턴 상을 웨이퍼 상의 복수 개소에 순차 전사한다. 스캐너는 웨이퍼 스테이지 상의 웨이퍼와 레티클 스테이지 상의 레티클을 투영 렌즈에 대하여 주사하는 중에, 슬릿(slit) 형상의 노광 광을 웨이퍼에 조사하여 레티클 패턴을 웨이퍼에 투영한다. 스텝퍼 및 스캐너는 해상도 및 얼라인먼트 정밀도의 성능면에서 노광장치의 주류라고 예상된다.
장치 성능의 지표의 하나로서, 단위시간마다 처리되는 웨이퍼의 장수를 나타내는 스루풋이 있다. 높은 스루풋 실현을 위해, 웨이퍼 스테이지와 레티클 스테이지에는 고속 이동이 요구된다. 이 상황에서, 발열을 억제하면서 고속 구동을 가능 하게 하기 위해서, 일본국 공개특허 특개 2005-243751호는 조동(coarse motion) 스테이지와 미동(fine motion) 스테이지를 갖는 스테이지 장치를 제안한다. 조동 스테이지를 가감속할 때에는, 조동 리니어 모터를 이용한다. 미동 스테이지를 가감속할 때에는, 저발열의 전자석으로 가감속하고, 미동 리니어 모터로 위치 결정한다. 이것에 의해, 미동 리니어 모터의 발열을 억제해서, 열의 영향을 억제하고 있다.
레티클 스테이지 상에 레티클이 어긋난 상태로 탑재될 때에는, 미동 스테이지를 조동 스테이지에 대하여 회전시킨 상태로 스캔 구동을 할 수 있다. 그렇지만, 미동 스테이지의 회전에 의해, 전자석의 힘의 작용점이 시프트하고, 그것에 의해 의도하지 않은 모멘트(moment)가 발생한다. 또한, 미동 스테이지의 회전에 의해, 미동 스테이지와 전자석 간의 갭(gap)이 변화되고, 이에 따라 의도하지 않은 모멘트가 발생한다. 이러한 모멘트를 미동 리니어 모터의 회전을 제어함으로써 억제하면, 발열량이 증가하여, 열적 영향이 발생할 우려가 있다.
본 발명은, 미동 스테이지의 회전에 기인해서 전자석이 발생하는 모멘트를 전자석의 제어에 의해 감소시켜서, 미동 리니어 모터에 의한 발열을 억제하는 스테이지 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 제 1의 측면에 따른 스테이지 장치는, 제 1 스테이지와, 상기 제 1 스테이지 위에 탑재된 제 2 스테이지와, 상기 제 1 스테이지에 대하여 상기 제 2 스테이지를 위치 결정하는 리니어 모터와, 상기 제 1 스테이지에 대하여 상기 제 2 스테이지를 가감속하는 복수의 전자석들과, 상기 복수의 전자석들을 제어하는 제어기를 구비하고, 상기 제어기는, 상기 제 2 스테이지의 회전에 기인해서 상기 전자석들이 발생하는 모멘트를 줄이도록 상기 전자석들을 제어한다.
본 발명의 제 2의 측면에 따른 스테이지 장치는, 제 1 스테이지와, 상기 제 1 스테이지를 제 1 방향으로 구동하는 구동유닛과, 상기 제 1 스테이지 위에 탑재된 제 2 스테이지와, 상기 제 1 스테이지에 대하여 상기 제 2 스테이지를 위치 결정하는 리니어 모터와, 상기 제 1 스테이지와 상기 제 2 스테이지 사이에 삽입되고, 상기 제 2 스테이지에 상기 제 1 방향으로의 힘을 인가하며, 상기 제 1 방향과 직교하는 방향으로 배치되고, 코일들을 갖는 복수의 전자석과, 상기 제 1 스테이지에 대한 상기 제 2 스테이지의 회전량을 계측하는 계측기와, 상기 코일들의 각각에 공급되는 전류를 제어하는 제어기를 구비하고, 상기 제어기는, 상기 계측기에 의한 계측 결과에 의거하여 상기 코일들의 각각에 공급되는 전류를 제어한다.
본 발명의 제 3의 측면에 따른 스테이지 장치는, 제 1 스테이지와, 상기 제 1 스테이지를 제 1 방향으로 구동하는 구동유닛과, 상기 제 1 스테이지 위에 탑재된 제 2 스테이지와, 상기 제 1 스테이지에 대하여 상기 제 2 스테이지를 위치 결정하는 리니어 모터와, 상기 제 2 스테이지의 상기 제 1 방향측의 면과 상기 제 1 스테이지와의 사이에 삽입되고, 상기 제 1 스테이지에 대하여 상기 제 2 스테이지를 비접촉으로 지지하며, 코일들을 갖는 복수의 전자석과, 상기 코일들의 각각에 공급되는 전류를 제어하는 제어기를 구비하고, 상기 복수의 전자석은, 상기 제 1 스테이지가 구동되는 평면 내에서 상기 제 1 스테이지에 대하여 상기 제 2 스테이지를 제 1의 회전 방향으로 회전시키는 힘을 발생하는 전자석과, 상기 제 1 스테이지가 구동되는 평면 내에서 상기 제 1 스테이지에 대하여 상기 제 2 스테이지를 상기 제 1의 회전 방향과 반대의 방향으로 회전시키는 힘을 발생하는 전자석을 포함하고, 상기 제어기는, 상기 제 1 스테이지의 구동시에 상기 제 1 스테이지에 대하여 상기 제 2 스테이지를 회전시키지 않도록, 상기 코일들의 각각에 공급되는 전류를 제어한다.
본 발명에 의하면, 미동 스테이지의 회전에 기인해서 전자석이 발생하는 모멘트를 전자석의 제어에 의해 감소시켜서, 미동 리니어 모터의 발열을 억제하는 스테이지 장치를 제공할 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징들은 첨부된 도면을 참조하면서 이하의 예시적인 실시 예의 설명으로부터 밝혀질 것이다.
이하, 도면을 참조해서 본 발명의 실시 예를 설명한다.
[제 1의 실시 예]
도 1은, 본 발명에 따른 스테이지 장치의 일례를 나타낸다. 이 스테이지 장치는, 원판(레티클)에 형성된 패턴을 기판 위에 전사하는 노광장치의 원판(레티클)을 지지하는 스테이지로서 구성되어 있지만, 기판을 지지하는 스테이지 등에도 적용할 수 있다.
원판 스테이지(100)는, 원판(레티클)(101)을 유지하고, 노광 위치에 원판(101)을 반송해 위치 결정한다. 원판 스테이지(100)에 있어서, 제 1 스테이지로서의 조동 스테이지(104)는, 구동 유닛으로서의 조동 리니어 모터(102)에 의해 구동된다. 조동 스테이지(104) 위에는 제 2 스테이지로서의 미동 스테이지(105)가 탑재되어 있다. 미동 스테이지(105)는, 미동 리니어 모터(103) 및 복수의 전자석(106a∼106d)에 의해 조동 스테이지(104)에 대하여 비접촉으로 지지된다. 미동 스테이지(105)는 조동 스테이지(104)에 대하여 이동하도록 구동된다. 복수의 전자석(106a∼106d)은, 조동 스테이지(104)에 대하여 미동 스테이지(105)를 가감속하고, 미동 스테이지(105)의 회전에 기인해서 전자석 106a∼106d가 발생하는 모멘트를 줄이도록 제어된 추력을 발생한다. 전자석 106b, 106c은, 미동 스테이지(105)가 구동되는 평면 내에서 미동 스테이지(105)를 제 1의 회전 방향(도 1에서 시계회전의 방향)으로 회전시키는 힘을 발생한다. 또한, 전자석 106a, 106d는, 미동 스테이지(105)가 구동되는 평면 내에서 미동 스테이지(105)를 제 1의 회전 방향과 반대의 방향(도 1에서 반시계 회전의 방향)으로 회전시키는 힘을 발생한다. 한편, 미동 스테이지(105)를 이동시키기 위한 리니어 모터(미동 리니어 모터)(103)는 미동 스테이지(105)를 정밀하게 위치 결정한다. 이 때문에, 미동 리니어 모터(103)는 미동 스테이지(105)의 회전을 제어할 필요가 없어, 미동 리니어 모터(103)에 의한 발열을 억제할 수 있다.
스테이지 장치는, 조동 스테이지(104)에 대한 미동 스테이지(105)의 회전량을 계측하는 계측기를 구비하고 있다. 회전량을 계측하는 계측기는, 예를 들면 전 자석 106a∼106d와 미동 스테이지(105)와의 사이에 복수 배치되는 갭 센서(108)이다. 복수의 갭 센서(108)는, 전자석 106a∼106d에 대한 미동 스테이지(105)의 병진 방향과 회전 방향의 위치를 계측한다. 회전량을 계측하는 계측기는, 원판 스테이지 외부에 위치되어 미동 스테이지(105)의 위치를 계측하는 복수의 레이저 간섭계(미도시)여도 된다.
도 2는 복수의 전자석(106a∼106d)의 일례를 도시한 도면이다. 전자석 106a의 요크(202)와 자성체판(201)과의 사이에 작은 간극을 형성해서, 비접촉으로 그 사이에 힘을 전달할 수 있다. 전자석 본체에 부착된 구동 코일(203)에 전류를 흘려보내면, 요크(202)와 자성체판(201)과의 사이에 흡인력이 작용한다. 또, 전자석 106a의 요크(202)에는 서치 코일(search coil)(204)이 감겨 있어, 유기 전압이 계측된다.
도 3은, 복수의 전자석(106a∼106d)을 제어하는 제어기의 제어계를 나타낸다. 제어기는, 미동 스테이지(105)의 구동목표를 계측기에 의한 계측 결과에 따라 보정한다. 또한, 제어기는, 보정된 구동목표에 의거하여 미동 스테이지(105)의 회전에 기인해서 전자석 106a∼106d가 발생하는 모멘트를 감소시키도록, 복수의 전자석(106a∼106d)을 제어한다. 전자석 106a∼106d에서 발생하는 힘은, 전자석 106a∼106d와 자성체판(201)과의 사이의 자속의 자승에 비례한 값이 된다. 전자석 106a∼106d의 제어계는, 가감속력의 절대치의 평방근의 차원이 되는 자속의 지령값(자속 지령)(301)을 제어기로부터 수신한다. 서치 코일(204)에 의해 계측되는 유기 전압은 적분기(304)에 의해 적분되고, 그 적분값은 자속의 차원이 된다. 이 출력에 근 거해, 원하는 추력을 발생하는 자속의 크기가 산출된다. 한층 더, 미동 스테이지(105)의 회전량을 갭 센서 등에 의해 계측해서 원하는 회전 위치에서 미동 스테이지(105)를 구동시키기 위해서, 회전량에 대응한 자속 보정 계수(자속 보정 게인)(305)를 각 전자석 106a∼106d의 지령 값에 승산한다. 이 자속 보정 계수(305)는 미리 예측해 두는 것이 바람직하다. 회전량에 대응한 모멘트량을 미리 측정하여, 원하는 회전량을 얻는 동시에, 미동 스테이지(105)에 발생하는 모멘트를 상쇄하는 추력 보정계수를 각각의 전자석 106a∼106d에 대하여 산출한다. 추력은 자속의 자승에 비례하기 때문에, 자속 지령에 응답하여 입력된 자속 보정계수는 산출된 추력 보정계수의 평방근과 스테이지 회전량과의 관계를 1차 함수로 근사해서 얻는 것이 바람직하다. 다만, 1차 이상의 함수로 근사해도 된다. 또한, 추력 보정계수와 스테이지 회전량과의 관계를 1차 이상의 함수로 근사하여, 그 근사함수의 평방근을 자속 보정계수로서 결정해도 된다.
도 4에 있어서, 도 3과 마찬가지로 각 전자석 106a∼106d에 대한 미동 스테이지(105)의 회전량을 계측하여, 원하는 회전 위치에서 미동 스테이지(105)를 구동시키기 위해서, 원하는 회전량에 대응한 자속 보정값(307)을 각 전자석 106a∼106d의 지령 값에 가산한다. 이때, 보정값(307)은 미리 예측해 두는 것이 바람직하다. 회전량에 대응한 모멘트량을 미리 계측해서, 원하는 회전량을 얻는 동시에, 미동 스테이지에서 발생한 모멘트를 상쇄하기 위한 추력 보정값을 각각의 전자석에 대하여 산출한다.
[제 2의 실시 예]
제 2의 실시 예를 도 5에 나타낸다. 제 2의 실시 예에서는, 제 1의 실시 예에 비해서 미동 리니어 모터(103)의 축의 수를 적게 한다. 전자석 106a∼106d은 미동 리니어 모터(103)의 병진을 어시스트하고, 미동 리니어 모터(103)의 회전 방향의 위치 결정을 행한다.
[제 3의 실시 예]
제 3의 실시 예를 도 6에 나타낸다. 제 3의 실시 예에서는, 미동 스테이지(105)와 조동 스테이지(104)와의 연결부에 있어서 왜곡(strain) 게이지 등의 힘 측정기(107)를 복수 설치한다. 그리고, 이 복수의 힘 측정기(107)에 의해 미동 스테이지(105)에 발생한 모멘트를 측정하고, 발생한 모멘트를 상쇄하도록 각 전자석106a~106d의 자속 지령값에 대한 보정값을 산출한다. 이 보정값을 자속 지령값에 대하여 승산 혹은 가산을 행해 추력의 보정을 행한다. 이때의 힘 측정은, 미동 리니어 모터(103)의 반력을 측정함으로써 행해진다. 즉, 리니어 모터의 전류값을 검출하고, 검출된 전류값에 따라 각 전자석 106a∼106d의 자속 지령값에 대한 보정값을 산출한다.
[노광 장치의 실시 예]
이하, 본 발명에 따른 스테이지 장치가 적용되는 예시적인 노광 장치를 설명한다. 투영 노광장치는 도 7에 나타나 있는 바와 같이 조명 유닛(1), 원판(레티클)을 탑재한 원판 스테이지(2), 투영 광학계(3), 기판을 탑재한 기판 스테이지(4)를 갖는다. 노광 장치는, 원판에 형성된 회로 패턴을 기판에 투영해 전사하는 것이며, 스텝 앤드 리피트 투영 노광 방식 또는 스텝 앤드 스캔 투영 노광 방식이어도 된 다.
조명 유닛(1)은 회로 패턴이 형성된 원판을 조명하고, 광원부와 조명 광학계를 갖는다. 광원부는, 예를 들면 광원으로서 레이저를 사용한다. 레이저는, 파장 약 193nm의 ArF 엑시머 레이저, 파장 약 248nm의 KrF 엑시머 레지, 파장 약 153nm의 F2 엑시머 레이저 등을 사용할 수 있다. 레이저의 종류는 엑시머 레이저에 한정되지 않고, 예를 들면 YAG 레이저를 사용해도 되고, 그 레이저의 개수도 한정되지 않는다. 광원으로서 레이저가 사용될 경우, 레이저 광원으로부터의 평행 광 빔을 원하는 빔 형상으로 정형하는 광빔 정형 광학계와, 코히어런트 레이저 빔을 인코히어런트(incoherent) 레이저 빔으로 변환하는 인코히어런트 광학계를 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 광원부에 사용가능한 광원은 레이저에 한정되는 것이 아니고, 하나 또는 복수의 수은램프나 크세논 램프 등도 사용가능하다. 조명 광학계는 마스크를 조명하고, 렌즈, 미러, 옵티컬 인터그레이터(optical integrator), 조리개 등을 포함한다.
투영 광학계(3)는, 복수의 렌즈 소자만으로 이루어지는 광학계, 복수의 렌즈 소자와 적어도 한 장의 요면경을 갖는 광학계, 복수의 렌즈 소자와 적어도 한 장의 회절광학소자를 갖는 광학계, 전 미러형의 광학계 등을 사용할 수 있다.
원판 스테이지(2) 및 기판 스테이지(4)는, 리니어 모터에 의해 이동가능하다. 스텝 앤드 스캔 투영 노광 방식의 경우에는, 각각의 스테이지 2, 4는 동기해서 이동한다. 또한, 원판의 패턴을 기판 위에 위치 맞춤하기 위해서 기판 스테이지(4) 및 원판 스테이지(2)의 적어도 하나에 별도 액추에이터를 구비한다.
이러한 노광 장치는, 반도체 집적회로 등의 반도체 디바이스나, 마이크로머신, 박막 자기헤드 등의 미세한 패턴이 형성된 디바이스의 제조에 이용될 수 있다.
디바이스(예를 들면, 반도체 집적회로소자, 액정표시소자 등)는, 상술한 노광 장치를 사용해서 기판을 방사 에너지에 노광하는 노광 공정과, 상기 노광 공정으로 노광된 기판을 현상하는 현상 공정과, 상기 현상 공정으로 현상된 기판을 가공하는 그 외의 주지의 공정에 의해 제조된다.
레지스트 박리에서는, 에칭 후에 남은 불필요한 레지스트를 제거한다. 이들의 스텝을 반복해서 행함으로써, 기판 위에 다층 구조의 회로 패턴이 형성된다.
본 발명은 상기 실시 예에 한정되는 것이 아니며, 다양한 변경 및 변형은 본 발명의 정신 및 범주 내에서 이루어진다. 따라서, 본 발명의 범주를 공공연히 알리기 위해 이하의 청구항들을 작성했다.
도 1은, 제 1의 실시 예에 따른 스테이지 장치를 도시한 평면도다.
도 2는, 제 1의 실시 예에 따른 전자석을 도시한 도면이다.
도 3은, 제 1의 실시 예에 따른 전자석의 제어계의 일례를 도시한 블록도다.
도 4는, 제 1의 실시 예에 따른 전자석의 제어계의 또 다른 예를 도시한 블록도다.
도 5는, 제 2의 실시 예에 따른 스테이지 장치를 도시한 평면도다.
도 6은, 제 3의 실시 예에 따른 스테이지 장치를 도시한 평면도다.
도 7은, 노광 장치의 일례를 도시한 도면이다.

Claims (16)

  1. 제 1 스테이지와,
    상기 제 1 스테이지 위에 탑재된 제 2 스테이지와,
    상기 제 1 스테이지에 대하여 상기 제 2 스테이지를 위치 결정하는 리니어 모터와,
    상기 제 1 스테이지에 대하여 상기 제 2 스테이지를 가감속하는 복수의 전자석들과,
    상기 복수의 전자석들을 제어하는 제어기를 구비하고,
    상기 제어기는, 상기 제 2 스테이지의 회전에 기인해서 상기 전자석들이 발생하는 모멘트를 줄이도록 상기 전자석들을 제어하는 것을 특징으로 하는 스테이지 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 스테이지에 대한 상기 제 2 스테이지의 회전량을 계측하는 계측기를 더 구비하고,
    상기 제어기는, 상기 계측기에 의한 계측 결과에 의거하여 상기 전자석들을 제어하는 것을 특징으로 하는 스테이지 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 스테이지에서 발생하는 모멘트를 계측하는 계측기를 더 구비하고,
    상기 제어기는, 상기 계측기에 의한 계측 결과에 의거하여 상기 전자석들을 제어하는 것을 특징으로 하는 스테이지 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 제어기는, 상기 제 2 스테이지의 구동목표를 상기 리니어 모터의 전류값에 따라 보정하고, 보정된 구동목표에 의거하여 상기 전자석들을 제어하는 것을 특징으로 하는 스테이지 장치.
  5. 제 2 항에 있어서,
    상기 계측기는, 상기 제 2 스테이지와 상기 복수의 전자석들과의 사이의 갭을 계측하는 복수의 갭 센서들, 또는 상기 제 2 스테이지의 위치를 계측하는 복수의 간섭계들을 포함한 것을 특징으로 하는 스테이지 장치.
  6. 제 2 항에 있어서,
    상기 제어기는, 상기 제 2 스테이지의 구동목표를 상기 계측기에 의한 계측 결과에 따라 보정하고, 보정된 구동목표에 의거하여 상기 전자석들을 제어하는 것을 특징으로 하는 스테이지 장치.
  7. 제 3 항에 있어서,
    상기 제어기는, 상기 제 2 스테이지의 구동목표를 상기 계측기에 의한 계측 결과에 따라 보정하고, 보정된 구동목표에 의거해서 상기 전자석들을 제어하는 것을 특징으로 하는 스테이지 장치.
  8. 제 1 스테이지와,
    상기 제 1 스테이지를 제 1 방향으로 구동하는 구동유닛과,
    상기 제 1 스테이지 위에 탑재된 제 2 스테이지와,
    상기 제 1 스테이지에 대하여 상기 제 2 스테이지를 위치 결정하는 리니어 모터와,
    상기 제 1 스테이지와 상기 제 2 스테이지 사이에 삽입되고, 상기 제 2 스테이지에 상기 제 1 방향으로의 힘을 인가하며, 상기 제 1 방향과 직교하는 방향으로 배치되고, 코일들을 갖는 복수의 전자석들과,
    상기 제 1 스테이지에 대한 상기 제 2 스테이지의 회전량을 계측하는 계측기 와,
    상기 코일들의 각각에 공급되는 전류를 제어하는 제어기를 구비하고,
    상기 제어기는, 상기 계측기에 의한 계측 결과에 의거하여 상기 코일들의 각각에 공급되는 전류를 제어하는 것을 특징으로 하는 스테이지 장치.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 계측기는, 상기 제 2 스테이지와 상기 복수의 전자석들과의 사이의 갭을 계측하는 복수의 갭 센서들, 또는 상기 제 2 스테이지의 위치를 계측하는 복수의 간섭계들을 포함한 것을 특징으로 하는 스테이지 장치.
  10. 제 8 항에 있어서,
    상기 제어기는, 상기 제 2 스테이지의 구동목표를 상기 계측기에 의한 계측 결과에 따라 보정하고, 보정된 구동목표에 의거해서 상기 코일들의 각각에 공급되는 전류를 제어하는 것을 특징으로 하는 스테이지 장치.
  11. 제 8 항에 있어서,
    상기 제어기는, 상기 제 2 스테이지의 구동목표를 상기 리니어 모터의 전류 값에 따라 보정하고, 보정된 구동목표에 의거해서 상기 코일들의 각각에 공급되는 전류를 제어하는 것을 특징으로 하는 스테이지 장치.
  12. 제 1 스테이지와,
    상기 제 1 스테이지를 제 1 방향으로 구동하는 구동유닛과,
    상기 제 1 스테이지 위에 탑재된 제 2 스테이지와,
    상기 제 1 스테이지에 대하여 상기 제 2 스테이지를 위치 결정하는 리니어 모터와,
    상기 제 2 스테이지의 상기 제 1 방향측의 면과 상기 제 1 스테이지와의 사이에 삽입되고, 상기 제 1 스테이지에 대하여 상기 제 2 스테이지를 비접촉으로 지지하며, 코일들을 갖는 복수의 전자석들과,
    상기 코일들의 각각에 공급되는 전류를 제어하는 제어기를 구비하고,
    상기 복수의 전자석들은, 상기 제 1 스테이지가 구동되는 평면 내에서 상기 제 1 스테이지에 대하여 상기 제 2 스테이지를 제 1의 회전 방향으로 회전시키는 힘을 발생하는 전자석과, 상기 제 1 스테이지가 구동되는 평면 내에서 상기 제 1 스테이지에 대하여 상기 제 2 스테이지를 상기 제 1의 회전 방향과 반대의 방향으로 회전시키는 힘을 발생하는 전자석을 포함하고,
    상기 제어기는, 상기 제 1 스테이지의 구동시에 상기 제 1 스테이지에 대하여 상기 제 2 스테이지를 회전시키지 않도록, 상기 코일들의 각각에 공급되는 전류 를 제어하는 것을 특징으로 하는 스테이지 장치.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 제 1 스테이지에 대한 상기 제 2 스테이지의 회전량을 계측하는 계측기를 더 구비하고,
    상기 제어기는, 상기 계측기에 의한 계측 결과에 의거해서, 상기 코일들의 각각에 공급되는 전류를 제어하는 것을 특징으로 하는 스테이지 장치.
  14. 제 12 항에 있어서,
    상기 제 2 스테이지에서 발생하는 모멘트를 계측하는 계측기를 더 구비하고,
    상기 제어기는, 상기 계측기에 의한 계측 결과에 근거해서 상기 코일들의 각각에 공급되는 전류를 제어하는 것을 특징으로 하는 스테이지 장치.
  15. 원판에 형성된 패턴을 기판 위에 전사하는 노광 장치로서,
    상기 원판 및 상기 기판 중 적어도 하나가, 청구항 1 내지 14 중 어느 한 항에 기재된 스테이지 장치에 의해 지지되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  16. 청구항 15에 기재된 노광 장치를 이용해서 기판을 방사 에너지에 노광하는 것과,
    노광된 기판을 현상하는 것과,
    현상된 기판을 처리해서 디바이스를 제조하는 것을 포함한 것을 특징으로 하는 디바이스 제조방법.
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