DE102008032853A1 - Optische Einrichtung mit einem deformierbaren optischen Element - Google Patents

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Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft eine optische Einrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit einem optischen Modul und eine Stützstruktur, wobei die Stützstruktur das optische Modul abstützt. Das optische Modul umfasst ein optisches Element und eine Halteeinrichtung, wobei die Halteeinrichtung das optische Element hält. Die Halteeinrichtung umfasst eine Deformationseinrichtung mit einer Mehrzahl von aktiven Deformationseinheiten, welche das optische Element kontaktieren und dazu ausgebildet sind, dem optischen Element eine definierte Verformung aufzuprägen. Das optische Modul ist austauschbar an der Stützstruktur befestigt.

Description

  • HINTERGRUND DER ERFINDUNG
  • Die vorliegende Erfindung betrifft optische Einrichtungen, optische Abbildungseinrichtungen, die eine solche optische Einrichtung umfassen, einen Komponentensatz für eine solche optische Einrichtung sowie ein Verfahren zum Abstützen eines optischen Elements. Die Erfindung lässt sich im Zusammenhang beliebigen optischen Einrichtungen bzw. optischen Abbildungsverfahren anwenden. Insbesondere lässt sie sich im Zusammenhang mit der bei der Herstellung mikroelektronischer Schaltkreise verwendeten Mikrolithographie einsetzen.
  • Insbesondere im Bereich der Mikrolithographie ist es neben der Verwendung mit möglichst hoher Präzision ausgeführter Komponenten unter anderem erforderlich, die Position und Geometrie optischer Module der Abbildungseinrichtung, also beispielsweise der Module mit optischen Elementen wie Linsen, Spiegeln oder Gittern aber auch der verwendeten Masken und Substrate, im Betrieb möglichst präzise gemäß vorgegebenen Sollwerten einzustellen bzw. solche Komponenten in einer einmal justierten Position zu halten, um eine entsprechend hohe Abbildungsqualität zu erzielen (wobei im Sinne der vorliegenden Erfindung der Begriff optisches Modul sowohl optische Elemente alleine als auch Baugruppen aus solchen optischen Elementen und weiteren Komponenten, wie z. B. Fassungsteilen etc., umfassen soll).
  • Im Bereich der Mikrolithographie liegen die Genauigkeitsanforderungen im mikroskopischen Bereich in der Größenordnung weniger Nanometer oder darunter. Sie sind dabei nicht zuletzt eine Folge des ständigen Bedarfs, die Auflösung der bei der Herstellung mikroelektronischer Schaltkreise verwendeten optischen Systeme zu erhöhen, um die Miniaturisierung der herzustellenden mikroelektronischen Schaltkreise voranzutreiben.
  • In diesem Zusammenhang ist es unter anderem aus der US 2003/0234918 A1 (Watson), der US 2007/0076310 A1 (Sakino et al.), der US 6,803,994 B1 (Margeson), der DE 198 59 634 A1 (Becker et al.) sowie der DE 101 51 919 A1 (Petasch et al.), deren jeweilige Offenbarung hierin durch Bezugnahme eingeschlossen wird, bekannt, einzelnen oder mehreren optischen Elementen des Systems definierte Verformungen aufzuprägen, um Abbildungsfehler der Abbildungseinrichtung zu korrigieren. Hierbei dient die Verformung des betreffenden optischen Elements nicht nur dazu, Abbildungsfehler des jeweiligen optischen Elements selbst zu korrigieren, vielmehr wird hierdurch versucht, auch durch andere Komponenten der Abbildungseinrichtung induzierte Fehler der Wellenfront zu kompensieren.
  • Problematisch hierbei ist, dass die zur Korrektur von Abbildungsfehlern aktiv deformierten optischen Elemente sowie die übrigen an der Deformation beteiligten Komponenten neben den üblichen thermischen und dynamischen Belastungen im Betrieb durch die Deformation weiteren, teils erheblichen dynamischen Belastungen ausgesetzt sind. Diese zusätzlichen Belastungen wirken sich nachteilig auf die Lebensdauer des optischen Elements bzw. der übrigen an der Deformation beteiligten Komponenten aus. Demgemäß müssen diese Komponenten des Abbildungssystems entsprechend robust bzw. aufwändig ausgelegt sein, um die Lebensdaueranforderungen für das Gesamtsystem zu erfüllen. Auch müssen optische Elemente mit größeren Querschnitten deformiert werden.. Dies bedingt wiederum, dass die verwendeten Aktuatoren entsprechend ausgelegt sein müssen, um entsprechend große Kräfte für eine ausreichende Deformation zu erzielen.
  • Ein weiteres Problem in Zusammenhang mit dem beispielsweise aus der US 2003/0234918 A1 (Watson) bekannten System besteht darin, dass für die Erzeugung der Deformation Kraftaktuatoren (beispielsweise Lorentz-Aktuatoren) verwendet werden, die selbst eine sehr geringe Steifigkeit in ihrer Aktuationsrichtung aufweisen und zudem über ein in Richtung des Kraftflusses weiches System auf das optische Element wirken, sodass für kleine Deformationen des optischen Elements vergleichsweise große Stellwege realisiert werden müssen. Hierdurch ist für die Deformationseinrichtung ein vergleichsweise großer Bauraum vorzuhalten, was angesichts der in der Regel ohnehin beengten Platzverhältnisse von Nachteil ist.
  • Ein weiterer Nachteil im Zusammenhang mit den bekannten Abbildungssystemen liegt darin, dass für die Deformation der betreffenden optischen Elemente eine speziell hierauf abgestellte Gestaltung der Stützstruktur für das optische Element verwendet wird. Soll also in einem bereits vorhandenen bzw. fertig ausgelegten optischen Abbildungssystem ein bisher nicht mit einer solchen aktiven Deformation versehenes optisches Element nunmehr mit einer entsprechenden Deformationsmöglichkeit versehen werden, erfordert dies in der Regel eine völlige Umgestaltung der Stützstruktur für das optische Element. Dies wirkt sich unter Umständen auf das gesamte Abbildungssystem aus, sofern es nicht gelingt, die Position und Orientierung des optischen Elements innerhalb des Ausbildungssystems unverändert zu lassen.
  • Ein weiterer Nachteil der Abbildungssysteme, wie sie beispielsweise aus der US 2007/0076310 A1 (Sakino et al.) bekannt sind, liegt darin, dass der schnelle Erfolg der Korrektur von Abbildungsfehlern stark von den dynamischen mechanischen Eigenschaften der an der Deformation beteiligten Komponenten abhängt. Dabei ist es unter dynamischen Gesichtspunkten grundsätzlich besonders vorteilhaft, wenn unter anderem die Stützstruktur, welche die Deformationskräfte abstützt, besonders steif (idealerweise unendlich steif) gestaltet ist. In diesem Fall ist nämlich eine relative Unabhängigkeit der Stellbewegungen der einzelnen Aktuatoren gewährleistet, während die Stellbewegungen eines Aktuators bei einer weniger steifen Stützstruktur in einer Deformation der Stützstruktur resultieren, welche sich auf die Lage und Orientierung zumindest der angrenzenden Aktuatoren auswirkt, welche wiederum eine Korrektur in deren Bereich erforderlich macht. Hierdurch wird ein sehr aufwändiges Regelkonzept bedingt, welches nur bedingt die dynamischen Anforderungen im Bereich der Mikrolithographie erfüllen kann.
  • KURZE ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
  • Der vorliegenden Erfindung liegt daher die Aufgabe zu Grunde, eine optische Einrichtung, eine optische Abbildungseinrichtung, ein Verfahren zum Abstützen des optischen Elements bzw. einen Komponentensatz für eine optische Einrichtung zur Verfügung zu stellen, welche die oben genannten Nachteile nicht oder zumindest in geringerem Maße aufweisen und insbesondere auf einfache Weise den Einsatz einer aktiven Deformation eines oder mehrerer optischer Elemente zur schnellen Korrektur von Abbildungsfehlern zu ermöglichen, um im Einsatz bei möglichst hohem Durchsatz dauerhaft eine möglichst hohe Abbildungsqualität zu erzielen.
  • Der vorliegenden Erfindung liegt zum einen die Erkenntnis zu Grunde, dass man eine aktive Deformation eines oder mehrerer optischer Elemente, eine schnelle Korrektur von Abbildungsfehlern und damit dauerhaft eine besonders hohe Abbildungsqualität bei hohem Durchsatz auf einfache Weise dadurch ermöglicht, dass man das optische Modul, welches das zu deformierende optische Element umfasst, einfach austauschbar gestaltet. Unter einfacher Austauschbarkeit soll im Sinne der vorliegenden Erfindung unter anderem verstanden werden, dass das optische Module gegebenenfalls auch nur unter einer kurzfristigen Unterbrechung des Betriebes der gesamten optischen Abbildungseinrichtung ausgetauscht werden können. Durch diese Austauschbarkeit des optischen Moduls ist es möglich, das optische Modul entsprechend einfacher bzw. leichter zu gestalten. Zwar mag es dann sein, dass das optische Modul nicht mehr die gewünschte Standzeit der gesamten Abbildungseinrichtung erreicht. Dies ist jedoch wegen der Austauschbarkeit des optischen Moduls und damit des optischen Elements unkritisch.
  • Die einfachere und leichtere Gestaltung des optischen Moduls ermöglicht zudem die Freisetzung von Bauraum für die Anschlusseinrichtungen, welche das einfache Verbinden bzw. Lösen und damit die Austauschbarkeit des optischen Moduls gewährleisten, sodass die Integration des optischen Moduls in eine bestehende Gestaltung eines optischen Abbildungssystems möglich wird, ohne die Anschlussmaße des übrigen Abbildungssystems verändern zu müssen.
  • Die leichtere Gestaltung des optischen Moduls wirkt sich gegebenenfalls wiederum positiv auf die Dimensionierung der Deformationseinrichtung des optischen Moduls aus, welche das optische Element verformt. Hierdurch ist es in vorteilhafter Weise möglich, auf begrenztem Bauraum ein solches optisches Modul mit einem aktiv verformbaren optischen Element zu integrieren. Insbesondere ist es sogar möglich, bei einer vorgegebenen Gestaltung des Abbildungssystems ein solches aktives Modul an Stelle eines bisherigen passiven Moduls (ohne eine solche aktive Verformung des optischen Elements) einzusetzen, ohne die übrige Gestaltung des optischen Abbildungssystems (wesentlich) verändern zu müssen.
  • Gemäß einem ersten Aspekt betrifft die vorliegende Erfindung daher eine optische Einrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit einem optischen Modul und einer Stützstruktur, wobei die Stützstruktur das optische Modul abstützt. Das optische Modul umfasst ein optisches Element und eine Halteeinrichtung, wobei die Halteeinrichtung das optische Element hält. Die Halteeinrichtung umfasst eine Deformationseinrichtung mit einer Mehrzahl von aktiven Deformationseinheiten, welche das optische Element kontaktieren und dazu ausgebildet sind, dem optischen Element eine definierte Verformung aufzuprägen. Das optische Modul ist austauschbar an der Stützstruktur befestigt.
  • Gemäß einem weiteren Aspekt betrifft die vorliegende Erfindung ein Verfahren zum Abstützen eines optischen Elements, insbesondere für die Mikrolithographie, bei dem das optische Element durch eine Halteeinrichtung eines optischen Moduls gehalten wird und das optische Modul durch eine Stützstruktur abgestützt wird, wobei dem optischen Element durch eine Mehrzahl von aktiven Deformationseinheiten eine definierte Verformung aufgeprägt wird und das optische Modul austauschbar durch die Stützstruktur gehalten wird.
  • Gemäß einem weiteren Aspekt betrifft die vorliegende Erfindung einen Komponentensatz für eine optische Einrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit einem optischen Modul und einer Stützstruktur, wobei die Stützstruktur das optische Modul in einem ersten Zustand der optischen Einrichtung abstützt. Das optische Modul umfasst ein optisches Element und eine Halteeinrichtung, wobei die Halteeinrichtung das optische Element hält. Die Halteeinrichtung umfasst eine Deformationseinrichtung mit einer Mehrzahl von aktiven Deformationseinheiten, welche das optische Element kontaktieren und dazu ausgebildet sind, dem optischen Element eine definierte Verformung aufzuprägen. Das optische Modul ist austauschbar über wenigstens eine Stützstelle an der Stützstruktur befestigt. Weiterhin ist ein optisches Austauschmodul vorgesehen, wobei das optische Austauschmodul dazu ausgebildet ist, in einem zweiten Zustand der optischen Einrichtung den Platz des optischen Moduls einzunehmen und über die wenigstens eine Stützstelle an der Stützstruktur befestigt zu werden.
  • Der vorliegenden Erfindung liegt weiterhin die Erkenntnis zu Grunde, dass es besonders vorteilhaft ist, für die Deformation des optischen Elements Aktuatoren zu verwenden, die in ihrer Aktuationsrichtung (also in der Richtung in der sie eine Kraft oder einen Moment erzeugen) eine hohe Steifigkeit aufweisen. Diese Gestaltung hat den Vorteil, dass derart steife Aktuatoren in der Regel eine geringe Baugröße und gegebenenfalls geringe Stellwege bei einer hohen Auflösung des Stellwegs aufweisen, sodass die Deformationseinrichtung nur vergleichsweise wenig Bauraum beansprucht. Wie schon oben erläutert, ist es hierdurch in vorteilhafter Weise möglich, auf begrenztem Bauraum ein solches optisches Modul mit einem aktiv verformbaren optischen Element zu integrieren. Insbesondere ist es sogar möglich, bei einer vorgegebenen Gestaltung des Abbildungssystems ein solches aktives Modul an Stelle eines bisherigen passiven Moduls (ohne eine solche aktive Verformung des optischen Elements) einzusetzen, ohne die übrige Gestaltung des optischen Abbildungssystems (wesentlich) verändern zu müssen.
  • In diesem Zusammenhang ist es besonders vorteilhaft, die Struktur, welche die jeweilige Deformationseinrichtung abstützt ebenfalls möglichst steif auszuführen, um eine gegenseitige Beeinflussung der einzelnen Deformationseinrichtung und damit den Aufwand für die Regelung der aktiven Deformation des optischen Elements möglichst gering zu halten. Es versteht sich jedoch, dass bei bestimmten Varianten der Erfindung auch vorgesehen sein kann, dass ein entsprechend komplexes Regelungssystem realisiert wird, welches diese wechselseitige Beeinflussung mit einem geeigneten Regelungskonzept und einer ausreichenden Regelbandbreite kompensiert.
  • Gemäß einem weiteren Aspekt betrifft die vorliegende Erfindung daher eine optische Einrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit einem optischen Modul und einer Stützstruktur, wobei die Stützstruktur das optische Modul abstützt. Das optische Modul umfasst ein optisches Element und eine Halteeinrichtung, wobei die Halteeinrichtung das optische Element hält. Die Halteeinrichtung umfasst eine Deformationseinrichtung mit einer Mehrzahl von aktiven Deformationseinheiten, welche das optische Element kontaktieren und dazu ausgebildet sind, dem optischen Element durch eine Deformationskraft in einer Deformationskraftrichtung eine definierte Verformung aufzuprägen. Die Halteeinrichtung umfasst weiterhin eine Positioniereinrichtung mit wenigstens einer, insbesondere aktiven, Positioniereinheit, welche das optische Element kontaktiert und dazu ausgebildet ist, die Position und/oder Ausrichtung des optischen Elements einzustellen. Wenigstens eine der Deformationseinheiten umfasst eine Aktuatoreinheit zum Erzeugen der Deformationskraft, wobei die Aktuatoreinheit in einer Aktuationsrichtung eine Kraft oder ein Moment erzeugt und die Aktuatoreinheit in der Aktuationsrichtung eine hohe Steifigkeit aufweist.
  • Gemäß einem weiteren Aspekt betrifft die vorliegende Erfindung ein Verfahren zum Abstützen eines optischen Elements, insbesondere für die Mikrolithographie, bei dem das optische Element durch eine Halteeinrichtung eines optischen Moduls gehalten wird und das optische Modul durch eine Stützstruktur abgestützt wird, wobei das optische Element durch eine Mehrzahl von aktiven Deformationseinheiten einer Deformationseinrichtung der Halteeinrichtung kontaktiert wird und die Deformationseinheiten dem optischen Element durch eine Deformationskraft in einer Deformationskraftrichtung jeweils eine definierte Verformung aufprägen. Das optische Element wird durch wenigstens eine Positioniereinheit der Halteeinrichtung kontaktiert, wobei die wenigstens eine Positioniereinheit die Position und/oder Ausrichtung des optischen Elements einstellt. Die jeweilige Deformationskraft wird durch eine Aktuatoreinheit der Deformationseinheiten erzeugt, wobei die Aktuatoreinheit in einer Aktuationsrichtung eine Kraft oder ein Moment erzeugt und die Aktuatoreinheit in der Aktuationsrichtung eine hohe Steifigkeit aufweist.
  • Der vorliegenden Erfindung liegt weiterhin die Erkenntnis zu Grunde, dass auch bei einem bereits bestehenden Design des Abbildungssystems eine einfache Integration einer aktiven Deformation eines oder mehrerer optische Elemente mit den hieraus resultierenden Vorteilen möglich ist, wenn eine Deformationseinrichtung mit einer separaten Widerlagerstruktur vorgesehen ist, welche an der Haltestruktur des betreffenden optischen Elements. Hierdurch ist insbesondere in einfacher Weise möglich, eine solche Deformationseinrichtung nachzurüsten, ohne wesentliche Modifikationen an dem optischen Element unserer Haltestruktur vornehmen zu müssen.
  • Gemäß einem weiteren Aspekt betrifft die vorliegende Erfindung eine optische Einrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit einem optischen Element und einer Halteeinrichtung, wobei die Halteeinrichtung eine Haltestruktur aufweist, die das optische Element hält. Die Halteeinrichtung umfasst eine Deformationseinrichtung mit einer Mehrzahl von aktiven Deformationseinheiten, welche das optische Element kontaktieren und dazu ausgebildet sind, dem optischen Element eine definierte Verformung aufzuprägen. Die Deformationseinrichtung weist eine separate Widerlagerstruktur auf, wobei die Widerlagerstruktur, insbesondere lösbar, an der Haltestruktur befestigt ist und wenigstens eine der Deformationseinheiten an der Widerlagerstruktur abgestützt ist.
  • Gemäß einem weiteren Aspekt betrifft die vorliegende Erfindung ein Verfahren zum Abstützen eines optischen Elements, insbesondere für die Mikrolithographie, bei dem das optische Element durch eine Haltestruktur einer Halteeinrichtung gehalten wird und dem optischen Element durch eine Mehrzahl von aktiven Deformationseinheiten die einer Deformationseinrichtung der Halteeinrichtung eine definierte Verformung aufgeprägt wird. Hierbei wird eine separate Widerlagerstruktur der Deformationseinrichtung, insbesondere lösbar, an der Haltestruktur befestigt und wenigstens eine der Deformationseinheiten an der Widerlagerstruktur abgestützt.
  • Schließlich liegt der vorliegenden Erfindung die Erkenntnis zu Grunde, dass man die gewünschte aktive Deformation mit einer eine besonders klein bauenden aktiven Deformationseinrichtung realisieren kann, welche sich gegebenenfalls einfach in ein bestehendes Design des Abbildungssystems integrieren lässt, wenn eine separate Messeinrichtung vorgesehen ist, welche die Deformation des optischen Elements misst. Mit einer solchen Messeinrichtung ist es unter anderem möglich, dem betreffenden optischen Element über die Deformationseinheiten der Deformationseinrichtung an Stelle von Kräften unmittelbar Verschiebungen aufzuprägen. Zwar wird durch die mit einer solchen Lösung verbundene wechselseitige Beeinflussung der einzelnen Deformationseinheiten der erforderliche Regelungsalgorithmus komplexer (eine durch eine der Deformationseinheiten erzeugte Verschiebung zieht zumindest im Bereich benachbarter Deformationseinheiten eine weitere Verschiebung nach sich). Die Messeinrichtung ermöglicht es jedoch, eine solche Regelung mit ausreichender Regelbandbreite zu realisieren.
  • Gemäß einem weiteren Aspekt betrifft die vorliegende Erfindung daher eine optische Einrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit einem optischen Element und einer Halteeinrichtung, wobei die Halteeinrichtung eine Haltestruktur aufweist, die das optische Element, insbesondere statisch bestimmt, hält. Die Halteeinrichtung umfasst eine Deformationseinrichtung mit einer Mehrzahl von aktiven Deformationseinheiten, welche das optische Element und die Haltestruktur kontaktieren und dazu ausgebildet sind, dem optischen Element eine definierte Verformung aufzuprägen. Weiterhin ist eine Messeinrichtung vorgesehen, die eine mit der Haltestruktur verbundene Referenzstruktur und wenigstens eine Messeinheit aufweist, wobei die wenigstens eine Messeinheit dazu ausgebildet ist, eine für die Geometrie des optischen Elements repräsentative Messgröße, insbesondere eine für einen Abstand zwischen der Referenzstruktur und einem Messpunkt des optischen Elements repräsentative Messgröße, zu erfassen. Die Messeinrichtung ist dazu ausgebildet, unter Verwendung der ersten Messgröße eine für eine Deformation des optischen Elements repräsentative Erfassungsgröße zu ermitteln.
  • Gemäß einem weiteren Aspekt betrifft die vorliegende Erfindung schließlich ein Verfahren zum Abstützen eines optischen Elements, insbesondere für die Mikrolithographie, bei dem das optische Element durch eine Haltestruktur einer Halteeinrichtung, insbesondere statisch bestimmt, gehalten wird und dem optischen Element durch eine Mehrzahl von aktiven Deformationseinheiten einer Deformationseinrichtung der Halteeinrichtung eine definierte Verformung aufgeprägt wird. Durch wenigstens eine Messeinheit einer mit der Haltestruktur verbundenen Messeinrichtung wird eine für die Geometrie des optischen Elements repräsentative Messgröße, insbesondere eine für einen Abstand zwischen der Referenzstruktur und einem Messpunkt des optischen Elements repräsentative Messgröße, erfasst, wobei die Messeinrichtung unter Verwendung der ersten Messgröße eine für eine Deformation des optischen Elements repräsentative Erfassungsgröße ermittelt.
  • Weitere bevorzugte Ausgestaltungen der Erfindung ergeben sich aus den Unteransprüchen bzw. der nachstehenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele, welche auf die beigefügten Zeichnungen Bezug nimmt.
  • KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
  • 1 ist eine schematische Darstellung einer bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen optischen Abbildungseinrichtung, die eine erfindungsgemäße optische Einrichtung umfasst und mit der sich eine bevorzugte Ausführungsform eines erfindungsgemäßen Verfahrens zum Abstützen eines optischen Elements durchführen lässt;
  • 2 ist eine schematische Schnittdarstellung einer bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen optischen Einrichtung der optischen Abbildungseinrichtung aus 1;
  • 3 ist eine stark schematisierte Draufsicht auf die optischen Einrichtung aus 2;
  • 4 ist ein mechanisches Ersatzschaltbild der erfindungsgemäßen optischen Einrichtung;
  • 5 ist ein Blockdiagramm einer bevorzugten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens zum Abstützen eines optischen Elements, welches sich mit der optischen Einrichtung aus 2 durchführen lässt;
  • 6 ist eine schematische Darstellung eines Teils einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen optischen Einrichtung der Abbildungseinrichtung aus 1;
  • 7 ist eine schematische Schnittdarstellung einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen optischen Einrichtung der optischen Abbildungseinrichtung aus 1;
  • 8 ist eine schematische Schnittdarstellung einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen optischen Einrichtung der optischen Abbildungseinrichtung aus 1;
  • 9 ist eine schematische Schnittdarstellung einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen optischen Einrichtung der optischen Abbildungseinrichtung aus 1.
  • DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG
  • Erstes Ausführungsbeispiel
  • Unter Bezugnahme auf die 1 bis 5 wird im Folgenden eine bevorzugte Ausführungsform der erfindungsgemäßen optischen Einrichtung beschrieben, welche in einer erfindungsgemäßen optischen Abbildungseinrichtung für die Mikrolithographie zum Einsatz kommt.
  • 1 zeigt eine schematische Darstellung einer bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen optischen Abbildungseinrichtung in Form einer Mikrolithographieeinrichtung 101, die mit Licht im UV-Bereich mit einer Wellenlänge von 193 nm arbeitet.
  • Die Mikrolithographieeinrichtung 101 umfasst ein Beleuchtungssystem 102, eine Maskeneinrichtung in Form eines Maskentisches 103, ein optisches Projektionssystem in Form eines Objektivs 104 und eine Substrateinrichtung in Form eines Wafertischs 105. Das Beleuchtungssystem 102 beleuchtet eine auf dem Maskentisch 103 angeordnete Maske 103.1 mit einem – nicht näher dargestellten – Projektionslichtbündel der Wellenlänge 193 nm. Auf der Maske 103.1 befindet sich ein Projektionsmuster, welches mit dem Projektionslichtbündel über die im Objektiv 104 angeordneten optischen Elemente auf ein Substrat in Form eines Wafers 105.1 projiziert wird, der auf dem Wafertisch 105 angeordnet ist.
  • Das Beleuchtungssystem 102 umfasst neben einer (nicht dargestellten) Lichtquelle eine Gruppe 106 von optisch wirksamen Komponenten, die unter anderem eine Reihe von optischen Elementen, beispielsweise das optische Element 106.1 umfasst. Weiterhin umfasst das Objektiv 104 eine weitere Gruppe 107 von optisch wirksamen Komponenten, die eine Reihe von optischen Elementen, beispielsweise das optische Element 107.1 umfasst, welches in den 1 bis 4 stark schematisiert (als planparallele Platte) dargestellt ist. Im vorliegenden Beispiel mit einer Arbeitswellenlänge von 193 nm handelt es sich bei den optischen Elementen 106.1, 107.1 um refraktive optische Elemente. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung (insbesondere bei anderen Arbeitswellenlängen) auch refraktive, reflektive oder diffraktive optische Elemente (mit beliebig gestalteten optischen Flächen) alleine oder in beliebiger Kombination zum Einsatz kommen können.
  • Die optisch wirksamen Komponenten der optischen Gruppen 106 und 107 definieren eine optische Achse 101.1 der Mikrolithographieeinrichtung 101, die im vorliegenden Beispiel geradlinig ausgebildet ist. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch ein beliebig geknickter bzw. gefalteter Verlauf der optischen Achse vorgesehen sein kann.
  • Die optisch wirksamen Komponenten der Gruppe 107 werden im Gehäuse 104.1 des Objektivs 104 in entsprechenden optischen Einrichtungen gehalten. 2 zeigt eine stark schematisierte Darstellung einer erfindungsgemäßen optischen Einrichtung 108, welche ein optisches Modul 109 und eine Stützstruktur 110 umfasst.
  • Die Stützstruktur 110 ist mit dem Gehäuse 104.1 des Objektivs 104 verbunden und stützt das optische Modul 109 ab. Hierzu umfasst die Stützstruktur 110 (gegebenenfalls neben weiteren Stützelementen) eine Reihe von Stützeinheiten 110.1, die mit einem Stützring 110.2 und mit dem optischen Modul 109 verbunden sind. Der Stützring 110.2 ist starr mit dem Gehäuse 104.1 des Objektivs 104 verbunden bzw. Bestandteil dieses Gehäuses 104.1.
  • Das optische Modul 109 umfasst eine Halteeinrichtung 111, welche das optische Element 107.1 hält. Die Halteeinrichtung 111 umfasst hierzu wiederum eine Haltestruktur in Form eines Halterings 111.1, auf dem sich eine Mehrzahl von Halteeinheiten 112 abstützt. Die Halteeinheiten 112 sind mit dem optischen Element 107.1 verbunden. Im vorliegenden Beispiel greifen die Halteeinheiten 112 direkt am optischen Element 107.1 an. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch vorgesehen sein kann, dass zwischen zumindest einem Teil der Halteeinheiten und dem optischen Element noch ein oder mehrere weitere Zwischenelemente angeordnet sind, beispielsweise ein weiterer (innerer) Haltering, sodass der Kraftfluss zwischen dem optischen Element und den betreffenden Halteeinheiten über das betreffende Zwischenelement erfolgt.
  • Im vorliegenden Beispiel ist ein Teil der Halteeinheiten 112 als Positioniereinrichtung mit mehreren Positioniereinheiten 113 ausgebildet, während der andere Teil der Halteeinheiten 112 als Deformationseinrichtung mit mehreren Deformationseinheiten 114 gestaltet ist.
  • Die Positioniereinheiten 113 sind (wie nachfolgend noch näher erläutert wird) so gestaltet, dass sie primär zur Einstellung der Position und/oder Orientierung des optischen Elements 107.1 im Raum dienen. Bei den Positioniereinheiten 113 kann es sich (zumindest teilweise) um passive Komponenten handeln, welche entsprechend verstellbar gestaltet sind, um die Position und/oder Orientierung des optischen Elements 107.1 (einmalig oder von Zeit zu Zeit) einzustellen.
  • Bevorzugt handelt es sich bei den Positioniereinheiten 113 (zumindest teilweise) um aktive Komponenten, welche es ermöglichen, die Position und/oder Orientierung des optischen Elements 107.1 aktiv im Betrieb der Mikrolithographieeinrichtung 101 zu verstellen. Zu diesem Zweck umfasst die jeweilige Positioniereinheit 113 ein oder mehrere aktive Positionierelemente 113.1 (beispielsweise hinlänglich bekannte Aktuatoren), welche von einer Steuereinrichtung 115 entsprechend angesteuert werden.
  • Demgegenüber sind die Deformationseinheiten 114 (wie nachfolgend noch näher erläutert wird) so gestaltet, dass sie primär zur Einstellung der Geometrie des optischen Elements 107.1 dienen. Mit anderen Worten sind die Deformationseinheiten 114 dazu ausgebildet, dem optischen Element 107.1 gezielt eine definierte Verformung aufzuprägen, um Abbildungsfehler des optischen Elements 107.1 und/oder eines oder mehrerer anderer optischer Elemente der Mikrolithographieeinrichtung 101 zumindest teilweise zu korrigieren, wie dies beispielsweise aus der eingangs zitierten US 2003/0234918 A1 (Watson) bekannt ist.
  • Die Deformationseinheiten 114 sind zu diesem Zweck mit der Steuereinrichtung 115 verbunden, welche entsprechende Steuersignale an die Deformationseinheiten 114 übermittelt. Die Steuereinrichtung 115 bestimmt diese Steuersignale wiederum anhand der Erfassungssignale einer mit der Steuereinrichtung 115 verbundenen Erfassungseinheit 116. Über die Erfassungseinheit 116 wird in hinlänglich bekannter Weise der aktuelle Wert einer oder mehrerer Größen ermittelt, die für den aktuellen Wert des jeweils zu korrigierenden Abbildungsfehlers repräsentativ ist bzw. sind.
  • Hiermit ist es möglich, im Betrieb der Mikrolithographieeinrichtung 101 über die aktive Deformation des optischen Elements 107.1 eine aktive (zumindest teilweise) Korrektur von einem oder mehreren Abbildungsfehlern vorzunehmen, die beim Abbilden des Projektionsmusters der Maske 103.1 auf dem Substrat 105.1 auftreten. Dabei kann eine ausreichend hohe Regelbandbreite erzielt werden, welche keine Verzögerung in den Abbildungsprozess einbringt und daher den Durchsatz der Mikrolithographieeinrichtung 101 nicht beeinträchtigt.
  • Wie 2 zu entnehmen ist, sind im vorliegenden Beispiel im Bereich von drei ersten Stützstellen drei Stützeinheiten 110.1 vorgesehen, die gleichmäßig am Umfang des optischen Moduls 109 verteilt angeordnet sind. Im vorliegenden Beispiel sind die Stützeinheiten 110.1 jeweils nach Art eines Bipods gestaltet, sodass die hieraus gebildete Abstützung des optischen Moduls 109 nach Art eines Hexapods ausgebildet ist, über welche eine statisch bestimmte Lagerung des optischen Moduls 109 (mit einer bestimmten Eigenfrequenz) realisiert ist.
  • Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch eine beliebige andere Abstützung des optischen Moduls gewählt sein kann. Bevorzugt handelt sich hierbei aber in der Regel um eine statisch bestimmte Abstützung, um eine unerwünschte Deformation des optischen Moduls nach Möglichkeit zu vermeiden.
  • Das optische Modul 109 ist im vorliegenden Beispiel über Verbindungseinheiten 117 einfach lösbar und damit austauschbar mit den Stützeinheiten 110.1 der Stützstruktur 110 verbunden. Die einfache Austauschbarkeit ist im vorliegenden Beispiel unter anderem dadurch gewährleistet, dass die Verbindung zwischen dem optischen Modul 109 und den Stützeinheiten 110.1 einfach gelöst werden kann, ohne die übrige strukturelle Integrität des Objektivs 104 bzw. die nach der Montage des Objektivs 104 bestehende feste strukturelle bzw. räumliche Beziehung zwischen den übrigen optischen Elementen der optischen Elementgruppe 107 zu beeinträchtigen.
  • Dies kann dadurch realisiert sein, dass zum einen die Verbindungseinheiten 117 entsprechend einfach zum Lösen bzw. späteren Wiederherstellen der Verbindung zugänglich sind und zum anderen ein Entnehmen des optischen Moduls 109 aus dem Objektivgehäuse 104.1 möglich ist, ohne die räumliche Beziehung zwischen den anderen optischen Elementen des Objektivs 104 zu beeinträchtigen.
  • Hierdurch ist es möglich, das optische Element 107.1 entsprechend einfacher und leichter als bei bisherigen Lösungen mit einer derartigen aktiven Deformation zu gestalten. Dies rührt daher, dass sowohl das optische Element 107.1 als auch die übrigen Komponenten des optischen Moduls 109 nicht auf die Lebensdauer des Objektivs 104 bzw. der Mikrolithographieeinrichtung 101 ausgelegt sein müssen. Vielmehr ist es dank der einfachen Austauschbarkeit möglich, einfacher und leichter gestaltete Komponenten zu verwenden, die bei Erreichen ihres Lebensdauerendes einfach ausgetauscht werden.
  • Diese relaxierten Anforderungen an die Lebensdauer der Komponenten des optischen Moduls 109 ermöglichen es zudem, zum einen für das optische Element 107.1 ein Element zu verwenden, dessen Querschnitt entsprechend dünn gestaltet ist, und zum anderen auch für die in Positioniereinheiten 113 und die Deformationseinheiten 114 entsprechend leichter und damit kleiner gestaltete Komponenten zu verwenden. Dies hat zur Konsequenz, dass das optische Modul 109 auf vergleichsweise kleinem Raum untergebracht werden kann. Demgemäß ist es gegebenenfalls sogar möglich, bei einem bestehenden Design des Objektivs 104, welches bisher im Bereich des optischen Elements 107.1 keine aktive Deformation vorsah, nunmehr eine solche aktive Deformation zu realisieren, ohne das Design des optischen Ausbildungssystems (insbesondere die Abstände der optischen Elemente der Elementgruppe 107 entlang der optischen Achse 101.1) verändern zu müssen.
  • Die Verbindungseinheiten 117 sind im vorliegenden Beispiel an dem dem optischen Modul 109 zugewandten Ende der jeweiligen Stützeinheit 110.1 angeordnet. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch vorgesehen sein kann, dass die jeweilige Verbindungseinheit im mittleren Bereich der zugehörigen Stützeinheit oder an dem dem optischen Modul abgewandten Ende der Stützeinheit angeordnet ist. Mit anderen Worten ist es also auch möglich, dass zumindest ein Teil der jeweiligen Stützeinheit zusammen mit dem optischen Modul ausgetauscht wird.
  • Wie 3 zu entnehmen ist, sind im vorliegenden Beispiel drei Positioniereinheiten 113 vorgesehen, die gleichmäßig am Umfang des optischen Elements 107.1 verteilt angeordnet sind. Im vorliegenden Beispiel sind die Positioniereinheiten 113 jeweils nach Art eines Bipods gestaltet, sodass die hieraus gebildete Positioniereinrichtung insgesamt nach Art eines Hexapods ausgebildet ist, über welche (grundsätzlich) eine statisch bestimmte Lagerung des optischen Elements 107.1 (mit einer bestimmten Eigenfrequenz) realisiert ist.
  • Die Deformationseinheiten 114 sind gleichmäßig zwischen den Positioniereinheiten 113 am Umfang des optischen Elements 107.1 verteilt angeordnet, sodass sich insgesamt eine gleichmäßige Verteilung der Halteeinheiten 112 am Umfang des optischen Elements 107.1 ergibt.
  • Wie 2 zu entnehmen ist, sind die Deformationseinheiten 114 jeweils von einer auf dem Haltering 111.1 abgestützten Aktuatoreinheit 114.1 und einem elastischen Hebelarm 114.2 als Übertragungselement gebildet. Das eine Ende des elastischen Hebelarms 114.2 ist starr am Umfang des optischen Elements 107.1 befestigt, während der elastische Hebelarm 114.2 im Bereich seines anderen Endes mit der Aktuatoreinheit 114.1 verbunden ist. Die Aktuationsrichtung der Aktuatoreinheit 114.1 (also die Richtung, in welcher die Aktuatoreinheit 114.1 ihre primäre Kraftwirkung F entfaltet) verläuft in einem neutralen Zustand (ohne Kraftwirkung durch die Aktuatoreinheit 114.1) senkrecht zur Längsachse des Hebelarms 114.2. Über die Länge L und die Biegesteifigkeit des Hebelarms 114.2 kann die Kraftwirkungs- bzw. Bewegungsübersetzung zwischen der Aktuatoreinheit 114.1 und dem Angriffspunkt der Deformationseinheit 114 an dem optischen Element 107.1 eingestellt werden.
  • Die 4 zeigt ein mechanisches Ersatzschaltbild des optischen Moduls 109, in dem die unterschiedlichen Abschnitte des optischen Moduls 109 durch vereinfachte Ersatzkomponenten repräsentiert sind. So ist der Abschnitt zwischen dem jeweiligen i-ten Positionierelement 113.1 und dem optischen Element 107.1 durch eine einfache Feder 118.1 der ersten Steifigkeit C1i repräsentiert, während der Abschnitt zwischen dem Positionierelement 113.1 und der Stützstruktur 110 durch eine Feder 118.2 der zweiten Steifigkeit C2i repräsentiert ist. Die Stützstruktur 110 wird in diesem Ersatzsystem in guter Näherung als unendlich steif angenommen.
  • Ein vergleichbarer Ansatz wird auch für die Deformationseinheiten 114 gewählt, bei denen für die j-te Deformationseinheit 114 der Abschnitt zwischen der jeweiligen Aktuatoreinheit 114.1 und dem optischen Element 107.1 durch eine einfache Feder 118.3 der dritten Steifigkeit C3j repräsentiert ist, während der Abschnitt zwischen der Aktuatoreinheit 114.1 und der Stützstruktur 110 durch eine Feder 118.4 der vierten Steifigkeit C4j repräsentiert ist.
  • Es sei an dieser Stelle angemerkt, dass es sich bei den Steifigkeiten C1i bis C4j jeweils um die Ersatzsteifigkeiten für die Steifigkeiten in Richtung der (bei der Betätigung) an der betreffenden Komponente anliegenden (Haupt-)Last (also einer Kraft und/oder eines Moments) handelt. Bei diesen Ersatzsteifigkeiten kann es sich mithin also um die rechnerische Steifigkeit des Übertragungselements 114.2 handeln, welche sich am Ort der Aktuatoreinheit 114.1 in der Aktuationsrichtung F ergibt, bzw. die auf den Ort der Aktuatoreinheit 114.1 bezogene rechnerische Steifigkeit des Halteringes 111.1.
  • Im vorliegenden Beispiel sind die i (= 3) Positioniereinheiten 113 in Richtung des (bei der Abstützung des optischen Elements 107.1 in ihnen wirkenden) Kraftflusses möglichst steif ausgebildet, d. h. die jeweilige erste und zweite Steifigkeit C1i und C2i ist möglichst hoch gewählt, um eine Festlegung der Position und Orientierung des optischen Elements 107.1 mit einer vorgebbaren hohen Eigenfrequenz zu erzielen. Die tatsächliche Steifigkeit der Komponenten richtet sich dabei nach der gewünschten Eigenfrequenz der Abstützung. Hierzu ist zum einen die jeweilige Verbindung zwischen dem Positionierelement 113.1 und dem optischen Element 107.1 entsprechend steif ausgeführt. Weiterhin ist zum anderen die Verbindung zwischen dem Positionierelement 113.1 und dem Haltering 111.1 entsprechend steif ausgeführt. Schließlich ist die Abstützung durch den Haltering 111.1 selbst in diesem Bereich möglichst steif ausgeführt.
  • Um den Aufwand für die Aussteifung des Halterings 111.1 gering zu halten, ist im vorliegenden Beispiel vorgesehen, dass die jeweilige Positioniereinheit 113 an einer zweiten Stützstelle angeordnet ist, die sich wiederum im Bereich einer der ersten Stützstellen befindet, an denen das optische Modul 109 an der Stützstruktur abgestützt ist, sodass der Einfluss der Steifigkeit des Halterings 111.1 auf die Steifigkeit der Abstützung des optischen Moduls 109 gering gehalten wird.
  • Das betreffende Positionierelement 113.1 selbst weist im vorliegenden Beispiel ebenfalls eine hohe Steifigkeit in seiner Wirkrichtung (und damit der Richtung des Kraftflusses) auf, wobei es sich um einen beliebigen geeigneten Aktuator handeln kann, der entsprechende mechanische Eigenschaften aufweist und einen ausreichenden Verstellbereich aufweist.
  • Im Gegensatz hierzu sind die j (= 9) Deformationseinheiten 114 im vorliegenden Beispiel in Richtung des (bei der Abstützung des optischen Elements 107.1 in ihnen wirkenden) Kraftflusses möglichst weich ausgebildet (d. h. zumindest eine der jeweiligen dritten und vierten Steifigkeiten C3j und C4j ist insbesondere gegenüber den ersten und zweiten Steifigkeiten C1i und C2i deutlich kleiner gewählt), um einen möglichst geringen Einfluss der Formfunktion FDj von anderen Steifigkeiten als der des optischen Elementes 107.1 für die jeweilige Deformationseinheit 114 zu erzielen.
  • Die Formfunktion FDj bezeichnet im Sinne der vorliegenden Erfindung die Deformationsantwort des optischen Elementes 114 auf eine definierte (normierte) Verschiebung und/oder eine definierte (normierte) Kraftwirkung im Bereich der Aktuatoreinheit 114.1 gegebenenfalls nach Abzug der Starrkörperbewegungen des optischen Elementes 107.1, welche durch die drei Positionierelemente 113.1 einstellbar sind. Hängt die Formfunktion nur von der Steifigkeit des optischen Elementes 107.1 ab, so ist sie vorab für jede Aktuatorposition einfach (z. B. analytisch) bestimmbar.
  • Je nach der Gestaltung der Deformationseinheiten 114 kann es sich bei diesen Lasten um ein reines Moment, eine reine Kraft oder eine Kombination aus Kraft und Moment handeln. Wird im vorliegenden Beispiel für die Aktuatoreinheit 114.1 ein linear wirkender Aktuator verwendet, wird in das optische Element über den elastischen Hebelarm 114.2 sowohl ein Moment (um eine tangential zur Umfangsrichtung des optischen Elements 107.1 verlaufende Achse) als auch eine Kraft (im wesentlichen parallel zu optischen Achse 101.1) eingeleitet. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung unter anderem auch vorgesehen sein kann, dass die Aktuatoreinheit lediglich ein Moment in den Hebelarm und damit in das optische Element einleitet.
  • Bei der beschriebenen einfachen Ermittlung der Formfunktion FDj zwischen den einzelnen Deformationseinheiten 114 ist es in vorteilhafter Weise möglich, über eine einfache Ansteuerung ohne einen aufwändigen Regelungsalgorithmus in ausreichend guter Näherung eine definierte Deformation des optischen Elements 107.1 einzustellen, sofern die Formfunktion FDj bekannt ist. Die Formfunktion FDj kann dabei theoretisch (beispielsweise durch entsprechende Simulationsrechnungen) und/oder experimentell (beispielsweise durch entsprechende Messungen) vorab ermittelt worden sein und als entsprechendes Modell in der Steuereinrichtung 115 abgelegt sein.
  • Bevorzugt ist die dritte Steifigkeit C3j gegenüber der vierten Steifigkeit C4j besonders klein gewählt, um eine Störung der Formfunktionen FDj durch die Steifigkeiten C4j bei den einzelnen Deformationseinheiten 114 gering zu halten. In diesem Fall sind die Anforderungen an die vierte Steifigkeit C4j, insbesondere der in diese einfließende Beitrag der Steifigkeit des Halterings 111.1, gering. Mithin muss also der Haltering 111.1 in diesem Fall nicht besonders steif ausgebildet sein, was sich positiv auf den Bauraumbedarf des optischen Moduls 109 auswirkt.
  • Vorzugsweise ist das Verhältnis der dritten Steifigkeit C3j und der vierten Steifigkeit C4j so gewählt, dass (in der jeweiligen Lastrichtung) die vierte Steifigkeit C4j wenigstens das 500fache, vorzugsweise wenigstens das 100fache der dritten Steifigkeit C3j beträgt. Hierdurch kann eine besonders günstige, geringe Störung der Formfunktionen FDj erreicht werden.
  • In einem Fall mit einer gegenüber der vierten Steifigkeit C4j kleinen dritten Steifigkeit C3j kann für die Aktuatoreinheit 114.1 ein einfacher Wegaktuator eingesetzt werden, der in Abhängigkeit von einem definierten Steuersignal eine definierte Verschiebung in seiner Wirkrichtung erzeugt. Hiermit kann eine besonders einfach gestaltete Ansteuerung realisiert werden, da bei solchen Wegaktuatoren die Vorgabe (und Überprüfung) eines definierten Stellweges in der Regel sehr einfach erfolgen kann. Je nach Typ des Aktuators ist beispielsweise nur eine einfache Vorgabe bzw. Zählung der Umdrehungen des Aktuators oder dergleichen erforderlich.
  • Bei der Aktuatoreinheit 114.1 kann es sich bei anderen Varianten der Erfindung auch um einen Kraftaktuator handeln, der in Abhängigkeit von einem definierten Steuersignal eine definierte Kraft in seiner Wirkrichtung erzeugt. In diesem Fall besteht der Vorteil, dass die Steifigkeit der Abstützung der Aktuatoreiheit 114.1 auf der Seite der Stützstruktur bzw. die Gestaltung des Halteringes 111.1 nahezu frei ist, da diese dank der definierten Kraftwirkung der Aktuatoreinheit 114.1 keinen nennenswerten Einfluss auf die Formfunktion FDj hat.
  • In beiden Fällen ist es jedenfalls von Vorteil, wenn die Streuung der dritten Steifigkeit C3j möglichst gering ist, um insgesamt eine geringe Störung der Formfunktionen FDj zu erzielen.
  • Im vorliegenden Beispiel ist dank der Anordnung der Positoniereinheiten 113 im Bereich der Stützeinheiten 110.1 der Einfluss einer durch die Betätigung der Deformationseinheiten 114 bedingten Verformung des Halterings 111.1 auf die Position und/oder Orientierung des optischen Elements 107.1 reduziert. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung, bei denen eine solche Anordnung der Positioniereinheiten in unmittelbarer Nähe der Stützeinheiten nicht gegeben ist, eine einfache Korrektur einer sich aus der aktiven Deformation ergebenden Änderung der Position und/oder Orientierung des optischen Elements über die Positioniereinheiten 113 möglich ist.
  • Die Stützeinheiten 110.1 sind im vorliegenden Beispiel als aktive Einheiten gestaltet, über welche die Position und/oder Orientierung des optischen Moduls 109 verändert werden kann. Hierzu sind die Stützeinheiten 110.1 jedenfalls mit der Steuereinrichtung 115 verbunden, von der sie gegebenenfalls entsprechend angesteuert werden. Für die Stützeinheiten 110.1 können beliebige geeignete Aktuatoren eingesetzt werden, welche eine entsprechende aktive Verstellung ermöglichen.
  • Hiermit ist es unter anderem möglich, gröbere bzw. größere Veränderungen der Position und/oder Orientierung des optischen Moduls 109 und damit des optischen Elements 107.1 zu realisieren, wie sie beispielsweise für schnelle Wechsel des so genannten Settings des optischen Abbildungssystems erforderlich sind, während die Feineinstellung der Position und/Orientierung des optischen Elements 107.1 über die Positioniereinheiten 113 und die Feineinstellung der Geometrie des optischen Elements 107.1 über die Deformationseinheiten 114 erfolgt.
  • Weiterhin ist es hiermit möglich, das optische Modul 109 gegebenenfalls in eine (von einer Betriebsposition während der Belichtung des Substrats 105.1 verschiedene) Austauschposition zu bringen, in der die Verbindungseinheiten 117 einfach gelöst werden können und das optische Modul 109 einfach aus dem Objektiv 104 entnommen werden kann.
  • Es versteht sich jedoch, dass die Stützeinheiten bei anderen Varianten der Erfindung auch zumindest teilweise als passive Elemente ausgebildet sein können. Hierbei kann natürlich auch eine manuelle Verstellbarkeit der Stützeinheiten vorgesehen sein.
  • Bei dem vorliegenden Beispiel kann eine Einstellung der Position/Orientierung des optischen Elements 107.1 und insbesondere eine Korrektur der Abbildungsfehler des optischen Ausbildungssystems über eine aktive Deformation des optischen Elements 107.1 auf die nachfolgende Weise im Betrieb der Mikrolithographieeinrichtung 101 realisiert werden.
  • 5 zeigt ein Ablaufdiagramm eines Abbildungsverfahrens, welches mit der Mikrolithographieeinrichtung 101 durchgeführt wird und bei dem eine bevorzugte Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens zum Abstützen eines optischen Elements zur Anwendung kommt.
  • Zunächst wird in einem Schritt 119.1 der Verfahrensablauf gestartet. In einem Schritt 119.2 werden dann die Komponenten der Mikrolithographieeinrichtung 101 aus 1 in einen Zustand gebracht, in der die oben beschriebene Abbildung des Projektionsmusters der Maske 103.1 auf das Substrat 105.1 erfolgen kann.
  • In einem Abbildungsschritt 119.3 erfolgt parallel zu der Belichtung des Substrats 105.1 in einem Schritt 119.4 die oben beschriebene Erfassung des aktuellen Werts der wenigstens einen für einen Abbildungsfehler des optischen Ausbildungssystems repräsentativen Größe über die Erfassungseinrichtung 116 und die Weitergabe des erfassten Werts dieser Größe an die Steuereinrichtung 115.
  • In der Steuereinrichtung 115 erfolgt in diesem Schritt 119.4 dann ein Vergleich des aktuell erfassten Werts dieser Größe mit einem für den aktuellen Betriebszustand der Mikrolithographieeinrichtung 101 vorgegebenen Sollwert für diese Größe. Aus diesem Vergleich ermittelt die Steuereinrichtung 115 zum einen eine Vorgabe für die Geometrie des optischen Elements 107.1, mithin also eine Vorgabe für die Deformation des optischen Elements 107.1, und bestimmt hieraus zum einen Steuersignale für die Aktuatoreinheiten 114.1 der Deformationseinheiten 114.
  • Weiterhin ermittelt die Steuereinrichtung 115 aus diesem Vergleich eine Vorgabe für die Position und/oder Orientierung des optischen Elements 107.1 und bestimmt hieraus Steuersignale für die Positionierelemente 113.1 der Positioniereinheiten 113. Gegebenenfalls wird hierbei eine zu erwartende, aus der einzustellenden Kraftwirkung der Deformationseinheiten 114 resultierende Änderung der Position und/oder Orientierung des optischen Elements 107.1 berücksichtigt. Hierzu kann die Steuereinrichtung 115 auf ein gespeichertes (zuvor theoretisch und/oder experimentell ermitteltes) Modell des optischen Moduls 109 zugreifen, welches die zu erwartende Änderung der Position und/oder Orientierung des optischen Elements 107.1 in Abhängigkeit von der Kraftwirkung der Positionierelemente 113.1 repräsentiert.
  • Gegebenenfalls ermittelt die Steuereinrichtung 115 aus dem oben genannten Vergleich und/oder anhand einer anderen Vorgabe aus dem durchzuführenden Abbildungsprozess zudem eine Vorgabe für die Position und/oder Orientierung des optischen Moduls 109 und damit auch des optischen Elements 107.1 und bestimmt hieraus Steuersignale für die Stützeinheiten 110.1.
  • In einem Schritt 119.5 steuert die Steuereinrichtung 115 dann in der oben beschriebenen Weise die Aktuatoreinheiten 114.1 der Deformationseinheiten 114, die Positionierelemente 113.1 der Positioniereinheiten 113 und gegebenenfalls die Stützeinheiten 110.1 mit den ermittelten Steuersignalen an, um einer Abweichung des aktuellen Zustands des optischen Moduls 109, insbesondere des optischen Elements 107.1, von einem für den vorliegenden Betriebszustand vorgegebenen Sollzustand, insbesondere einem aktuell vorliegenden Abbildungsfehler, entgegenzuwirken.
  • Die geringe Steifigkeit der Deformationseinheiten 114 in der Lastrichtung hat dabei den Vorteil, dass eine Korrektur der Position und/oder Orientierung des optischen Elements 107.1 über die Positioniereinheiten 113 nur eine vergleichsweise geringe, in der Regel vernachlässigbare Änderung in der über die Deformationseinheiten 114 eingestellten Geometrie des optischen Elements 107.1 nach sich zieht, sodass eine entsprechende Regelschleife, welche die tatsächliche Geometrie des optischen Elements 107.1 erfasst, entfallen kann.
  • Nachfolgend wird in einem Schritt 119.6 überprüft, ob noch ein weiterer Abbildungsschritt durchzuführen ist. Ist dies nicht der Fall, wird der Verfahrensablauf in dem Schritt 119.7 beendet. Andernfalls wird zurück zu dem Schritt 119.3 gesprungen.
  • Im vorliegenden Beispiel ist das optische Element 107.1 durch die Positioniereinheiten 113 und die Deformationseinheiten 114 auf dem Haltering 111.1 abgestützt. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch noch eine weitere Abstützung des optischen Elements auf dem Haltering vorgesehen sein kann. Beispielsweise kann diese weitere Abstützung nach Art einer hinlänglich bekannten Schwerkraftkompensationseinrichtung gestaltet sein, wie sie in 2 schematisch durch die gestrichelte Kontur 120 angedeutet ist. Bei dieser Schwerkraftkompensationseinrichtung 120 kann es sich um eine Vielzahl von weichen Federelementen handeln, welche gleichmäßig am Umfang des optischen Elements 107.1 verteilt sind. Die Schwerkraftkompensationseinrichtung 120 kann als passive und/oder aktive Einrichtung ausgeführt sein und in herkömmlicher Weise zumindest einen Großteil der Gewichtskraft des optischen Elements 107.1 aufnehmen.
  • Weiterhin ist die Abstützung des optischen Elements 107.1 im vorliegenden Beispiel als stehende Abstützung gezeigt (d. h. der Haltering 111.1 stützt das optische Element 107.1 von unten). Es versteht sich jedoch, dass die Abstützung des optischen Elements auch als hängende Abstützung gestaltet sein kann, mithin also das optische Element (von unten) an dem Haltering aufgehängt ist. Weiterhin versteht es sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung natürlich auch eine beliebige andere Ausrichtung des optischen Elements bezüglich der Vertikalrichtung vorgesehen sein kann.
  • Zweites Ausführungsbeispiel
  • Im Folgenden wird unter Bezugnahme auf die 1 bis 5 und 6 ein weiteres bevorzugtes Ausführungsbeispiel der erfindungsgemäßen optischen Einrichtung 208 beschrieben, die in dem Objektiv 104 anstelle der optischen Einrichtung 108 zum Einsatz kommen kann. Die optische Einrichtung 208 entspricht in Aufbau und Funktion grundsätzlich der optischen Einrichtung 108, sodass hier lediglich auf die Unterschiede eingegangen werden soll. Insbesondere sind identische oder gleichartige Komponenten mit um den Wert 100 erhöhten Bezugszeichen versehen. Sofern nachfolgend keine abweichenden Angaben gemacht werden, wird bezüglich der Eigenschaften und Funktionen dieser Komponenten auf die obigen Erläuterungen zum ersten Ausführungsbeispiel verwiesen.
  • Die optische Einrichtung 208 unterscheidet sich von der optischen Einrichtung 108 lediglich hinsichtlich der Gestaltung und Anbindung der Deformationseinheiten 214 an dem optischen Element 207.1. Die 6 zeigt ein Detail der optischen Einrichtung 208, welches hinsichtlich seiner Lage dem Detail VI aus 2 entspricht.
  • Wie der stark schematisierten 6 zu entnehmen ist, ist in diesem Ausführungsbeispiel das Übertragungselement 214.2 der Deformationseinheit 214 als (zwischen seinen beiden Enden) gelenkig am Haltering 211.1 gelagerter Hebelarm ausgebildet. Die gelenkige Lagerung am Haltering 211.1 kann in beliebiger Weise gestaltet sein. Bevorzugt ist sie nach Art eines Festkörpergelenks ausgebildet.
  • Der Hebelarm 214.2 ist an einen Ende wiederum mit einer Aktuatoreinheit 214.1 verbunden, während er an seinem anderen Ende gabelförmig ausgebildet ist und über jeweils einen elastischen Abschnitt 214.3 und 214.4 von beiden Seiten (mithin also bei der vorliegenden horizontalen Einbaulage des optischen Elements 207.1 von oben und unten) auf einen Vorsprung 207.2 am Umfang des optischen Elements 207.1 wirkt. Die vorstehend beschriebene geringe Steifigkeit des Übertragungselements 214.2 kann bei dieser Gestaltung durch die Steifigkeit des Hebelarms 214.2 und/oder die Steifigkeit der elastischen Abschnitte 214.3 und 214.4 erzielt und eingestellt werden.
  • Die vorliegende Gestaltung hat den Vorteil, dass sie sich einfach mit herkömmlichen Gestaltungen für optische Elemente einsetzen lässt, die häufig an ihrem Umfang bereits einen (umlaufenden) oder mehrere (meist gleichmäßig verteilte) derartige Vorsprünge 207.2 aufweisen. Besonders vorteilhaft lässt sich die vorliegende Lösung also in eine grundsätzlich bekannte Gestaltung einbinden, bei der das optische Element 207.1 in hinlänglich bekannter Weise (gegebenenfalls neben weiteren Stützeinrichtungen) über eine Schwerkraftkompensationseinrichtung abgestützt ist, die eine Vielzahl von Federelementen aufweist, die am Umfang des optischen Elements 207.1 verteilt sind und an einem umlaufenden Bund 207.2 des optischen Elements 207.1 angreifen, wie dies in 6 durch die gestrichelte Kontur 220 angedeutet ist.
  • Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch eine beliebige andere Gestaltung des Übertragungselements gewählt sein kann. Insbesondere ist es möglich, wie nachfolgend noch detailliert erläutert wird, auch das Übertragungselement selbst sowie seine Anbindung an das optische Element besonders steif zu gestalten, um dem optischen Element direkt eine bestimmte Verformung aufzuprägen.
  • Drittes Ausführungsbeispiel
  • Im Folgenden wird unter Bezugnahme auf die 1, 4, 5 und 7 ein weiteres bevorzugtes Ausführungsbeispiel der erfindungsgemäßen optischen Einrichtung 308 beschrieben, welche an Stelle der optischen Einrichtung 108 in der Mikrolithographieeinrichtung 101 zum Einsatz kommen kann und mit der das Verfahren aus 5 durchgeführt werden kann. Die optische Einrichtung 308 entspricht in Aufbau und Funktionsweise grundsätzlich der optischen Einrichtung 108 aus 2 (wobei auch für die optische Einrichtung 308 das mechanische Ersatzschaltbild aus 4 verwendet werden kann), sodass hier lediglich auf die Unterschiede eingegangen werden soll. Insbesondere sind identische oder gleichartige Komponenten mit um den Wert 200 erhöhten Bezugszeichen versehen. Sofern nachfolgend keine abweichenden Angaben gemacht werden, wird bezüglich der Eigenschaften und Funktionen dieser Komponenten auf die obigen Erläuterungen zum ersten Ausführungsbeispiel verwiesen.
  • Der Unterschied der optischen Einrichtung 308 zur optischen Einrichtung 108 besteht in der Gestaltung der Halteeinheiten 312. Während wiederum eine Reihe von gleichmäßig am Umfang des optischen Elements 307.1 verteilten Deformationseinheiten 314 vorgesehen ist, ist bei dieser Variante anstelle der Positioniereinheiten 113 eine Schwerkraftkompensationseinrichtung 320 vorgesehen. Diese Schwerkraftkompensationseinrichtung 320 umfasst eine Vielzahl von gleichmäßig am Umfang des optischen Elements 307.1 verteilten Federelementen 320.1, welche in hinlänglich bekannter Weise die Gewichtskraft des optischen Elements 307.1 aufnehmen. Die Federelemente 320.1 sind dabei allerdings vergleichsweise steif ausgebildet (d. h. die erste Steifigkeit C1i in 4 ist etwa um den Faktor 500 bis 1000 höher als C3j).
  • Die Deformationseinheiten 314 umfassen jeweils eine ebenfalls (in ihrer Aktuationsrichtung) vergleichsweise steife Aktuatoreinheit 314.1, welche kleine Stellwege mit einer hohen Auflösung zur Verfügung stellt. Hierfür können grundsätzlich beliebige Aktuatoren zur Anwendung kommen, welche diese Anforderung erfüllen. Beispielsweise können hierfür Piezoaktuatoren, mechanische Linearantriebe, bei denen über einen rotatorischen Antrieb über ein entsprechendes Getriebe eine vertikale Bewegung erzeugt wird oder dergleichen zum Einsatz kommen. Derartige Aktuatoren haben unter anderem den Vorteil, dass sie besonders klein bauend ausgeführt werden können.
  • Weiterhin sind die j Deformationseinheiten 314 im vorliegenden Beispiel in Richtung des (bei der Abstützung des optischen Elements 307.1 in ihnen wirkenden) Kraftflusses möglichst steif ausgebildet (d. h. die dritte Steifigkeit C3j ist vergleichsweise hoch), um eine vorgebbare hohe Eigenfrequenz der Abstützung zu realisieren. Im Bereich des Übertragungselements 314.2 kann dies beispielsweise dadurch realisiert sein, dass dieses als entsprechend steifer radialer Fortsatz des optischen Elements ausgebildet ist. Beispielsweise kann es sich einfach um einen monolithisch am optischen Element 307.1 angeformten Hebelarm 314.2 handeln. Auf die Steifigkeiten C2j und C4j gemäß 4, die hier beide die Steifigkeit des Halteringes 311.1 an der Stelle j repräsentieren, wird später noch eingegangen.
  • Mit der beschriebenen Gestaltung ergibt sich gegebenenfalls eine vergleichsweise große Anzahl von Einflussparametern auf die Formfunktionen FDj der jeweiligen Deformationseinheiten 314. Mithin erzeugt also die jeweilige Aktuatoreinheit 314.1 bei gleichem Stellweg bzw. gleicher Verschiebung V eine andere Formfunktion FDj sowie andere Starrkörperbewegungen. Diese hängen von der Position der jeweiligen Deformationseinheit 314 (in Umfangsrichtung des optischen Elements 307.1) und den jeweiligen Werten der ersten und der dritten Steifigkeiten C1j, C3j und der vierten Steifigkeit C4j ab.
  • Wie bereits erwähnt, bezeichnet die Formfunktion FDj im Sinne der vorliegenden Erfindung die Deformationsantwort der Deformationseinheit 314 auf eine definierte (normierte) Verschiebung und/oder eine definierte (normierte) Kraftwirkung im Bereich der Aktuatoreinheit 314.1. Mithin ist die Formfunktion FDj also auch für die Lasten repräsentativ, welche bei der definierten Verschiebung und/oder Kraftwirkung in das optische Element 307.1 eingeleitet werden.
  • Bei der beschriebenen vergleichsweise großen Variation der Formfunktion FDj zwischen den einzelnen Deformationseinheiten 314 ist es von Vorteil, wenn die vierte Steifigkeit C4j möglichst hoch ist, insbesondere also auch der Haltering 311.1 besonders steif ausgebildet ist, um den Einfluss von aus der Betätigung einer der Deformationseinheiten 314 resultierenden Verformungen des Halterings 311.1 auf die Position und/oder Orientierung der anderen Deformationseinheiten 314 möglichst gering zu halten.
  • Im Grenzfall für einen unendlich steif gedachten Haltering 311.1 bei untereinander ideal gleichen Steifigkeiten C1j, C3j, ergäbe sich für jede Aktuatoreinheit dann die gleiche Formfunktion, wenn die Aktuatoreinheiten äquidistant auf dem gleichen Umfang angeordnet wären.
  • In diesem Fall ist es dann in vorteilhafter Weise möglich, über eine einfache Ansteuerung ohne einen aufwändigen Regelungsalgorithmus in ausreichend guter Näherung eine definierte Deformation des optischen Elements 307.1 einzustellen, sofern die jeweilige Formfunktion FDj bekannt ist. Die Formfunktion FDj kann theoretisch (beispielsweise durch entsprechende Simulationsrechnungen) und/oder experimentell (beispielsweise durch entsprechende Messungen) vorab ermittelt worden sein und als entsprechendes Modell in der Steuereinrichtung 315 abgelegt sein.
  • In der Steuereinrichtung 315 erfolgt in dem Schritt 119.4 aus 5 dann ein Vergleich des aktuell erfassten Werts der für den zu korrigieren Abbildungsfehler repräsentativen Größe mit einem für den aktuellen Betriebszustand der Mikrolithographieeinrichtung 101 vorgegebenen Sollwert für diese Größe. Aus diesem Vergleich ermittelt die Steuereinrichtung 315 (beispielsweise durch eine entsprechende Anpassung anhand der gespeicherten von Funktionen FDj) eine Vorgabe für die Geometrie des optischen Elements 307.1, mithin also eine Vorgabe für die Deformation des optischen Elements 307.1, sowie eine Vorgabe für die Position und Orientierung des optischen Elements 307.1 und bestimmt hieraus die Steuersignale für die Aktuatoreinheiten 314.1 der Deformationseinheiten 314, über welche Deformation, Position und Orientierung des optischen Elements 307.1 eingestellt werden. Hierzu greift die Steuereinrichtung 315 auf das gespeicherte (zuvor theoretisch und/oder experimentell ermitteltes) Modell des optischen Moduls 309 zu.
  • Gegebenenfalls ermittelt die Steuereinrichtung 315 aus dem oben genannten Vergleich und/oder anhand einer anderen Vorgabe aus dem durchzuführenden Abbildungsprozess zudem eine weitergehende Vorgabe für die Position und/oder Orientierung des optischen Moduls 309 und damit auch des optischen Elements 307.1 und bestimmt hieraus weitere Steuersignale für die Stützeinheiten 310.1.
  • In dem Schritt 119.5 steuert die Steuereinrichtung 315 dann in der oben beschriebenen Weise die Aktuatoreinheiten 314.1 der Deformationseinheiten 314 und gegebenenfalls die Stützeinheiten 310.1 mit den ermittelten Steuersignalen an, um einer Abweichung des aktuellen Zustands des optischen Moduls 309, insbesondere des optischen Elements 307.1, von einem für den vorliegenden Betriebszustand vorgegebenen Sollzustand, insbesondere einem aktuell vorliegenden Abbildungsfehler, entgegenzuwirken.
  • Die vorstehend beschriebene Gestaltung hat den Vorteil, dass sie insbesondere hinsichtlich der Aktuatoren besonders klein bauend ausgeführt werden kann und sich daher besonders gut für die Integration einer aktiven Deformation eines optischen Elements in einem bereits bestehenden Optikdesign eignet. Gegebenenfalls ist es bei dieser Variante also möglich, bei einer bestehenden Gestaltung eines optischen Abbildungssystems eines der bisherigen optischen Elemente durch das in dem optischen Modul 309 angeordnete optische Element 307.1 zu ersetzen, ohne die übrige Gestaltung des optischen Abbildungssystems verändern zu müssen.
  • In diesem Fall sind die Stützeinheiten 310.1 auch hier wieder in vorteilhafter Weise lösbar mit dem optischen Modul 309 verbunden, um die einfache Austauschbarkeit des optischen Moduls 309 zu gewährleisten. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung eine solche einfach lösbare Verbindung zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur auch fehlen kann.
  • Im vorliegenden Beispiel kann für die Aktuatoreinheit 314.1 wiederum ein einfacher Wegaktuator eingesetzt werden, der in Abhängigkeit von einem definierten Steuersignal eine definierte Verschiebung in seiner Wirkrichtung erzeugt. Bei der Aktuatoreinheit 314.1 kann es sich bei anderen Varianten der Erfindung auch wiederum um einen Kraftaktuator handeln, der in Abhängigkeit von einem definierten Steuersignal eine definierte Kraft in seiner Wirkrichtung erzeugt. In beiden Fällen ist es jedenfalls wiederum von Vorteil, wenn die Streuung der dritten Steifigkeit C3j möglichst gering ist, um insgesamt eine geringe Streuung der Formfunktion FDj zu erzielen.
  • Weiterhin ist die Abstützung des optischen Elements 307.1 im vorliegenden Beispiel als hängende Abstützung gezeigt (d. h. das optische Element 107.1 ist von unten an dem Haltering 311.1 aufgehängt). Es versteht sich jedoch, dass die Abstützung des optischen Elements auch als stehende Abstützung gestaltet sein kann, mithin also das optische Element (von oben) auf dem Haltering abgestützt ist. Hierzu kann insbesondere beispielsweise eine Konfiguration ähnlich der in 6 gezeigten Anordnung gewählt sein. Weiterhin versteht es sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung natürlich auch eine beliebige andere Ausrichtung des optischen Elements bezüglich der Vertikalrichtung vorgesehen sein kann.
  • Viertes Ausführungsbeispiel
  • Im Folgenden wird unter Bezugnahme auf die 1, 4, 5 und 8 ein weiteres bevorzugtes Ausführungsbeispiel der erfindungsgemäßen optischen Einrichtung 408 beschrieben, welche an Stelle der optischen Einrichtung 108 in der Mikrolithographieeinrichtung 101 zum Einsatz kommen kann und mit der das Verfahren aus 5 durchgeführt werden kann. Die optische Einrichtung 408 entspricht in Aufbau und Funktionsweise grundsätzlich der optischen Einrichtung 308 aus 7 (wobei auch für die optische Einrichtung 408 das mechanische Ersatzschaltbild aus 4 verwendet werden kann), sodass hier lediglich auf die Unterschiede eingegangen werden soll. Insbesondere sind identische oder gleichartige Komponenten mit um den Wert 100 erhöhten Bezugszeichen versehen. Sofern nachfolgend keine abweichenden Angaben gemacht werden, wird bezüglich der Eigenschaften und Funktionen dieser Komponenten auf die obigen Erläuterungen zum dritten bzw. ersten Ausführungsbeispiel verwiesen.
  • Der Unterschied der optischen Einrichtung 408 zur optischen Einrichtung 308 besteht in der Gestaltung der Halteeinheiten 412. Diese umfassen im vorliegenden Beispiel ausschließlich eine Reihe von gleichmäßig am Umfang des optischen Elements 407.1 verteilten Deformationseinheiten 414. Die Deformationseinheiten 414 umfassen wiederum jeweils eine (in ihrer Aktuationsrichtung) vergleichsweise steife Aktuatoreinheit 414.1, welche kleine Stellwege mit einer hohen Auflösung zur Verfügung stellt. Hierfür können grundsätzlich beliebige Aktuatoren zur Anwendung kommen, welche diese Anforderung erfüllen. Beispielsweise können hierfür Piezoaktuatoren, mechanische Linearantriebe, bei denen über einen rotatorischen Antrieb über ein entsprechendes Getriebe eine vertikale Bewegung erzeugt wird oder dergleichen zum Einsatz kommen. Derartige Aktuatoren haben unter anderem den Vorteil, dass sie besonders klein bauend ausgeführt werden können.
  • Weiterhin sind die j Deformationseinheiten 414 im vorliegenden Beispiel wiederum in Richtung des (bei der Abstützung des optischen Elements 407.1 in ihnen wirkenden) Kraftflusses möglichst steif ausgebildet (d. h. die dritte Steifigkeit C3j und die vierte Steifigkeit C4j sind ebenfalls vergleichsweise hoch), um eine vorgebbare hohe Eigenfrequenz der Abstützung zu realisieren.
  • Mit der beschriebenen Gestaltung ergibt sich gegebenenfalls wiederum eine vergleichsweise große Streuung bei den Formfunktionen FDj der jeweiligen Deformationseinheiten 414. Mithin erzeugt also die jeweilige Aktuatoreinheit 414.1 bei gleichem Stellweg bzw. gleicher Verschiebung V eine andere Formfunktion FDj sowie andere Starrkörperbewegungen. Diese hängen von der Position der jeweiligen Deformationseinheit 414 (in Umfangsrichtung des optischen Elements 407.1) und dem jeweiligen Wert der dritten Steifigkeit C3j und der vierten Steifigkeit C4j ab.
  • Wie bereits erwähnt, bezeichnet die Formfunktion FDj im Sinne der vorliegenden Erfindung die Deformationsantwort der Deformationseinheit 414 auf eine definierte (normierte) Verschiebung und/oder eine definierte (normierte) Kraftwirkung im Bereich der Aktuatoreinheit 414.1. Mithin ist die Formfunktion FDj also auch für die Lasten repräsentativ, welche bei der definierten Verschiebung und/oder Kraftwirkung in das optische Element 407.1 eingeleitet werden.
  • Um den Aufwand für die Gestaltung der Deformationseinheiten 414 und des Halterings 411.1 zur Reduktion der Störung der Formfunktionen FDj gering zu halten, ist im vorliegenden Beispiel eine Messeinrichtung 421 vorgesehen, welche eine ringförmige Referenzstruktur 421.1 und eine Mehrzahl von Messeinheiten 421.2 umfasst, die (vorzugsweise gleichmäßig) am Umfang der Referenzstruktur 421.1 verteilt angeordnet sind.
  • Die jeweilige Messeinheit 421.2 erfasst auf beliebige geeignete Weise (mit ausreichender Genauigkeit) eine Messgröße, die für die Geometrie des optischen Elements 407.1 repräsentative Messgröße. Im vorliegenden Beispiel wird hierzu eine Messgröße erfasst, die für den Abstand zwischen einem Referenzpunkt an der Referenzstruktur 421.1 (beispielsweise einem Punkt im Bereich der Anbindung der jeweiligen Messeinheit 421.2 an der Referenzstruktur 421.1) und einem zugeordneten Messpunkt an dem optischen Element 407.1 repräsentativ ist. Hierfür können beliebige geeignete Messprinzipien (interferometrische Prinzipien, kapazitive Prinzipien, faseroptische Sensoren, Maßstäbe etc.) einzeln oder in Kombination zum Einsatz kommen, mit denen eine ausreichend präzise Erfassung des Abstands möglich ist. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung anstelle oder zusätzlich zu einer solchen Abstandsmessung auch beliebige andere Messprinzipien zum Einsatz kommen können, welche Rückschlüsse auf die aktuelle Geometrie des optischen Elements ermöglichen.
  • Aus den so über die einzelnen Messeinheiten 421.2 erfassten Werten der betreffenden Messgrößen lassen sich eine oder mehrere Erfassungsgrößen ermitteln, welche Rückschlüsse auf die aktuelle Geometrie und damit die aktuelle Deformation des optischen Elements 407.1 ermöglichen. Die Verwendung der Abstandsmessung hat im vorliegenden Beispiel dabei noch den Vorteil, dass zudem Rückschlüsse auf die Position und/oder Orientierung des optischen Elements 407.1 möglich sind.
  • In der Steuereinrichtung 415 erfolgt in dem Schritt 119.4 aus 5 dann ein Vergleich des aktuell erfassten Werts der für den zu korrigieren Abbildungsfehler repräsentativen Größe mit einem für den aktuellen Betriebszustand der Mikrolithographieeinrichtung 101 vorgegebenen Sollwert für diese Größe. Aus diesem Vergleich ermittelt die Steuereinrichtung 415 (beispielsweise durch eine entsprechende Anpassung anhand der gespeicherten von Funktionen FDj) eine Vorgabe für die Geometrie des optischen Elements 407.1, mithin also eine Vorgabe für die Deformation des optischen Elements 407.1, sowie eine Vorgabe für die Position und Orientierung des optischen Elements 407.1 und bestimmt hieraus die Steuersignale für die Aktuatoreinheiten 414.1 der Deformationseinheiten 414, über welche Deformation, Position und Orientierung des optischen Elements 407.1 eingestellt werden. Hierzu greift die Steuereinrichtung 415 gegebenenfalls auf ein gespeichertes (zuvor theoretisch und/oder experimentell ermitteltes) Modell des optischen Moduls 409 zu. Weiterhin berücksichtigt sie hierbei gegebenenfalls die in der oben beschriebenen Weise ermittelte(n) Erfassungsgröße(n), die für die aktuelle Deformation, Position und/oder Orientierung des optischen Elements 407.1 repräsentativ ist bzw. sind.
  • Gegebenenfalls ermittelt die Steuereinrichtung 415 aus dem oben genannten Vergleich und/oder anhand einer anderen Vorgabe aus dem durchzuführenden Abbildungsprozess zudem eine weitergehende Vorgabe für die Position und/oder Orientierung des optischen Moduls 409 und damit auch des optischen Elements 407.1 und bestimmt hieraus gegebenenfalls weitere Steuersignale für die Stützeinheiten 410.1.
  • In dem Schritt 119.5 steuert die Steuereinrichtung 415 dann in der oben beschriebenen Weise die Aktuatoreinheiten 414.1 der Deformationseinheiten 414 und gegebenenfalls die Stützeinheiten 410.1 mit den ermittelten Steuersignalen an, um einer Abweichung des aktuellen Zustands des optischen Moduls 409, insbesondere des optischen Elements 407.1, von einem für den vorliegenden Betriebszustand vorgegebenen Sollzustand, insbesondere einem aktuell vorliegenden Abbildungsfehler, entgegenzuwirken. Hierbei wird der aktuelle Zustand (Deformation, Position und/oder Orientierung bezüglich der Referenzstruktur 421.1) des optischen Elements 407.1 über die Messeinrichtung 421 kontinuierlich erfasst und in der Steuereinrichtung 415 verarbeitet, um über eine so realisierte Regelschleife an schnelles Erreichen des aktuellen Sollzustands zu erzielen.
  • Die vorstehend beschriebene Gestaltung mit der Messeinrichtung 421 hat den Vorteil, dass an die Abstützung des optischen Elements 407.1 mit Ausnahme der Erzielung einer bestimmten vorgegebenen Eigenfrequenz hinsichtlich der Steifigkeit (insbesondere der Halteeinheiten 412 und des Halterings 411.1) keine besonderen weiteren Anforderungen zu stellen sind, sodass diesbezüglich eine größere Gestaltungsfreiheit besteht. Insbesondere können hier beliebige geeignete Aktuatoren sowie beliebige geeignete Übertragungselemente zum Einsatz kommen. Bevorzugt ist jedoch auch hier insbesondere für die Deformationseinheiten 414 und den Haltering 411.11 möglichst hohe Steifigkeit vorgesehen.
  • Wegen der so gewonnenen Gestaltungsfreiheit ist es möglich, die Komponenten des optischen Moduls 409 bauraumoptimiert zu gestalten, sodass sich auch diese Lösung besonders gut für die Integration einer aktiven Deformation eines optischen Elements in einem bereits bestehenden Optikdesign eignet. Gegebenenfalls ist es bei dieser Variante also möglich, bei einer bestehenden Gestaltung eines optischen Abbildungssystems eines der bisherigen optischen Elemente durch das in dem optischen Modul 409 angeordnete optische Element 407.1 zu ersetzen, ohne die übrige Gestaltung des optischen Abbildungssystems verändern zu müssen.
  • In diesem Fall sind die Stützeinheiten 410.1 auch hier wieder in vorteilhafter Weise lösbar mit dem optischen Modul 409 verbunden, um die einfache Austauschbarkeit des optischen Moduls 409 zu gewährleisten. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung eine solche einfach lösbare Verbindung zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur auch fehlen kann.
  • Im vorliegenden Beispiel kann für die Aktuatoreinheit 414.1 wiederum ein einfacher Wegaktuator eingesetzt werden, der in Abhängigkeit von einem definierten Steuersignal eine definierte Verschiebung in seiner Wirkrichtung erzeugt. Bei der Aktuatoreinheit 414.1 kann es sich bei anderen Varianten der Erfindung auch wiederum um einen Kraftaktuator handeln, der in Abhängigkeit von einem definierten Steuersignal eine definierte Kraft in seiner Wirkrichtung erzeugt.
  • Hinsichtlich der Gestaltung der Referenzstruktur 421.1 ist anzumerken, dass diese bevorzugt eine möglichst geringe Sensitivität gegenüber thermischen und/oder mechanischen Störungen aufweist. Vorzugsweise ist sie daher aus einem oder mehreren Materialien mit geringem thermischen Ausdehnungskoeffizienten und hoher Steifigkeit ausgeführt. Beispiele für derartige Materialien sind SiO2, Glaskeramiken, Invar® etc.
  • Es sei an dieser Stelle der Vollständigkeit halber erwähnt, dass eine solche Materialwahl natürlich auch für die übrigen Komponenten des jeweiligen optischen Moduls und der jeweiligen Stützstruktur sämtlicher Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung von Vorteil sein kann.
  • Im vorliegenden Beispiel ist die Referenzstruktur 421.1 an dem Haltering 411.1 abgestützt. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch vorgesehen sein kann, dass der Referenzstruktur an der Stützstruktur 410.2 abgestützt ist.
  • Im vorliegenden Beispiel ist die Abstützung der Referenzstruktur 421.1 bevorzugt so gestaltet, dass eine Deformation des Halterings 411.1 möglichst keine Auswirkungen auf die Position und/oder Orientierung der Referenzstruktur 421.1 hat. Dies ist im vorliegenden Beispiel dadurch realisiert, dass die Referenzstruktur im Bereich von drei Stützstellen statisch bestimmt auf dem Haltering 411.1 abgestützt ist, die im Bereich der drei Stützstellen angeordnet sind, an denen der Haltering 411.1 durch die Stützeinheiten 410.1 abgestützt ist.
  • Fünftes Ausführungsbeispiel
  • Im Folgenden wird unter Bezugnahme auf die 1, 4, 5 und 9 ein weiteres bevorzugtes Ausführungsbeispiel der erfindungsgemäßen optischen Einrichtung 508 beschrieben, welche an Stelle der optischen Einrichtung 108 in der Mikrolithographieeinrichtung 101 zum Einsatz kommen kann und mit der das Verfahren aus 5 durchgeführt werden kann. Die optische Einrichtung 508 entspricht in Aufbau und Funktionsweise grundsätzlich der optischen Einrichtung 108 aus 2 (wobei auch für die optische Einrichtung 508 das mechanische Ersatzschaltbild aus 4 verwendet werden kann), sodass hier lediglich auf die Unterschiede eingegangen werden soll. Insbesondere sind identische oder gleichartige Komponenten mit um den Wert 400 erhöhten Bezugszeichen versehen. Sofern nachfolgend keine abweichenden Angaben gemacht werden, wird bezüglich der Eigenschaften und Funktionen dieser Komponenten auf die obigen Erläuterungen zum ersten Ausführungsbeispiel verwiesen.
  • Der einzige Unterschied der optischen Einrichtung 508 zur optischen Einrichtung 108 besteht darin, dass die (ansonsten identisch zu den Deformationseinheiten 114 aufgebauten) Deformationseinheiten 514 nicht direkt auf dem Haltering 511.1 abgestützt sind, sondern auf einer separaten Widerlagerstruktur in Form eines Widerlagerringes 522. Dieser Widerlagerring 522 ist seinerseits (bevorzugt statisch bestimmt) an dem Haltering 511.1 abgestützt (im vorliegenden Beispiel aufgehängt), an dem das optische Element 507.1 über Positioniereinheiten 513 abgestützt ist (die identisch mit den Positioniereinheiten 113 gestaltet sind). Im Übrigen ist das optische Modul 509 identisch zu dem optischen Modul 109.
  • Im vorliegenden Beispiel ist die Abstützung des Widerlagerringes 522 bevorzugt so gestaltet, dass eine Deformation des Halterings 511.1 möglichst geringe Auswirkungen auf die Position und/oder Orientierung des Widerlagerringes 522 hat. Dies ist im vorliegenden Beispiel dadurch realisiert, dass der Widerlagerring 522 im Bereich von drei Stützstellen statisch bestimmt an dem Haltering 511.1 abgestützt ist, die im Bereich der drei Stützstellen angeordnet sind, an denen der Haltering 511.1 durch die Stützeinheiten 510.1 auf der Stützstruktur 510.2 abgestützt ist.
  • Über diese separate Widerlagerstruktur ist es beispielsweise in einfacher Weise möglich, ein bereits bestehendes optisches Modul bzw. eine bereits bestehende Gestaltung eines solchen optischen Moduls mit einer aktiven Deformation des optischen Elements zu versehen. Es versteht sich hierbei, dass sich eine solche separate Widerlagerstruktur nicht nur bei einer Gestaltung einsetzen lässt, wie sie im Zusammenhang mit dem ersten Ausführungsbeispiel beschrieben wurde. Vielmehr lässt sie sich auch für beliebige andere Gestaltungen, insbesondere die Gestaltungen aus den anderen Ausführungsbeispielen einsetzen.
  • Wie in 9 durch die gestrichelte Kontur 521 angedeutet ist, ist bei anderen Varianten der Erfindung vorgesehen, dass eine Messeinrichtung (die beispielsweise in Aufbau und Funktion weit gehend identisch zu der Messeinrichtung 421 ist) ebenfalls an der separaten Widerlagerstruktur 522 abgestützt ist.
  • Die vorliegende Erfindung wurde vorstehend anhand von Beispielen beschrieben, bei denen ausschließlich optisch wirksame Elemente eines Objektivs aktiv deformiert wurden. Es sei an dieser Stelle jedoch nochmals angemerkt, dass die Erfindung natürlich auch zur aktiven Deformation anderer optisch wirksamer Elemente, beispielsweise optischer Elemente der Beleuchtungseinrichtung oder anderer optisch wirksamer Komponenten der Abbildungseinrichtung, insbesondere von Komponenten der Maskeneinrichtung und/oder der Substrateinrichtung, Anwendung finden kann.
  • Schließlich ist anzumerken, dass die vorliegende Erfindung vorstehend anhand von Beispielen aus dem Bereich der Mikrolithographie beschrieben wurde. Es versteht sich jedoch, dass die vorliegende Erfindung ebenso auch für beliebige andere Anwendungen bzw. Abbildungsverfahren, insbesondere bei beliebigen Wellenlängen des zur Abbildung verwendeten Lichts, eingesetzt werden kann.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
  • Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
  • Zitierte Patentliteratur
    • - US 2003/0234918 A1 [0004, 0006, 0047]
    • - US 2007/0076310 A1 [0004, 0008]
    • - US 6803994 B1 [0004]
    • - DE 19859634 A1 [0004]
    • - DE 10151919 A1 [0004]

Claims (89)

  1. Optische Einrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit – einem optischen Modul und – einer Stützstruktur, wobei – die Stützstruktur das optische Modul abstützt, – das optische Modul ein optisches Element und eine Halteeinrichtung umfasst, – die Halteeinrichtung das optische Element hält, – die Halteeinrichtung eine Deformationseinrichtung mit einer Mehrzahl von aktiven Deformationseinheiten umfasst, welche das optische Element kontaktieren und dazu ausgebildet sind, dem optischen Element eine definierte Verformung aufzuprägen, dadurch gekennzeichnet, dass – das optische Modul austauschbar an der Stützstruktur befestigt ist.
  2. Optische Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass – die Halteeinrichtung eine Haltestruktur aufweist, welche das optische Element, insbesondere statisch bestimmt, abstützt, wobei – die Haltestruktur im Bereich wenigstens einer Stützstelle lösbar mit der Stützstruktur verbunden ist.
  3. Optische Einrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass – die Haltestruktur im Bereich der wenigstens einen Stützstelle über eine Verstelleinheit verstellbar mit der Stützstruktur verbunden ist, wobei – die Verstelleinheit insbesondere aktiv ansteuerbar ist.
  4. Optische Einrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass – die Stützstelle eine erste Stützstelle ist und – die Haltestruktur das optische Element im Bereich wenigstens einer zweiten Stützstelle, insbesondere statisch bestimmt, abstützt, wobei – die wenigstens eine zweite Stützstelle im Bereich der ersten Stützstelle angeordnet ist.
  5. Optische Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass – die Halteeinrichtung das optische Element über wenigstens eine Halteeinheit, insbesondere drei Halteeinheiten, in einer Stützrichtung abstützt, wobei – die Halteeinheit in der Stützrichtung im Wesentlichen starr ausgebildet ist.
  6. Optische Einrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass – die wenigstens eine Halteeinheit als aktive Positioniereinheit ausgebildet ist, wobei – die Halteeinheit dazu ausgebildet ist, eine Position und/oder Ausrichtung des optischen Elements einzustellen.
  7. Optische Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass – wenigstens eine Deformationseinheit dazu ausgebildet ist, dem optischen Element eine Deformationskraft in einer Deformationskraftrichtung aufzuprägen, wobei – die wenigstens eine Deformationseinheit eine Aktuatoreinheit zum Erzeugen der Deformationskraft aufweist.
  8. Optische Einrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass – die Aktuatoreinheit in einer Aktuationsrichtung eine Kraft oder ein Moment erzeugt, wobei – die Aktuatoreinheit in der Aktuationsrichtung eine hohe Steifigkeit aufweist.
  9. Optische Einrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass – im Kraftfluss zwischen der Aktuatoreinheit und dem optischen Element ein Übertragungselement angeordnet ist und – das Übertragungselement in Richtung des Kraftflusses zwischen der Aktuatoreinheit und dem optischen Element eine geringe Steifigkeit aufweist, wobei – das Übertragungselement bezogen auf den Ort der Aktuatoreinheit eine Bezugssteifigkeit in der Aktuationsrichtung aufweist und die Bezugssteifigkeit des Übertragungselements insbesondere höchstens 0,1% der Steifigkeit der Aktuatoreinheit in der Aktuationsrichtung entspricht.
  10. Optische Einrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass – die Halteeinrichtung eine Haltestruktur aufweist, welche das optische Element, insbesondere statisch bestimmt, abstützt, wobei – die Aktuatoreinheit in der Aktuationsrichtung an der Haltestruktur abgestützt ist, wobei – die Haltestruktur vorzugsweise eine hohe Steifigkeit aufweist, – die Haltestruktur bezogen auf den Ort der Aktuatoreinheit eine Bezugssteifigkeit in der Aktuationsrichtung aufweist und die Bezugssteifigkeit der Haltestruktur insbesondere wenigstens 5% bis 10% der Steifigkeit der Aktuatoreinheit in der Aktuationsrichtung entspricht, vorzugsweise wenigstens der Steifigkeit der Aktuatoreinheit in der Aktuationsrichtung entspricht.
  11. Optische Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass – die Halteeinrichtung eine Haltestruktur aufweist, die das optische Element hält, – die Deformationseinheiten die Haltestruktur kontaktieren und – eine Messeinrichtung vorgesehen ist, die eine mit der Haltestruktur verbundene Referenzstruktur und wenigstens eine Messeinheit aufweist, wobei – die wenigstens eine Messeinheit dazu ausgebildet ist, eine für einen Abstand zwischen der Referenzstruktur und einem Messpunkt des optischen Elements repräsentative Messgröße zu erfassen, – die Messeinrichtung dazu ausgebildet ist, unter Verwendung der ersten Messgröße eine für eine Deformation des optischen Elements repräsentative Erfassungsgröße zu ermitteln.
  12. Optische Einrichtung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass – die Stützstruktur das optische Modul im Bereich wenigstens einer Stützstelle, insbesondere statisch bestimmt, abstützt, – die Haltestruktur die Messeinrichtung im Bereich wenigstens einer weiteren Stützstelle, insbesondere statisch bestimmt, abstützt, – wobei die wenigstens eine weitere Stützstelle für die Messeinrichtung im Bereich der wenigstens einen Stützstelle für das optische Modul angeordnet ist.
  13. Optische Einrichtung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass – wenigstens eine Deformationseinheit dazu ausgebildet ist, dem optischen Element eine Verschiebung in einer Verformungsrichtung aufzuprägen, wobei – die wenigstens eine Deformationseinheit in der Verformungsrichtung eine hohe Steifigkeit aufweist.
  14. Optische Einrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass – die Deformationseinrichtung eine separate Widerlagerstruktur aufweist, wobei – die Widerlagerstruktur, insbesondere lösbar, an der Haltestruktur befestigt ist und – wenigstens eine der Deformationseinheiten an der Widerlagerstruktur abgestützt ist.
  15. Optische Einrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit – einem optischen Modul und – einer Stützstruktur, wobei – die Stützstruktur das optische Modul abstützt, – das optische Modul ein optisches Element und eine Halteeinrichtung umfasst, – die Halteeinrichtung das optische Element hält, – die Halteeinrichtung eine Deformationseinrichtung mit einer Mehrzahl von aktiven Deformationseinheiten umfasst, welche das optische Element kontaktieren und dazu ausgebildet sind, dem optischen Element durch eine Deformationskraft in einer Deformationskraftrichtung eine definierte Verformung aufzuprägen, – die Halteeinrichtung eine Positioniereinrichtung mit wenigstens einer, insbesondere aktiven, Positioniereinheit umfasst, welche das optische Element kontaktiert und dazu ausgebildet ist, die Position und/oder Ausrichtung des optischen Elements einzustellen. dadurch gekennzeichnet, dass – wenigstens eine der Deformationseinheiten eine Aktuatoreinheit zum Erzeugen der Deformationskraft umfasst, wobei – die Aktuatoreinheit in einer Aktuationsrichtung eine Kraft oder ein Moment erzeugt und – die Aktuatoreinheit in der Aktuationsrichtung eine hohe Steifigkeit aufweist.
  16. Optische Einrichtung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass – im Kraftfluss zwischen der Aktuatoreinheit und dem optischen Element ein Übertragungselement angeordnet ist und – das Übertragungselement in Richtung des Kraftflusses zwischen der Aktuatoreinheit und dem optischen Element eine geringe Steifigkeit aufweist, wobei – das Übertragungselement bezogen auf den Ort der Aktuatoreinheit eine Bezugssteifigkeit in der Aktuationsrichtung aufweist und die Bezugssteifigkeit des Übertragungselements insbesondere höchstens 0,1% der Steifigkeit der Aktuatoreinheit in der Aktuationsrichtung entspricht.
  17. Optische Einrichtung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass – die Halteeinrichtung eine Haltestruktur aufweist, welche das optische Element, insbesondere statisch bestimmt, abstützt, wobei – die Aktuatoreinheit in der Aktuationsrichtung an der Haltestruktur abgestützt ist, wobei – die Haltestruktur vorzugsweise eine hohe Steifigkeit aufweist, – die Haltestruktur bezogen auf den Ort der Aktuatoreinheit eine Bezugssteifigkeit in der Aktuationsrichtung aufweist und die Bezugssteifigkeit der Haltestruktur insbesondere wenigstens 5% bis 10% der Steifigkeit der Aktuatoreinheit in der Aktuationsrichtung entspricht, vorzugsweise wenigstens der Steifigkeit der Aktuatoreinheit in der Aktuationsrichtung entspricht.
  18. Optische Einrichtung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass – das optische Modul austauschbar an der Stützstruktur befestigt ist, wobei – die Halteeinrichtung insbesondere eine Haltestruktur aufweist, welche das optische Element, insbesondere statisch bestimmt, abstützt und im Bereich wenigstens einer Stützstelle lösbar mit der Stützstruktur verbunden ist.
  19. Optische Einrichtung nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, dass – die Haltestruktur im Bereich der wenigstens einen Stützstelle über eine, insbesondere aktiv ansteuerbare, Verstelleinheit verstellbar mit der Stützstruktur verbunden ist, wobei – die Verstelleinheit insbesondere aktiv ansteuerbar ist.
  20. Optische Einrichtung nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, dass – die Stützstelle eine erste Stützstelle ist und – die Haltestruktur das optische Element im Bereich wenigstens einer zweiten Stützstelle, insbesondere statisch bestimmt, abstützt, wobei – die wenigstens eine zweite Stützstelle im Bereich der ersten Stützstelle angeordnet ist.
  21. Optische Einrichtung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass – das optische Element über die wenigstens eine Positioniereinheit, insbesondere drei Positioniereinheiten, in einer Stützrichtung abgestützt ist, wobei – die wenigstens eine Positioniereinheit in der Stützrichtung im Wesentlichen starr ausgebildet ist.
  22. Optische Einrichtung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass – die Halteeinrichtung eine Haltestruktur aufweist, die das optische Element hält, – die Deformationseinheiten die Haltestruktur kontaktieren und – eine Messeinrichtung vorgesehen ist, die eine mit der Haltestruktur verbundene Referenzstruktur und wenigstens eine Messeinheit aufweist, wobei – die wenigstens eine Messeinheit dazu ausgebildet ist, eine für einen Abstand zwischen der Referenzstruktur und einem Messpunkt des optischen Elements repräsentative Messgröße zu erfassen, – die Messeinrichtung dazu ausgebildet ist, unter Verwendung der ersten Messgröße eine für eine Deformation des optischen Elements repräsentative Erfassungsgröße zu ermitteln.
  23. Optische Einrichtung nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, dass – die Stützstruktur das optische Modul im Bereich wenigstens einer Stützstelle, insbesondere statisch bestimmt, abstützt, – die Haltestruktur die Messeinrichtung im Bereich wenigstens einer weiteren Stützstelle, insbesondere statisch bestimmt, abstützt, – wobei die wenigstens eine weitere Stützstelle für die Messeinrichtung im Bereich der wenigstens einen Stützstelle für das optische Modul angeordnet ist.
  24. Optische Einrichtung nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, dass – wenigstens eine Deformationseinheit dazu ausgebildet ist, dem optischen Element eine Verschiebung in einer Verformungsrichtung aufzuprägen, wobei – die wenigstens eine Deformationseinheit in der Verformungsrichtung eine hohe Steifigkeit aufweist.
  25. Optische Einrichtung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass – die Halteeinrichtung eine Haltestruktur aufweist, welche das optische Element, insbesondere statisch bestimmt, abstützt, und – die Deformationseinrichtung eine separate Widerlagerstruktur aufweist, wobei – die Widerlagerstruktur, insbesondere lösbar, an der Haltestruktur befestigt ist und – wenigstens eine der Deformationseinheiten an der Widerlagerstruktur abgestützt ist.
  26. Optische Einrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit – einem optischen Element und – einer Halteeinrichtung, wobei – die Halteeinrichtung eine Haltestruktur aufweist, die das optische Element hält, – die Halteeinrichtung eine Deformationseinrichtung mit einer Mehrzahl von aktiven Deformationseinheiten umfasst, welche das optische Element kontaktieren und dazu ausgebildet sind, dem optischen Element eine definierte Verformung aufzuprägen, dadurch gekennzeichnet, dass – die Deformationseinrichtung eine separate Widerlagerstruktur aufweist, wobei – die Widerlagerstruktur, insbesondere lösbar, an der Haltestruktur befestigt ist und – wenigstens eine der Deformationseinheiten an der Widerlagerstruktur abgestützt ist.
  27. Optische Einrichtung nach Anspruch 26, dadurch gekennzeichnet, dass – das Halteeinrichtung austauschbar an einer Stützstruktur befestigt ist, wobei – die Haltestruktur das optische Element, insbesondere statisch bestimmt, abstützt und insbesondere im Bereich wenigstens einer Stützstelle lösbar mit der Stützstruktur verbunden ist.
  28. Optische Einrichtung nach Anspruch 26, dadurch gekennzeichnet, dass – die Haltestruktur im Bereich wenigstens einer Stützstelle über eine, insbesondere aktiv ansteuerbare, Verstelleinheit verstellbar mit einer Stützstruktur verbunden ist, wobei – die Verstelleinheit insbesondere aktiv ansteuerbar ist.
  29. Optische Einrichtung nach Anspruch 28, dadurch gekennzeichnet, dass – die wenigstens eine Stützstelle eine erste Stützstelle ist und – die Haltestruktur das optische Element im Bereich wenigstens einer zweiten Stützstelle, insbesondere statisch bestimmt, abstützt, wobei – die wenigstens eine zweite Stützstelle im Bereich der ersten Stützstelle angeordnet ist.
  30. Optische Einrichtung nach Anspruch 26, dadurch gekennzeichnet, dass – die Halteeinrichtung das optische Element über wenigstens eine Halteeinheit, insbesondere drei Halteeinheiten, in einer Stützrichtung abstützt, wobei – die Halteeinheit in der Stützrichtung im Wesentlichen starr ausgebildet ist.
  31. Optische Einrichtung nach Anspruch 30, dadurch gekennzeichnet, dass – die wenigstens eine Halteeinheit als aktive Positioniereinheit ausgebildet ist, wobei – die Halteeinheit dazu ausgebildet ist, eine Position und/oder Ausrichtung des optischen Elements einzustellen.
  32. Optische Einrichtung nach Anspruch 26, dadurch gekennzeichnet, dass – wenigstens eine Deformationseinheit dazu ausgebildet ist, dem optischen Element eine Deformationskraft in einer Deformationskraftrichtung aufzuprägen, wobei – die wenigstens eine Deformationseinheit eine Aktuatoreinheit zum Erzeugen der Deformationskraft aufweist.
  33. Optische Einrichtung nach Anspruch 32, dadurch gekennzeichnet, dass – die Aktuatoreinheit in einer Aktuationsrichtung eine Kraft oder ein Moment erzeugt, wobei – die Aktuatoreinheit in der Aktuationsrichtung eine hohe Steifigkeit aufweist.
  34. Optische Einrichtung nach Anspruch 32, dadurch gekennzeichnet, dass – im Kraftfluss zwischen der Aktuatoreinheit und dem optischen Element ein Übertragungselement angeordnet ist und – das Übertragungselement in Richtung des Kraftflusses zwischen der Aktuatoreinheit und dem optischen Element eine geringe Steifigkeit aufweist, wobei – das Übertragungselement bezogen auf den Ort der Aktuatoreinheit eine Bezugssteifigkeit in der Aktuationsrichtung aufweist und die Bezugssteifigkeit des Übertragungselements insbesondere höchstens 0,1% der Steifigkeit der Aktuatoreinheit in der Aktuationsrichtung entspricht.
  35. Optische Einrichtung nach Anspruch 32, dadurch gekennzeichnet, dass – die Aktuatoreinheit in der Aktuationsrichtung an der Widerlagerstruktur abgestützt ist, wobei – die Widerlagerstruktur vorzugsweise eine hohe Steifigkeit aufweist, – die Widerlagerstruktur bezogen auf den Ort der Aktuatoreinheit eine Bezugssteifigkeit in der Aktuationsrichtung aufweist und die Bezugssteifigkeit der Widerlagerstruktur insbesondere wenigstens 5% bis 10% der Steifigkeit der Aktuatoreinheit in der Aktuationsrichtung entspricht, vorzugsweise wenigstens der Steifigkeit der Aktuatoreinheit in der Aktuationsrichtung entspricht.
  36. Optische Einrichtung nach Anspruch 26, dadurch gekennzeichnet, dass – eine Messeinrichtung vorgesehen ist, die eine mit der Haltestruktur oder der Widerlagerstruktur verbundene Referenzstruktur und wenigstens eine Messeinheit aufweist, wobei – die wenigstens eine Messeinheit dazu ausgebildet ist, eine für einen Abstand zwischen der Referenzstruktur und einem Messpunkt des optischen Elements repräsentative Messgröße zu erfassen, – die Messeinrichtung dazu ausgebildet ist, unter Verwendung der ersten Messgröße eine für eine Deformation des optischen Elements repräsentative Erfassungsgröße zu ermitteln.
  37. Optische Einrichtung nach Anspruch 36, dadurch gekennzeichnet, dass – die Haltestruktur das optische Element im Bereich wenigstens einer Stützstelle, insbesondere statisch bestimmt, abstützt, – die Haltestruktur die Messeinrichtung im Bereich wenigstens einer weiteren Stützstelle, insbesondere statisch bestimmt, abstützt, wobei – die wenigstens eine weitere Stützstelle für die Messeinrichtung im Bereich der wenigstens einen Stützstelle für das optische Element angeordnet ist.
  38. Optische Einrichtung nach Anspruch 36, dadurch gekennzeichnet, dass – die Haltestruktur die Widerlagerstruktur im Bereich wenigstens einer Stützstelle, insbesondere statisch bestimmt, abstützt und – die Widerlagerstruktur die Messeinrichtung im Bereich wenigstens einer weiteren Stützstelle, insbesondere statisch bestimmt, abstützt, wobei – die wenigstens eine weitere Stützstelle für die Messeinrichtung im Bereich der wenigstens einen Stützstelle für die Widerlagerstruktur angeordnet ist.
  39. Optische Einrichtung nach Anspruch 38, dadurch gekennzeichnet, dass – die Haltestruktur das optische Element im Bereich wenigstens einer Stützstelle für das optische Element, insbesondere statisch bestimmt, abstützt und – die Haltestruktur die Widerlagerstruktur im Bereich wenigstens einer weiteren Stützstelle für die Widerlagerstruktur, insbesondere statisch bestimmt, abstützt, wobei – die wenigstens eine weitere Stützstelle für die Widerlagerstruktur im Bereich der wenigstens einen Stützstelle für das optische Element angeordnet ist.
  40. Optische Einrichtung nach Anspruch 36, dadurch gekennzeichnet, dass – wenigstens eine Deformationseinheit dazu ausgebildet ist, dem optischen Element eine Verschiebung in einer Verformungsrichtung aufzuprägen, wobei – die wenigstens eine Deformationseinheit in der Verformungsrichtung eine hohe Steifigkeit aufweist.
  41. Optische Einrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit – einem optischen Element und – einer Halteeinrichtung, wobei – die Halteeinrichtung eine Haltestruktur aufweist, die das optische Element, insbesondere statisch bestimmt, hält, – die Halteeinrichtung eine Deformationseinrichtung mit einer Mehrzahl von aktiven Deformationseinheiten umfasst, welche das optische Element und die Haltestruktur kontaktieren und dazu ausgebildet sind, dem optischen Element eine definierte Verformung aufzuprägen, – eine Messeinrichtung vorgesehen ist, die eine mit der Haltestruktur verbundene Referenzstruktur und wenigstens eine Messeinheit aufweist, – die wenigstens eine Messeinheit dazu ausgebildet ist, eine für die Geometrie des optischen Elements repräsentative Messgröße, insbesondere eine für einen Abstand zwischen der Referenzstruktur und einem Messpunkt des optischen Elements repräsentative Messgröße, zu erfassen, dadurch gekennzeichnet, dass – die Messeinrichtung dazu ausgebildet ist, unter Verwendung der ersten Messgröße eine für eine Deformation des optischen Elements repräsentative Erfassungsgröße zu ermitteln.
  42. Optische Einrichtung nach Anspruch 41, dadurch gekennzeichnet, dass – die Messeinrichtung dazu ausgebildet ist, eine für die Position und/oder Orientierung des optischen Elements bezüglich der Referenzstruktur repräsentative Erfassungsgröße zu ermitteln.
  43. Optische Einrichtung nach Anspruch 41, dadurch gekennzeichnet, dass – die Haltestruktur austauschbar ist, wobei – die Haltestruktur insbesondere im Bereich wenigstens einer Stützstelle lösbar mit einer Stützstruktur für die Haltestruktur verbunden ist.
  44. Optische Einrichtung nach Anspruch 43, dadurch gekennzeichnet, dass – die Haltestruktur im Bereich der wenigstens einen Stützstelle über eine, insbesondere aktiv ansteuerbare, Verstelleinheit verstellbar mit der Stützstruktur verbunden ist, wobei – die Verstelleinheit insbesondere aktiv ansteuerbar ist.
  45. Optische Einrichtung nach Anspruch 43, dadurch gekennzeichnet, dass – die Stützstelle eine erste Stützstelle ist und – die Haltestruktur das optische Element im Bereich wenigstens einer zweiten Stützstelle, insbesondere statisch bestimmt, abstützt, wobei – die wenigstens eine zweite Stützstelle im Bereich der ersten Stützstelle angeordnet ist.
  46. Optische Einrichtung nach Anspruch 41, dadurch gekennzeichnet, dass – die Halteeinrichtung das optische Element über wenigstens eine Halteeinheit, insbesondere drei Halteeinheiten, in einer Stützrichtung abstützt, wobei – die Halteeinheit in der Stützrichtung im Wesentlichen starr ausgebildet ist.
  47. Optische Einrichtung nach Anspruch 46, dadurch gekennzeichnet, dass – die wenigstens eine Halteeinheit als aktive Positioniereinheit ausgebildet ist, wobei – die Halteeinheit dazu ausgebildet ist, eine Position und/oder Ausrichtung des optischen Elements einzustellen.
  48. Optische Einrichtung nach Anspruch 41, dadurch gekennzeichnet, dass – wenigstens eine Deformationseinheit dazu ausgebildet ist, dem optischen Element eine Deformationskraft in einer Deformationskraftrichtung aufzuprägen, wobei – die wenigstens eine Deformationseinheit eine Aktuatoreinheit zum Erzeugen der Deformationskraft aufweist.
  49. Optische Einrichtung nach Anspruch 48, dadurch gekennzeichnet, dass – die Aktuatoreinheit in einer Aktuationsrichtung eine Kraft oder ein Moment erzeugt, wobei – die Aktuatoreinheit in der Aktuationsrichtung eine hohe Steifigkeit aufweist.
  50. Optische Einrichtung nach Anspruch 49, dadurch gekennzeichnet, dass – im Kraftfluss zwischen der Aktuatoreinheit und dem optischen Element ein Übertragungselement angeordnet ist und – das Übertragungselement in Richtung des Kraftflusses zwischen der Aktuatoreinheit und dem optischen Element eine geringe Steifigkeit aufweist, wobei – das Übertragungselement bezogen auf den Ort der Aktuatoreinheit eine Bezugssteifigkeit in der Aktuationsrichtung aufweist und die Bezugssteifigkeit des Übertragungselements insbesondere höchstens 0,1% der Steifigkeit der Aktuatoreinheit in der Aktuationsrichtung entspricht.
  51. Optische Einrichtung nach Anspruch 49, dadurch gekennzeichnet, dass – die Aktuatoreinheit in der Aktuationsrichtung an der Haltestruktur abgestützt ist, wobei – die Haltestruktur vorzugsweise eine hohe Steifigkeit aufweist, – die Haltestruktur bezogen auf den Ort der Aktuatoreinheit eine Bezugssteifigkeit in der Aktuationsrichtung aufweist und die Bezugssteifigkeit der Haltestruktur insbesondere wenigstens 5% bis 10% der Steifigkeit der Aktuatoreinheit in der Aktuationsrichtung entspricht, vorzugsweise wenigstens der Steifigkeit der Aktuatoreinheit in der Aktuationsrichtung entspricht.
  52. Optische Einrichtung nach Anspruch 41, dadurch gekennzeichnet, dass – die Haltestruktur das optische Element im Bereich wenigstens einer Stützstelle, insbesondere statisch bestimmt, abstützt, – die Haltestruktur die Messeinrichtung im Bereich wenigstens einer weiteren Stützstelle, insbesondere statisch bestimmt, abstützt, – wobei die wenigstens eine weitere Stützstelle für die Messeinrichtung im Bereich der wenigstens einen Stützstelle für das optische Element angeordnet ist.
  53. Optische Einrichtung nach Anspruch 41, dadurch gekennzeichnet, dass – wenigstens eine Deformationseinheit dazu ausgebildet ist, dem optischen Element eine Verschiebung in einer Verformungsrichtung aufzuprägen, wobei – die wenigstens eine Deformationseinheit in der Verformungsrichtung eine hohe Steifigkeit aufweist.
  54. Optische Einrichtung nach Anspruch 41, dadurch gekennzeichnet, dass – die Deformationseinrichtung eine separate Widerlagerstruktur aufweist, wobei – die Widerlagerstruktur, insbesondere lösbar, an der Haltestruktur befestigt ist und – wenigstens eine der Deformationseinheiten an der Widerlagerstruktur abgestützt ist.
  55. Optische Abbildungseinrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit – einer Beleuchtungseinrichtung, – einer Maskeneinrichtung zur Aufnahme einer ein Projektionsmuster umfassenden Maske, – einer Projektionseinrichtung mit einer optischen Elementgruppe und – einer Substrateinrichtung zur Aufnahme eines Substrats, wobei – die Beleuchtungseinrichtung zum Beleuchten des Projektionsmusters ausgebildet ist, – die optische Elementgruppe zum Abbilden des Projektionsmusters auf dem Substrat ausgebildet ist und – die Beleuchtungseinrichtung und/oder die Projektionseinrichtung eine optische Einrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche umfasst.
  56. Verfahren zum Abstützen eines optischen Elements, insbesondere für die Mikrolithographie, bei dem – das optische Element durch eine Halteeinrichtung eines optischen Moduls gehalten wird und – das optische Modul durch eine Stützstruktur abgestützt wird, wobei – dem optischen Element durch eine Mehrzahl von aktiven Deformationseinheiten eine definierte Verformung aufgeprägt wird, dadurch gekennzeichnet, dass – das optische Modul austauschbar durch die Stützstruktur gehalten wird.
  57. Verfahren nach Anspruch 56, dadurch gekennzeichnet, dass – die Halteeinrichtung im Bereich wenigstens einer Stützstelle über eine, insbesondere aktiv ansteuerbare, Verstelleinheit verstellbar mit der Stützstruktur verbunden wird, wobei – die Verstelleinheit insbesondere aktiv ansteuerbar ist.
  58. Verfahren nach Anspruch 56, dadurch gekennzeichnet, dass – das optische Element über wenigstens eine Halteeinheit, insbesondere drei Halteeinheiten, der Halteeinrichtung in einer Stützrichtung abgestützt wird, wobei – die Halteeinheit in der Stützrichtung im Wesentlichen starr ausgebildet ist.
  59. Verfahren nach Anspruch 58, dadurch gekennzeichnet, dass – die wenigstens eine Halteeinheit als aktive Positioniereinheit ausgebildet ist und – die Halteeinheit eine Position und/oder Ausrichtung des optischen Elements einstellt.
  60. Verfahren nach Anspruch 56, dadurch gekennzeichnet, dass – die Halteeinrichtung eine Haltestruktur aufweist, die das optische Element hält, – die Deformationseinheiten die Haltestruktur kontaktieren und – eine Messeinrichtung vorgesehen ist, die eine mit der Haltestruktur verbundene Referenzstruktur und wenigstens eine Messeinheit aufweist, wobei – die wenigstens eine Messeinheit eine für einen Abstand zwischen der Referenzstruktur und einem Messpunkt des optischen Elements repräsentative Messgröße erfasst und – die Messeinrichtung unter Verwendung der ersten Messgröße eine für eine Deformation des optischen Elements repräsentative Erfassungsgröße ermittelt.
  61. Verfahren nach Anspruch 60, dadurch gekennzeichnet, dass – wenigstens eine Deformationseinheit dem optischen Element eine Verschiebung in einer Verformungsrichtung aufprägt, wobei – die wenigstens eine Deformationseinheit in der Verformungsrichtung eine hohe Steifigkeit aufweist.
  62. Verfahren nach Anspruch 56, dadurch gekennzeichnet, dass – die Deformationseinrichtung eine separate Widerlagerstruktur aufweist, wobei – die Widerlagerstruktur, insbesondere lösbar, an der Haltestruktur befestigt ist und – wenigstens eine der Deformationseinheiten an der Widerlagerstruktur abgestützt ist.
  63. Verfahren zum Abstützen eines optischen Elements, insbesondere für die Mikrolithographie, bei dem – das optische Element durch eine Halteeinrichtung eines optischen Moduls gehalten wird und – das optische Modul durch eine Stützstruktur abgestützt wird, wobei – das optische Element durch eine Mehrzahl von aktiven Deformationseinheiten einer Deformationseinrichtung der Halteeinrichtung kontaktiert wird, – die Deformationseinheiten dem optischen Element durch eine Deformationskraft in einer Deformationskraftrichtung jeweils eine definierte Verformung aufprägen, – das optische Element durch wenigstens eine Positioniereinheit der Halteeinrichtung kontaktiert wird und – die wenigstens eine Positioniereinheit die Position und/oder Ausrichtung des optischen Elements einstellt, dadurch gekennzeichnet, dass – die jeweilige Deformationskraft durch eine Aktuatoreinheit der Deformationseinheiten erzeugt wird, wobei – die Aktuatoreinheit in einer Aktuationsrichtung eine Kraft oder ein Moment erzeugt und – die Aktuatoreinheit in der Aktuationsrichtung eine hohe Steifigkeit aufweist.
  64. Verfahren nach Anspruch 63, dadurch gekennzeichnet, dass – im Kraftfluss zwischen der Aktuatoreinheit und dem optischen Element ein Übertragungselement angeordnet wird und – das Übertragungselement in Richtung des Kraftflusses zwischen der Aktuatoreinheit und dem optischen Element eine geringe Steifigkeit aufweist, wobei – das Übertragungselement bezogen auf den Ort der Aktuatoreinheit eine Bezugssteifigkeit in der Aktuationsrichtung aufweist und die Bezugssteifigkeit des Übertragungselements insbesondere höchstens 0,1% der Steifigkeit der Aktuatoreinheit in der Aktuationsrichtung entspricht.
  65. Verfahren nach Anspruch 63, dadurch gekennzeichnet, dass – das optische Element über eine Haltestruktur der Halteeinrichtung, insbesondere statisch bestimmt, abgestützt wird, wobei – die Aktuatoreinheit in der Aktuationsrichtung an der Haltestruktur abgestützt wird, wobei – die Haltestruktur vorzugsweise eine hohe Steifigkeit aufweist, – die Haltestruktur bezogen auf den Ort der Aktuatoreinheit eine Bezugssteifigkeit in der Aktuationsrichtung aufweist und die Bezugssteifigkeit der Haltestruktur insbesondere wenigstens 5% bis 10% der Steifigkeit der Aktuatoreinheit in der Aktuationsrichtung entspricht, vorzugsweise wenigstens der Steifigkeit der Aktuatoreinheit in der Aktuationsrichtung entspricht.
  66. Verfahren nach Anspruch 63, dadurch gekennzeichnet, dass – das optische Modul austauschbar an der Stützstruktur befestigt wird, wobei – die Halteeinrichtung insbesondere eine Haltestruktur aufweist, welche das optische Element, insbesondere statisch bestimmt, abstützt und im Bereich wenigstens einer Stützstelle lösbar und insbesondere aktiv verstellbar mit der Stützstruktur verbunden wird.
  67. Verfahren nach Anspruch 63, dadurch gekennzeichnet, dass – das optische Element über die wenigstens eine Positioniereinheit, insbesondere drei Positioniereinheiten, in einer Stützrichtung abgestützt wird, wobei – die wenigstens eine Positioniereinheit in der Stützrichtung im Wesentlichen starr ausgebildet ist.
  68. Verfahren nach Anspruch 63, dadurch gekennzeichnet, dass – das optische Element durch eine Haltestruktur der Halteeinrichtung gehalten wird, – die Deformationseinheiten die Haltestruktur kontaktieren und – eine Messeinrichtung vorgesehen ist, die eine mit der Haltestruktur verbundene Referenzstruktur und wenigstens eine Messeinheit aufweist, wobei – die wenigstens eine Messeinheit eine für einen Abstand zwischen der Referenzstruktur und einem Messpunkt des optischen Elements repräsentative Messgröße erfasst und – die Messeinrichtung unter Verwendung der ersten Messgröße eine für eine Deformation des optischen Elements repräsentative Erfassungsgröße ermittelt.
  69. Verfahren nach Anspruch 68, dadurch gekennzeichnet, dass – wenigstens eine Deformationseinheit dem optischen Element eine Verschiebung in einer Verformungsrichtung aufprägt, wobei – die wenigstens eine Deformationseinheit in der Verformungsrichtung eine hohe Steifigkeit aufweist.
  70. Verfahren nach Anspruch 63, dadurch gekennzeichnet, dass – das optische Element durch eine Haltestruktur der Halteeinrichtung, insbesondere statisch bestimmt, abgestützt wird, und – die Deformationseinrichtung eine separate Widerlagerstruktur aufweist, wobei – die Widerlagerstruktur, insbesondere lösbar, an der Haltestruktur befestigt wird und – wenigstens eine der Deformationseinheiten an der Widerlagerstruktur abgestützt wird.
  71. Verfahren zum Abstützen eines optischen Elements, insbesondere für die Mikrolithographie, bei dem – das optische Element durch eine Haltestruktur einer Halteeinrichtung gehalten wird und – dem optischen Element durch eine Mehrzahl von aktiven Deformationseinheiten die einer Deformationseinrichtung der Halteeinrichtung eine definierte Verformung aufgeprägt wird, dadurch gekennzeichnet, dass – eine separate Widerlagerstruktur der Deformationseinrichtung, insbesondere lösbar, an der Haltestruktur befestigt wird und – wenigstens eine der Deformationseinheiten an der Widerlagerstruktur abgestützt wird.
  72. Verfahren nach Anspruch 71, dadurch gekennzeichnet, dass – die Halteeinrichtung austauschbar und insbesondere aktiv verstellbar an einer Stützstruktur befestigt wird, wobei – das optische Element insbesondere über wenigstens eine Halteeinheit, insbesondere drei Halteeinheiten, der Halteeinrichtung in einer Stützrichtung im Wesentlichen starr abgestützt wird und/oder die Halteeinheit eine Position und/oder Ausrichtung des optischen Elements aktiv einstellt.
  73. Verfahren nach Anspruch 71, dadurch gekennzeichnet, dass – wenigstens eine Deformationseinheit dem optischen Element eine Deformationskraft in einer Deformationskraftrichtung aufprägt, wobei – die Deformationskraft über eine Aktuatoreinheit erzeugt wird, die in einer Aktuationsrichtung eine Kraft oder ein Moment erzeugt, wobei – die Aktuatoreinheit insbesondere in der Aktuationsrichtung eine hohe Steifigkeit aufweist.
  74. Verfahren nach Anspruch 73, dadurch gekennzeichnet, dass – im Kraftfluss zwischen der Aktuatoreinheit und dem optischen Element ein Übertragungselement angeordnet wird und – das Übertragungselement in Richtung des Kraftflusses zwischen der Aktuatoreinheit und dem optischen Element eine geringe Steifigkeit aufweist, wobei – das Übertragungselement bezogen auf den Ort der Aktuatoreinheit eine Bezugssteifigkeit in der Aktuationsrichtung aufweist und die Bezugssteifigkeit des Übertragungselements insbesondere höchstens 0,1% der Steifigkeit der Aktuatoreinheit in der Aktuationsrichtung entspricht.
  75. Verfahren nach Anspruch 73, dadurch gekennzeichnet, dass – die Aktuatoreinheit in der Aktuationsrichtung an der Widerlagerstruktur abgestützt wird, wobei – die Widerlagerstruktur vorzugsweise eine hohe Steifigkeit aufweist, – die Widerlagerstruktur bezogen auf den Ort der Aktuatoreinheit eine Bezugssteifigkeit in der Aktuationsrichtung aufweist und die Bezugssteifigkeit der Widerlagerstruktur insbesondere wenigstens 5% bis 10% der Steifigkeit der Aktuatoreinheit in der Aktuationsrichtung entspricht, vorzugsweise wenigstens der Steifigkeit der Aktuatoreinheit in der Aktuationsrichtung entspricht.
  76. Verfahren nach Anspruch 71, dadurch gekennzeichnet, dass – eine Messeinrichtung vorgesehen ist, die eine mit der Haltestruktur oder der Widerlagerstruktur verbundene Referenzstruktur und wenigstens eine Messeinheit aufweist, wobei – die wenigstens eine Messeinheit eine für einen Abstand zwischen der Referenzstruktur und einem Messpunkt des optischen Elements repräsentative Messgröße erfasst und – die Messeinrichtung unter Verwendung der ersten Messgröße eine für eine Deformation des optischen Elements repräsentative Erfassungsgröße ermittelt.
  77. Verfahren nach Anspruch 36, dadurch gekennzeichnet, dass – wenigstens eine Deformationseinheit dem optischen Element eine Verschiebung in einer Verformungsrichtung aufprägt, wobei – die wenigstens eine Deformationseinheit in der Verformungsrichtung eine hohe Steifigkeit aufweist.
  78. Verfahren zum Abstützen eines optischen Elements, insbesondere für die Mikrolithographie, bei dem – das optische Element durch eine Haltestruktur einer Halteeinrichtung, insbesondere statisch bestimmt, gehalten wird, – dem optischen Element durch eine Mehrzahl von aktiven Deformationseinheiten einer Deformationseinrichtung der Halteeinrichtung eine definierte Verformung aufgeprägt wird, – durch wenigstens eine Messeinheit einer mit der Haltestruktur verbundenen Messeinrichtung eine für die Geometrie des optischen Elements repräsentative Messgröße, insbesondere eine für einen Abstand zwischen der Referenzstruktur und einem Messpunkt des optischen Elements repräsentative Messgröße, erfasst wird, dadurch gekennzeichnet, dass – die Messeinrichtung unter Verwendung der ersten Messgröße eine für eine Deformation des optischen Elements repräsentative Erfassungsgröße ermittelt.
  79. Verfahren nach Anspruch 78, dadurch gekennzeichnet, dass – die Messeinrichtung eine für die Position und/oder Orientierung des optischen Elements bezüglich der Referenzstruktur repräsentative Erfassungsgröße ermittelt.
  80. Verfahren nach Anspruch 78, dadurch gekennzeichnet, dass – die Haltestruktur austauschbar durch eine Stützstruktur gehalten wird, wobei – die Haltestruktur insbesondere im Bereich wenigstens einer Stützstelle lösbar und insbesondere aktiv verstellbar mit der Stützstruktur verbunden wird.
  81. Verfahren nach Anspruch 78, dadurch gekennzeichnet, dass – das optische Element über wenigstens eine Halteeinheit, insbesondere drei Halteeinheiten, der Halteeinrichtung in einer Stützrichtung im Wesentlichen starr abgestützt wird, wobei – die wenigstens eine Halteeinheit eine Position und/oder Ausrichtung des optischen Elements insbesondere aktiv einstellt.
  82. Verfahren nach Anspruch 78, dadurch gekennzeichnet, dass – wenigstens eine Deformationseinheit dem optischen Element eine Deformationskraft in einer Deformationskraftrichtung aufprägt, wobei – die Deformationskraft über eine Aktuatoreinheit erzeugt wird, die in einer Aktuationsrichtung eine Kraft oder ein Moment erzeugt, wobei – die Aktuatoreinheit insbesondere in der Aktuationsrichtung eine hohe Steifigkeit aufweist.
  83. Verfahren nach Anspruch 82, dadurch gekennzeichnet, dass – im Kraftfluss zwischen der Aktuatoreinheit und dem optischen Element ein Übertragungselement angeordnet wird und – das Übertragungselement in Richtung des Kraftflusses zwischen der Aktuatoreinheit und dem optischen Element eine geringe Steifigkeit aufweist, wobei – das Übertragungselement bezogen auf den Ort der Aktuatoreinheit eine Bezugssteifigkeit in der Aktuationsrichtung aufweist und die Bezugssteifigkeit des Übertragungselements insbesondere höchstens 0,1% der Steifigkeit der Aktuatoreinheit in der Aktuationsrichtung entspricht.
  84. Verfahren nach Anspruch 82, dadurch gekennzeichnet, dass – die Aktuatoreinheit in der Aktuationsrichtung an der Haltestruktur abgestützt wird, wobei – die Haltestruktur vorzugsweise eine hohe Steifigkeit aufweist, – die Haltestruktur bezogen auf den Ort der Aktuatoreinheit eine Bezugssteifigkeit in der Aktuationsrichtung aufweist und die Bezugssteifigkeit der Haltestruktur insbesondere wenigstens 5% bis 10% der Steifigkeit der Aktuatoreinheit in der Aktuationsrichtung entspricht, vorzugsweise wenigstens der Steifigkeit der Aktuatoreinheit in der Aktuationsrichtung entspricht.
  85. Verfahren nach Anspruch 78, dadurch gekennzeichnet, dass – das optische Element durch die Haltestruktur im Bereich wenigstens einer Stützstelle, insbesondere statisch bestimmt, abgestützt wird, – die Messeinrichtung durch die Haltestruktur im Bereich wenigstens einer weiteren Stützstelle, insbesondere statisch bestimmt, abgestützt wird, – wobei die wenigstens eine weitere Stützstelle für die Messeinrichtung im Bereich der wenigstens einen Stützstelle für das optische Element angeordnet ist.
  86. Verfahren nach Anspruch 78, dadurch gekennzeichnet, dass – wenigstens eine Deformationseinheit dem optischen Element eine Verschiebung in einer Verformungsrichtung aufprägt, wobei – die wenigstens eine Deformationseinheit in der Verformungsrichtung eine hohe Steifigkeit aufweist.
  87. Verfahren nach Anspruch 78, dadurch gekennzeichnet, dass – die Deformationseinrichtung eine separate Widerlagerstruktur aufweist, wobei – die Widerlagerstruktur, insbesondere lösbar, an der Haltestruktur befestigt wird und – wenigstens eine der Deformationseinheiten an der Widerlagerstruktur abgestützt wird.
  88. Komponentensatz für eine optische Einrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit – einem optischen Modul und – einer Stützstruktur, wobei – die Stützstruktur das optische Modul in einem ersten Zustand der optischen Einrichtung abstützt, – das optische Modul ein optisches Element und eine Halteeinrichtung umfasst, – die Halteeinrichtung das optische Element hält, – die Halteeinrichtung eine Deformationseinrichtung mit einer Mehrzahl von aktiven Deformationseinheiten umfasst, welche das optische Element kontaktieren und dazu ausgebildet sind, dem optischen Element eine definierte Verformung aufzuprägen, dadurch gekennzeichnet, dass – das optische Modul austauschbar über wenigstens eine Stützstelle an der Stützstruktur befestigt ist und – ein optisches Austauschmodul vorgesehen ist, wobei – das optische Austauschmodul dazu ausgebildet ist, in einem zweiten Zustand der optischen Einrichtung den Platz des optischen Moduls einzunehmen und über die wenigstens eine Stützstelle an der Stützstruktur befestigt zu werden.
  89. Komponentensatz nach Anspruch 88, dadurch gekennzeichnet, dass – das optische Austauschmodul ein weiteres optisches Element und eine weitere Halteeinrichtung umfasst, – die weitere Halteeinrichtung das weitere optische Element hält, – die weitere Halteeinrichtung eine weitere Deformationseinrichtung mit einer Mehrzahl von weiteren aktiven Deformationseinheiten umfasst, welche das weitere optische Element kontaktieren und dazu ausgebildet sind, dem weiteren optischen Element eine definierte Verformung aufzuprägen.
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