DE102020212927A1 - Abstützung eines optischen elements - Google Patents

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Joachim Hartjes
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Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft eine optische Anordnung einer Abbildungseinrichtung für die Mikrolithographie, insbesondere für die Verwendung von Licht im extremen UV-Bereich (EUV), mit einer Halteeinrichtung (109) zum Halten eines optischen Elements (M3). Die Halteeinrichtung (109) weist wenigstens ein Halteelement (110) auf, wobei das Halteelement (110) einen ersten Schnittstellenabschnitt (110.1) und einen zweiten Schnittstellenabschnitt (110.2) aufweist. Der erste Schnittstellenabschnitt (110.1) bildet eine erste Schnittstelle (IF1), über welche das wenigstens eine Halteelement (110) in einem montierten Zustand mit dem optischen Element verbunden ist. Der zweite Schnittstellenabschnitt (110.2) bildet eine zweite Schnittstelle (IF2), über welche das Halteelement (110) in dem montierten Zustand mit einer, insbesondere aktiven, Stützeinheit (104.2) verbunden ist, die das optische Element (109) mit einer Stützstruktur verbindet, um das optische Element (M3) über eine Stützkraft an der Stützstruktur abzustützen. Die Halteeinrichtung (109) umfasst eine Aktuatoreinrichtung (111), wobei die Aktuatoreinrichtung (111) zwischen der ersten Schnittstelle (IF1) und der zweiten Schnittstelle (IF2) an dem Halteelement (110) angreift. Die Aktuatoreinrichtung (111) ist dazu konfiguriert, gesteuert durch eine Steuereinrichtung (106) derart auf das Halteelement (110) zu wirken, dass an der ersten Schnittstelle (IF1) eine vorgebbare Schnittstellendeformation und/oder eine vorgebbare, auf das optische Element (M3) wirkende Schnittstellenkraftverteilung eingestellt wird.

Description

  • HINTERGRUND DER ERFINDUNG
  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine optische Anordnung für die Mikrolithographie, die für die Verwendung von UV Nutzlicht geeignet ist, insbesondere von Licht im extremen ultravioletten (EUV) Bereich. Weiterhin betrifft die Erfindung eine optische Abbildungseinrichtung mit einer solchen Anordnung. Die Erfindung lässt sich im Zusammenhang mit beliebigen optischen Abbildungsverfahren einsetzen. Besonders vorteilhaft lässt sie sich bei der Herstellung oder der Inspektion mikroelektronischer Schaltkreise sowie der hierfür verwendeten optischen Komponenten (beispielsweise optischer Masken) einsetzen.
  • Die im Zusammenhang mit der Herstellung mikroelektronischer Schaltkreise verwendeten optischen Einrichtungen umfassen typischerweise eine Mehrzahl optischer Elementeinheiten, die ein oder mehrere optische Elemente wie Linsen, Spiegel oder optische Gitter umfassen, die im Abbildungslichtpfad angeordnet sind. Diese optischen Elemente wirken typischerweise in einem Abbildungsprozess zusammen, um ein Bild eines Objekts (beispielsweise ein auf einer Maske gebildetes Muster) auf ein Substrat (beispielsweise einen so genannten Wafer) zu transferieren. Die optischen Elemente sind typischerweise in einer oder mehreren funktionalen Gruppen zusammengefasst, die gegebenenfalls in separaten Abbildungseinheiten gehalten sind. Insbesondere bei hauptsächlich refraktiven Systemen, die mit einer Wellenlänge im so genannten Vakuum-Ultraviolett-Bereich (VUV, beispielsweise bei einer Wellenlänge von 193 nm) arbeiten, sind solche Abbildungseinheiten häufig aus einen Stapel optischer Module gebildet, die ein oder mehrere optische Elemente halten. Diese optischen Module umfassen typischerweise eine Stützstruktur mit einer im Wesentlichen ringförmigen äußeren Stützeinheit, die einen oder mehrere optische Elementhalter abstützt, die ihrerseits das optische Element halten.
  • Die immer weiter voranschreitende Miniaturisierung von Halbleiterbauelementen führt zu einem ständigen Bedarf an erhöhter Auflösung der ihre Herstellung verwendeten optischen Systeme. Dieser Bedarf an erhöhter Auflösung bedingt den Bedarf an einer erhöhten numerischen Apertur (NA) und einer erhöhten Abbildungsgenauigkeit der optischen Systeme.
  • Ein Ansatz, um eine erhöhte optische Auflösung zu erhalten, besteht darin, die Wellenlänge des in dem Abbildungsprozess verwendeten Lichtes zu verringern. In den vergangenen Jahren wurde verstärkt die Entwicklung von Systemen vorangetrieben, bei denen Licht im so genannten extremen Ultraviolettbereich (EUV) verwendet wird, typischerweise bei Wellenlängen von 5 nm bis 20 nm, in den meisten Fällen bei einer Wellenlänge von etwa 13 nm. In diesem EUV-Bereich ist es nicht mehr möglich, herkömmliche refraktive optische Systeme zu verwenden. Dies ist dadurch bedingt, dass die für refraktive optische Systeme verwendeten Materialien in diesem EUV-Bereich einen Absorptionsgrad aufweisen, der zu hoch ist um mit der verfügbaren Lichtleistung akzeptable Abbildungsergebnisse zu erzielen. Folglich müssen in diesem EUV-Bereich reflektive optische Systeme für die Abbildung verwendet werden.
  • Dieser Übergang zu rein reflektiven optischen Systemen mit hoher numerischer Apertur (z. B. NA > 0,4) im EUV-Bereich führt zu erheblichen Herausforderungen im Hinblick auf das Design der Abbildungseinrichtung.
  • Die oben genannten Faktoren führen zu sehr strengen Anforderungen hinsichtlich der Position und/oder Orientierung der optischen Elemente, die an der Abbildung teilnehmen, relativ zueinander sowie hinsichtlich der Deformation der einzelnen optischen Elemente, um eine gewünschte Abbildungsgenauigkeit erzielen. Zudem ist es erforderlich, diese hohe Abbildungsgenauigkeit über den gesamten Betrieb, letztlich über die Lebensdauer des Systems aufrechtzuerhalten.
  • Als Konsequenz müssen die Komponenten der optischen Abbildungseinrichtung (also beispielsweise die optischen Elemente der Beleuchtungseinrichtung, die Maske, die optischen Elemente der Projektionseinrichtung und das Substrat), die bei der Abbildung zusammenwirken, in einer wohldefinierten Weise abgestützt werden, um eine vorgegebene wohldefinierte räumliche Beziehung zwischen diesen Komponenten einzuhalten und eine minimale unerwünschte Deformation dieser Komponenten zu erzielen, um letztlich eine möglichst hohe Abbildungsqualität zu erreichen.
  • Insbesondere bei den oben genannten EUV-Systemen ergibt sich dabei das Problem, dass es sich bei der Beleuchtungseinrichtung und der Projektionseinrichtung und zumindest einzelnen der optischen Elemente systembedingt um vergleichsweise große und schwere optische Einheiten handelt. Diese schweren Einheiten sollen jedoch zur Einhaltung der Genauigkeitsanforderungen austauschbar und entsprechen justierbar sein und zudem nicht schon durch die Gestaltung ihrer Lagerung unerwünschte bzw. nicht genau definierte Deformationen erfahren. Aus diesen Gründen wird zur Lagerung dieser optischen Einheiten bzw. Elemente typischerweise auf eine so genannte Dreipunktlagerung über drei gleichmäßig am Umfang verteilte lösbare Halteeinheiten zurückgegriffen (die typischerweise in Form einer so genannten Hexapodkinematik gestaltet sind), wie dies beispielsweise aus der US 7,760,327 B2 (Scherle et al., deren gesamte Offenbarung hierin durch Bezugnahme eingeschlossen wird) bekannt ist.
  • Mit einer solchen Dreipunktlagerung kann eine statisch bestimmte Lagerung erzielt bzw. eine statisch überbestimmte Lagerung vermieden werden, um unerwünschte parasitäre Spannungen und daraus resultierende Deformationen in der optischen Einheit zu vermeiden, wie sie aufgrund von Fertigungsungenauigkeiten bzw. Deformationen der Stützstruktur auftreten könnten.
  • Nachteil einer solchen statisch bestimmten Dreipunktlagerung ist, dass unerwünschte Deformationen des optischen Elements naturgemäß nur über separate Aktuatoren kompensiert werden können bzw. gewünschte Deformationen des optischen Elements nur über solche separate Aktuatoren eingestellt werden können.
  • Solche Deformationsaktuatoren wirken typischerweise kinematisch parallel zu der eigentlichen, die Gewichtskraft des optischen Elements aufnehmenden Lagerung und führen (zwangsläufig bzw. notwendigerweise) zu einer statischen Überbestimmung. Dabei ergibt sich das Problem, dass die Kräfte und/oder Momente, die zur Deformation des optischen Elements aufgebracht werden, in der Regel einen parasitären Einfluss auf die Starrkörperlage (also die Position und/oder Orientierung) des optischen Elements im Raum haben, der dann wiederum korrigiert werden muss, sodass eine vergleichsweise komplexe Regelung erforderlich ist.
  • Alternativ können die Deformationsaktuatoren ausschließlich an dem optischen Element angreifen (beispielsweise an unterschiedlichen Stellen des optischen Elements). Dies führt jedoch insoweit zu einer vergleichsweise komplexen Lösung, als dass die Energieversorgung und Ansteuerung der Deformationsaktuatoren entsprechend aufwändig gestaltet sein muss, um die Einleitung parasitärer Spannungen in das optische Element durch die Leitungen zu den Deformationsaktuatoren möglichst vermieden oder zumindest gering gehalten wird.
  • KURZE ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
  • Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine optische Anordnung für die Mikrolithographie und eine entsprechende optische Abbildungseinrichtung mit einer solchen Anordnung, ein Verfahren zum Abstützen eines optischen Elements sowie ein optisches Abbildungsverfahren zur Verfügung zu stellen, welche bzw. welches die zuvor genannten Nachteile nicht oder zumindest in geringerem Maße aufweist und insbesondere auf einfache Weise eine gezielte Deformation des optischen Elements ermöglicht.
  • Die Erfindung löst diese Aufgabe mit den Merkmalen der unabhängigen Ansprüche.
  • Der Erfindung liegt die technische Lehre zugrunde, dass man auf einfache Weise eine gezielte Deformation des optischen Elements ermöglicht, wenn man die Einrichtungen zur Erzeugung der Deformation des optischen Elements (beispielsweise also eine oder mehrere Aktuatoreinrichtungen) in den Bereich der Halteelemente integriert, welche die Schnittstellen zwischen dem optischen Element und den Stützeinheiten ausbilden. Hierdurch können zum einen in vorteilhafter Weise Kräfte und/oder Momente in das optische Element eingeleitet werden, die (wenn überhaupt) nur einen geringen parasitären Einfluss auf die Starrkörperlage des optischen Elements im Raum haben. Zudem ist es durch diese Integration der Einrichtungen zur Erzeugung der Deformation in den Bereich der Halteelemente möglich, die Energieversorgung und Ansteuerung dieser Einrichtungen entsprechend einfach zu gestalten (beispielsweise im Bereich der Stützeinheiten zu integrieren bzw. anzuordnen), ohne das Risiko zu erhöhen, hierüber parasitäre Spannungen in das optische Element einzuleiten.
  • Die Erfindung basiert insbesondere auf der Erkenntnis, dass die geeignete Einleitung von deformierenden Kräften und/oder Momenten in das optische Element im Bereich der jeweiligen Schnittstelle zwischen den Stützeinheiten und dem optischen Element bereits mit vergleichsweise geringen Kräften und/oder Momenten eine günstige Deformation des optischen Elements und seiner optischen Fläche realisieren lässt. Insbesondere kann gegebenenfalls durch eine geeignete Überlagerung von Kräften und/oder Momenten (insbesondere eine Linearkombination von Kräften und/oder Momenten) ein so genannter Z2_3-Effekt erzielt werden, mithin also Einfluss auf den so genannten Z2_3-Feldverlauf und damit den Abbildungsfehler der Abbildung genommen werden (der in hinlänglich bekannter Weise durch so genannte Zernike-Funktionen beschrieben wird).
  • Nach einem Aspekt betrifft die Erfindung daher eine optische Anordnung einer Abbildungseinrichtung für die Mikrolithographie, insbesondere für die Verwendung von Licht im extremen UV-Bereich (EUV), mit einer Halteeinrichtung zum Halten eines optischen Elements. Die Halteeinrichtung weist wenigstens ein Halteelement auf, wobei das Halteelement einen ersten Schnittstellenabschnitt und einen zweiten Schnittstellenabschnitt aufweist. Der erste Schnittstellenabschnitt bildet eine erste Schnittstelle, über welche das wenigstens eine Halteelement in einem montierten Zustand mit dem optischen Element verbunden ist. Der zweite Schnittstellenabschnitt bildet eine zweite Schnittstelle, über welche das Halteelement in dem montierten Zustand mit einer, insbesondere aktiven, Stützeinheit verbunden ist, die das optische Element mit einer Stützstruktur verbindet, um das optische Element über eine Stützkraft an der Stützstruktur abzustützen. Die Halteeinrichtung umfasst eine Aktuatoreinrichtung, wobei die Aktuatoreinrichtung zwischen der ersten Schnittstelle und der zweiten Schnittstelle an dem Halteelement angreift. Die Aktuatoreinrichtung ist dazu konfiguriert, gesteuert durch eine Steuereinrichtung derart auf das Halteelement zu wirken, dass an der ersten Schnittstelle eine vorgebbare Schnittstellendeformation und/oder eine vorgebbare, auf das optische Element wirkende Schnittstellenkraftverteilung eingestellt wird.
  • Es versteht sich dabei, dass die Aktuatoreinrichtung ein Teil des Halteelements sein kann bzw. in das Halteelement integriert sein kann. Dabei kann die Aktuatoreinrichtung also auch unmittelbar im Stützkraftfluss von der betreffenden Stützeinheit zum optischen Element liegen. Insbesondere kann die Aktuatoreinrichtung beispielsweise auch selbst die betreffende erste und/oder zweite Schnittstelle ausbilden. Ebenso kann die Aktuatoreinrichtung aber auch an unterschiedlichen Teilen des Halteelements angreifen. Dabei kann die Aktuatoreinrichtung auch kinematisch parallel zum (eigentlichen) Stützkraftfluss von der betreffenden Stützeinheit zum optischen Element wirken.
  • Es versteht sich weiterhin, dass das Halteelement grundsätzlich auf beliebige geeignete Weise gestaltet sein kann, um die Schnittstellen zwischen der betreffenden Stützeinheit und dem optischen Element auszubilden. Dabei können beliebige, auf das optische Element und/oder die zugeordnete Stützeinheit abgestimmte Geometrien zum Einsatz kommen, solange eine Anbindung bzw. Integration Aktuatoreinrichtung erzielt wird, mit der die gewünschten Kräfte und/oder Momente in das optische Element eingeleitet werden können.
  • Bei bevorzugten, einfach gestalteten Varianten definiert das Halteelement eine Umfangsrichtung, eine Radialrichtung und eine Axialrichtung, wobei die Axialrichtung senkrecht zu einer durch die Umfangsrichtung und die Radialrichtung definierten Ebene verläuft. Die Aktuatoreinrichtung ist bei diesen Varianten dazu konfiguriert, gesteuert durch die Steuereinrichtung in wenigstens einem Umfangsbereich des Halteelements eine vorgebbare, in der Radialrichtung auf das optische Element wirkende radiale Schnittstellenkraft einzustellen. Die Aktuatoreinrichtung kann hierzu eine oder mehrere Aktuatoreinheiten umfassen, über welche die Schnittstellenkraft eingestellt werden kann. Vorzugsweise umfasst die Aktuatoreinrichtung wenigstens eine Aktuatoreinheit, die dem wenigstens einen Umfangsbereich zugeordnet ist und dazu konfiguriert ist, die radiale Schnittstellenkraft einzustellen. Durch solche Radialkräfte können in besonders einfacher Weise günstige gewünschte Deformationen des optischen Elements erzeugt werden.
  • Bei bestimmten Varianten weist das Halteelement mehrere separate Umfangsbereiche auf, wobei die Aktuatoreinrichtung dazu konfiguriert ist, gesteuert durch die Steuereinrichtung in jedem der Umfangsbereiche eine vorgebbare radiale Schnittstellenkraft einzustellen. Dabei kann die Aktuatoreinrichtung insbesondere dazu konfiguriert sein, an zwei Umfangsbereichen (beispielsweise zwei diametral gegenüberliegenden Umfangsbereichen) anzugreifen und die radiale Schnittstellenkraft an den beiden Umfangsbereichen über das Paar aus Kraft und Reaktionskraft an den beiden Angriffspunkten einzustellen. Ebenso kann die Aktuatoreinrichtung insbesondere dazu konfiguriert sein, für zwei der Umfangsbereiche die radialen Schnittstellenkräfte separat einzustellen. Hiermit ist eine besonders variable Einflussnahme auf die Deformation des optischen Elements möglich.
  • Weiterhin kann die Aktuatoreinrichtung dazu konfiguriert sein, für zwei der Umfangsbereiche zueinander geneigte radiale Schnittstellenkräfte einzustellen. Ebenso kann die Aktuatoreinrichtung dazu konfiguriert sein, für zwei der Umfangsbereiche zueinander zumindest im Wesentlichen parallele, insbesondere zumindest im Wesentlichen entgegengesetzte, radiale Schnittstellenkräfte einzustellen.
  • Bei weiteren Varianten, bei denen das Halteelement wiederum eine Umfangsrichtung, eine Radialrichtung und eine Axialrichtung definiert, die senkrecht zu einer durch die Umfangsrichtung und die Radialrichtung definierten Ebene verläuft, ist die Aktuatoreinrichtung dazu konfiguriert, gesteuert durch die Steuereinrichtung in wenigstens einem Umfangsbereich des Halteelements eine vorgebbare, tangential zu der Umfangsrichtung auf das optische Element wirkende tangentiale Schnittstellenkraft einzustellen. Durch solche Tangentialkräfte können ebenfalls in besonders einfacher Weise günstige gewünschte Deformationen des optischen Elements erzeugt werden. Dabei kann die Aktuatoreinrichtung wiederum eine oder mehrere Aktuatoreinheiten umfassen, über welche die Schnittstellenkraft eingestellt werden kann. Vorzugsweise umfasst die Aktuatoreinrichtung eine Aktuatoreinheit, die dem wenigstens einen Umfangsbereich zugeordnet ist und dazu konfiguriert ist, die tangentiale Schnittstellenkraft einzustellen.
  • Bei bestimmten Varianten weist das Halteelement wiederum mehrere separate Umfangsbereiche auf, wobei die Aktuatoreinrichtung dann dazu konfiguriert ist, gesteuert durch die Steuereinrichtung in jedem der Umfangsbereiche eine vorgebbare tangentiale Schnittstellenkraft einzustellen. Hiermit ist wiederum eine besonders variable Einflussnahme auf die Deformation des optischen Elements möglich. Dabei kann die Aktuatoreinrichtung insbesondere dazu konfiguriert sein, an zwei Umfangsbereichen (beispielsweise unmittelbar aneinander angrenzenden Umfangsbereichen) anzugreifen und die radiale Schnittstellenkraft an den beiden Umfangsbereichen über das Paar aus Kraft und Reaktionskraft an den beiden Angriffspunkten einzustellen. Weiterhin kann die Aktuatoreinrichtung dazu konfiguriert sein, für zwei der Umfangsbereiche die tangentialen Schnittstellenkräfte separat einzustellen. Hiermit ist wiederum eine besonders variable Einflussnahme auf die Deformation des optischen Elements möglich.
  • Ebenso kann die Aktuatoreinrichtung dazu konfiguriert sein, für zwei der Umfangsbereiche zueinander geneigte tangentiale Schnittstellenkräfte einzustellen. Schließlich kann die Aktuatoreinrichtung dazu konfiguriert sein, für zwei der Umfangsbereiche zueinander zumindest im Wesentlichen parallele, insbesondere zumindest im Wesentlichen entgegengesetzte, tangentiale Schnittstellenkräfte einzustellen. Dies kann insbesondere dann besonders einfach realisiert werden, wenn die beiden Umfangsbereiche einander in der Radialrichtung im Wesentlichen diametral gegenüberliegen.
  • Bei weiteren Varianten, bei denen das Halteelement wiederum eine Umfangsrichtung, eine Radialrichtung und eine Axialrichtung definiert, die senkrecht zu einer durch die Umfangsrichtung und die Radialrichtung definierten Ebene verläuft, ist die Aktuatoreinrichtung dazu konfiguriert, gesteuert durch die Steuereinrichtung in wenigstens einem Umfangsbereich des Halteelements eine vorgebbare, parallel zu der Axialrichtung auf das optische Element wirkende axiale Schnittstellenkraft einzustellen. Durch solche Axialkräfte können ebenfalls in besonders einfacher Weise günstige gewünschte Deformationen des optischen Elements erzeugt werden. Dabei kann die Aktuatoreinrichtung wiederum eine oder mehrere Aktuatoreinheiten umfassen, über welche die Schnittstellenkraft eingestellt werden kann. Vorzugsweise umfasst die Aktuatoreinrichtung eine Aktuatoreinheit, die dem wenigstens einen Umfangsbereich zugeordnet ist und dazu konfiguriert ist, die axiale Schnittstellenkraft einzustellen.
  • Bei bestimmten Varianten weist das Halteelement wiederum mehrere separate Umfangsbereiche auf, wobei die Aktuatoreinrichtung dazu konfiguriert ist, gesteuert durch die Steuereinrichtung in jedem der Umfangsbereiche eine vorgebbare axiale Schnittstellenkraft einzustellen. Dabei kann die Aktuatoreinrichtung dazu konfiguriert sein, für zwei der Umfangsbereiche die axialen Schnittstellenkräfte separat einzustellen. Hiermit ist eine besonders variable Einflussnahme auf die Deformation des optischen Elements möglich.
  • Auch hier ist es möglich, dass die Aktuatoreinrichtung dazu konfiguriert ist, für zwei der Umfangsbereiche zueinander zumindest im Wesentlichen entgegengesetzte axiale Schnittstellenkräfte einzustellen. Dies kann insbesondere dann besonders einfach realisiert werden, wenn die beiden Umfangsbereiche einander in der Radialrichtung im Wesentlichen diametral gegenüberliegen. Ebenso können solche entgegengesetzte axiale Schnittstellenkräfte besonders einfach an zwei unmittelbar einander benachbarten Umfangsbereichen eingestellt werden, an denen die Aktuatoreinrichtung angreift.
  • Bei weiteren Varianten, bei denen das Halteelement wiederum eine Umfangsrichtung, eine Radialrichtung und eine Axialrichtung definiert, die senkrecht zu einer durch die Umfangsrichtung und die Radialrichtung definierten Ebene verläuft, ist die Aktuatoreinrichtung dazu konfiguriert, gesteuert durch die Steuereinrichtung in wenigstens einem Umfangsbereich des Halteelements wenigstens ein vorgebbares, auf das optische Element wirkendes Schnittstellenmoment einzustellen. Durch solche Schnittstellenmomente können ebenfalls in besonders einfacher Weise günstige gewünschte Deformationen des optischen Elements erzeugt werden. Dabei kann die Aktuatoreinrichtung wiederum eine oder mehrere Aktuatoreinheiten umfassen, über welche das Schnittstellenmoment eingestellt werden kann. Vorzugsweise umfasst die Aktuatoreinrichtung eine Aktuatoreinheit, die dem wenigstens einen Umfangsbereich zugeordnet ist und dazu konfiguriert ist, das wenigstens eine Schnittstellenmoment einzustellen.
  • Das betreffende Schnittstellenmoment kann grundsätzlich eine beliebige geeignete Richtung aufweisen, die natürlich an die zu erzielende Deformation des optischen Elements angepasst ist. Besonders günstige Resultate können in relativ einfacher Weise realisiert werden, wenn das wenigstens eine Schnittstellenmoment um die Umfangsrichtung wirkt und/oder wenn das wenigstens eine Schnittstellenmoment um die Axialrichtung wirkt und/oder wenn das wenigstens eine Schnittstellenmoment um die Radialrichtung wirkt.
  • Bei bestimmten Varianten weist das Halteelement wiederum mehrere separate Umfangsbereiche auf, wobei die Aktuatoreinrichtung dazu konfiguriert ist, gesteuert durch die Steuereinrichtung in jedem der Umfangsbereiche wenigstens ein vorgebbares Schnittstellenmoment einzustellen. Dabei kann die Aktuatoreinrichtung dazu konfiguriert sein, für zwei der Umfangsbereiche die Schnittstellenmomente separat einzustellen. Hiermit ist eine besonders variable Einflussnahme auf die Deformation des optischen Elements möglich.
  • Auch hier ist es möglich, dass die Aktuatoreinrichtung dazu konfiguriert ist, für zwei der Umfangsbereiche zueinander geneigte Schnittstellenmomente einzustellen. Ebenso kann die Aktuatoreinrichtung dazu konfiguriert sein, für zwei der Umfangsbereiche zueinander zumindest im Wesentlichen entgegengesetzte Schnittstellenmomente einzustellen. Dabei können besonders einfache Varianten realisiert werden, bei denen die Aktuatoreinrichtung an zwei Umfangsbereichen (beispielsweise zwei diametral gegenüberliegenden oder zwei unmittelbar aneinander angrenzenden Umfangsbereichen) angreift und die Schnittstellenmomente an den beiden Umfangsbereichen über das Paar aus Moment und Reaktionsmoment an den beiden Angriffspunkten eingestellt werden.
  • Es versteht sich, dass vorgesehen sein kann, dass die vorgenannten Kräfte bzw. Momente an den Schnittstellen jeweils alleine eingestellt werden. Ebenso ist es natürlich möglich, dass die vorgenannten Kräfte (radial, tangential, axial) bzw. Momente an den Schnittstellen einander in beliebiger Kombination (typischerweise in einer beliebigen Linearkombination) überlagert werden. Diese Überlagerung kann für einen oder mehrere (gegebenenfalls alle) Umfangsbereiche des jeweiligen Halteelements geschehen. Ebenso können innerhalb des jeweiligen Halteelements in beliebiger Kombination bzw. in beliebiger Verteilung bzw. im beliebigem Wechsel unterschiedliche Kräfte (radial, tangential, axial) bzw. Momente an den einzelnen Umfangsbereichen eingestellt und/oder überlagert werden. So kann beispielsweise in Umfangsrichtung von Umfangsbereich zu Umfangsbereich ein beliebiger oder periodischer Wechsel der eingestellten und/oder überlagerten Kräfte und/oder Momente vorgesehen sein. Weiterhin können entgegengesetzte Richtungen der eingestellten und/oder überlagerten Kräfte und/oder Momente an benachbarten Umfangsbereichen vorgesehen sein, um beispielsweise eine wellenförmige Deformation am Umfang des Halteelements zu erzielen. Mit allen diesen Varianten lassen sich besonders präzise Einstellungen der Deformation des optischen Elements und seiner optischen Fläche realisieren.
  • Wie bereits erwähnt, kann die Aktuatoreinrichtung entsprechend der zu erzielenden Deformation des optischen Elements in beliebiger hierzu geeigneter Weise gestaltet sein. Bei bevorzugten, weil einfach zu realisierenden Varianten weist das Halteelement mehrere separate Umfangsbereiche auf, wobei die Aktuatoreinrichtung für jeden der Umfangsbereiche wenigstens eine zugeordnete Aktuatoreinheit umfasst. Dabei kann die Anzahl N der separaten Umfangsbereiche 3 bis 60, vorzugsweise 6 bis 30, weiter vorzugsweise 12 bis 24 betragen. Es versteht sich jedoch, dass grundsätzlich beliebig viele separate Umfangsbereiche vorgesehen sein können. Beispielsweise kann die Anzahl der separaten Umfangsbereiche von der Größe des Außenumfangs des Halteelements und/oder dem für die Integration bzw. Anbindung der Aktuatoreinheiten verfügbaren Bauraum abhängen (wobei mit zunehmendem Außenumfang dann eine größere Anzahl von separaten Umfangsbereichen einhergehen kann). Weiterhin können zwei der Umfangsbereiche, denen eine Aktuatoreinheit zugeordnet ist, aneinander angrenzen, wie dies vorstehend bereits im Zusammenhang mit bestimmten Varianten beispielhaft erläutert wurde. Ebenso können die Umfangsbereiche ein Zentrum des Halteelements definieren und zwei der Umfangsbereiche, denen eine Aktuatoreinheit zugeordnet ist, können dann zueinander bezüglich des Zentrums diametral gegenüberliegend angeordnet sein. Auch dies wurde vorstehend bereits im Zusammenhang mit bestimmten Varianten beispielhaft erläutert.
  • Weitere Varianten zeichnen sich dadurch aus, dass das Halteelement mehrere separate Umfangsbereiche aufweist und die Aktuatoreinrichtung mehrere Aktuatoreinheiten umfasst, die auf wenigstens einen der Umfangsbereiche wirken. Hierdurch kann insbesondere in einfacher Weise die vorstehend beschriebene Überlagerung von Kräften und/oder Momenten an der Schnittstelle zum optischen Element erzielt werden. Die Anzahl der Aktuatoreinheiten kann dabei grundsätzlich beliebig gewählt sein und an die zu erzielende Überlagerung von Kräften und/oder Momenten bzw. die damit zu erzielende Deformation es optischen Elements angepasst sein.
  • Bei bestimmten Varianten können wenigstens einem Umfangsbereich, vorzugsweise jeweils mehreren Umfangsbereichen, weiter vorzugsweise jeweils allen Umfangsbereichen, wenigstens zwei Aktuatoreinheiten zugeordnet sein. Die Anordnung der Aktuatoreinheiten kann grundsätzlich auf beliebige geeignete Weise erfolgen. Insbesondere können wenigstens zwei Aktuatoreinheiten kinematisch seriell zueinander auf denselben Umfangsbereich wirken. Zusätzlich oder alternativ können wenigstens zwei Aktuatoreinheiten kinematisch parallel zueinander auf denselben Umfangsbereich wirken.
  • Ebenso kann vorgesehen sein, dass wenigstens zwei Aktuatoreinheiten auf denselben Umfangsbereich wirken, wobei die wenigstens zwei Aktuatoreinheiten gesteuert durch die Steuereinrichtung vorgebbare und in unterschiedlichen Richtungen auf das optische Element wirkende Schnittstellenkräfte einstellen und/oder eine vorgebbare, auf das optische Element wirkende Schnittstellenkraft und ein vorgebbares, auf das optische Element wirkendes Schnittstellenmoment einstellen und/oder vorgebbare und in unterschiedlichen Richtungen auf das optische Element wirkende Schnittstellenmomente einstellen. Hiermit lassen sich die oben bereits beispielhaft beschriebenen Überlagerungen von Schnittstellenkräften und/oder Schnittstellenmomenten erzielen.
  • Die jeweilige Aktuatoreinrichtung kann grundsätzlich in beliebiger Weise gestaltet sein. So kann die jeweilige Aktuatoreinheit der Aktuatoreinrichtung beispielsweise unmittelbar auf das Halteelement und/oder das optische Element wirken. Bei bestimmten vorteilhaften Varianten kann aber auch vorgesehen sein, dass die Aktuatoreinrichtung wenigstens eine Aktuatoreinheit umfasst und die Aktuatoreinheit über mindestens ein Zwischenelement auf das Halteelement wirkt. Dabei kann das Zwischenelement im Bereich eines ersten Endes mit dem ersten Schnittstellenabschnitt verbunden sein und im Bereich eines zweiten Endes mit der Aktuatoreinheit verbunden sein. So kann das Zwischenelement ein Bewegungsuntersetzungselement sein, über das eine Untersetzung zwischen einer Verschiebung an der Aktuatoreinheit und der daraus resultierenden Verschiebung am ersten Schnittstellenabschnitt erreicht wird. Das Zwischenelement kann beispielsweise ein Hebelelement sein. Hiermit lässt sich insbesondere die vorstehend beschriebene Bewegungsuntersetzung auf besonders einfache Weise realisieren. Ebenso kann das Zwischenelement ein Federelement sein. Auch hiermit lässt sich insbesondere die vorstehend beschriebene Bewegungsuntersetzung auf besonders einfache Weise realisieren.
  • Wie bereits erwähnt, kann die Aktuatoreinrichtung zwischen dem Halteelement und dem optischen Element wirken, mithin also die Aktuatoreinrichtung die erste Schnittstelle zum optischen Element ausbilden. Bei bestimmten, besonders einfach zu realisierenden und vorteilhaften Varianten ist vorgesehen, dass die Aktuatoreinrichtung wenigstens eine Aktuatoreinheit umfasst und die wenigstens eine Aktuatoreinheit zwischen der ersten Schnittstelle und der zweiten Schnittstelle auf das Halteelement wirkt. Mit einer solchen rein halteelementinternen Wirkung der Aktuatoreinheit kann insbesondere eine günstige Gestaltung realisiert werden, bei der das Halteelement für die Anbindung an das optische Element bzw. an die Stützeinheit hin optimiert ist und somit eine günstige Einleitung der Stützkräfte realisiert wird. Die Aktuatoreinheit kann dann im Wesentlichen außerhalb des (eigentlichen) Stützkraftflusses angeordnet sein und lediglich für die Deformationsfunktion ausgelegt bzw. optimiert sein. Vorzugsweise ist die wenigstens eine Aktuatoreinheit mit einem Ende an dem ersten Schnittstellenabschnitt angeschlossen und/oder mit einem Ende an dem zweiten Schnittstellenabschnitt angeschlossen. Hiermit lassen sich besonders einfache und kompakte Gestaltungen realisieren.
  • Die Aktuatoreinrichtung kann grundsätzlich beliebig mit einer oder mehreren passiven und/oder aktiven Komponenten gestaltet sein. Bei bestimmten Varianten umfasst die Aktuatoreinrichtung wenigstens eine Aktuatoreinheit mit wenigstens einem aktiven Element. Hierbei können beliebige Aktuatortypen zum Einsatz kommen. So kann das wenigstens eine aktive Element kann nach Art eines Kraftaktuators ausgebildet sein. Ebenso kann das wenigstens eine aktive Element kann nach Art eines Wegaktuators ausgebildet sein. Auch hinsichtlich der Art der erzeugten Aktuatorbewegung besteht grundsätzlich beliebige Gestaltungsfreiheit. So kann das wenigstens eine aktive Element nach Art eines Linearaktuators ausgebildet sein. Ebenso kann das wenigstens eine aktive Element nach Art eines Scheraktuators ausgebildet sein. Gleiches gilt hinsichtlich der Energieversorgung bzw. des Wirkprinzips des aktiven Elements. So kann das wenigstens eine aktive Element ein mit elektrischer Energie versorgtes Element, insbesondere ein Piezoelement, sein. Ebenso kann das wenigstens eine aktive Element ein mit thermischer Energie versorgtes Element sein. Ebenso kann das wenigstens eine aktive Element ein mit magnetischer Energie versorgtes Element sein. Natürlich können auch beliebige Kombinationen der vorgenannten Varianten für das aktive Element vorgesehen werden.
  • Die Anbindung des Halteelements an dem optischen Element kann grundsätzlich auf beliebige geeignete Weise gestaltet sein, um eine günstige Einleitung der Stützkräfte in das optische Element zu erzielen. Bei besonders günstigen Varianten ist das Halteelement dazu konfiguriert, zumindest teilweise in eine Ausnehmung des optischen Elements eingesetzt zu werden. Dabei kann die erste Schnittstelle insbesondere mit einer Wandung der Ausnehmung verbunden werden. Hiermit können besonders kompakte Konfigurationen erzielt werden.
  • Das Halteelement kann zumindest abschnittsweise, insbesondere im Bereich des ersten Schnittstellenabschnitts, nach Art einer Buchse ausgebildet sein. Dabei können mehrere durch Schlitze voneinander getrennte Umfangsbereiche ausgebildet sein, um eine besonders einfache Unterteilung in separate Umfangsbereiche zu erzielen. Dabei kann wenigstens einer der Umfangsbereiche in einer Radialrichtung der Buchse federnd ausgebildet sein, um eine einfache Einleitung der Kräfte und/oder Momente der Aktuatoreinrichtung in das optische Element zu erzielen.
  • Bei bestimmten Varianten ist das Halteelement zumindest abschnittsweise nach Art einer Buchse ausgebildet, die einen zentralen Bereich des Halteelements definiert, wobei der zweite Schnittstellenabschnitt in dem zentralen Bereich des Halteelements angeordnet ist. Hiermit lassen sich besonders kompakte Konfigurationen mit günstigem Kraftfluss erzielen.
  • Die Anbindung des Halteelements kann grundsätzlich alleine oder in beliebiger Kombination über eine kraftschlüssige, formschlüssige oder stoffschlüssige Verbindung erfolgen. Besonders einfache und kompakte Gestaltungen ergeben sich, wenn das Halteelement zumindest abschnittsweise mit dem optischen Element über eine stoffschlüssige Verbindung, insbesondere eine Verklebung, verbunden ist.
  • Die vorliegende Erfindung betrifft weiterhin eine optische Abbildungseinrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit einer Beleuchtungseinrichtung mit einer ersten optischen Elementgruppe, einer Objekteinrichtung zur Aufnahme eines Objekts, einer Projektionseinrichtung mit einer zweiten optischen Elementgruppe und einer Bildeinrichtung, Die Beleuchtungseinrichtung ist zur Beleuchtung des Objekts ausgebildet, während die Projektionseinrichtung zur Projektion einer Abbildung des Objekts auf die Bildeinrichtung ausgebildet ist. Dabei umfasst die Beleuchtungseinrichtung und/oder die Projektionseinrichtung wenigstens eine erfindungsgemäße optische Anordnung, wie sie vorstehend beschrieben wurde. Hiermit lassen sich die oben beschriebenen Varianten und Vorteile in demselben Maße realisieren, sodass zur Vermeidung von Wiederholungen insoweit auf die obigen Ausführungen verwiesen wird.
  • Bei bevorzugten Varianten der optischen Abbildungseinrichtung ist eine mit der Steuereinrichtung verbundene Erfassungseinrichtung zur Erfassung eines aktuellen Abbildungsfehlers der Abbildungseinrichtung vorgesehen. Die Steuereinrichtung ist hierbei dazu konfiguriert, in Abhängigkeit von dem aktuellen Abbildungsfehler die Aktuatoreinrichtung zur Korrektur des Abbildungsfehlers anzusteuern. Dabei versteht es sich, dass die Aktuatoreinrichtung nicht notwendigerweise zur vollständigen Korrektur des Abbildungsfehlers angesteuert werden muss bzw. überhaupt nicht zur vollständigen Korrektur des Abbildungsfehlers geeignet sein muss. Vielmehr können weitere Komponenten der Abbildungseinrichtung zur Korrektur herangezogen werden. Die Aktuatoreinrichtung muss lediglich dazu geeignet sein bzw. angesteuert werden können, um einen nennenswerten Beitrag zur Korrektur des Abbildungsfehlers zu leisten.
  • Die Steuereinrichtung kann zur Korrektur des Abbildungsfehlers insbesondere eine gespeicherte Einflussinformation verwenden, die für einen Einfluss einer Betätigung der Aktuatoreinrichtung auf den Abbildungsfehler der Abbildungseinrichtung repräsentativ ist. Hierzu kann beispielsweise während des Betriebes der Abbildungseinrichtung ein feldabhängiger Verlauf des Abbildungsfehlers (ein so genannter Aberrationsfingerabdruck) erfasst werden und mit zuvor erfassten und in der Steuereinrichtung entsprechend gespeicherten Abbildungsfehlern (so genannten Aberrationsmustern) verglichen werden, die durch Deformationen der Oberfläche des optischen Elements entstehen, wie sie durch vorgegebene Krafteinleitung und/oder Momenteinleitung der erfindungsgemäßen optischen Anordnung hervorgerufen werden können. Anstelle einer direkten Erfassung des Abbildungsfehlers kann die Steuerungseinrichtung ebenso ein gespeichertes (empirisch und/oder theoretisch ermitteltes) Modell der Abbildungseinrichtung verwenden, welches den Abbildungsfehler der optischen Abbildung in Abhängigkeit von bestimmten Betriebsparametern der Abbildungseinrichtung repräsentiert. Anhand aktuell erfasster Werte dieser Betriebsparameter kann dann (mittels des Modells) auf den aktuellen Abbildungsfehler geschlossen werden bzw. dieser vorhergesagt werden. Die Steuereinrichtung kann dann die Aktuatoreinrichtung (wie vorstehend beschrieben) entsprechend zur Korrektur ansteuern.
  • Die optische Anordnung kann grundsätzlich an beliebiger geeigneter Stelle in der optischen Abbildungseinrichtung angeordnet sein. So weist die Abbildungseinrichtung bevorzugt in einem Abbildungsstrahlengang von der Beleuchtungseinrichtung zu der Bildeinrichtung eine erste Komponente und eine zweite Komponente auf, wobei die erste Komponente ein Bildfeld der Abbildung auf der Bildeinrichtung definiert und die zweite Komponente eine Pupille der Abbildungseinrichtung definiert. Die erfindungsgemäße optische Anordnung kann dann in dem Abbildungsstrahlengang nahe benachbart zu der ersten Komponente angeordnet sein. In diesem Fall ergibt sich ein ausgeprägt ortsabhängiger Einfluss der erzielten Deformation des optischen Elements auf den Abbildungsfehler bzw. dessen Korrektur. Ebenso kann die optische Anordnung in dem Abbildungsstrahlengang nahe benachbart zu der zweiten Komponente angeordnet sein. In diesem Fall ergibt sich ein vergleichsweise gleichmäßiger bzw. ortsunabhängiger Einfluss der erzielten Deformation des optischen Elements auf den Abbildungsfehler bzw. dessen Korrektur. Ebenso kann die optische Anordnung in dem Abbildungsstrahlengang im Bereich einer von der ersten Komponente und der zweiten Komponente entfernten Zwischenposition angeordnet sein, um einen entsprechend moderat ortsabhängigen Einfluss der erzielten Deformation des optischen Elements auf den Abbildungsfehler bzw. dessen Korrektur zu erzielen.
  • Die vorliegende Erfindung betrifft weiterhin ein Verfahren zum Abstützen eines optischen Elements für die Mikrolithographie, insbesondere für die Verwendung von Licht im extremen UV-Bereich (EUV), bei dem das optische Element durch eine Halteeinrichtung mit wenigstens einem Halteelement gehalten wird, das einen ersten Schnittstellenabschnitt und einen zweiten Schnittstellenabschnitt aufweist. Der erste Schnittstellenabschnitt bildet dabei eine erste Schnittstelle bildet, über welche das wenigstens eine Halteelement in einem montierten Zustand mit dem optischen Element verbunden wird. Der zweite Schnittstellenabschnitt bildet eine zweite Schnittstelle, über welche das Halteelement in dem montierten Zustand mit einer, insbesondere aktiven, Stützeinheit verbunden wird, die das optische Element mit einer Stützstruktur verbindet, um das optische Element über eine Stützkraft an der Stützstruktur abzustützen. Eine Aktuatoreinrichtung der Halteeinrichtung greift zwischen der ersten Schnittstelle und der zweiten Schnittstelle an dem Halteelement an, wobei die Aktuatoreinrichtung derart gesteuert auf das Halteelement wirkt, dass an der ersten Schnittstelle eine vorgebbare Schnittstellendeformation und/oder eine vorgebbare, auf das optische Element wirkende Schnittstellenkraftverteilung eingestellt wird. Hiermit lassen sich die oben im Zusammenhang mit der optischen Anordnung beschriebenen Varianten und Vorteile in demselben Maße realisieren, sodass zur Vermeidung von Wiederholungen insoweit auf die obigen Ausführungen verwiesen wird.
  • Die vorliegende Erfindung betrifft weiterhin ein optisches Abbildungsverfahren, insbesondere für die Mikrolithographie, bei dem eine Beleuchtungseinrichtung, die eine erste optische Elementgruppe aufweist, ein Objekt beleuchtet und eine Projektionseinrichtung, die eine zweite optische Elementgruppe aufweist, eine Abbildung des Objekts auf eine Bildeinrichtung projiziert. Wenigstens ein optisches Element der Beleuchtungseinrichtung und/oder der Projektionseinrichtung wird mittels eines erfindungsgemäßen Verfahrens abgestützt. Hiermit lassen sich ebenfalls die oben im Zusammenhang mit der optischen Anordnung beschriebenen Varianten und Vorteile in demselben Maße realisieren, sodass zur Vermeidung von Wiederholungen insoweit auf die obigen Ausführungen verwiesen wird.
  • Hierbei kann insbesondere ein aktueller Abbildungsfehler der Abbildung erfasst werden und in Abhängigkeit von dem aktuellen Abbildungsfehler die Aktuatoreinrichtung zur Korrektur des Abbildungsfehlers angesteuert werden, wobei insbesondere eine gespeicherte Einflussinformation verwendet wird, die für einen Einfluss einer Betätigung der Aktuatoreinrichtung auf den Abbildungsfehler repräsentativ ist.
  • Weitere Aspekte und Ausführungsbeispiele der Erfindung ergeben sich aus den abhängigen Ansprüchen und der nachfolgenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele, die sich auf die beigefügten Figuren bezieht. Alle Kombinationen der offenbarten Merkmale, unabhängig davon, ob diese Gegenstand eines Anspruchs sind oder nicht, liegen im Schutzbereich der Erfindung.
  • Figurenliste
    • 1 ist eine schematische Darstellung einer bevorzugten Ausführung einer erfindungsgemäßen Projektionsbelichtungsanlage, die eine bevorzugte Ausführung einer erfindungsgemäßen optischen Anordnung umfasst.
    • 2 ist eine schematische Schnittansicht (entlang Linie II-II in 3) eines Teils der erfindungsgemäßen Anordnung aus 1.
    • 3 ist eine schematische Draufsicht (siehe Linie III-III in 2) auf den Teil der erfindungsgemäßen Anordnung aus 2.
    • 4 ist eine schematische Ansicht eines Teils einer Variante der erfindungsgemäßen Anordnung (ähnlich der Ansicht aus 3).
  • DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG
  • Erstes Ausführungsbeispiel
  • Im Folgenden wird unter Bezugnahme auf die 1 bis 3 ein bevorzugtes Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Projektionsbelichtungsanlage 101 für die Mikrolithographie beschrieben, die ein bevorzugtes Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen optischen Anordnung umfasst. Zur Vereinfachung der nachfolgenden Ausführungen wird in den Zeichnungen ein x,y,z-Koordinatensystem angegeben, wobei die z-Richtung parallel zur Richtung der Gravitationskraft verläuft. Die x-Richtung und die y-Richtung verlaufen demgemäß horizontal, wobei die x-Richtung in der Darstellung der 1 senkrecht in die Zeichnungsebene hinein verläuft. Selbstverständlich ist es in weiteren Ausgestaltungen möglich, beliebige davon abweichende Orientierungen der eines x,y,z-Koordinatensystems zu wählen.
  • Im Folgenden werden zunächst unter Bezugnahme auf die 1 exemplarisch die wesentlichen Bestandteile einer Projektionsbelichtungsanlage 101 beschrieben. Die Beschreibung des grundsätzlichen Aufbaus der Projektionsbelichtungsanlage 101 sowie deren Bestandteile sei hierbei nicht einschränkend verstanden.
  • Eine Beleuchtungseinrichtung bzw. ein Beleuchtungssystem 102 der Projektionsbelichtungsanlage 101 umfasst neben einer Strahlungsquelle 102.1 eine optischen Elementgruppe in Form einer Beleuchtungsoptik 102.2 zur Beleuchtung eines (schematisiert dargestellten) Objektfeldes 103.1. Das Objektfeld 103.1 liegt in einer Objektebene 103.2 einer Objekteinrichtung 103. Beleuchtet wird hierbei ein im Objektfeld 103.1 angeordnetes Retikel 103.3 (auch als Maske bezeichnet). Das Retikel 103.3 ist von einem Retikelhalter 103.4 gehalten. Der Retikelhalter 103.4 ist über einen Retikelverlagerungsantrieb 103.5 insbesondere in einer oder mehreren Scanrichtungen verlagerbar. Eine solche Scanrichtung verläuft im vorliegenden Beispiel parallel zu der y-Achse.
  • Es versteht sich, dass bei anderen Varianten auch vorgesehen sein kann, dass die Strahlungsquelle 102.1 als ein zum Beleuchtungssystem 102 separates Modul gestaltet ist.
  • In diesem Fall umfasst das Beleuchtungssystem 102 die Strahlungsquelle 102.1 folglich nicht.
  • Die Projektionsbelichtungsanlage 101 umfasst weiterhin eine Projektionseinrichtung 104 mit einer weiteren optischen Elementgruppe in Form einer Projektionsoptik 104.1. Die Projektionsoptik 104.1 dient zur Abbildung des Objektfeldes 103.1 in ein (schematisiert dargestelltes) Bildfeld 105.1, das in einer Bildebene 105.2 einer Bildeinrichtung 105 liegt. Die Bildebene 105.2 verläuft parallel zu der Objektebene 103.2. Alternativ ist auch ein von 0° verschiedener Winkel zwischen der Objektebene 103.2 und der Bildebene 105.2 möglich.
  • Bei der Belichtung wird eine Struktur des Retikels 103.3 auf eine lichtempfindliche Schicht eines Substrats in Form eines Wafers 105.3 abgebildet, wobei die lichtempfindliche Schicht in der Bildebene 105.2 im Bereich des Bildfeldes 105.1 angeordnet ist. Der Wafer 105.3 wird von einem Substrathalter bzw. Waferhalter 105.4 gehalten. Der Waferhalter 105.4 ist über einen Waferverlagerungsantrieb 105.5 insbesondere längs der y-Richtung verlagerbar. Die Verlagerung einerseits des Retikels 103.3 über den Retikelverlagerungsantrieb 103.5 und andererseits des Wafers 105.3 über den Waferverlagerungsantrieb 105.5 kann synchronisiert zueinander erfolgen. Diese Synchronisation kann beispielsweise über eine gemeinsame (in 1 nur stark schematisch und ohne Steuerpfade dargestellte) Steuereinrichtung 106 erfolgen.
  • Bei der Strahlungsquelle 102.1 handelt es sich um eine EUV-Strahlungsquelle (extrem ultraviolette Strahlung), Die Strahlungsquelle 102.1 emittiert insbesondere EUV-Strahlung 107, welche im Folgenden auch als Nutzstrahlung oder Beleuchtungsstrahlung bezeichnet wird. Die Nutzstrahlung hat insbesondere eine Wellenlänge im Bereich zwischen 5 nm und 30 nm, insbesondere einer Wellenlänge von etwa 13 nm. Bei der Strahlungsquelle 102.1 kann es sich um eine Plasmaquelle handeln, zum Beispiel um eine LPP-Quelle (Laser Produced Plasma, also mithilfe eines Lasers erzeugtes Plasma) oder um eine DPP-Quelle (Gas Discharged Produced Plasma, also mittels Gasentladung erzeugtes Plasma). Es kann sich auch um eine synchrotronbasierte Strahlungsquelle handeln. Bei der Strahlungsquelle 102.1 kann es sich aber auch um einen Freie-Elektronen-Laser (Free-Electron-Laser, FEL) handeln.
  • Da die Projektionsbelichtungsanlage 101 mit Nutzlicht im EUV-Bereich arbeitet, handelt es sich bei den verwendeten optischen Elementen ausschließlich um reflektive optische Elemente. In weiteren Ausgestaltungen der Erfindung ist es (insbesondere in Abhängigkeit von der Wellenlänge des Beleuchtungslichts) selbstverständlich auch möglich, für die optischen Elemente jede Art von optischen Elementen (refraktiv, reflektiv, diffraktiv) alleine oder in beliebiger Kombination einzusetzen.
  • Die Beleuchtungsstrahlung 107, die von der Strahlungsquelle 102.1 ausgeht, wird von einem Kollektor 102.3 gebündelt. Bei dem Kollektor 102.3 kann es sich um einen Kollektor mit einer oder mit mehreren ellipsoidalen und/oder hyperboloiden Reflexionsflächen handeln. Die mindestens eine Reflexionsfläche des Kollektors 102.3 kann im streifenden Einfall (Grazing Incidence, Gl), also mit Einfallswinkeln größer als 45°, oder im normalen Einfall (Normal Incidence, NI), also mit Einfallwinkeln kleiner als 45°, mit der Beleuchtungsstrahlung 107 beaufschlagt werden. Der Kollektor 11 kann einerseits zur Optimierung seiner Reflektivität für die Nutzstrahlung und andererseits zur Unterdrückung von Falschlicht strukturiert und/oder beschichtet sein.
  • Nach dem Kollektor 102.3 propagiert die Beleuchtungsstrahlung 107 durch einen Zwischenfokus in einer Zwischenfokusebene 107.1. Die Zwischenfokusebene 107.1 kann bei bestimmten Varianten eine Trennung zwischen der Beleuchtungsoptik 102.2 und einem Strahlungsquellenmodul 102.4 darstellen, das die Strahlungsquelle 102.1 und den Kollektor 102.3 umfasst.
  • Die Beleuchtungsoptik 102.2 umfasst entlang des Strahlengangs einen Umlenkspiegel 102.5 einen nachgeordneten ersten Facettenspiegel 102.6. Bei dem Umlenkspiegel 102.5 kann es sich um einen planen Umlenkspiegel oder alternativ um einen Spiegel mit einer über die reine Umlenkungswirkung hinaus bündelbeeinflussenden Wirkung handeln. Alternativ oder zusätzlich kann der Umlenkspiegel 102.5 als Spektralfilter ausgeführt sein, der aus der Beleuchtungsstrahlung 107 zumindest teilweise so genanntes Falschlicht heraustrennt, dessen Wellenlänge von der Nutzlichtwellenlänge abweicht. Sofern die optisch wirksamen Flächen des ersten Facettenspiegels 102.6 im Bereich einer Ebene der Beleuchtungsoptik 102.2 angeordnet sind, die zur Objektebene 103.2 als Feldebene optisch konjugiert ist, wird der erste Facettenspiegel 102.6 auch als Feldfacettenspiegel bezeichnet. Der erste Facettenspiegel 102.6 umfasst eine Vielzahl von einzelnen ersten Facetten 102.7, welche im Folgenden auch als Feldfacetten bezeichnet werden. Diese ersten Facetten und deren optische Flächen sind in der 1 nur stark schematisch durch die gestrichelte Kontur 102.7 angedeutet.
  • Die ersten Facetten 102.7 können als makroskopische Facetten ausgeführt sein, insbesondere als rechteckige Facetten oder als Facetten mit bogenförmiger oder teilkreisförmiger Randkontur. Die ersten Facetten 102.7 können als Facetten mit planarer oder alternativ mit konvex oder konkav gekrümmter optischer Fläche ausgeführt sein.
  • Wie beispielsweise aus der DE 10 2008 009 600 A1 (deren gesamte Offenbarung hierin durch Bezugnahme eingeschlossen wird) bekannt ist, können die ersten Facetten 102.7 selbst jeweils auch aus einer Vielzahl von Einzelspiegeln, insbesondere einer Vielzahl von Mikrospiegeln, zusammengesetzt sein. Der erste Facettenspiegel 102.6 kann insbesondere als mikroelektromechanisches System (MEMS-System) ausgebildet sein, wie dies beispielsweise in der DE 10 2008 009 600 A1 im Detail beschrieben ist.
  • Zwischen dem Kollektor 102.3 und dem Umlenkspiegel 102.5 verläuft die Beleuchtungsstrahlung 107 im vorliegenden Beispiel horizontal, also längs der y-Richtung. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten auch eine andere Ausrichtung gewählt sein kann.
  • Im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 102.2 ist dem ersten Facettenspiegel 102.6 ein zweiter Facettenspiegel 102.8 nachgeordnet. Sofern die optisch wirksamen Flächen des zweiten Facettenspiegels 102.8 im Bereich einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 102.2 angeordnet sind, wird der zweite Facettenspiegel 102.8 auch als Pupillenfacettenspiegel bezeichnet. Der zweite Facettenspiegel 102.8 kann auch beabstandet zu einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 102.2 angeordnet sein. In diesem Fall wird die Kombination aus dem ersten Facettenspiegel 102.6 und dem zweiten Facettenspiegel 102.8 auch als spekularer Reflektor bezeichnet. Solche spekulare Reflektoren sind beispielsweise bekannt aus der US 2006/0132747 A1 , der EP 1 614 008 B1 oder der US 6,573,978 (deren jeweilige gesamte Offenbarung hierin durch Bezugnahme eingeschlossen wird).
  • Der zweite Facettenspiegel 102.8 umfasst wiederum eine Mehrzahl von zweiten Facetten, die in der 1 nur stark schematisch durch die gestrichelte Kontur 102.9 angedeutet sind. Die zweiten Facetten 102.9 werden im Falle eines Pupillenfacettenspiegels auch als Pupillenfacetten bezeichnet. Die zweiten Facetten 102.9 können grundsätzlich wie die ersten Facetten 102.7 gestaltet sein. Insbesondere kann es sich bei den zweiten Facetten 102.9 ebenfalls um makroskopische Facetten handeln, die beispielsweise rund, rechteckig oder auch hexagonal berandet sein können. Alternativ kann es sich bei den zweiten Facetten 102.9 um aus Mikrospiegeln zusammengesetzte Facetten handeln. Die zweiten Facetten 102.9 können wiederum planare oder alternativ konvex oder konkav gekrümmte Reflexionsflächen aufweisen. Diesbezüglich wird erneut auf die DE 10 2008 009 600 A1 verwiesen.
  • Die Beleuchtungsoptik 102.2 bildet im vorliegenden Beispiel somit ein doppelt facettiertes System. Dieses grundlegende Prinzip wird auch als Fliegenaugenintegrator (Fly's Eye Integrator) bezeichnet. Es kann bei bestimmten Varianten weiterhin vorteilhaft sein, die optischen Flächen des zweiten Facettenspiegels 102.8 nicht exakt in einer Ebene anzuordnen, welche zu einer Pupillenebene der Projektionsoptik 104.1 optisch konjugiert ist.
  • Bei einer weiteren, nicht dargestellten Ausführung der Beleuchtungsoptik 102.2 kann im Strahlengang zwischen dem zweiten Facettenspiegel 102.8 und dem Objektfeld 103.1 eine (nur stark schematisiert dargestellte) Übertragungsoptik 102.10 angeordnet sein, die insbesondere zur Abbildung der ersten Facetten 102.7 in das Objektfeld 103.1 beiträgt. Die Übertragungsoptik 102.10 kann genau einen Spiegel, alternativ aber auch zwei oder mehr Spiegel aufweisen, welche hintereinander im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 102.2 angeordnet sind. Die Übertragungsoptik 102.10 kann insbesondere einen oder zwei Spiegel für senkrechten Einfall (Nl-Spiegel, Normal Incidence Spiegel) und/oder einen oder zwei Spiegel für streifenden Einfall (Gl-Spiegel, Grazing Incidence Spiegel) umfassen.
  • Die Beleuchtungsoptik 102.2 hat bei der Ausführung, wie sie in der 1 gezeigt ist, nach dem Kollektor 102.3 genau drei Spiegel, nämlich den Umlenkspiegel 102.5, den ersten Facettenspiegel 102.6 (z. B. einen Feldfacettenspiegel) und den zweiten Facettenspiegel 102.8 (z. B. einen Pupillenfacettenspiegel). Bei einer weiteren Ausführung der Beleuchtungsoptik 102.2 kann der Umlenkspiegel 102.5 auch entfallen, sodass die Beleuchtungsoptik 102.2 nach dem Kollektor 102.3 dann genau zwei Spiegel aufweisen kann, nämlich den ersten Facettenspiegel 102.6 und den zweiten Facettenspiegel 102.8.
  • Mit Hilfe des zweiten Facettenspiegels 102.8 werden die einzelnen ersten Facetten 102.7 in das Objektfeld 103.1 abgebildet. Der zweite Facettenspiegel 102.8 ist der letzte bündelformende oder auch tatsächlich der letzte Spiegel für die Beleuchtungsstrahlung 107 im Strahlengang vor dem Objektfeld 103.1. Die Abbildung der ersten Facetten 102.7 mittels der zweiten Facetten 102.9 bzw. mit den zweiten Facetten 102.9 und einer Übertragungsoptik 102.10 in die Objektebene 103.2 ist regelmäßig nur eine näherungsweise Abbildung.
  • Die Projektionsoptik 104.1 umfasst eine Mehrzahl von Spiegeln Mi, welche gemäß ihrer Anordnung entlang des Strahlengangs der Projektionsbelichtungsanlage 101 nummeriert sind. Bei dem in der 1 dargestellten Beispiel umfasst die Projektionsoptik 104.1 sechs Spiegel M1 bis M6. Alternativen mit vier, acht, zehn, zwölf oder einer anderen Anzahl an Spiegeln Mi sind ebenso möglich. Der vorletzte Spiegel M5 und der letzte Spiegel M6 können jeweils eine (nicht näher dargestellte) Durchtrittsöffnung für die Beleuchtungsstrahlung 107 aufweisen. Bei der Projektionsoptik 104.1 handelt es sich im vorliegenden Beispiel um eine doppelt obskurierte Optik. Die Projektionsoptik 104.1 hat eine bildseitige numerische Apertur NA, die größer ist als 0,5. Insbesondere kann die bildseitige numerische Apertur NA auch größer sein kann als 0,6. Beispielsweise kann die bildseitige numerische Apertur NA 0,7 oder 0,75 betragen.
  • Die Reflexionsflächen der Spiegel Mi können als Freiformflächen ohne Rotationssymmetrieachse ausgeführt sein. Alternativ können die Reflexionsflächen der Spiegel Mi als asphärische Flächen mit genau einer Rotationssymmetrieachse der Reflexionsflächenform gestaltet sein. Die Spiegel Mi können, genauso wie die Spiegel der Beleuchtungsoptik 102.2, hoch reflektierende Beschichtungen für die Beleuchtungsstrahlung 107 aufweisen. Diese Beschichtungen können aus mehreren Schichten aufgebaut sein (Multilayer-Beschichtungen), insbesondere können sie mit alternierenden Lagen aus Molybdän und Silizium gestaltet sein.
  • Die Projektionsoptik 104.1 hat im vorliegenden Beispiel einen großen Objekt-Bildversatz in der y-Richtung zwischen einer y-Koordinate eines Zentrums des Objektfeldes 103.1 und einer y-Koordinate des Zentrums des Bildfeldes 105.1. Dieser Objekt-Bild-Versatz in der y-Richtung kann in etwa so groß sein wie ein Abstand zwischen der Objektebene 103.2 und der Bildebene 105.2 in der z-Richtung.
  • Die Projektionsoptik 104.1 kann insbesondere anamorphotisch ausgebildet sein. Sie weist insbesondere unterschiedliche Abbildungsmaßstäbe βx, βy in x- und y-Richtung auf. Die beiden Abbildungsmaßstäbe βx, βy der Projektionsoptik 104.1 liegen bevorzugt bei (βx; βy) = (+/- 0,25; +/- 0,125). Ein positiver Abbildungsmaßstab β bedeutet eine Abbildung ohne Bildumkehr. Ein negatives Vorzeichen für den Abbildungsmaßstab β bedeutet eine Abbildung mit Bildumkehr. Die Projektionsoptik 104.1 führt im vorliegenden Beispiel somit in x-Richtung, das heißt in Richtung senkrecht zur Scanrichtung, zu einer Verkleinerung im Verhältnis von 4:1. Demgegenüber führt die Projektionsoptik 104.1 in y-Richtung, das heißt in Scanrichtung, zu einer Verkleinerung im Verhältnis von 8:1. Andere Abbildungsmaßstäbe sind ebenso möglich. Auch vorzeichengleiche und absolut gleiche Abbildungsmaßstäbe in x- und y-Richtung sind möglich, zum Beispiel mit Absolutwerten von 0,125 oder von 0,25.
  • Die Anzahl von Zwischenbildebenen in der x- und in der y-Richtung im Strahlengang zwischen dem Objektfeld 103.1 und dem Bildfeld 105.1 kann gleich sein. Ebenso kann die Anzahl von Zwischenbildebenen je nach Ausführung der Projektionsoptik 104.1 unterschiedlich sein. Beispiele für Projektionsoptiken mit unterschiedlicher Anzahl derartiger Zwischenbilder in x- und y-Richtung sind beispielsweise aus der US 2018/0074303 A1 bekannt (deren gesamte Offenbarung hierin durch Bezugnahme eingeschlossen wird).
  • Im vorliegenden Beispiel ist jeweils eine der Pupillenfacetten 102.9 genau einer der Feldfacetten 102.7 zur Ausbildung jeweils eines Beleuchtungskanals zur Ausleuchtung des Objektfeldes 103.1 zugeordnet. Es kann sich hierdurch insbesondere eine Beleuchtung nach dem Köhlerschen Prinzip ergeben. Das Fernfeld wird mit Hilfe der Feldfacetten 102.7 in eine Vielzahl an Objektfeldern 103.1 zerlegt. Die Feldfacetten 102.7 erzeugen eine Mehrzahl von Bildern des Zwischenfokus auf den diesen jeweils zugeordneten Pupillenfacetten 102.9.
  • Die Feldfacetten 102.7 werden jeweils von einer zugeordneten Pupillenfacette 102.9 auf das Retikel 103.3 abgebildet, wobei sich die Abbildungen überlagern, sodass es mithin zu einer überlagernden Ausleuchtung des Objektfeldes 103.1 kommt. Die Ausleuchtung des Objektfeldes 103.1 ist bevorzugt möglichst homogen. Sie weist vorzugsweise einen Uniformitätsfehler von weniger als 2% auf. Die Felduniformität kann durch die Überlagerung unterschiedlicher Beleuchtungskanäle erreicht werden.
  • Durch eine Anordnung der Pupillenfacetten 102.9 kann geometrisch die Ausleuchtung der Eintrittspupille der Projektionsoptik 104.1 definiert werden. Durch Auswahl der Beleuchtungskanäle, insbesondere der Teilmenge der Pupillenfacetten 102.9, die Licht führen, kann die Intensitätsverteilung in der Eintrittspupille der Projektionsoptik 104.1 eingestellt werden. Diese Intensitätsverteilung wird auch als Beleuchtungssetting des Beleuchtungssystems 102 bezeichnet. Eine ebenfalls bevorzugte Pupillenuniformität im Bereich definiert ausgeleuchteter Abschnitte einer Beleuchtungspupille der Beleuchtungsoptik 102.2 kann durch eine Umverteilung der Beleuchtungskanäle erreicht werden. Die vorgenannten Einstellungen können bei aktiv verstellbaren Facetten jeweils durch eine entsprechende Ansteuerung über die Steuereinrichtung 106 vorgenommen werden.
  • Im Folgenden werden weitere Aspekte und Details der Ausleuchtung des Objektfeldes 103.1 sowie insbesondere der Eintrittspupille der Projektionsoptik 104.1 beschrieben.
  • Die Projektionsoptik 104.1 kann insbesondere eine homozentrische Eintrittspupille aufweisen. Diese kann zugänglich oder auch unzugänglich sein. Die Eintrittspupille der Projektionsoptik 104.1 lässt sich häufig mit dem Pupillenfacettenspiegel 102.8 nicht exakt ausleuchten. Bei einer Abbildung der Projektionsoptik 104.1, welche das Zentrum des Pupillenfacettenspiegels 102.8 telezentrisch auf den Wafer 105.3 abbildet, schneiden sich die Aperturstrahlen oftmals nicht in einem einzigen Punkt. Es lässt sich jedoch eine Fläche finden, in welcher der paarweise bestimmte Abstand der Aperturstrahlen minimal wird. Diese Fläche stellt die Eintrittspupille oder eine zu ihr konjugierte Fläche im Ortsraum dar. Insbesondere zeigt diese Fläche eine endliche Krümmung.
  • Es kann bei bestimmten Varianten sein, dass die Projektionsoptik 104.1 unterschiedliche Lagen der Eintrittspupille für den tangentialen und für den sagittalen Strahlengang aufweist. In diesem Fall ist es bevorzugt, wenn ein abbildendes optisches Element, insbesondere ein optisches Bauelement der Übertragungsoptik 102.10, zwischen dem zweiten Facettenspiegel 102.8 und dem Retikel 103.3 bereitgestellt wird. Mit Hilfe dieses abbildenden optischen Elements kann die unterschiedliche Lage der tangentialen Eintrittspupille und der sagittalen Eintrittspupille berücksichtigt werden.
  • Bei der Anordnung der Komponenten der Beleuchtungsoptik 102.2, wie sie in der 1 dargestellt ist, sind die optischen Flächen des Pupillenfacettenspiegels 102.8 in einer zur Eintrittspupille der Projektionsoptik 104.1 konjugierten Fläche angeordnet. Der erste Facettenspiegel 102.6 (Feldfacettenspiegel) definiert eine erste Haupterstreckungsebene seiner optischen Flächen, die im vorliegenden Beispiel zur Objektebene 5 verkippt angeordnet ist. Diese erste Haupterstreckungsebene des ersten Facettenspiegels 102.6 ist im vorliegenden Beispiel verkippt zu einer zweiten Haupterstreckungsebene angeordnet, die von der optischen Fläche des Umlenkspiegels 102.5 definiert ist. Die erste Haupterstreckungsebene des ersten Facettenspiegels 102.6 ist im vorliegenden Beispiel weiterhin verkippt zu einer dritten Haupterstreckungsebene angeordnet, die von den optischen Flächen des zweiten Facettenspiegels 102.8 definiert wird.
  • Die optischen Elementgruppen 102.2, 104.1 können ein oder mehrere erfindungsgemäße optischen Anordnungen 108 umfassen, wie dies nachfolgend anhand des Spiegels M3 beschrieben wird, der ein optisches Element der optischen Elementgruppe 104.1 bildet.
  • Die optische Anordnung 108 umfasst eine Halteeinrichtung 109 zum Halten des optischen Elements M3. Die Halteeinrichtung 109 weist hierzu im vorliegenden Beispiel mehrere Halteelemente 110 auf, die mit dem optischen Element M3 verbunden sind, um dieses zu halten. Es versteht sich hierbei, dass (insbesondere je nach Größe und/oder Masse des optischen Elements) gegebenenfalls auch ein einziges Halteelement 110 zum Halten des optischen Elements ausreichen kann. Ebenso kann es bei bestimmten Varianten ausreichen, lediglich ein Halteelement 110 bzw. nur einen Teil der Halteelemente für das optische Element in der hierin beschriebenen Weise als aktives Halteelement auszugestalten.
  • Das Halteelement 110 weist einen ersten Schnittstellenabschnitt 110.1 und einen zweiten Schnittstellenabschnitt 110.2 auf. Der erste Schnittstellenabschnitt 110.1 bildet eine erste Schnittstelle IF1, über welche das Halteelement 110 in einem montierten Zustand mit dem optischen Element M3 verbunden ist. Der erste Schnittstellenabschnitt 110.1 verläuft im vorliegenden Beispiel entlang des Außenumfangs des Halteelements 110, sodass eine im Wesentlichen vollständig umlaufende erste Schnittstelle IF1 gebildet ist, wie nachfolgend noch näher erläutert wird. Der zweite Schnittstellenabschnitt 110.2 bildet eine zweite Schnittstelle IF2, über welche das Halteelement 110 in dem montierten Zustand mit einer (im vorliegenden Beispiel aktiven) Stützeinheit 104.2 verbunden ist.
  • Die Stützeinheit 104.2 verbindet das optische Element M3 mit einer Stützstruktur der Projektionseinrichtung 104, um das optische Element M3 über eine Stützkraft an der Stützstruktur abzustützen, wie dies nur stark schematisiert in 1 für das optische Element M3 dargestellt ist. Die Stützeinheit 104.2 kann beispielsweise Teil einer herkömmlichen Parallelkinematik, beispielsweise einer hinlänglich bekannten Hexapodkinematik sein. Die Abstützung kann dabei insbesondere aktiv gestaltet sein, sodass die Starrkörperlage des optischen Elements M3 (also seine Position und Orientierung in den sechs Freiheitsgraden im Raum) in einem oder mehreren der Freiheitsgrade (bis hin zu allen sechs Freiheitsgraden) im Raum eingestellt werden kann, indem die Stützeinheiten 104.2 entsprechend von der Steuereinrichtung 106 angesteuert werden.
  • Es versteht sich, dass bei anderen Varianten auch eine beliebige anderweitige Abstützung eines optischen Elements der Projektionsbelichtungsanlage 101 gewählt sein kann. Insbesondere kann die Anordnung 108 auch in Kombination mit passiven Stützeinheiten 104.2 zum Einsatz kommen. Dies hat den Vorteil, dass selbst bei Anordnungen mit optischen Elementen, die strikten Bauraumbeschränkungen unterliegen, eine aktive Beeinflussung des Abbildungsfehlers implementier werden kann.
  • Die Halteeinrichtung 109 umfasst weiterhin eine Aktuatoreinrichtung 111, wobei die Aktuatoreinrichtung 111 zwischen der ersten Schnittstelle IF1 und der zweiten Schnittstelle IF2 an dem Halteelement 110 angreift. Die Aktuatoreinrichtung 111 ist dazu konfiguriert, gesteuert durch die Steuereinrichtung 106 derart auf das Halteelement 110 zu wirken, dass an der ersten Schnittstelle IF1 eine vorgebbare Schnittstellendeformation (also eine Deformation der ersten Schnittstelle IF1) und/oder eine vorgebbare, auf das optische Element M3 wirkende Schnittstellenkraftverteilung eingestellt wird, wie nachfolgend noch näher erläutert wird.
  • Mit dieser Gestaltung kann auf einfache Weise eine gezielte Deformation des optischen Elements M3 realisiert werden. Dabei ist es von besonderem Vorteil, dass bei dieser Gestaltung die Einrichtungen zur Erzeugung der Deformation des optischen Elements M3, also die Aktuatoreinrichtung 111, in das Halteelement 110 integriert ist, das die Schnittstelle zwischen dem optischen Element M3 und der zugeordneten Stützeinheit 104.2 ausbildet. Hierdurch kann insbesondere in vorteilhafter Weise erreicht werden, dass die Kräfte und/oder Momente, die über die Aktuatoreinrichtung 111 in das optische Element M3 eingeleitet werden, (wenn überhaupt) nur einen geringen parasitären Einfluss auf die Starrkörperlage (also Position und Orientierung in den sechs Freiheitsgraden im Raum) des optischen Elements M3 im Raum haben. Zudem ist es durch diese Integration der Aktuatoreinrichtung 111 in den Bereich der Halteelemente 110 möglich, die Energieversorgung und Ansteuerung der Aktuatoreinrichtung 111 entsprechend einfach zu gestalten (beispielsweise im Bereich der Stützeinheit 104.2 zu integrieren bzw. anzuordnen), ohne das Risiko zu erhöhen, hierüber parasitäre Spannungen in das optische Element M3 einzuleiten.
  • Die vorliegende Gestaltung basiert insbesondere auf der Erkenntnis, dass die geeignete Einleitung von deformierenden Kräften und/oder Momenten in das optische Element M3 im Bereich der jeweiligen ersten Schnittstelle IF1 zwischen den Stützeinheiten 104.2 und dem optischen Element M3 bereits mit vergleichsweise geringen Kräften und/oder Momenten, die mittels der Aktuatoreinrichtung 111 erzeugt werden, eine günstige Deformation des optischen Elements M3 und seiner optischen Fläche 112.1 realisieren lässt. Insbesondere kann gegebenenfalls durch eine geeignete Überlagerung von Kräften und/oder Momenten an der jeweiligen ersten Schnittstelle IF1 (insbesondere eine Linearkombination von Kräften und/oder Momenten) ein so genannter Z2_3-Effekt erzielt werden, mithin also Einfluss auf den so genannten Z2_3-Feldverlauf und damit den Abbildungsfehler der Abbildung genommen werden (der in hinlänglich bekannter Weise durch so genannte Zernike-Funktionen beschrieben wird).
  • Es versteht sich dabei, dass die Aktuatoreinrichtung 111 grundsätzlich ein Teil des Halteelements 110 selbst sein kann bzw. in das Halteelement 110 (genauer gesagt in die Struktur des Halteelements 110) integriert sein kann, wie dies nachfolgend noch näher erläutert wird. Dabei kann die Aktuatoreinrichtung 110 also auch unmittelbar im Stützkraftfluss von der betreffenden Stützeinheit 104.2 zum optischen Element M3 liegen. Insbesondere kann die Aktuatoreinrichtung 111 beispielsweise auch selbst die betreffende erste und/oder zweite Schnittstelle ausbilden.
  • Im vorliegenden Beispiel greift die Aktuatoreinrichtung 111 an unterschiedlichen Teilen des Halteelements 110 an, um die Kräfte und/oder Momente im Bereich der ersten Schnittstelle IF1 zu erzielen. Hierbei wirkt die Aktuatoreinrichtung 111 insbesondere kinematisch parallel zum (eigentlichen) Stützkraftfluss von der betreffenden Stützeinheit 104.2 zum optischen Element M3. Dabei kann die Aktuatoreinrichtung 111 entsprechend der zu erzielenden Deformation des optischen Elements M3 in beliebiger hierzu geeigneter Weise gestaltet sein.
  • Es versteht sich, dass das Halteelement 110 grundsätzlich auf beliebige geeignete Weise gestaltet sein kann, um die Schnittstellen IF1 und IF2 zwischen der betreffenden Stützeinheit 104.2 und dem optischen Element M3 auszubilden. Dabei können beliebige, auf das optische Element M3 und/oder die zugeordnete Stützeinheit 104.2 abgestimmte Geometrien zum Einsatz kommen, solange eine Anbindung bzw. Integration Aktuatoreinrichtung 111 erzielt wird, mit der die gewünschten Kräfte und/oder Momente in das optische Element M3 eingeleitet werden können.
  • Im vorliegenden Beispiel ist das Halteelement 110 nach Art einer abschnittsweise hohlzylindrischen, topfförmigen Buchse ausgebildet, die in eine entsprechend komplementär gestaltete Ausnehmung 112.2 des Spiegelkörpers 112.3 des optischen Elements M3 eingesetzt ist. Der erste Schnittstellenabschnitt 110.1 des Halteelements 110 ist dabei mit der Wandung 112.4 verbunden, welche die Ausnehmung 112.2 begrenzt. Das Halteelement 110 definiert dabei eine Umfangsrichtung CD, eine Radialrichtung RD und eine Axialrichtung AD, wobei die Axialrichtung AD senkrecht zu einer durch die Umfangsrichtung CD und die Radialrichtung RD definierten Ebene verläuft.
  • Das Halteelement 110 ist im vorliegenden Beispiel im Bereich des ersten Schnittstellenabschnitts 110.1 durch (in der Radialrichtung RD durchgehende) Schlitze 110.3 in eine Vielzahl voneinander getrennter Umfangsbereiche 110.4 unterteilt. Die Schlitze 110.3 verlaufen entlang der Axialrichtung AD bis zu einem Bodenabschnitt 110.5 des Halteelements 110. Hierdurch sind blattfederartige Umfangsbereiche 110.4 ausgebildet, die in der Radialrichtung RD der Buchse 110 vergleichsweise nachgiebig sind. Durch diese Trennung bzw. relativ weit gehende mechanische Entkopplung der Umfangsbereiche 110.4 in bestimmten Freiheitsgraden (z. B. translatorisch in der Radialrichtung RD sowie rotatorisch um die Umfangsrichtung CD und um die Axialrichtung AD) können in einfacher Weise Kräfte und/oder Momente der Aktuatoreinrichtung 111 in das optische Element M3 eingeleitet werden, die über den Umfang gegebenenfalls stark zwischen unmittelbar benachbarten Umfangsbereichen 110.4 variieren.
  • Der Bodenabschnitt 110.5 des Halteelements 110 definiert einen (in Radialrichtung RD) zentralen Bereich 110.6 des Halteelements 110, an dem der zweite Schnittstellenabschnitt 110.2 angeordnet ist. Hiermit wird eine besonders kompakte Konfiguration mit günstigem Kraftfluss erzielt.
  • Die Aktuatoreinrichtung 111 ist im vorliegenden Beispiel dazu konfiguriert, gesteuert durch die Steuereinrichtung 106 in einem oder mehreren Umfangsbereichen 110.4 des Halteelements 110 eine vorgebbare, in der Radialrichtung auf das optische Element M3 wirkende radiale Schnittstellenkraft FR einzustellen, wie dies in den 2 und 3 beispielhaft für zwei (2) bzw. drei (2) Umfangsbereiche 110.4 dargestellt ist. Durch solche Radialkräfte FR können in besonders einfacher Weise günstige gewünschte Deformationen des optischen Elements M3 und damit seiner optischen Fläche 112.1 erzeugt werden.
  • Die Aktuatoreinrichtung 111 umfasst hierzu im vorliegenden Beispiel mehrere Aktuatoreinheiten 111.1, die sich an dem zentralen Bereich 110.6 des Halteelements 110 abstützen und über ein Zwischenelement 111.2 mit dem zugeordneten Umfangsbereich 110.4 im ersten Schnittstellenbereich 110.1 verbunden sind. Über die Aktuatoreinheiten 111.1 kann die jeweilige radiale Schnittstellenkraft FR separat eingestellt werden. Je nach den Anforderungen an die Deformation der optische Fläche 112.1 des optischen Elements M3 kann beliebig vielen der Umfangsbereiche 110.4 jeweils eine separat ansteuerbare Aktuatoreinheit 111.1 zugeordnet sein, wie dies in 3 schematisch durch die gepunkteten Linien 113 angedeutet ist. Insbesondere kann jedem Umfangsbereich 110.4 jeweils eine Aktuatoreinheit 111.1 zugeordnet sein. Hiermit ist dann natürlich eine besonders günstige, feinfühlige Einstellung der Schnittstellenkraftverteilung an der ersten Schnittstelle IF1 über den Umfang des Halteelements 110 möglich. Insbesondere kann eine nahezu beliebige Variation der Schnittstellenkräfte FR erfolgen. Ebenso versteht es sich aber, dass bestimmte Aktuatoreinheiten 111.1 auch gemeinsam angesteuert werden können, um bestimmte vorgegebene definierte Schnittstellenkraftverteilungen zu erzielen.
  • Je nach Anzahl und Anordnung bzw. Verteilung der Aktuatoreinheiten 111.1 über die Umfangsbereiche 110.4 können nahezu beliebige definierte Schnittstellenkraftverteilungen erzielt werden. So ist es beispielsweise möglich, für zwei der Umfangsbereiche 110.4 zueinander geneigte radiale Schnittstellenkräfte FR einzustellen bzw. zu erzielen. Ebenso können für zwei der Umfangsbereiche 110.4 zueinander zumindest im Wesentlichen parallele radiale Schnittstellenkräfte FR. Dies kann beispielsweise an zwei diametral gegenüberliegenden Umfangsbereichen 110.4 der Fall sein, wie dies in 3 gezeigt ist. Die radialen Schnittstellenkräfte FR können dabei auch zumindest im Wesentlichen entgegengesetzt eingestellt werden. Ebenso ist in der Umfangsrichtung CD ein periodischer oder beliebiger Wechsel bzw. gradueller Übergang der radialen Schnittstellenkräfte FR von Zugkräften zu Druckkräften an der ersten Schnittstelle IF1 möglich
  • Bei weiteren Varianten kann die Aktuatoreinrichtung 111 zusätzlich oder alternativ dazu konfiguriert sein, gesteuert durch die Steuereinrichtung 106 in wenigstens einem, vorzugsweise mehreren der Umfangsbereiche 110.4 des Halteelements 110 eine vorgebbare, tangential zu der Umfangsrichtung CD auf das optische Element wirkende tangentiale Schnittstellenkraft FT einzustellen. Durch solche Tangentialkräfte FT können ebenfalls in besonders einfacher Weise günstige gewünschte Deformationen des optischen Elements M3 und damit seiner optischen Fläche 112.1 erzeugt werden. Dabei können einzelne oder mehrere der oben beschriebenen Aktuatoreinrichtungen 111.1 (zusätzlich oder alternativ) zum Einstellen solcher Tangentialkräfte FT ausgebildet sein. Hinsichtlich der Varianten der Verteilung und Anordnung der Aktuatoreinrichtungen 111.1 wird daher auf die obigen Ausführungen zur Einstellung der radialen Schnittstellenkräfte FR verwiesen, die für die tangentialen Schnittstellenkräfte FT gleichermaßen gelten.
  • Die Aktuatoreinrichtung 111 kann dazu konfiguriert sein, gesteuert durch die Steuereinrichtung 106 in jedem der Umfangsbereiche 110.4 eine vorgebbare tangentiale Schnittstellenkraft FT an der ersten Schnittstelle IF1 einzustellen. Insbesondere kann die Aktuatoreinrichtung 111 dazu konfiguriert sein, für mehrere (gegebenenfalls alle) der Umfangsbereiche 110.4 die tangentialen Schnittstellenkräfte FT separat einzustellen. Hiermit ist wiederum eine besonders variable Einflussnahme auf die Deformation des optischen Elements M3 bzw. seiner optischen Fläche 112.1 möglich. Dabei kann die Aktuatoreinrichtung 111 insbesondere an zwei Umfangsbereichen 110.4 (beispielsweise an unmittelbar aneinander angrenzenden Umfangsbereichen 110.4) auch in Umfangsrichtung gegenläufige tangentiale Schnittstellenkräfte FT einzustellen. Hiermit ist wiederum eine besonders variable Einflussnahme auf die Deformation des optischen Elements M3 möglich.
  • Insbesondere kann die Aktuatoreinrichtung 111 dazu konfiguriert sein, für zwei der Umfangsbereiche 110.4 zueinander geneigte tangentiale Schnittstellenkräfte FT einzustellen. Schließlich kann die Aktuatoreinrichtung 111 dazu konfiguriert sein, für zwei der Umfangsbereiche zueinander zumindest im Wesentlichen parallele, insbesondere zumindest im Wesentlichen entgegengesetzte, tangentiale Schnittstellenkräfte FT einzustellen. Dies kann insbesondere dann besonders einfach realisiert werden, wenn die beiden Umfangsbereiche 110.4 einander in der Radialrichtung RD im Wesentlichen diametral gegenüberliegen.
  • Bei weiteren Varianten kann die Aktuatoreinrichtung 111 zusätzlich oder alternativ dazu konfiguriert sein, gesteuert durch die Steuereinrichtung 106 in wenigstens einem Umfangsbereich 110.4 des Halteelements 110 eine vorgebbare, parallel zu der Axialrichtung AD auf das optische Element M3 wirkende axiale Schnittstellenkraft FA an der ersten Schnittstelle IF1 einzustellen. Durch solche Axialkräfte FA können ebenfalls in besonders einfacher Weise günstige gewünschte Deformationen des optischen Elements M3 und damit seiner optischen Fläche 112.1 erzeugt werden. Dabei können einzelne oder mehrere der oben beschriebenen Aktuatoreinrichtungen 111.1 (zusätzlich oder alternativ) zum Einstellen solcher Axialkräfte FA ausgebildet sein. Hinsichtlich der Varianten der Verteilung und Anordnung der Aktuatoreinrichtungen 111.1 wird daher auf die obigen Ausführungen zur Einstellung der radialen Schnittstellenkräfte FR bzw. der tangentialen Schnittstellenkräfte FT verwiesen, die für die axialen Schnittstellenkräfte FA gleichermaßen gelten.
  • Die Aktuatoreinrichtung 111 kann dazu konfiguriert sein, gesteuert durch die Steuereinrichtung 106 in jedem der Umfangsbereiche 110.4 eine vorgebbare axiale Schnittstellenkraft FA einzustellen. Dabei kann die Aktuatoreinrichtung 111 dazu konfiguriert sein, für mehrere (gegebenenfalls alle) der Umfangsbereiche 110.4 die axialen Schnittstellenkräfte FA separat einzustellen. Hiermit ist wiederum eine besonders variable Einflussnahme auf die Deformation des optischen Elements M3 möglich.
  • Auch hier ist es möglich, dass die Aktuatoreinrichtung 111 dazu konfiguriert ist, für zwei der Umfangsbereiche 110.4 zueinander zumindest im Wesentlichen entgegengesetzte axiale Schnittstellenkräfte FA einzustellen. Dies kann beispielsweise an einander in der Radialrichtung RD im Wesentlichen diametral gegenüberliegenden Umfangsbereichen 110.4 vorgesehen sein. Ebenso können solche entgegengesetzte axiale Schnittstellenkräfte FA an zwei unmittelbar einander benachbarten Umfangsbereichen 110.4 eingestellt werden, an denen die Aktuatoreinrichtung 111 angreift.
  • Bei weiteren Varianten kann die Aktuatoreinrichtung 111 zusätzlich oder alternativ dazu konfiguriert sein, gesteuert durch die Steuereinrichtung 106 in wenigstens einem Umfangsbereich 110.4 des Halteelements 110 wenigstens ein vorgebbares, auf das optische Element M3 wirkendes Schnittstellenmoment an der ersten Schnittstelle IF1einzustellen. Durch solche Schnittstellenmomente können ebenfalls in besonders einfacher Weise günstige gewünschte Deformationen des optischen Elements M3 erzeugt werden. Dabei können einzelne oder mehrere der oben beschriebenen Aktuatoreinrichtungen 111.1 (zusätzlich oder alternativ) zum Einstellen solcher Schnittstellenmomente ausgebildet sein. Hinsichtlich der Varianten der Verteilung und Anordnung der Aktuatoreinrichtungen 111.1 wird daher auf die obigen Ausführungen zur Einstellung der Schnittstellenkräfte FR bzw. FT bzw. FA verwiesen, die für die Schnittstellenmomente gleichermaßen gelten.
  • Das betreffende Schnittstellenmoment kann grundsätzlich eine beliebige geeignete Richtung aufweisen, die natürlich an die zu erzielende Deformation des optischen Elements M3 angepasst ist. Besonders günstige Resultate können in relativ einfacher Weise erzielt werden, wenn das wenigstens eine Schnittstellenmoment MC um die Umfangsrichtung CD wirkt und/oder wenn das wenigstens eine Schnittstellenmoment MA um die Axialrichtung AD wirkt und/oder wenn das wenigstens eine Schnittstellenmoment MR um die Radialrichtung RD wirkt.
  • Die Aktuatoreinrichtung 111 kann dazu konfiguriert sein, gesteuert durch die Steuereinrichtung 106 in jedem der Umfangsbereiche 110.4 wenigstens ein vorgebbares Schnittstellenmoment MC und/oder MA und/oder MR einzustellen. Dabei kann die Aktuatoreinrichtung 111 dazu konfiguriert sein, für mehrere (gegebenenfalls alle) der Umfangsbereiche 110.4 die Schnittstellenmomente separat einzustellen. Hiermit ist natürlich ebenfalls eine besonders variable Einflussnahme auf die Deformation des optischen Elements M3 möglich.
  • Auch hier ist es möglich, dass die Aktuatoreinrichtung 111 dazu konfiguriert ist, für zwei der Umfangsbereiche zueinander geneigte Schnittstellenmomente MC und/oder MA und/oder MR einzustellen. Ebenso kann die Aktuatoreinrichtung 111 dazu konfiguriert sein, für zwei der Umfangsbereiche 110.4 zueinander zumindest im Wesentlichen entgegengesetzte Schnittstellenmomente MC bzw. MA bzw. MR einzustellen.
  • Es versteht sich, dass vorgesehen sein kann, dass die vorgenannten Kräfte (FR, FT, FA) bzw. Momente (MC, MA, MR) an den Umfangsbereichen 110.4 im Bereich der ersten Schnittstelle IF1 jeweils alleine eingestellt werden. Ebenso ist es natürlich möglich, dass die vorgenannten Kräfte (FR, FT, FA) bzw. Momente (MC, MA, MR) an den Schnittstellen einander in beliebiger Kombination (typischerweise in einer beliebigen Linearkombination) überlagert werden. Diese Überlagerung kann für einen oder mehrere (gegebenenfalls alle) Umfangsbereiche 110.4 des jeweiligen Halteelements 110 geschehen. Ebenso können innerhalb des jeweiligen Halteelements 110 in beliebiger Kombination bzw. in beliebiger Verteilung bzw. in beliebigem Wechsel unterschiedliche Kräfte (FR, FT, FA) bzw. Momente (MC, MA, MR) an den einzelnen Umfangsbereichen 110.4 eingestellt und/oder überlagert werden. So kann beispielsweise in Umfangsrichtung CD von Umfangsbereich 110.4 zu Umfangsbereich 110.4 ein beliebiger oder periodischer Wechsel der eingestellten und/oder überlagerten Kräfte (FR, FT, FA) und/oder Momente (MC, MA, MR) vorgesehen sein. Weiterhin können entgegengesetzte Richtungen der eingestellten und/oder überlagerten Kräfte (FR, FT, FA) und/oder Momente (MC, MA, MR) an benachbarten Umfangsbereichen 110.4 vorgesehen sein, um beispielsweise eine wellenförmige Deformation am Umfang des Halteelements 110 zu erzielen. Mit allen diesen Varianten lassen sich besonders präzise Einstellungen der Deformation des optischen Elements M3 und seiner optischen Fläche 112.1 realisieren.
  • Wie bereits erwähnt, kann die Aktuatoreinrichtung 111 entsprechend der zu erzielenden Deformation des optischen Elements M3 in beliebiger hierzu geeigneter Weise gestaltet sein. Bei bevorzugten, weil einfach zu realisierenden Varianten weist das Halteelement wie im vorliegenden Beispiel mehrere separate Umfangsbereiche 110.4 auf, wobei die Aktuatoreinrichtung 111 für jeden der Umfangsbereiche wenigstens eine zugeordnete Aktuatoreinheit 111.1 umfasst. Dabei kann die Anzahl N der separaten Umfangsbereiche 110.4 3 bis 60, vorzugsweise 6 bis 30, weiter vorzugsweise 12 bis 24 betragen. Weiterhin können zwei der Umfangsbereiche 110.4, denen eine Aktuatoreinheit 111.1 zugeordnet ist, aneinander angrenzen, wie dies vorstehend bereits im Zusammenhang mit bestimmten Varianten beispielhaft erläutert wurde. Ebenso können die Umfangsbereiche 110.4 ein Zentrum (im vorliegenden Beispiel den zentralen Bereich 104.6) des Halteelements 110 definieren, wobei dann zwei der Umfangsbereiche 110.4, denen eine Aktuatoreinheit 111.1 zugeordnet ist, zueinander bezüglich des Zentrums 104.6 diametral gegenüberliegend angeordnet sein können. Auch dies wurde vorstehend bereits im Zusammenhang mit bestimmten Varianten beispielhaft erläutert.
  • Weitere Varianten zeichnen sich dadurch aus, dass die Aktuatoreinrichtung 111 mehrere Aktuatoreinheiten 111.1 umfasst, die gemeinsam auf wenigstens einen der Umfangsbereiche 110.4 wirken, wie in 2 schematisch durch die gestrichelte Kontur 114 angedeutet ist. Hierdurch kann insbesondere in einfacher Weise die vorstehend beschriebene Überlagerung von Kräften (FR, FT, FA) und/oder Momenten (MC, MA, MR) an der ersten Schnittstelle IF1 zum optischen Element M3 erzielt werden. Die Anzahl der Aktuatoreinheiten 111.1 kann dabei grundsätzlich beliebig gewählt sein und an die zu erzielende Überlagerung von Kräften (FR, FT, FA) und/oder Momenten (MC, MA, MR) bzw. die damit zu erzielende Deformation es optischen Elements M3 angepasst sein.
  • Bei bestimmten Varianten können wenigstens einem Umfangsbereich 110.4, vorzugsweise jeweils mehreren Umfangsbereichen110.4, weiter vorzugsweise jeweils allen Umfangsbereichen110.4, wenigstens zwei Aktuatoreinheiten 111.1, 114 zugeordnet sein. Die Anordnung der Aktuatoreinheiten 111.1, 114 kann grundsätzlich auf beliebige geeignete Weise erfolgen. Insbesondere können wenigstens zwei Aktuatoreinheiten 111.1 kinematisch seriell zueinander auf denselben Umfangsbereich 110.4 wirken. Zusätzlich oder alternativ können wenigstens zwei Aktuatoreinheiten 111.1, 114 kinematisch parallel zueinander auf denselben Umfangsbereich 110.4 wirken, wie dies in 2 angedeutet ist.
  • Ebenso kann vorgesehen sein, dass wenigstens zwei Aktuatoreinheiten 111.1, 114 auf denselben Umfangsbereich wirken, wobei die wenigstens zwei Aktuatoreinheiten 111.1, 114 gesteuert durch die Steuereinrichtung 106 vorgebbare und in unterschiedlichen Richtungen auf das optische Element M3 wirkende Schnittstellenkräfte (FR, FT, FA) einstellen und/oder eine vorgebbare, auf das optische Element M3 wirkende Schnittstellenkraft (FR, FT, FA) und ein vorgebbares, auf das optische Element M3 wirkendes Schnittstellenmoment (MC, MA, MR) einstellen und/oder vorgebbare und in unterschiedlichen Richtungen auf das optische Element wirkende Schnittstellenmomente (MC, MA, MR) einstellen. Hiermit lassen sich die oben bereits beispielhaft beschriebenen Überlagerungen von Schnittstellenkräften (FR, FT, FA) und/oder Schnittstellenmomenten (MC, MA, MR) erzielen.
  • Weiterhin versteht es sich, dass die vorbeschriebenen Überlagerungen von Schnittstellenkräften (FR, FT, FA) und/oder Schnittstellenmomenten (MC, MA, MR) bei bestimmten Varianten, etwa im vorliegenden Beispiel, durch eine entsprechende Gestaltung der Aktuatoreinheiten 111.1 selbst erzielen lässt. So kann die jeweilige Aktuatoreinheit 111.1 selbst in unterschiedliche Abschnitte unterteilt sein, die unterschiedliche Stellbewegungen bzw. Wirkrichtungen zur Verfügung stellen. Beispielsweise kann eine Aktuatoreinheit 111.1 aus mehreren kinematisch seriell und/oder kinematisch parallel angeordneten Aktuatorelementen 111.3, 111.4 aufgebaut sein, wie dies in 3 angedeutet ist. Ebenso können die Aktuatorelemente 111.3, 111.4 aber auch als separate Aktuatoreinheiten ausgebildet sein, die kinematisch seriell (siehe Aktuatorelemente 111.3 und 111.4) und/oder kinematisch parallel (siehe Aktuatorelemente 111.4) zueinander zwischen der ersten Schnittstelle IF1 und der zweiten Schnittstelle IF2 wirken.
  • Die jeweilige Aktuatoreinrichtung 111 kann grundsätzlich in beliebiger Weise gestaltet sein. So kann die jeweilige Aktuatoreinheit 111.1 der Aktuatoreinrichtung 111 beispielsweise unmittelbar auf das Halteelement 110 und/oder das optische Element M3 wirken. Dies ist beispielsweise in 3 durch die Kontur 115 angedeutet. In diesem Fall ist die Aktuatoreinheit 115 zwischen dem Umfangsbereich 110.4 und dem optischen Element M3 angeordnet und bildet mithin selbst einen Teil der ersten Schnittstelle IF1. Dabei liegt die Aktuatoreinheit 115 dann auch unmittelbar im Kraftfluss der Stützkraft, über welche das optische Element M3 auf der Stützstruktur der Projektionseinrichtung 104 abgestützt wird.
  • Bei vorteilhaften Varianten kann aber wie im vorliegenden Beispiel auch mindestens ein Zwischenelement 111.2 vorgesehen sein, über welches die Aktuatoreinheit 111.1 auf das Halteelement 110 wirkt. Dabei kann das Zwischenelement wie im vorliegenden Beispiel im Bereich eines ersten Endes mit dem ersten Schnittstellenabschnitt 110.1 verbunden sein und im Bereich eines zweiten Endes mit der Aktuatoreinheit 111.1 verbunden sein. Das Zwischenelement 111.2 kann ein Bewegungsuntersetzungselement bilden, über das eine Untersetzung zwischen einer Verschiebung an der Aktuatoreinheit 111.1 und der daraus resultierenden Verschiebung am ersten Schnittstellenabschnitt 110.1 erreicht wird. Das Zwischenelement 111.2 kann hierzu ein Hebelelement sein. Hiermit lässt sich insbesondere die vorstehend beschriebene Bewegungsuntersetzung auf besonders einfache Weise realisieren. Ebenso kann das Zwischenelement 111.2 wie im vorliegenden Beispiel ein Federelement (hier ein Blattfederelement) sein. Auch hiermit lässt sich insbesondere die vorstehend beschriebene Bewegungsuntersetzung auf besonders einfache Weise durch elastische Deformation des Federelements 111.2 realisieren.
  • Wie bereits erwähnt, kann die Aktuatoreinrichtung 111 zwischen dem Halteelement 110 und dem optischen Element M3 wirken, mithin also die Aktuatoreinrichtung 111 bzw. deren Aktuatoreinheit(en) 115 die erste Schnittstelle IF1 zum optischen Element M3 ausbilden. Bei bestimmten, besonders einfach zu realisierenden und vorteilhaften Varianten ist wie im vorliegenden Beispiel vorgesehen, dass die betreffende Aktuatoreinheit 111.1 der Aktuatoreinrichtung 111 zwischen der ersten Schnittstelle IF1 und der zweiten Schnittstelle IF2 auf das Halteelement 110 wirkt. Mit einer solchen rein halteelementinternen Wirkung der Aktuatoreinheit 111.1 kann insbesondere eine günstige Gestaltung realisiert werden, bei der das Halteelement 110 für die Anbindung an das optische Element M3 bzw. an die Stützeinheit 104.2 hin optimiert ist und somit eine günstige Einleitung der Stützkräfte realisiert wird. Die Aktuatoreinheit 111.1 kann dann wie im vorliegenden Beispiel im Wesentlichen außerhalb des (eigentlichen) Stützkraftflusses angeordnet sein und lediglich für die Deformationsfunktion ausgelegt bzw. optimiert sein.
  • Die Aktuatoreinrichtung 111 kann grundsätzlich beliebig mit einer oder mehreren passiven und/oder aktiven Komponenten gestaltet sein. Bei bestimmten Varianten umfasst die Aktuatoreinrichtung 111 wenigstens eine Aktuatoreinheit 111.1 mit wenigstens einem aktiven Element in Form eines Aktuators 111.3. Hierbei können beliebige Aktuatortypen zum Einsatz kommen. So kann das wenigstens eine aktive Element 111.3 kann nach Art eines Kraftaktuators ausgebildet sein. Ebenso kann das wenigstens eine aktive Element 111.3 kann nach Art eines Wegaktuators ausgebildet sein. Auch hinsichtlich der Art der erzeugten Aktuatorbewegung besteht grundsätzlich beliebige Gestaltungsfreiheit. So kann das wenigstens eine aktive Element 111.3 nach Art eines Linearaktuators ausgebildet sein. Ebenso kann das wenigstens eine aktive Element 111.3 nach Art eines Scheraktuators ausgebildet sein. Gleiches gilt hinsichtlich der Energieversorgung bzw. des Wirkprinzips des aktiven Elements 111.3. So kann das wenigstens eine aktive Element 111.3 ein mit elektrischer Energie versorgtes Element, insbesondere ein Piezoelement, sein. Ebenso kann das wenigstens eine aktive Element 111.3 ein mit thermischer Energie versorgtes Element sein. Ebenso kann das wenigstens eine aktive Element 111.3 ein mit magnetischer Energie versorgtes Element sein. Natürlich können auch beliebige Kombinationen der vorgenannten Varianten für das aktive Element 111.3 realisiert sein. So kann die Aktuatoreinheit 111.1 wie bereits erwähnt beispielsweise aus mehreren kinematisch seriell und/oder kinematisch parallel angeordneten Aktuatorelementen 111.3 aufgebaut sein, wie dies in 3 angedeutet ist.
  • Die Anbindung des Halteelements 110 an dem optischen Element M3 kann grundsätzlich auf beliebige geeignete Weise gestaltet sein, um eine günstige Einleitung der Stützkräfte in das optische Element M3 zu erzielen. Bei besonders günstigen Varianten ist wie im vorliegenden Beispiel das Halteelement 110 zumindest teilweise in eine Ausnehmung 112.2 des optischen Elements M3 eingesetzt und mit einer Wandung 112.4 der Ausnehmung 112.2 verbunden. Hiermit können besonders kompakte Konfigurationen erzielt werden.
  • Die Anbindung des Halteelements 110 kann grundsätzlich alleine oder in beliebiger Kombination über eine kraftschlüssige, formschlüssige oder stoffschlüssige Verbindung erfolgen. Besonders einfache und kompakte Gestaltungen ergeben sich, wenn das Halteelement 110 wie im vorliegenden Beispiel zumindest abschnittsweise mit dem optischen Element M3 über eine stoffschlüssige Verbindung, insbesondere eine Verklebung, verbunden ist.
  • Bei bevorzugten Varianten der Projektionsbelichtungsanlage 101 ist eine mit der Steuereinrichtung 106 verbundene Erfassungseinrichtung 116 (nur stark schematisch in 1 angedeutet) vorgesehen, die zur Erfassung eines aktuellen Abbildungsfehlers IE der der Projektionsbelichtungsanlage 101 dient. Die Steuereinrichtung 106 ist hierbei dazu konfiguriert, in Abhängigkeit von dem aktuellen Abbildungsfehler die Aktuatoreinrichtung 111 zur Korrektur des Abbildungsfehlers IE anzusteuern. Dabei versteht es sich, dass die Aktuatoreinrichtung 111 nicht notwendigerweise zur vollständigen Korrektur des Abbildungsfehlers IE angesteuert werden muss bzw. überhaupt nicht zur vollständigen Korrektur des Abbildungsfehlers IE geeignet sein muss. Vielmehr können weitere Komponenten der Projektionsbelichtungsanlage 101 zur Korrektur herangezogen werden. Die Aktuatoreinrichtung 111 muss lediglich dazu geeignet sein bzw. angesteuert werden können, um einen nennenswerten Beitrag zur Korrektur des Abbildungsfehlers IE zu leisten.
  • Die Steuereinrichtung 106 kann zur Korrektur des Abbildungsfehlers IE insbesondere eine gespeicherte Einflussinformation INFI verwenden, die für einen Einfluss einer Betätigung der Aktuatoreinrichtung 111 auf den Abbildungsfehler IE der Projektionsbelichtungsanlage 101 repräsentativ ist. Hierzu kann beispielsweise während des Betriebes der Projektionsbelichtungsanlage 101 ein feldabhängiger Verlauf des Abbildungsfehlers IE (ein so genannter Aberrationsfingerabdruck) erfasst werden und mit zuvor erfassten und in der Steuereinrichtung 106 entsprechend gespeicherten Abbildungsfehlern IES (so genannten Aberrationsmustern) verglichen werden, die durch Deformationen der optischen Oberfläche 112.1 des optischen Elements M3 entstehen, wie sie durch vorgegebene Krafteinleitung (FR, FT, FA) und/oder Momenteinleitung (MC, MA, MR) der optischen Anordnung 108 hervorgerufen werden können.
  • Anstelle einer direkten Erfassung des Abbildungsfehlers IE kann die Steuereinrichtung 106 ebenso ein gespeichertes (empirisch und/oder theoretisch ermitteltes) Modell MOD der Projektionsbelichtungsanlage 101 verwenden, welches den Abbildungsfehler IE der optischen Abbildung in Abhängigkeit von bestimmten Betriebsparametern PAR der Projektionsbelichtungsanlage 101 repräsentiert (IE = MOD(PAR)). Anhand aktuell erfasster Werte dieser Betriebsparameter PAR kann dann (mittels des Modells MOD) auf den aktuellen Abbildungsfehler IE geschlossen werden bzw. dieser vorhergesagt werden. Die Steuereinrichtung 106 kann dann die Aktuatoreinrichtung 111 (wie vorstehend beschrieben) entsprechend zur Korrektur des Abbildungsfehlers IE ansteuern.
  • Die optische Anordnung 108 kann grundsätzlich an beliebiger geeigneter Stelle in der optischen Abbildungseinrichtung angeordnet sein. So kann die Abbildungseinrichtung in einem Abbildungsstrahlengang von der Beleuchtungseinrichtung 102 zu der Bildeinrichtung 105 eine erste Komponente und eine zweite Komponente aufweisen, wobei die erste Komponente ein Bildfeld der Abbildung auf der Bildeinrichtung 105 definiert und die zweite Komponente eine Pupille der Abbildungseinrichtung definiert. Die optische Anordnung 108 kann dann in dem Abbildungsstrahlengang nahe benachbart zu der ersten Komponente angeordnet sein. In diesem Fall ergibt sich ein ausgeprägt ortsabhängiger Einfluss der erzielten Deformation des optischen Elements der optischen Anordnung 108 auf den Abbildungsfehler IE bzw. dessen Korrektur. Ebenso kann die optische Anordnung 108 in dem Abbildungsstrahlengang nahe benachbart zu der zweiten Komponente angeordnet sein. In diesem Fall ergibt sich ein vergleichsweise gleichmäßiger bzw. ortsunabhängiger Einfluss der erzielten Deformation des optischen Elements der optischen Anordnung 108 auf den Abbildungsfehler IE bzw. dessen Korrektur. Ebenso kann die optische Anordnung 108 in dem Abbildungsstrahlengang im Bereich einer von der ersten Komponente und der zweiten Komponente entfernten Zwischenposition angeordnet sein, um einen entsprechend moderat ortsabhängigen Einfluss der erzielten Deformation des optischen Elements der optischen Anordnung 108 auf den Abbildungsfehler bzw. dessen Korrektur zu erzielen.
  • Grundsätzlich ist anzumerken, dass die optische Anordnung 108 bevorzugt bei den optischen Elementen zum Einsatz kommt, bei denen die Deformation ihrer optischen Fläche einen besonders großen Kompensationseffekt auf eine oder mehrere Komponenten des Abbildungsfehlers IE hat. Dabei ist es natürlich bevorzugt, wenn die gewünschte Deformation der optischen Fläche mit möglichst geringem Aufwand und/oder besonders feinfühlig über die Stellbewegungen der zugehörigen Aktuatoreinrichtung(en) einstellbar ist.
  • Zweites Ausführungsbeispiel
  • Im Folgenden wird unter Bezugnahme auf die 1 und 4 eine weitere bevorzugte Ausführungsform der erfindungsgemäßen Anordnung 208 beschrieben, welche anstelle der Anordnung 108 in der Abbildungseinrichtung 101 der 1 verwendet werden kann. Die Anordnung 208 entspricht in ihrer grundsätzlichen Gestaltung und Funktionsweise der Anordnung 108 aus 2 und 3, sodass hier lediglich auf die Unterschiede eingegangen werden soll. Insbesondere sind identische Komponenten mit den identischen Bezugszeichen versehen, während gleichartige Komponenten mit um den Wert 100 erhöhten Bezugszeichen versehen sind. Sofern nachfolgend nichts Anderweitiges ausgeführt wird, wird hinsichtlich der Merkmale, Funktionen und Vorteile dieser Komponenten auf die obigen Ausführungen im Zusammenhang mit dem ersten Ausführungsbeispiel verwiesen.
  • Ein Unterschied zu dem ersten Ausführungsbeispiel besteht darin, dass die Aktuatoreinrichtung 211 eine Aktuatoreinheit 211.1 aufweist, deren Enden über jeweils ein Zwischenelement 111.2 an zwei diametral gegenüberliegenden Umfangsbereichen 110.4 angreift. Die radiale Schnittstellenkraft FR und/oder die tangentiale Schnittstellenkraft FT und/oder die axiale Schnittstellenkraft FA an diesen beiden Umfangsbereichen 110.4 wird dann über das betreffende Paar aus Kraft und Reaktionskraft an den Angriffspunkten an den Umfangsbereichen 110.4 eingestellt. Gleiches gilt für die Momente (MC, MA, MR) an den beiden Umfangsbereichen 110.4. Es versteht sich dabei, dass die Aktuatoreinrichtung 211 auch mehrere solcher Aktuatoreinheiten 211.1 umfassen kann, die jeweils an zwei diametral gegenüberliegenden Umfangsbereichen 110.4 angreifen
  • Ein weiterer Unterschied zu dem ersten Ausführungsbeispiel besteht darin, dass die Aktuatoreinrichtung 211 eine Aktuatoreinheit 217 aufweist, deren Enden an zwei unmittelbar aneinander angrenzenden Umfangsbereichen 110.4 angreifen. Die radiale Schnittstellenkraft FR und/oder die tangentiale Schnittstellenkraft FT und/oder die axiale Schnittstellenkraft FA an diesen beiden Umfangsbereichen 110.4 wird dann über das betreffende Paar aus Kraft und Reaktionskraft an den Angriffspunkten an den Umfangsbereichen 110.4 eingestellt. Gleiches gilt für die Momente (MC, MA, MR) an den beiden Umfangsbereichen 110.4.
  • Es versteht sich dabei, dass die Aktuatoreinrichtung 211 auch mehrere solcher Aktuatoreinheiten 217 umfassen kann, die jeweils an zwei unmittelbar aneinander angrenzenden Umfangsbereichen 110.4 angreifen. Ebenso kann eine Aktuatoreinheit 217 auch einen oder mehrere Umfangsbereiche 110.4 überspringen und beispielsweise in Umfangsrichtung erst am übernächsten Umfangsbereich 110.4 (oder einem noch weiter entfernten Umfangsbereich 110.4) angreifen.
  • Es versteht sich, dass die vorbeschriebenen Varianten der Aktuatoreinrichtung 111 bzw. 211 bzw. ihre Aktuatoreinheiten 111.1, 115, 211.1 und 217 beliebig miteinander kombiniert werden können. Ebenso ist es möglich, Halteelemente 110 des optischen Elements M3 oder anderer optischer Elemente der Projektionsbelichtungsanlage 101 unterschiedlich auszuführen, mithin also mit unterschiedlichen Aktuatoreinheiten 111.1, 115, 211.1, 217 bzw. unterschiedlichen Kombinationen von Aktuatoreinheiten 111.1, 115, 211.1, 217 auszuführen.
  • Die vorliegende Erfindung wurde vorstehend ausschließlich anhand von Beispielen aus dem Bereich der Mikrolithographie beschrieben. Es versteht sich jedoch, dass die Erfindung auch im Zusammenhang mit beliebigen anderen optischen Anwendungen, insbesondere Abbildungsverfahren bei anderen Wellenlängen, zum Einsatz kommen kann, bei denen sich ähnliche Probleme hinsichtlich der Deformation zur Korrektur von Abbildungsfehlern stellen.
  • Weiterhin kann die Erfindung im Zusammenhang mit der Inspektion von Objekten, wie beispielsweise der so genannten Maskeninspektion zu Einsatz kommen, bei welcher die für die Mikrolithographie verwendeten Masken auf ihre Integrität etc. untersucht werden. An Stelle des Wafers 105.1 tritt dann in 1 beispielsweise eine Sensoreinheit, welche die Abbildung des Projektionsmusters des Retikels 104.1 (zur weiteren Verarbeitung) erfasst. Diese Maskeninspektion kann dann sowohl im Wesentlichen bei derselben Wellenlänge erfolgen, die im späteren Mikrolithographieprozess verwendet wird. Ebenso können aber auch beliebige hiervon abweichende Wellenlängen für die Inspektion verwendet werden.
  • Die vorliegende Erfindung wurde vorstehend schließlich anhand konkreter Ausführungsbeispiele beschrieben, welches konkrete Kombinationen der in den nachfolgenden Patentansprüchen definierten Merkmale zeigt. Es sei an dieser Stelle ausdrücklich darauf hingewiesen, dass der Gegenstand der vorliegenden Erfindung nicht auf diese Merkmalskombinationen beschränkt ist, sondern auch sämtliche übrigen Merkmalskombinationen, wie sie sich aus den nachfolgenden Patentansprüchen ergeben, zum Gegenstand der vorliegenden Erfindung gehören.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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  • Zitierte Patentliteratur
    • US 7760327 B2 [0008]
    • DE 102008009600 A1 [0066, 0069]
    • US 2006/0132747 A1 [0068]
    • EP 1614008 B1 [0068]
    • US 6573978 [0068]
    • US 2018/0074303 A1 [0078]

Claims (20)

  1. Optische Anordnung einer Abbildungseinrichtung für die Mikrolithographie, insbesondere für die Verwendung von Licht im extremen UV-Bereich (EUV), mit - einer Halteeinrichtung (109) zum Halten eines optischen Elements (M3), wobei - die Halteeinrichtung (109) wenigstens ein Halteelement (110) aufweist, - das Halteelement (110) einen ersten Schnittstellenabschnitt (110.1) und einen zweiten Schnittstellenabschnitt (110.2) aufweist, - der erste Schnittstellenabschnitt (110.1) eine erste Schnittstelle (IF1) bildet, über welche das wenigstens eine Halteelement (110) in einem montierten Zustand mit dem optischen Element verbunden ist, - der zweite Schnittstellenabschnitt (110.2) eine zweite Schnittstelle (IF2) bildet, über welche das Halteelement (110) in dem montierten Zustand mit einer, insbesondere aktiven, Stützeinheit (104.2) verbunden ist, die das optische Element (109) mit einer Stützstruktur verbindet, um das optische Element (M3) über eine Stützkraft an der Stützstruktur abzustützen, dadurch gekennzeichnet, dass - die Halteeinrichtung (109) eine Aktuatoreinrichtung (111; 211) umfasst, wobei - die Aktuatoreinrichtung (111; 211) zwischen der ersten Schnittstelle (IF1) und der zweiten Schnittstelle (IF2) an dem Halteelement (110) angreift, - die Aktuatoreinrichtung (111; 211) dazu konfiguriert ist, gesteuert durch eine Steuereinrichtung (106) derart auf das Halteelement (110) zu wirken, dass an der ersten Schnittstelle (IF1) eine vorgebbare Schnittstellendeformation und/oder eine vorgebbare, auf das optische Element (M3) wirkende Schnittstellenkraftverteilung eingestellt wird.
  2. Optische Anordnung nach Anspruch 1, wobei - das Halteelement (110) eine Umfangsrichtung, eine Radialrichtung und eine Axialrichtung definiert, wobei die Axialrichtung senkrecht zu einer durch die Umfangsrichtung und die Radialrichtung definierten Ebene verläuft, wobei - die Aktuatoreinrichtung (111; 211) dazu konfiguriert ist, gesteuert durch die Steuereinrichtung (106) in wenigstens einem Umfangsbereich (110.4) des Halteelements (110) eine vorgebbare, in der Radialrichtung auf das optische Element (M3) wirkende radiale Schnittstellenkraft einzustellen, wobei - die Aktuatoreinrichtung (111; 211) insbesondere eine Aktuatoreinheit (111.1, 115; 211.1; 217) umfasst, die dem wenigstens einen Umfangsbereich (110.4) zugeordnet ist und dazu konfiguriert ist, die radiale Schnittstellenkraft einzustellen.
  3. Optische Anordnung nach Anspruch 2, wobei - das Halteelement (110) mehrere separate Umfangsbereiche (110.4) aufweist, - die Aktuatoreinrichtung (111; 211) dazu konfiguriert ist, gesteuert durch die Steuereinrichtung (106) in jedem der Umfangsbereiche (110.4) eine vorgebbare radiale Schnittstellenkraft einzustellen, wobei insbesondere - die Aktuatoreinrichtung (111; 211) dazu konfiguriert ist, für zwei der Umfangsbereiche (110.4) die radialen Schnittstellenkräfte separat einzustellen, und/oder - die Aktuatoreinrichtung (111; 211) dazu konfiguriert ist, für zwei der Umfangsbereiche (110.4) zueinander geneigte radiale Schnittstellenkräfte einzustellen, und/oder - die Aktuatoreinrichtung (111; 211) dazu konfiguriert ist, für zwei der Umfangsbereiche (110.4) zueinander zumindest im Wesentlichen parallele, insbesondere zumindest im Wesentlichen entgegengesetzte, radiale Schnittstellenkräfte einzustellen.
  4. Optische Anordnung nach einem Ansprüche 1 bis 3, wobei - das Halteelement (110) eine Umfangsrichtung, eine Radialrichtung und eine Axialrichtung definiert, wobei die Axialrichtung senkrecht zu einer durch die Umfangsrichtung und die Radialrichtung definierten Ebene verläuft, wobei - die Aktuatoreinrichtung (111; 211) dazu konfiguriert ist, gesteuert durch die Steuereinrichtung (106) in wenigstens einem Umfangsbereich (110.4) des Halteelements (110) eine vorgebbare, tangential zu der Umfangsrichtung auf das optische Element (M3) wirkende tangentiale Schnittstellenkraft einzustellen, wobei - die Aktuatoreinrichtung (111; 211) insbesondere eine Aktuatoreinheit (111.1, 115; 211.1; 217) umfasst, die dem wenigstens einen Umfangsbereich (110.4) zugeordnet ist und dazu konfiguriert ist, die tangentiale Schnittstellenkraft einzustellen.
  5. Optische Anordnung nach Anspruch 4, wobei - das Halteelement (110) mehrere separate Umfangsbereiche (110.4) aufweist, - die Aktuatoreinrichtung (111; 211) dazu konfiguriert ist, gesteuert durch die Steuereinrichtung (106) in jedem der Umfangsbereiche (110.4) eine vorgebbare tangentiale Schnittstellenkraft einzustellen, wobei insbesondere - die Aktuatoreinrichtung (111; 211) dazu konfiguriert ist, für zwei der Umfangsbereiche (110.4) die tangentialen Schnittstellenkräfte separat einzustellen, und/oder - die Aktuatoreinrichtung (111; 211) dazu konfiguriert ist, für zwei der Umfangsbereiche (110.4) zueinander geneigte tangentiale Schnittstellenkräfte einzustellen, und/oder - die Aktuatoreinrichtung (111; 211) dazu konfiguriert ist, für zwei der Umfangsbereiche (110.4) zueinander zumindest im Wesentlichen parallele, insbesondere zumindest im Wesentlichen entgegengesetzte, tangentiale Schnittstellenkräfte einzustellen.
  6. Optische Anordnung nach einem Ansprüche 1 bis 5, wobei - das Halteelement (110) eine Umfangsrichtung, eine Radialrichtung und eine Axialrichtung definiert, wobei die Axialrichtung senkrecht zu einer durch die Umfangsrichtung und die Radialrichtung definierten Ebene verläuft, wobei - die Aktuatoreinrichtung (111; 211) dazu konfiguriert ist, gesteuert durch die Steuereinrichtung (106) in wenigstens einem Umfangsbereich (110.4) des Halteelements (110) eine vorgebbare, parallel zu der Axialrichtung auf das optische Element (M3) wirkende axiale Schnittstellenkraft einzustellen, wobei - die Aktuatoreinrichtung (111; 211) insbesondere eine Aktuatoreinheit (111.1, 115; 211.1; 217) umfasst, die dem wenigstens einen Umfangsbereich (110.4) zugeordnet ist und dazu konfiguriert ist, die axiale Schnittstellenkraft einzustellen.
  7. Optische Anordnung nach Anspruch 6, wobei - das Halteelement (110) mehrere separate Umfangsbereiche (110.4) aufweist, - die Aktuatoreinrichtung (111; 211) dazu konfiguriert ist, gesteuert durch die Steuereinrichtung (106) in jedem der Umfangsbereiche (110.4) eine vorgebbare axiale Schnittstellenkraft einzustellen, wobei insbesondere - die Aktuatoreinrichtung (111; 211) dazu konfiguriert ist, für zwei der Umfangsbereiche (110.4) die axialen Schnittstellenkräfte separat einzustellen, und/oder - die Aktuatoreinrichtung (111; 211) dazu konfiguriert ist, für zwei der Umfangsbereiche (110.4) zueinander zumindest im Wesentlichen entgegengesetzte axiale Schnittstellenkräfte einzustellen.
  8. Optische Anordnung nach einem Ansprüche 1 bis 7, wobei - das Halteelement (110) eine Umfangsrichtung, eine Radialrichtung und eine Axialrichtung definiert, wobei die Axialrichtung senkrecht zu einer durch die Umfangsrichtung und die Radialrichtung definierten Ebene verläuft, wobei - die Aktuatoreinrichtung (111; 211) dazu konfiguriert ist, gesteuert durch die Steuereinrichtung (106) in wenigstens einem Umfangsbereich (110.4) des Halteelements (110) wenigstens ein vorgebbares, auf das optische Element (M3) wirkendes Schnittstellenmoment einzustellen, wobei insbesondere - die Aktuatoreinrichtung (111; 211) eine Aktuatoreinheit (111.1, 115; 211.1; 217) umfasst, die dem wenigstens einen Umfangsbereich (110.4) zugeordnet ist und dazu konfiguriert ist, das wenigstens eine Schnittstellenmoment einzustellen, und/oder - das wenigstens eine Schnittstellenmoment um die Umfangsrichtung wirkt und/oder - das wenigstens eine Schnittstellenmoment um die Axialrichtung wirkt und/oder - das wenigstens eine Schnittstellenmoment um die Radialrichtung wirkt.
  9. Optische Anordnung nach Anspruch 8, wobei - das Halteelement (110) mehrere separate Umfangsbereiche (110.4) aufweist, - die Aktuatoreinrichtung (111; 211) dazu konfiguriert ist, gesteuert durch die Steuereinrichtung (106) in jedem der Umfangsbereiche (110.4) wenigstens ein vorgebbares Schnittstellenmoment einzustellen, wobei insbesondere - die Aktuatoreinrichtung (111; 211) dazu konfiguriert ist, für zwei der Umfangsbereiche (110.4) die Schnittstellenmomente separat einzustellen, und/oder - die Aktuatoreinrichtung (111; 211) dazu konfiguriert ist, für zwei der Umfangsbereiche (110.4) zueinander geneigte Schnittstellenmomente einzustellen, und/oder - die Aktuatoreinrichtung (111; 211) dazu konfiguriert ist, für zwei der Umfangsbereiche (110.4) zueinander zumindest im Wesentlichen entgegengesetzte Schnittstellenmomente einzustellen.
  10. Optische Anordnung nach einem Ansprüche 1 bis 9, wobei - das Halteelement (110) mehrere separate Umfangsbereiche (110.4) aufweist und - die Aktuatoreinrichtung (111; 211) für jeden der Umfangsbereiche (110.4) wenigstens eine zugeordnete Aktuatoreinheit (111.1, 115; 211.1; 217) umfasst, wobei insbesondere - die Anzahl N der separaten Umfangsbereiche (110.4) 3 bis 60, vorzugsweise 6 bis 30, weiter vorzugsweise 12 bis 24 beträgt, und/oder - zwei der Umfangsbereiche (110.4) aneinander angrenzen und/oder - die Umfangsbereiche (110.4) ein Zentrum (110.6) des Halteelements (110) definieren und zwei der Umfangsbereiche (110.4) zueinander bezüglich des Zentrums (110.6) diametral gegenüberliegend angeordnet sind.
  11. Optische Anordnung nach einem Ansprüche 1 bis 10, wobei - das Halteelement (110) mehrere separate Umfangsbereiche (110.4) aufweist und - die Aktuatoreinrichtung (111; 211) mehrere Aktuatoreinheiten (111.1, 115; 211.1; 217) umfasst, die auf wenigstens einen der Umfangsbereiche (110.4) wirken, wobei insbesondere - wenigstens einem Umfangsbereich (110.4), vorzugsweise jeweils mehreren Umfangsbereichen (110.4), weiter vorzugsweise jeweils allen Umfangsbereichen (110.4), wenigstens zwei Aktuatoreinheiten (111.1, 115; 211.1; 217) zugeordnet sind, und/oder - wenigstens zwei Aktuatoreinheiten (111.1, 115; 211.1; 217) kinematisch seriell zueinander auf denselben Umfangsbereich (110.4) wirken, und/oder - wenigstens zwei Aktuatoreinheiten (111.1, 115; 211.1; 217) kinematisch parallel zueinander auf denselben Umfangsbereich (110.4) wirken. und/oder - wenigstens zwei Aktuatoreinheiten (111.1, 115; 211.1; 217) auf denselben Umfangsbereich (110.4) wirken, wobei die wenigstens zwei Aktuatoreinheiten (111.1, 115; 211.1; 217) gesteuert durch die Steuereinrichtung (106) vorgebbare und in unterschiedlichen Richtungen auf das optische Element (M3) wirkende Schnittstellenkräfte einstellen und/oder eine vorgebbare, auf das optische Element (M3) wirkende Schnittstellenkraft und ein vorgebbares, auf das optische Element (M3) wirkendes Schnittstellenmoment einstellen und/oder vorgebbare und in unterschiedlichen Richtungen auf das optische Element (M3) wirkende Schnittstellenmomente einstellen.
  12. Optische Anordnung nach einem Ansprüche 1 bis 11, wobei - die Aktuatoreinrichtung (111; 211) wenigstens eine Aktuatoreinheit (111.1, 115; 211.1; 217) umfasst und - die Aktuatoreinheit (111.1, 115; 211.1; 217) über mindestens ein Zwischenelement (111.2) auf das Halteelement (110) wirkt, wobei insbesondere - das Zwischenelement (111.2) im Bereich eines ersten Endes mit dem ersten Schnittstellenabschnitt (110.1) verbunden ist und im Bereich eines zweiten Endes mit der Aktuatoreinheit (111.1, 115; 211.1; 217) verbunden ist und/oder - das Zwischenelement (111.2) ein Bewegungsuntersetzungselement ist und/oder - das Zwischenelement (111.2) ein Hebelelement ist und/oder - das Zwischenelement (111.2) ein Federelement ist.
  13. Optische Anordnung nach einem Ansprüche 1 bis 12, wobei - die Aktuatoreinrichtung (111; 211) wenigstens eine Aktuatoreinheit (111.1, 115; 211.1; 217) umfasst und - die wenigstens eine Aktuatoreinheit (111.1, 115; 211.1; 217) zwischen der ersten Schnittstelle (IF1) und der zweiten Schnittstelle (IF2) auf das Halteelement (110) wirkt, wobei insbesondere - die wenigstens eine Aktuatoreinheit (111.1, 115; 211.1; 217) mit einem Ende an dem ersten Schnittstellenabschnitt (110.1) angeschlossen ist und/oder - die wenigstens eine Aktuatoreinheit (111.1, 115; 211.1; 217) mit einem Ende an dem zweiten Schnittstellenabschnitt (110.2) angeschlossen ist.
  14. Optische Anordnung nach einem Ansprüche 1 bis 13, wobei - die Aktuatoreinrichtung (111; 211) wenigstens eine Aktuatoreinheit (111.1, 115; 211.1; 217) mit wenigstens einem aktiven Element (111.3, 111.4) umfasst wobei insbesondere - das wenigstens eine aktive Element (111.3, 111.4) nach Art eines Wegaktuators ausgebildet ist und/oder - das wenigstens eine aktive Element (111.3, 111.4) nach Art eines Linearaktuators ausgebildet ist und/oder - das wenigstens eine aktive Element (111.3, 111.4) nach Art eines Scheraktuators ausgebildet ist und/oder - das wenigstens eine aktive Element (111.3, 111.4) ein mit elektrischer Energie versorgtes Element, insbesondere ein Piezoelement, ist und/oder - das wenigstens eine aktive Element (111.3, 111.4) ein mit thermischer Energie versorgtes Element ist, und/oder - das wenigstens eine aktive Element (111.3, 111.4) ein mit magnetischer Energie versorgtes Element ist.
  15. Optische Anordnung nach einem Ansprüche 1 bis 13, wobei - das Halteelement (110) dazu konfiguriert ist, zumindest teilweise in eine Ausnehmung (112.2) des optischen Elements (M3) eingesetzt zu werden, wobei die erste Schnittstelle (IF1) insbesondere mit einer Wandung (112.4) der Ausnehmung (112.2) verbunden wird, und/oder - das Halteelement (110) zumindest abschnittsweise, insbesondere im Bereich des ersten Schnittstellenabschnitts (110.1), nach Art einer Buchse ausgebildet ist, wobei insbesondere mehrere durch Schlitze (110.3) voneinander getrennte Umfangsbereiche (110.4) ausgebildet sind, wobei insbesondere wenigstens einer der Umfangsbereiche (110.4) in einer Radialrichtung der Buchse federnd ausgebildet ist, und/oder - das Halteelement (110) zumindest abschnittsweise nach Art einer Buchse ausgebildet ist, die einen zentralen Bereich des Halteelements (110) definiert und der zweite Schnittstellenabschnitt (110.2) in dem zentralen Bereich (110.6) des Halteelements (110) angeordnet ist, und/oder - das Halteelement (110) zumindest abschnittsweise mit dem optischen Element (M3) über eine stoffschlüssige Verbindung, insbesondere eine Verklebung, verbunden ist.
  16. Optische Abbildungseinrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit - einer Beleuchtungseinrichtung (102) mit einer ersten optischen Elementgruppe (102.2), - einer Objekteinrichtung (103) zur Aufnahme eines Objekts (103.3), - einer Projektionseinrichtung (104) mit einer zweiten optischen Elementgruppe (104.1) und - einer Bildeinrichtung (105), wobei - die Beleuchtungseinrichtung (102) zur Beleuchtung des Objekts (103.3) ausgebildet ist und - die Projektionseinrichtung (104) zur Projektion einer Abbildung des Objekts (103.3) auf die Bildeinrichtung (105) ausgebildet ist, dadurch gekennzeichnet, dass - die Beleuchtungseinrichtung (102) und/oder die Projektionseinrichtung (104) wenigstens eine optische Anordnung (108) nach einem der Ansprüche 1 bis 15 umfasst,
  17. Optische Abbildungseinrichtung nach Anspruch 16, wobei - eine mit der Steuereinrichtung (106) verbundene Erfassungseinrichtung zur Erfassung eines aktuellen Abbildungsfehlers der Abbildungseinrichtung (101) vorgesehen ist und - die Steuereinrichtung (106) dazu konfiguriert ist, in Abhängigkeit von dem aktuellen Abbildungsfehler die Aktuatoreinrichtung (111; 211) zur Korrektur des Abbildungsfehlers anzusteuern, wobei - die Steuereinrichtung (106) insbesondere eine gespeicherte Einflussinformation verwendet, die für einen Einfluss einer Betätigung der Aktuatoreinrichtung (111; 211) auf den Abbildungsfehler der Abbildungseinrichtung (101) repräsentativ ist.
  18. Optische Abbildungseinrichtung nach Anspruch 16 oder 17, wobei - in einem Abbildungsstrahlengang von der Beleuchtungseinrichtung (102) zu der Bildeinrichtung (105) eine erste Komponente und eine zweite Komponente vorgesehen ist, - die erste Komponente ein Bildfeld der Abbildung auf der Bildeinrichtung (105) definiert, - die zweite Komponente eine Pupille der Abbildungseinrichtung (101) definiert, wobei - die optische Anordnung (108) in dem Abbildungsstrahlengang nahe benachbart zu der ersten Komponente angeordnet ist oder - die optische Anordnung (108) in dem Abbildungsstrahlengang nahe benachbart zu der zweiten Komponente angeordnet ist oder - die optische Anordnung (108) in dem Abbildungsstrahlengang im Bereich einer von der ersten Komponente und der zweiten Komponente entfernten Zwischenposition angeordnet ist.
  19. Verfahren zum Abstützen eines optischen Elements (M3) für die Mikrolithographie, insbesondere für die Verwendung von Licht im extremen UV-Bereich (EUV), bei dem - das optische Element (M3) durch eine Halteeinrichtung (109) (110) mit wenigstens einem Halteelement (110) gehalten wird, das einen ersten Schnittstellenabschnitt (110.1) und einen zweiten Schnittstellenabschnitt (110.2) aufweist, wobei - der erste Schnittstellenabschnitt (110.1) eine erste Schnittstelle (IF1) bildet, über welche das wenigstens eine Halteelement (110) in einem montierten Zustand mit dem optischen Element (M3) verbunden wird, - der zweite Schnittstellenabschnitt (110.2) eine zweite Schnittstelle (IF2) bildet, über welche das Halteelement (110) in dem montierten Zustand mit einer, insbesondere aktiven, Stützeinheit (104.2) verbunden wird, die das optische Element (M3) mit einer Stützstruktur verbindet, um das optische Element (M3) über eine Stützkraft an der Stützstruktur abzustützen, dadurch gekennzeichnet, dass - eine Aktuatoreinrichtung (111; 211) der Halteeinrichtung (109) zwischen der ersten Schnittstelle (IF1) und der zweiten Schnittstelle (IF2) an dem Halteelement (110) angreift, - die Aktuatoreinrichtung (111; 211) derart gesteuert auf das Halteelement (110) wirkt, dass an der ersten Schnittstelle (IF1) eine vorgebbare Schnittstellendeformation und/oder eine vorgebbare, auf das optische Element (M3) wirkende Schnittstellenkraftverteilung eingestellt wird.
  20. Optisches Abbildungsverfahren, insbesondere für die Mikrolithographie, bei dem - eine Beleuchtungseinrichtung (102), die eine erste optische Elementgruppe (102.2) aufweist, ein Objekt (103.3) beleuchtet und - eine Projektionseinrichtung (104), die eine zweite optische Elementgruppe (104.1) aufweist, eine Abbildung des Objekts (103.3) auf eine Bildeinrichtung (105) projiziert, dadurch gekennzeichnet, dass - wenigstens ein optisches Element (M3) der Beleuchtungseinrichtung (102) und/oder der Projektionseinrichtung (104) mittels eines Verfahrens nach Anspruch 17 abgestützt wird, wobei insbesondere - ein aktueller Abbildungsfehler der Abbildung erfasst wird und in Abhängigkeit von dem aktuellen Abbildungsfehler die Aktuatoreinrichtung (111; 211) zur Korrektur des Abbildungsfehlers angesteuert wird, wobei insbesondere eine gespeicherte Einflussinformation verwendet wird, die für einen Einfluss einer Betätigung der Aktuatoreinrichtung (111; 211) auf den Abbildungsfehler repräsentativ ist.
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