DE102021208628A1 - Abstützung eines optischen elements - Google Patents

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Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Verbindungsanordnung zum Verbinden einer ersten Komponente (104.2) und einer zweiten Komponente (M3) einer Abbildungseinrichtung (101) für die Mikrolithographie, insbesondere für die Verwendung von Licht im extremen UV-Bereich (EUV), mittels einer Verbindungseinheit (110) mit einem ersten Kontaktabschnitt (110.1), einem zweiten Kontaktabschnitt (110.2), und einem Kopplungsabschnitt (110.3). Der erste Kontaktabschnitt (110.1) ist dazu konfiguriert, die erste Komponente (104.2) in einem montierten Zustand zu kontaktieren, während der zweite Kontaktabschnitt (110.2) dazu konfiguriert ist, die zweite Komponente (M3) in dem montierten Zustand zu kontaktieren. Der erste Kontaktabschnitt (110.1) weist einen ersten Kopplungsbereich (110.5) und einen zweiten Kopplungsbereich (110.6) auf, der von dem ersten Kopplungsbereich (110.5) in einer ersten Richtung einen Kopplungsbereichsabstand aufweist. Der Kopplungsabschnitt (110.3) weist ein erstes Ende (110.7) und ein entgegengesetztes zweites Ende (110.8) auf, wobei der Kopplungsabschnitt (110.3) zumindest in dem montierten Zustand den ersten Kontaktabschnitt (110.1) und den zweiten Kontaktabschnitt (110.2) miteinander koppelt, indem der Kopplungsabschnitt (110.3) an dem ersten Ende (110.7) mit dem ersten Kopplungsbereich (110.5) verbunden ist und an dem zweiten Ende (110.8) mit dem zweiten Kopplungsbereich (110.6) verbunden ist. Der Kopplungsabschnitt (110.3) ist zumindest in dem montierten Zustand zwischen dem ersten Ende (110.7) und dem zweiten Ende (110.8) mit dem zweiten Kontaktabschnitt (110.2) verbunden. Der erste Kontaktabschnitt (110.1) und/oder der Kopplungsabschnitt (110.3) ist derart ausgebildet, dass in dem montierten Zustand bei einer, insbesondere durch thermische Ausdehnung bedingten, Zustandsänderung von einem ersten Zustand in einen zweiten Zustand mit einer Vergrößerung des Kopplungsbereichsabstands dem zweiten Kontaktabschnitt (110.2) eine Bewegungskomponente entlang einer zweiten Richtung aufgeprägt wird, wobei die zweite Richtung quer zu der ersten Richtung verläuft.

Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine Verbindungsanordnung zum Verbinden von Komponenten einer Abbildungseinrichtung für die Mikrolithographie, die für die Verwendung von UV Nutzlicht geeignet ist, insbesondere von Licht im extremen ultravioletten (EUV) Bereich. Weiterhin betrifft die Erfindung eine optische Abbildungseinrichtung mit einer solchen Verbindungsanordnung. Die Erfindung lässt sich im Zusammenhang mit beliebigen optischen Abbildungsverfahren einsetzen. Besonders vorteilhaft lässt sie sich bei der Herstellung oder der Inspektion mikroelektronischer Schaltkreise sowie der hierfür verwendeten optischen Komponenten (beispielsweise optischer Masken) einsetzen.
  • Die im Zusammenhang mit der Herstellung mikroelektronischer Schaltkreise verwendeten optischen Einrichtungen umfassen typischerweise eine Mehrzahl optischer Elementeinheiten, die ein oder mehrere optische Elemente wie Linsen, Spiegel oder optische Gitter umfassen, die im Abbildungslichtpfad angeordnet sind. Diese optischen Elemente wirken typischerweise in einem Abbildungsprozess zusammen, um ein Bild eines Objekts (beispielsweise ein auf einer Maske gebildetes Muster) auf ein Substrat (beispielsweise einen so genannten Wafer) zu transferieren. Die optischen Elemente sind typischerweise in einer oder mehreren funktionalen Gruppen zusammengefasst, die gegebenenfalls in separaten Abbildungseinheiten gehalten sind. Insbesondere bei hauptsächlich refraktiven Systemen, die mit einer Wellenlänge im so genannten Vakuum-Ultraviolett-Bereich (VUV, beispielsweise bei einer Wellenlänge von 193 nm) arbeiten, sind solche Abbildungseinheiten häufig aus einen Stapel optischer Module gebildet, die ein oder mehrere optische Elemente halten. Diese optischen Module umfassen typischerweise eine Stützstruktur mit einer im Wesentlichen ringförmigen äußeren Stützeinheit, die einen oder mehrere optische Elementhalter abstützt, die ihrerseits das optische Element halten.
  • Die immer weiter voranschreitende Miniaturisierung von Halbleiterbauelementen führt zu einem ständigen Bedarf an erhöhter Auflösung der ihre Herstellung verwendeten optischen Systeme. Dieser Bedarf an erhöhter Auflösung bedingt den Bedarf an einer erhöhten numerischen Apertur (NA) und einer erhöhten Abbildungsgenauigkeit der optischen Systeme.
  • Ein Ansatz, um eine erhöhte optische Auflösung zu erhalten, besteht darin, die Wellenlänge des in dem Abbildungsprozess verwendeten Lichtes zu verringern. In den vergangenen Jahren wurde verstärkt die Entwicklung von Systemen vorangetrieben, bei denen Licht im so genannten extremen Ultraviolettbereich (EUV) verwendet wird, typischerweise bei Wellenlängen von 5 nm bis 20 nm, in den meisten Fällen bei einer Wellenlänge von etwa 13 nm. In diesem EUV-Bereich ist es nicht mehr möglich, herkömmliche refraktive optische Systeme zu verwenden. Dies ist dadurch bedingt, dass die für refraktive optische Systeme verwendeten Materialien in diesem EUV-Bereich einen Absorptionsgrad aufweisen, der zu hoch ist um mit der verfügbaren Lichtleistung akzeptable Abbildungsergebnisse zu erzielen. Folglich müssen in diesem EUV-Bereich reflektive optische Systeme für die Abbildung verwendet werden.
  • Dieser Übergang zu rein reflektiven optischen Systemen mit hoher numerischer Apertur (z. B. NA > 0,4) im EUV-Bereich führt zu erheblichen Herausforderungen im Hinblick auf das Design der Abbildungseinrichtung.
  • Die oben genannten Faktoren führen zu sehr strengen Anforderungen hinsichtlich der Position und/oder Orientierung der optischen Elemente, die an der Abbildung teilnehmen, relativ zueinander sowie hinsichtlich der Deformation der einzelnen optischen Elemente, um eine gewünschte Abbildungsgenauigkeit erzielen. Zudem ist es erforderlich, diese hohe Abbildungsgenauigkeit über den gesamten Betrieb, letztlich über die Lebensdauer des Systems aufrechtzuerhalten.
  • Als Konsequenz müssen die Komponenten der optischen Abbildungseinrichtung (also beispielsweise die optischen Elemente der Beleuchtungseinrichtung, die Maske, die optischen Elemente der Projektionseinrichtung und das Substrat), die bei der Abbildung zusammenwirken, in einer wohldefinierten Weise abgestützt werden, um eine vorgegebene wohldefinierte räumliche Beziehung zwischen diesen Komponenten einzuhalten und eine minimale unerwünschte Deformation dieser Komponenten zu erzielen, um letztlich eine möglichst hohe Abbildungsqualität zu erreichen.
  • Ein Problem, das sich hierbei stellt, sind unerwünschte thermisch bedingte Deformationen, die sich aus unterschiedlichen thermischen Ausdehnungskoeffizienten der einzelnen Komponenten der Abbildungseinrichtung ergeben. Diese unerwünschten thermisch bedingten Deformationen entstehen meist aufgrund des Energieeintrags durch das Abbildungslicht, der gegebenenfalls nicht vollständig durch Kühlsysteme kompensiert werden kann. Dabei werden die verwendeten optischen Elemente typischerweise aus Materialien hergestellt, die einen besonders geringen thermischen Ausdehnungskoeffizienten aufweisen, um den Einfluss des Energieeintrags auf die Geometrie des optischen Elements möglichst gering zu halten. Problematisch sind hierbei typischerweise die Schnittstellen des optischen Elements zur angrenzenden Stützstruktur, da die Stützstruktur, speziell deren Komponenten im Bereich der Schnittstellen zum optischen Element nicht oder zumindest nicht wirtschaftlich sinnvoll aus Materialien mit vergleichbar geringem thermischen Ausdehnungskoeffizienten hergestellt werden können.
  • Aus diesem Grund sind im Bereich der die Schnittstellen des optischen Elements zur angrenzenden Stützstruktur typischerweise Kompensationselemente vorgesehen, welche solche thermisch bedingte unterschiedliche Ausdehnungen durch elastische Deformation aufnehmen, wie dies beispielsweise aus der US 2005/046815 A1 (Ebinuma et al., deren gesamte Offenbarung hierin durch Bezugnahme eingeschlossen wird) bekannt ist. Hierbei werden jedoch nach wie vor elastische Rückstellkräfte in das optische Element eingeleitet, die zu unerwünschten parasitären Spannungen und daraus resultierenden Deformationen führen.
  • KURZE ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
  • Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Verbindungsanordnung zum Verbinden von Komponenten einer Abbildungseinrichtung für die Mikrolithographie und eine entsprechende optische Abbildungseinrichtung mit einer solchen Anordnung, ein Verfahren zum Verbinden von Komponenten einer Abbildungseinrichtung sowie ein optisches Abbildungsverfahren zur Verfügung zu stellen, welche bzw. welches die zuvor genannten Nachteile nicht oder zumindest in geringerem Maße aufweist und insbesondere auf einfache Weise eine unerwünschte thermisch bedingte parasitäre Deformation von Komponenten der Abbildungseinrichtung zumindest zu reduzieren.
  • Die Erfindung löst diese Aufgabe mit den Merkmalen der unabhängigen Ansprüche.
  • Der Erfindung liegt die technische Lehre zugrunde, dass man auf einfache Weise eine unerwünschte thermisch bedingte parasitäre Deformation von Komponenten der Abbildungseinrichtung zumindest reduzieren kann, gegebenenfalls sogar vollständig vermeiden kann, wenn man die beiden Komponenten über eine Verbindungsanordnung mit zwei Kontaktabschnitten und einem dazwischenliegenden Kopplungsabschnitt derart verbindet, dass durch eine thermisch bedingte Änderung des Abstands zwischen den beiden Enden des Kopplungsabschnitts eine quer dazu verlaufende Kompensationsbewegung zwischen den beiden Kontaktabschnitten erzielt wird, welche eine thermisch bedingte Abstandsänderung zwischen den gekoppelten Komponenten im Bereich der Kontaktabschnitte zumindest teilweise kompensiert.
  • Dabei kann insbesondere in einfacher Weise erreicht werden, dass die Kontaktkraft zwischen dem jeweiligen Kontaktabschnitt und der kontaktierten Komponente bei einer (positiven oder negativen) thermischen Ausdehnung einen vorgebbaren Verlauf aufweist. Dabei kann die jeweilige Kontaktkraft innerhalb bestimmter Toleranzen ebenso nahezu konstant gehalten werden wie es auch möglich ist, definierte Verläufe der Kontaktkraft zu erzielen. So kann es beispielsweise günstig sein, eine bestimmte Erhöhung oder Verringerung der jeweiligen Kontaktkraft zwischen unterschiedlichen thermischen Zustanden vorzusehen.
  • Die Kompensationsbewegung zwischen den beiden Kontaktabschnitten kann durch eine Deformation des Kopplungsabschnitts erzielt werden, die aus der Abstandsänderung zwischen den beiden Enden des Kopplungsabschnitts resultiert. Die Kompensationsbewegung kann dabei einfach durch die Geometrie und die Materialeigenschaften des Kopplungsabschnitts definiert werden. Insbesondere kann die eigene thermische Ausdehnung des Kopplungsabschnitts als Einflussfaktor genutzt werden. Ebenso kann natürlich auch die aus den Kontaktkräften resultierende Deformation des Kopplungsabschnitts als Einflussfaktor genutzt bzw. berücksichtigt werden.
  • Nach einem Aspekt betrifft die Erfindung daher eine Verbindungsanordnung zum Verbinden einer ersten Komponente und einer zweiten Komponente einer Abbildungseinrichtung für die Mikrolithographie, insbesondere für die Verwendung von Licht im extremen UV-Bereich (EUV), mittels einer Verbindungseinheit mit einem ersten Kontaktabschnitt, einem zweiten Kontaktabschnitt, und einem Kopplungsabschnitt. Der erste Kontaktabschnitt ist dazu konfiguriert, die erste Komponente in einem montierten Zustand zu kontaktieren, während der zweite Kontaktabschnitt dazu konfiguriert ist, die zweite Komponente in dem montierten Zustand zu kontaktieren. Der erste Kontaktabschnitt weist einen ersten Kopplungsbereich und einen zweiten Kopplungsbereich auf, der von dem ersten Kopplungsbereich in einer ersten Richtung einen Kopplungsbereichsabstand aufweist. Der Kopplungsabschnitt weist ein erstes Ende und ein entgegengesetztes zweites Ende auf, wobei der Kopplungsabschnitt zumindest in dem montierten Zustand den ersten Kontaktabschnitt und den zweiten Kontaktabschnitt miteinander koppelt, indem der Kopplungsabschnitt an dem ersten Ende mit dem ersten Kopplungsbereich verbunden ist und an dem zweiten Ende mit dem zweiten Kopplungsbereich verbunden ist. Der Kopplungsabschnitt ist zumindest in dem montierten Zustand zwischen dem ersten Ende und dem zweiten Ende mit dem zweiten Kontaktabschnitt verbunden. Der erste Kontaktabschnitt und/oder der Kopplungsabschnitt ist weiterhin derart ausgebildet, dass in dem montierten Zustand bei einer, insbesondere durch thermische Ausdehnung bedingten, Zustandsänderung von einem ersten Zustand in einen zweiten Zustand mit einer Vergrößerung des Kopplungsbereichsabstands dem zweiten Kontaktabschnitt eine Bewegungskomponente entlang einer zweiten Richtung aufgeprägt wird, wobei die zweite Richtung quer zu der ersten Richtung verläuft.
  • Die Verbindungseinheit und die erste und zweite Komponente können grundsätzlich in beliebiger geeigneter Weise zueinander angeordnet sein, um die gewünschte Verbindung zu erzielen. Bei besonders einfachen und günstigen Varianten ist Verbindungseinheit dazu ausgebildet, in dem montierten Zustand in einem Zwischenraum zwischen der ersten Komponente und der zweiten Komponente angeordnet zu werden, wobei die erste Komponente insbesondere einen größeren thermischen Ausdehnungskoeffizienten aufweisen kann als die zweite Komponente.
  • Dabei kann es dann sein, dass sich der Zwischenraum bei der Zustandsänderung von dem ersten Zustand in einen zweiten Zustand verringert und die Bewegungskomponente des zweiten Kontaktabschnitts in der zweiten Richtung auf die erste Komponente zu weist, um die gewünschte Kompensationsbewegung zu erzielen. Besonders günstige und kompakte Gestaltungen ergeben sich, wenn sich die erste Komponente in einer Ausnehmung der zweiten Komponente befindet.
  • Alternativ kann sich der Zwischenraum bei der Zustandsänderung von dem ersten Zustand in einen zweiten Zustand vergrößern und die Bewegungskomponente des zweiten Kontaktabschnitts dann entgegen der zweiten Richtung von der ersten Komponente weg weist, um die gewünschte Kompensationsbewegung zu erzielen. Auch hier werden wiederum besonders günstige und kompakte Gestaltungen erzielt, wenn sich die zweite Komponente in einer Ausnehmung der ersten Komponente befindet.
  • Der Kopplungsabschnitt kann grundsätzlich auf beliebige Weise gestaltet sein, die geeignet ist, die beschriebene Kompensationsbewegung zu erzielen. So kann der Kopplungsabschnitt beispielsweise einen dreidimensional gekrümmten und/oder geknickten Verlauf aufweisen, der bei der Vergrößerung des Kopplungsbereichsabstands gestreckt wird, um die Kompensationsbewegung zu erzielen. Hierbei können dann natürlich auch beliebig komplexe dreidimensionale Ausdehnungsverläufe der beiden gekoppelten Komponenten berücksichtigt werden. Besonders einfache und dennoch wirkungsvolle Gestaltungen ergeben sich, wenn der Kopplungsabschnitt einen gekrümmten und/oder geknickten Verlauf in aufweist (mithin diesen Verlauf also in einer Ebene aufweist).
  • Bei bevorzugten Varianten definiert der Kopplungsabschnitt zwischen dem ersten Ende und dem zweiten Ende eine Mittenachse, wobei die Mittenachse des Kopplungsabschnitts zwischen dem ersten Ende und dem zweiten Ende zumindest in dem ersten Zustand einen bogenförmigen, ersten Verlauf aufweist. Die Mittenachse des Kopplungsabschnitts weist dann zwischen dem ersten Ende und dem zweiten Ende in dem zweiten Zustand, in dem die Vergrößerung des Kopplungsbereichsabstands vorliegt, einen zweiten Verlauf auf, der gegenüber dem ersten Verlauf gestreckt ist. Durch diese Streckung wird dann in einfacher Weise die gewünschte Kompensationsbewegung erzielt.
  • Dabei kann beispielsweise in einem einfachen Fall vorgesehen sein, dass der zweite Verlauf bogenförmig oder zumindest im Wesentlichen geradlinig ist. Ebenso kann der erste Verlauf wenigstens eines von zumindest abschnittsweise gekrümmt und zumindest abschnittsweise polygonal sein. Bei bestimmten Varianten ist der zweite Verlauf wenigstens eines von zumindest abschnittsweise gekrümmt und zumindest abschnittsweise polygonal. Bei bestimmten Varianten kann weiterhin vorgesehen sein, dass die Mittenachse des Kopplungsabschnitts zwischen dem ersten Ende und dem zweiten Ende in dem ersten Zustand eine erste mittlere Krümmung und in dem zweiten Zustand eine zweite mittlere Krümmung definiert, wobei die zweite mittlere Krümmung geringer ist als die erste mittlere Krümmung, wobei die zweite mittlere Krümmung insbesondere 95% bis 0%, vorzugsweise 75% bis 5%, weiter vorzugsweise 50% bis 10%, der ersten mittleren Krümmung beträgt. In allen diesen Fällen lässt sich alleine oder in beliebiger Kombination die gewünschte Kompensationsbewegung auf besonders einfache und kompakte Weise erzielen.
  • Wie bereits oben dargelegt, können für die Kontaktkräfte zu den beiden Komponenten grundsätzlich beliebig Kraftverläufe zwischen den (thermischen) ersten und zweiten Zuständen erzielt werden. Bei bestimmten vorteilhaften Varianten übt der zweite Kontaktabschnitt in dem ersten Zustand eine erste Kontaktkraft auf die zweite Komponente aus, während der zweite Kontaktabschnitt in dem zweiten Zustand eine zweite Kontaktkraft auf die zweite Komponente ausübt. Dabei kann der erste Kontaktabschnitt und/oder der Kopplungsabschnitt derart ausgebildet sein, dass die zweite Kontaktkraft 80% bis 120%, vorzugsweise 90% bis 110%, weiter vorzugsweise 95% bis 105%, der ersten Kontaktkraft beträgt. Zusätzlich oder alternativ kann der erste Kontaktabschnitt und/oder der Kopplungsabschnitt derart ausgebildet sein, dass die Kontaktkraft, die der zweite Kontaktabschnitt auf die zweite Komponente ausübt, beim Übergang von dem ersten Zustand in den zweiten Zustand höchstens um 15% bis 20%, vorzugsweise um höchstens 5% bis 10%, weiter vorzugsweise um höchstens 1% bis 3%, der ersten Kontaktkraft variiert. Hiermit werden jeweils alleine oder in Kombination besonders günstige Kontaktkraftverläufe erzielt.
  • Die Verbindungseinheit kann grundsätzlich als unveränderbar voreingestellte Einheit gestaltet sein. Bei besonders günstigen Varianten kann die Verbindungseinheit wenigstens eine Justageeinrichtung zum Einstellen der ersten Kontaktkraft umfassen. Dabei kann die Einstellung insbesondere durch eine Veränderung des Kopplungsbereichsabstands erfolgen.
  • Bei bestimmten Varianten der Verbindungsanordnung kann der erste Kontaktabschnitt derart ausgebildet sein, dass dem ersten Kopplungsbereich und dem zweiten Kopplungsbereich bei der Zustandsänderung von dem ersten Zustand in den zweiten Zustand entgegen der zweiten Richtung eine Kopplungsbereichsverlagerung weg von der ersten Komponente aufgeprägt wird. Der Kopplungsabschnitt ist hierbei dazu ausgebildet, bei der Zustandsänderung von dem ersten Zustand in den zweiten Zustand dem zweiten Kontaktabschnitt eine Kontaktabschnittverlagerung aufzuprägen, wobei die Kontaktabschnittverlagerung in der zweiten Richtung zur ersten Komponente hin erfolgt und die Wirkung der Kopplungsbereichsverlagerung zumindest im Wesentlichen kompensiert. Hiermit kann eine besonders vorteilhafte Konfiguration erzielt werden, bei der die Kompensationsbewegung auch die eigene thermisch bedingte Verlagerung des Kopplungsabschnitts kompensiert.
  • Der erste Kontaktabschnitt grundsätzlich auf beliebige geeignete Weise gestaltet sein, solange zwischen dem ersten Kontaktabschnitt und dem Kopplungsabschnitt genügend Freiraum vorhanden ist, dass der Kopplungsabschnitt die Kompensationsbewegung durchführen kann. So kann der erste Kontaktabschnitt beispielsweise derart zusammenhängend ausgebildet sein, dass der erste Kopplungsbereich und der zweite Kopplungsbereich von einem einzigen gemeinsamen Segment der Verbindungseinheit gebildet sind, welches dann durch einen entsprechenden Zwischenraum, beispielsweise einen Spalt, vom Kopplungsabschnitt getrennt ist.
  • Bei bestimmten vorteilhaften Varianten weist der erste Kontaktabschnitt ein erstes Kontaktsegment und ein zweites Kontaktsegment auf, die in dem montierten Zustand jeweils mit einer Komponentenkontaktfläche die erste Komponente kontaktieren. Das erste Kontaktsegment und das zweite Kontaktsegment sind dabei unter Bildung eines Freiraums, insbesondere entlang der ersten Richtung, voneinander beabstandet, wobei das erste Kontaktsegment den ersten Kopplungsbereich ausbildet und das zweite Kontaktsegment den zweiten Kopplungsbereich ausbildet und der Kopplungsabschnitt in dem montierten Zustand den Freiraum, insbesondere bogenförmig, überbrückt. Hiermit lässt sich eine besonders günstige Konfiguration erzielen, da die beiden separaten Kontaktsegmente thermisch bedingten Relativbewegungen zueinander einfach folgen können.
  • Es kann vorgesehen sein, dass die Komponentenkontaktfläche des ersten Kontaktsegments, insbesondere in der zweiten Richtung, von dem ersten Kopplungsbereich beabstandet ist. Zusätzlich oder alternativ kann die Komponentenkontaktfläche des zweiten Kontaktsegments, insbesondere in der zweiten Richtung, von dem zweiten Kopplungsbereich beabstandet sein. Durch diesen Abstand kann in vorteilhafter Weise jeweils Einfluss auf Gesamtverlagerung zwischen dem ersten und zweiten Kontaktabschnitt genommen werden, denn je größer dieser Abstand ist, desto größer fällt die thermisch bedingte Verlagerung des Kopplungsabschnitts bezüglich der ersten Komponente aus. Bei einer vorgegebenen Kompensationsbewegung durch den Kopplungsabschnitt kann der Abstand dann entsprechend hierauf abgestimmt werden, um eine vorgegebene Gesamtverlagerung zwischen dem ersten und zweiten Kontaktabschnitt zu erzielen.
  • Bei bestimmten Varianten kann vorgesehen sein, dass das erste Kontaktsegment, das zweite Kontaktsegment und der Kopplungsabschnitt zumindest einen Teil eines Verbindungselements bilden, das gegebenenfalls auch weiterhin den zweiten Kontaktabschnitt umfassen kann. Hierdurch kann eine besonders kompakte und einfach zu handhabende Konfiguration erzielt werde. Dabei kann das Verbindungselement bevorzugt monolithisch ausgebildet sein, wodurch eine einfache Konfiguration erzielt werden kann, die vorteilhaft enge Toleranzen einhält.
  • Es kann grundsätzlich ausreichen, wenn die Verbindungsanordnung lediglich ein solches Verbindungselement aufweist. Bei vorteilhaften Varianten ist das Verbindungselement jedoch ein erstes Verbindungselement, während die Verbindungseinheit wenigstens ein weiteres Verbindungselement umfasst. Hierbei kann die Verbindungseinheit N weitere Verbindungselemente umfassen, wobei N den Wert 1 bis 5, vorzugsweise 2 bis 4, weiter vorzugsweise 2 bis 3, aufweist. Dabei gilt grundsätzlich, dass eine größere Anzahl von Verbindungselementen eine feiner bzw. gleichmäßiger verteilte Übertragung der Lasten zwischen der ersten und zweiten Komponente ermöglicht.
  • Das erste Verbindungselement und das wenigstens eine weitere Verbindungselement können grundsätzlich unterschiedlich gestaltet sein, beispielsweise um bestimmten ungleichmäßigen Verteilungen der zwischen der ersten und zweiten Komponente zu übertragenden Lasten Rechnung zu tragen. Bei bestimmten, besonders einfachen Varianten kann vorgesehen sein, dass das wenigstens eine weitere Verbindungselement zumindest im Wesentlichen identisch zu dem ersten Verbindungselement ausgebildet ist.
  • Das erste Verbindungselement und das wenigstens eine weitere Verbindungselement können im montierten Zustand voneinander getrennt angeordnet sein. Bei besonders kompakten und einfach zu montierenden Varianten kontaktiert zumindest im montierten Zustand wenigstens ein Kontaktsegment des ersten Verbindungselements ein Kontaktsegment des wenigstens einen weiteren Verbindungselements. Es können weiterhin wenigstens ein Kontaktsegment des ersten Verbindungselements und ein Kontaktsegment des wenigstens einen weiteren Verbindungselements monolithisch miteinander ausgebildet sein, wodurch insbesondere die Handhabung und Montage vereinfacht wird.
  • Je nach der Gestaltung der zu verbindenden Komponenten kann die Verbindungseinheit grundsätzlich beliebig gestaltet sein. So kann sie beispielsweise einen generell linearen oder bogenförmigen Verlauf aufweisen. Bei bestimmten Varianten ist die Verbindungseinheit ringförmig ausgebildet. Weiterhin kann die Verbindungseinheit beispielsweise einen Außenumfang der ersten Komponente kontaktieren, wobei die Verbindungseinheit dann einen Abschnitt der ersten Komponente ringförmig umgeben kann. Ebenso kann die Verbindungseinheit eine Wandung einer Ausnehmung der zweiten Komponente kontaktieren, wobei die Verbindungseinheit dann in die Ausnehmung der zweiten Komponente eingesetzt sein kann. In allen diesen Fällen werden besonders günstige, kompakte Konfigurationen erzielt.
  • Bei weiteren Varianten der Verbindungsanordnung kann der erste Kontaktabschnitt ein Kontaktsegment aufweisen, das in dem montierten Zustand mit einer Komponentenkontaktfläche die erste Komponente kontaktiert. Das Kontaktsegment bildet bei diesen Varianten entfernt von der Komponentenkontaktfläche den ersten Kopplungsbereich und den zweiten Kopplungsbereich aus, wobei der Kopplungsabschnitt in dem montierten Zustand einen Zwischenraum zwischen dem ersten Kopplungsbereich und dem zweiten Kopplungsbereich, insbesondere bogenförmig, überbrückt. Wie bereits oben dargelegt, muss hierbei lediglich ein Freiraum (beispielsweise ein Spalt) zwischen dem Kontaktsegment und dem Kopplungsabschnitt vorgesehen sein, der ausreicht dass der Kopplungsabschnitt die Kompensationsbewegung ausführen kann.
  • Auch hier kann vorgesehen sein, dass die Komponentenkontaktfläche des Kontaktsegments in der zweiten Richtung von dem ersten Kopplungsbereich und/oder dem zweiten Kopplungsbereich beabstandet ist. Durch diesen Abstand kann wie bereits erläutert in vorteilhafter Weise jeweils Einfluss auf Gesamtverlagerung zwischen dem ersten und zweiten Kontaktabschnitt genommen werden, denn je größer dieser Abstand ist, desto größer fällt die thermisch bedingte Verlagerung des Kopplungsabschnitts bezüglich der ersten Komponente aus. Bei einer vorgegebenen Kompensationsbewegung durch den Kopplungsabschnitt kann der Abstand dann entsprechend hierauf abgestimmt werden, um eine vorgegebene Gesamtverlagerung zwischen dem ersten und zweiten Kontaktabschnitt zu erzielen.
  • Das Kontaktsegment kann grundsätzlich eine beliebige Gestaltung aufweisen. Bevorzugt ist das Kontaktsegment im Wesentlichen V-förmig oder im Wesentlichen Y-förmig oder im Wesentlichen T-förmig ausgebildet, da hiermit besonders günstige, insbesondere kompakte Konfigurationen erzielt werden können, bei denen die beiden Kopplungsbereiche einfach an den freien Enden der beiden Schenkel angeordnet sein können.
  • Bei bestimmten Varianten bilden das Kontaktsegment und der Kopplungsabschnitt zumindest einen Teil eines Verbindungselements. Dabei kann das Verbindungselement weiterhin den zweiten Kontaktabschnitt umfassen. Ebenso kann das Verbindungselement wiederum monolithisch ausgebildet sein, um die oben diesbezüglich bereits genannten Vorteile zu erzielen.
  • Auch bei diesen Gestaltungen kann das Verbindungselement ein erstes Verbindungselement sein und die Verbindungseinheit wenigstens ein weiteres Verbindungselement umfassen. Dabei kann die Verbindungseinheit M weitere Verbindungselemente umfassen, wobei M den Wert 1 bis 99, vorzugsweise 2 bis 49, weiter vorzugsweise 2 bis 24, aufweist. Auch hier kann aus den oben bereits genannten Gründen eine unterschiedliche Gestaltung der Verbindungselemente vorgesehen sein, beispielsweise um unterschiedlichen Lastverteilungen Rechnung zu tragen. Ebenso kann das wenigstens eine weitere Verbindungselement zumindest im Wesentlichen identisch zu dem ersten Verbindungselement ausgebildet sein.
  • Auch hier können die Verbindungselemente der Verbindungseinheit wiederum wie oben dargelegt beliebig angeordnet sein. Insbesondere können die Verbindungselemente der Verbindungseinheit ringförmig angeordnet sein, um die oben genannten Vorteile einer solchen Anordnung zu nutzen. Bei bestimmten Varianten kontaktiert die Verbindungseinheit eine Wandung einer Ausnehmung der ersten Komponente, wobei die Verbindungseinheit insbesondere in die Ausnehmung der ersten Komponente eingesetzt sein kann. Ebenso kann die Verbindungseinheit einen Außenumfang der zweiten Komponente kontaktieren, wobei die Verbindungseinheit insbesondere einen Abschnitt der zweiten Komponente ringförmig umgeben kann. Auch hiermit werden die oben bereits darlegten Vorteile einer solchen Konfiguration erzielt.
  • Die Verbindungsanordnung ist bevorzugt hinsichtlich der verwendeten Materialien auf die Materialien der ersten und zweiten Komponente abgestimmt. Bei bestimmten vorteilhaften Varianten ist die erste Komponente zumindest in ihrem an den ersten Kontaktabschnitt angrenzenden Bereich aus einem ersten Material mit einem ersten thermischen Ausdehnungskoeffizienten aufgebaut, während die zweite Komponente zumindest in ihrem an den zweiten Kontaktabschnitt angrenzenden Bereich aus einem zweiten Material mit einem zweiten thermischen Ausdehnungskoeffizienten aufgebaut ist. Die Verbindungseinheit aus einem dritten Material mit einem dritten thermischen Ausdehnungskoeffizienten aufgebaut ist, wobei einzeln oder in beliebiger Kombination Nachfolgendes realisiert sein kann.
  • So kann der erste thermische Ausdehnungskoeffizient größer sein als der zweite und der dritte thermische Ausdehnungskoeffizient. Ebenso kann der zweite thermische Ausdehnungskoeffizient größer sein als der dritte thermische Ausdehnungskoeffizient. Weiterhin kann der zweite thermische Ausdehnungskoeffizient 5% bis 25%, vorzugsweise 8% bis 20%, weiter vorzugsweise 12% bis 18%, des ersten thermischen Ausdehnungskoeffizienten betragen. Ebenso kann der dritte thermische Ausdehnungskoeffizient 5% bis 50%, vorzugsweise 10% bis 40%, weiter vorzugsweise 20% bis 30%, des ersten thermischen Ausdehnungskoeffizienten betragen. Dabei kann der dritte thermische Ausdehnungskoeffizient an beliebiger geeigneter Stelle in dem Intervall zwischen dem ersten und zweiten thermischen Ausdehnungskoeffizienten angesiedelt sein. Bevorzugt beträgt der Abstand zwischen dem ersten thermischen Ausdehnungskoeffizienten und dem dritten thermischen Ausdehnungskoeffizienten 40% bis 95%, vorzugsweise 50% bis 90%, weiter vorzugsweise 75% bis 88%, des Abstands zwischen dem ersten thermischen Ausdehnungskoeffizienten und dem zweiten thermischen Ausdehnungskoeffizienten.
  • Es versteht sich jedoch, dass der dritte thermische Ausdehnungskoeffizient bei anderen Varianten aber auch außerhalb des Intervalls zwischen dem ersten und zweiten thermischen Ausdehnungskoeffizienten angesiedelt sein kann. Dies kann günstig sein, um über die Kombination aus der thermischen Ausdehnung der Verbindungseinheit und der Kompensationsbewegung eine bestimmte Gesamtverlagerung zwischen der ersten und zweiten Komponente zu erzielen.
  • Bevorzugt beträgt der erste thermische Ausdehnungskoeffizient 10·10-6K-1 bis 20·10-6K-1, vorzugsweise 11·10-6K-1 bis 17·10-6K-1, weiter vorzugsweise 13·10-6K-1 bis 15·10-6K-1, während der zweite thermische Ausdehnungskoeffizient 0,5·10-6K-1 bis 4·10-6K-1, vorzugsweise 1·10-6K-1 bis 3·10-6K-1, weiter vorzugsweise 1·10-6K-1 bis 2·10-6K-1, beträgt und der dritte thermische Ausdehnungskoeffizient bevorzugt 2·10-6K-1 bis 6·10-6K-1, vorzugsweise 2,5·10-6K-1 bis 5·10-6K-1, weiter vorzugsweise 3·10-6K-1 bis 4·10-6K-1, beträgt.
  • Die Fixierung der Verbindungseinheit relativ zu der ersten bzw. zweiten Komponente kann grundsätzlich auf beliebige geeignete Weise erfolgen. So kann einzeln oder in beliebiger Kombination in einem oder mehreren Freiheitsgraden (bis hin zu allen sechs Freiheitsgraden im Raum) eine kraftschlüssige, eine formschlüssige oder eine stoffschlüssige Anbindung vorgesehen sein. Bei bestimmten vorteilhaften Varianten weist wenigstens einer der Kontaktabschnitte in seinem an die unmittelbar kontaktierte Komponente angrenzenden Bereich einen Fixierabschnitt auf, der dazu ausgebildet ist den Kontaktabschnitt und die unmittelbar kontaktierte Komponente in einer dritten Richtung, die quer zu der ersten und der zweiten Richtung verläuft, zu fixieren, insbesondere durch Formschluss zu fixieren. Hierdurch können besonders einfache und kompakte Konfigurationen erzielt werden, die in einfacher Weise eine thermische Ausdehnung zulassen. Hierbei kann es von Vorteil sein, wenn der Fixierabschnitt in der dritten Richtung in einem zentralen Bereich des Kontaktabschnitts angeordnet ist, da hierbei eine beidseitige Ausdehnung ermöglicht wird, bei der die insgesamt aufzunehmenden lokalen Relativbewegungen zwischen der Verbindungseinheit und der Komponente reduziert bzw. minimiert werden.
  • Dabei kann der erste Kontaktabschnitt in seinem an die erste Komponente angrenzenden Bereich einen ersten Fixierabschnitt aufweisen. Ebenso kann der zweite Kontaktabschnitt in seinem an die zweite Komponente angrenzenden Bereich einen zweiten Fixierabschnitt aufweisen. Weiterhin kann der Fixierabschnitt durch wenigstens einen Vorsprung gebildet sein, der sich in einer Ebene erstreckt, die senkrecht zu der dritten Richtung verläuft, und sich in dem montierten Zustand in eine zugeordnete Ausnehmung in der unmittelbar kontaktierten Komponente eingreift. Schließlich kann der Fixierabschnitt in dem montierten Zustand auch durch wenigstens eine Verklebung ausgebildet sein, die im Bereich wenigstens einer Vertiefung des Kontaktabschnitts ausgebildet ist.
  • Bei bestimmten Varianten kann wenigstens einer der Kontaktabschnitte in seinem an die unmittelbar kontaktierte Komponente angrenzenden Bereich einen Kompensationsabschnitt aufweisen. Der Kompensationsabschnitt ist dazu ausgebildet, eine unterschiedliche thermische Ausdehnung zwischen dem Kontaktabschnitt und der unmittelbar kontaktierten Komponente in einer dritten Richtung, die quer zu der ersten und der zweiten Richtung verläuft, aufzunehmen, insbesondere durch elastische Deformation aufzunehmen. Hierdurch können in vorteilhafter Weise parasitäre Spannungen, die aus der unterschiedlichen thermischen Ausdehnung in einer dritten Richtung resultieren, reduziert werden.
  • Dabei kann der erste Kontaktabschnitt in seinem an die erste Komponente angrenzenden Bereich einen ersten Kompensationsabschnitt aufweisen. Ebenso kann der zweite Kontaktabschnitt in seinem an die zweite Komponente angrenzenden Bereich einen zweiten Kompensationsabschnitt aufweisen. Besonders einfache und günstige Varianten ergeben sich, wenn der Kompensationsabschnitt durch voneinander entlang der dritten Richtung beabstandete elastische Abschnitte ausgebildet ist, deren Nachgiebigkeit bevorzugt entlang der dritten Richtung ausgehend von einem zentralen Abschnitt des Kontaktabschnitts zu den Enden des Kontaktabschnitts hin entlang der dritten Richtung zunimmt. Dabei können die elastischen Abschnitte insbesondere durch blattfederartige Elemente ausgebildet sein, deren Länge zu den Enden des Kontaktabschnitts hin zunimmt. Bei besonders einfachen Varianten kann die unterschiedliche Länge der blattfederartigen Elemente einfach durch quer zu der dritten Richtung unterschiedlich tiefe Schlitze in dem Kontaktabschnitt definiert sein. Dabei kann die Tiefe der Schlitze ausgehend von dem zentralen Abschnitt zu den Enden des Kontaktabschnitts hin entlang der dritten Richtung zunehmen, um die gewünschte Nachgiebigkeit einzustellen. Ebenso kann die gewünschte Nachgiebigkeit zusätzlich oder alternativ aber auch über den Abstand der Schlitze bzw. die Dicke der dadurch definierten elastische Abschnitte eingestellt werden.
  • Die Verbindungsanordnung kann grundsätzlich zur Verbindung beliebiger Komponenten verwendet werden. Besonders gut kommen die hierin genannten Vorteile zum Tragen, wenn die erste Komponente ein Bestandteil einer Stützstruktur, insbesondere für ein optisches Element, ist, die insbesondere aus wenigstens einem der Materialien Stahl, einem Metall mit geringer thermischer Ausdehnung und einem Nicht-Metall mit geringer thermischer Ausdehnung aufgebaut ist. Zusätzlich oder alternativ ist es von Vorteil, wenn die zweite Komponente ein optisches Element ist, das insbesondere aus wenigstens einem der Materialien Keramik, Zerodur und ULE® Glas aufgebaut ist. Bevorzugt kann die Verbindungseinheit aus wenigstens einem der Materialien Wolfram und einer Wolframlegierung aufgebaut sein.
  • Die Verbindungseinheit kann grundsätzlich in beliebiger geeigneter Weise gestaltet und eingesetzt werden, um die Kompensationsbewegung in einer auf die erste und zweite Komponente abgestimmten zweiten Richtung bereitzustellen. Besonders günstige Konfigurationen ergeben sich, wenn die erste Komponente eine Axialrichtung, eine Radialrichtung und eine Umfangsrichtung definiert und die zweite Richtung zumindest im Wesentlichen entlang der Radialrichtung verläuft. Dabei kann die erste Richtung zumindest im Wesentlichen entlang der Umfangsrichtung verlaufen. Ebenso kann die erste Richtung aber auch zumindest im Wesentlichen entlang der Axialrichtung verlaufen.
  • Der zweite Kontaktabschnitt kann grundsätzlich auf beliebige geeignete Weise gestaltet sein, um die gewünschte Anbindung an die zweite Komponente zu erzielen. Besonders günstige Konfigurationen ergeben sich, wenn der zweite Kontaktabschnitt in einer Ebene, die durch die erste und zweite Richtung definiert ist, eine im Wesentlichen T-förmige oder pilzförmige Schnittkontur aufweist. Zusätzlich oder alternativ kann der zweite Kontaktabschnitt einen schmalen stegartigen Abschnitt aufweisen, über den der zweite Kontaktabschnitt an das Kopplungselement angebunden ist, wobei eine Längsachse des stegartigen Abschnitts quer zu der ersten und zweiten Richtung verläuft.
  • Die vorliegende Erfindung betrifft weiterhin eine optische Anordnung mit einem optischen Element, das über eine erfindungsgemäße Verbindungsanordnung mit einer Stützstruktur verbunden ist. Hiermit lassen sich die oben beschriebenen Varianten und Vorteile in demselben Maße realisieren, sodass zur Vermeidung von Wiederholungen insoweit auf die obigen Ausführungen verwiesen wird.
  • Die vorliegende Erfindung betrifft weiterhin eine optische Abbildungseinrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit einer Beleuchtungseinrichtung mit einer ersten optischen Elementgruppe, einer Objekteinrichtung zur Aufnahme eines Objekts, einer Projektionseinrichtung mit einer zweiten optischen Elementgruppe und einer Bildeinrichtung, Die Beleuchtungseinrichtung ist zur Beleuchtung des Objekts ausgebildet, während die Projektionseinrichtung zur Projektion einer Abbildung des Objekts auf die Bildeinrichtung ausgebildet ist. Dabei umfasst die Beleuchtungseinrichtung und/oder die Projektionseinrichtung wenigstens eine erfindungsgemäße optische Anordnung, wie sie vorstehend beschrieben wurde. Hiermit lassen sich die oben beschriebenen Varianten und Vorteile in demselben Maße realisieren, sodass zur Vermeidung von Wiederholungen insoweit auf die obigen Ausführungen verwiesen wird.
  • Die vorliegende Erfindung betrifft weiterhin ein Verfahren zum Verbinden einer ersten Komponente und einer zweiten Komponente einer Abbildungseinrichtung für die Mikrolithographie, insbesondere für die Verwendung von Licht im extremen UV-Bereich (EUV), mittels einer Verbindungseinheit, bei dem ein erster Kontaktabschnitt der Verbindungseinheit mit der ersten Komponente in einem montierten Zustand in Kontakt gebracht wird und ein zweiter Kontaktabschnitt der Verbindungseinheit mit der zweiten Komponente in dem montierten Zustand in Kontakt gebracht wird. Ein erster Kopplungsbereich des ersten Kontaktabschnitts und ein zweiter Kopplungsbereich des ersten Kontaktabschnitts werden in einer ersten Richtung in einem Kopplungsbereichsabstand voneinander angeordnet. Der erste Kontaktabschnitt und der zweite Kontaktabschnitt werden mittels eines Kopplungsabschnitts der Verbindungseinheit, der ein erstes Ende und ein entgegengesetztes zweites Ende aufweist, zumindest in dem montierten Zustand miteinander gekoppelt, indem der Kopplungsabschnitt an dem ersten Ende mit dem ersten Kopplungsbereich verbunden wird und an dem zweiten Ende mit dem zweiten Kopplungsbereich verbunden wird. Der Kopplungsabschnitt wird zumindest in dem montierten Zustand zwischen dem ersten Ende und dem zweiten Ende mit dem zweiten Kontaktabschnitt verbunden. Der erste Kontaktabschnitt und/oder der Kopplungsabschnitt prägen in dem montierten Zustand bei einer, insbesondere durch thermische Ausdehnung bedingten, Zustandsänderung von einem ersten Zustand in einen zweiten Zustand mit einer Vergrößerung des Kopplungsbereichsabstands dem zweiten Kontaktabschnitt eine Bewegungskomponente entlang einer zweiten Richtung, wobei die zweite Richtung quer zu der ersten Richtung verläuft. Hiermit lassen sich die oben beschriebenen Varianten und Vorteile in demselben Maße realisieren, sodass zur Vermeidung von Wiederholungen insoweit auf die obigen Ausführungen verwiesen wird.
  • Die vorliegende Erfindung betrifft weiterhin ein optisches Abbildungsverfahren, insbesondere für die Mikrolithographie, bei dem eine Beleuchtungseinrichtung, die eine erste optische Elementgruppe aufweist, ein Objekt beleuchtet und eine Projektionseinrichtung, die eine zweite optische Elementgruppe aufweist, eine Abbildung des Objekts auf eine Bildeinrichtung projiziert. Wenigstens eine erste Komponente der Beleuchtungseinrichtung und/oder der Projektionseinrichtung wird mittels des erfindungsgemäßen mit einer zweiten Komponente verbunden. Hiermit lassen sich ebenfalls die oben im Zusammenhang mit der optischen Anordnung beschriebenen Varianten und Vorteile in demselben Maße realisieren, sodass zur Vermeidung von Wiederholungen insoweit auf die obigen Ausführungen verwiesen wird.
  • Bevorzugt ist die erste Komponente ein optisches Element der Beleuchtungseinrichtung oder der Projektionseinrichtung, während die zweite Komponente bevorzugt ein Teil einer Stützstruktur der Beleuchtungseinrichtung oder der Projektionseinrichtung ist.
  • Weitere Aspekte und Ausführungsbeispiele der Erfindung ergeben sich aus den abhängigen Ansprüchen und der nachfolgenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele, die sich auf die beigefügten Figuren bezieht. Alle Kombinationen der offenbarten Merkmale, unabhängig davon, ob diese Gegenstand eines Anspruchs sind oder nicht, liegen im Schutzbereich der Erfindung.
  • Figurenliste
    • 1 ist eine schematische Darstellung einer bevorzugten Ausführung einer erfindungsgemäßen Projektionsbelichtungsanlage, die eine bevorzugte Ausführung einer erfindungsgemäßen optischen Anordnung mit einem optischen Element umfasst, das über eine bevorzugte Ausführung einer erfindungsgemäßen Verbindungsanordnung mit einer Stützstruktur verbunden ist.
    • 2 ist eine schematische Schnittansicht eines Teils der erfindungsgemäßen Anordnung aus 1.
    • 3 ist eine schematische Schnittansicht (siehe Linie III-III in 2) durch einen Teil der Anordnung aus 2.
    • 4 ist ein schematisches mechanisches Ersatzschaltbild eines Teils der Anordnung aus 2.
    • 5 ist ein schematisches mechanisches Ersatzschaltbild einer weiteren bevorzugten Ausführung der erfindungsgemäßen Verbindungsanordnung.
    • 6 ist ein schematisches mechanisches Ersatzschaltbild einer weiteren bevorzugten Ausführung der erfindungsgemäßen Verbindungsanordnung.
    • 7 ist eine schematische Schnittansicht eines Teils einer weiteren bevorzugten Ausführung der erfindungsgemäßen Anordnung (ähnlich der Ansicht aus 2).
    • 8 ist ein schematisches mechanisches Ersatzschaltbild eines Teils der Anordnung aus 7.
  • DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG
  • Erstes Ausführungsbeispiel
  • Im Folgenden wird unter Bezugnahme auf die 1 bis 4 ein bevorzugtes Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Projektionsbelichtungsanlage 101 für die Mikrolithographie beschrieben, die ein bevorzugtes Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen optischen Anordnung umfasst. Zur Vereinfachung der nachfolgenden Ausführungen wird in den Zeichnungen ein x,y,z-Koordinatensystem angegeben, wobei die z-Richtung parallel zur Richtung der Gravitationskraft verläuft. Die x-Richtung und die y-Richtung verlaufen demgemäß horizontal, wobei die x-Richtung in der Darstellung der 1 senkrecht in die Zeichnungsebene hinein verläuft. Selbstverständlich ist es in weiteren Ausgestaltungen möglich, beliebige davon abweichende Orientierungen der eines x,y,z-Koordinatensystems zu wählen.
  • Im Folgenden werden zunächst unter Bezugnahme auf die 1 exemplarisch die wesentlichen Bestandteile einer Projektionsbelichtungsanlage 101 beschrieben. Die Beschreibung des grundsätzlichen Aufbaus der Projektionsbelichtungsanlage 101 sowie deren Bestandteile sei hierbei nicht einschränkend verstanden.
  • Eine Beleuchtungseinrichtung bzw. ein Beleuchtungssystem 102 der Projektionsbelichtungsanlage 101 umfasst neben einer Strahlungsquelle 102.1 eine optischen Elementgruppe in Form einer Beleuchtungsoptik 102.2 zur Beleuchtung eines (schematisiert dargestellten) Objektfeldes 103.1. Das Objektfeld 103.1 liegt in einer Objektebene 103.2 einer Objekteinrichtung 103. Beleuchtet wird hierbei ein im Objektfeld 103.1 angeordnetes Retikel 103.3 (auch als Maske bezeichnet). Das Retikel 103.3 ist von einem Retikelhalter 103.4 gehalten. Der Retikelhalter 103.4 ist über einen Retikelverlagerungsantrieb 103.5 insbesondere in einer oder mehreren Scanrichtungen verlagerbar. Eine solche Scanrichtung verläuft im vorliegenden Beispiel parallel zu der y-Achse.
  • Die Projektionsbelichtungsanlage 101 umfasst weiterhin eine Projektionseinrichtung 104 mit einer weiteren optischen Elementgruppe in Form einer Projektionsoptik 104.1. Die Projektionsoptik 104.1 dient zur Abbildung des Objektfeldes 103.1 in ein (schematisiert dargestelltes) Bildfeld 105.1, das in einer Bildebene 105.2 einer Bildeinrichtung 105 liegt. Die Bildebene 105.2 verläuft parallel zu der Objektebene 103.2. Alternativ ist auch ein von 0° verschiedener Winkel zwischen der Objektebene 103.2 und der Bildebene 105.2 möglich.
  • Bei der Belichtung wird eine Struktur des Retikels 103.3 auf eine lichtempfindliche Schicht eines Substrats in Form eines Wafers 105.3 abgebildet, wobei die lichtempfindliche Schicht in der Bildebene 105.2 im Bereich des Bildfeldes 105.1 angeordnet ist. Der Wafer 105.3 wird von einem Substrathalter bzw. Waferhalter 105.4 gehalten. Der Waferhalter 105.4 ist über einen Waferverlagerungsantrieb 105.5 insbesondere längs der y-Richtung verlagerbar. Die Verlagerung einerseits des Retikels 103.3 über den Retikelverlagerungsantrieb 103.5 und andererseits des Wafers 105.3 über den Waferverlagerungsantrieb 105.5 kann synchronisiert zueinander erfolgen. Diese Synchronisation kann beispielsweise über eine gemeinsame (in 1 nur stark schematisch und ohne Steuerpfade dargestellte) Steuereinrichtung 106 erfolgen.
  • Bei der Strahlungsquelle 102.1 handelt es sich um eine EUV-Strahlungsquelle (extrem ultraviolette Strahlung), Die Strahlungsquelle 102.1 emittiert insbesondere EUV-Strahlung 107, welche im Folgenden auch als Nutzstrahlung oder Beleuchtungsstrahlung bezeichnet wird. Die Nutzstrahlung hat insbesondere eine Wellenlänge im Bereich zwischen 5 nm und 30 nm, insbesondere einer Wellenlänge von etwa 13 nm. Bei der Strahlungsquelle 102.1 kann es sich um eine Plasmaquelle handeln, zum Beispiel um eine LPP-Quelle (Laser Produced Plasma, also mithilfe eines Lasers erzeugtes Plasma) oder um eine DPP-Quelle (Gas Discharged Produced Plasma, also mittels Gasentladung erzeugtes Plasma). Es kann sich auch um eine synchrotronbasierte Strahlungsquelle handeln. Bei der Strahlungsquelle 102.1 kann es sich aber auch um einen Freie-Elektronen-Laser (Free-Electron-Laser, FEL) handeln.
  • Da die Projektionsbelichtungsanlage 101 mit Nutzlicht im EUV-Bereich arbeitet, handelt es sich bei den verwendeten optischen Elementen ausschließlich um reflektive optische Elemente. In weiteren Ausgestaltungen der Erfindung ist es (insbesondere in Abhängigkeit von der Wellenlänge des Beleuchtungslichts) selbstverständlich auch möglich, für die optischen Elemente jede Art von optischen Elementen (refraktiv, reflektiv, diffraktiv) alleine oder in beliebiger Kombination einzusetzen.
  • Die Beleuchtungsstrahlung 107, die von der Strahlungsquelle 102.1 ausgeht, wird von einem Kollektor 102.3 gebündelt. Bei dem Kollektor 102.3 kann es sich um einen Kollektor mit einer oder mit mehreren ellipsoidalen und/oder hyperboloiden Reflexionsflächen handeln. Die mindestens eine Reflexionsfläche des Kollektors 102.3 kann im streifenden Einfall (Grazing Incidence, Gl), also mit Einfallswinkeln größer als 45°, oder im normalen Einfall (Normal Incidence, NI), also mit Einfallwinkeln kleiner als 45°, mit der Beleuchtungsstrahlung 107 beaufschlagt werden. Der Kollektor 11 kann einerseits zur Optimierung seiner Reflektivität für die Nutzstrahlung und andererseits zur Unterdrückung von Falschlicht strukturiert und/oder beschichtet sein.
  • Nach dem Kollektor 102.3 propagiert die Beleuchtungsstrahlung 107 durch einen Zwischenfokus in einer Zwischenfokusebene 107.1. Die Zwischenfokusebene 107.1 kann bei bestimmten Varianten eine Trennung zwischen der Beleuchtungsoptik 102.2 und einem Strahlungsquellenmodul 102.4 darstellen, das die Strahlungsquelle 102.1 und den Kollektor 102.3 umfasst.
  • Die Beleuchtungsoptik 102.2 umfasst entlang des Strahlengangs einen Umlenkspiegel 102.5 einen nachgeordneten ersten Facettenspiegel 102.6. Bei dem Umlenkspiegel 102.5 kann es sich um einen planen Umlenkspiegel oder alternativ um einen Spiegel mit einer über die reine Umlenkungswirkung hinaus bündelbeeinflussenden Wirkung handeln. Alternativ oder zusätzlich kann der Umlenkspiegel 102.5 als Spektralfilter ausgeführt sein, der aus der Beleuchtungsstrahlung 107 zumindest teilweise so genanntes Falschlicht heraustrennt, dessen Wellenlänge von der Nutzlichtwellenlänge abweicht. Sofern die optisch wirksamen Flächen des ersten Facettenspiegels 102.6 im Bereich einer Ebene der Beleuchtungsoptik 102.2 angeordnet sind, die zur Objektebene 103.2 als Feldebene optisch konjugiert ist, wird der erste Facettenspiegel 102.6 auch als Feldfacettenspiegel bezeichnet. Der erste Facettenspiegel 102.6 umfasst eine Vielzahl von einzelnen ersten Facetten 102.7, welche im Folgenden auch als Feldfacetten bezeichnet werden. Diese ersten Facetten und deren optische Flächen sind in der 1 nur stark schematisch durch die gestrichelte Kontur 102.7 angedeutet.
  • Die ersten Facetten 102.7 können als makroskopische Facetten ausgeführt sein, insbesondere als rechteckige Facetten oder als Facetten mit bogenförmiger oder teilkreisförmiger Randkontur. Die ersten Facetten 102.7 können als Facetten mit planarer oder alternativ mit konvex oder konkav gekrümmter optischer Fläche ausgeführt sein.
  • Wie beispielsweise aus der DE 10 2008 009 600 A1 (deren gesamte Offenbarung hierin durch Bezugnahme eingeschlossen wird) bekannt ist, können die ersten Facetten 102.7 selbst jeweils auch aus einer Vielzahl von Einzelspiegeln, insbesondere einer Vielzahl von Mikrospiegeln, zusammengesetzt sein. Der erste Facettenspiegel 102.6 kann insbesondere als mikroelektromechanisches System (MEMS-System) ausgebildet sein, wie dies beispielsweise in der DE 10 2008 009 600 A1 im Detail beschrieben ist.
  • Zwischen dem Kollektor 102.3 und dem Umlenkspiegel 102.5 verläuft die Beleuchtungsstrahlung 107 im vorliegenden Beispiel horizontal, also längs der y-Richtung. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten auch eine andere Ausrichtung gewählt sein kann.
  • Im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 102.2 ist dem ersten Facettenspiegel 102.6 ein zweiter Facettenspiegel 102.8 nachgeordnet. Sofern die optisch wirksamen Flächen des zweiten Facettenspiegels 102.8 im Bereich einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 102.2 angeordnet sind, wird der zweite Facettenspiegel 102.8 auch als Pupillenfacettenspiegel bezeichnet. Der zweite Facettenspiegel 102.8 kann auch beabstandet zu einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 102.2 angeordnet sein. In diesem Fall wird die Kombination aus dem ersten Facettenspiegel 102.6 und dem zweiten Facettenspiegel 102.8 auch als spekularer Reflektor bezeichnet. Solche spekulare Reflektoren sind beispielsweise bekannt aus der US 2006/0132747 A1 , der EP 1 614 008 B1 oder der US 6,573,978 (deren jeweilige gesamte Offenbarung hierin durch Bezugnahme eingeschlossen wird).
  • Der zweite Facettenspiegel 102.8 umfasst wiederum eine Mehrzahl von zweiten Facetten, die in der 1 nur stark schematisch durch die gestrichelte Kontur 102.9 angedeutet sind. Die zweiten Facetten 102.9 werden im Falle eines Pupillenfacettenspiegels auch als Pupillenfacetten bezeichnet. Die zweiten Facetten 102.9 können grundsätzlich wie die ersten Facetten 102.7 gestaltet sein. Insbesondere kann es sich bei den zweiten Facetten 102.9 ebenfalls um makroskopische Facetten handeln, die beispielsweise rund, rechteckig oder auch hexagonal berandet sein können. Alternativ kann es sich bei den zweiten Facetten 102.9 um aus Mikrospiegeln zusammengesetzte Facetten handeln. Die zweiten Facetten 102.9 können wiederum planare oder alternativ konvex oder konkav gekrümmte Reflexionsflächen aufweisen. Diesbezüglich wird erneut auf die DE 10 2008 009 600 A1 verwiesen.
  • Die Beleuchtungsoptik 102.2 bildet im vorliegenden Beispiel somit ein doppelt facettiertes System. Dieses grundlegende Prinzip wird auch als Fliegenaugenintegrator (Fly's Eye Integrator) bezeichnet. Es kann bei bestimmten Varianten weiterhin vorteilhaft sein, die optischen Flächen des zweiten Facettenspiegels 102.8 nicht exakt in einer Ebene anzuordnen, welche zu einer Pupillenebene der Projektionsoptik 104.1 optisch konjugiert ist.
  • Bei einer weiteren, nicht dargestellten Ausführung der Beleuchtungsoptik 102.2 kann im Strahlengang zwischen dem zweiten Facettenspiegel 102.8 und dem Objektfeld 103.1 eine (nur stark schematisiert dargestellte) Übertragungsoptik 102.10 angeordnet sein, die insbesondere zur Abbildung der ersten Facetten 102.7 in das Objektfeld 103.1 beiträgt. Die Übertragungsoptik 102.10 kann genau einen Spiegel, alternativ aber auch zwei oder mehr Spiegel aufweisen, welche hintereinander im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 102.2 angeordnet sind. Die Übertragungsoptik 102.10 kann insbesondere einen oder zwei Spiegel für senkrechten Einfall (NI-Spiegel, Normal Incidence Spiegel) und/oder einen oder zwei Spiegel für streifenden Einfall (Gl-Spiegel, Grazing Incidence Spiegel) umfassen.
  • Die Beleuchtungsoptik 102.2 hat bei der Ausführung, wie sie in der 1 gezeigt ist, nach dem Kollektor 102.3 genau drei Spiegel, nämlich den Umlenkspiegel 102.5, den ersten Facettenspiegel 102.6 (z. B. einen Feldfacettenspiegel) und den zweiten Facettenspiegel 102.8 (z. B. einen Pupillenfacettenspiegel). Bei einer weiteren Ausführung der Beleuchtungsoptik 102.2 kann der Umlenkspiegel 102.5 auch entfallen, sodass die Beleuchtungsoptik 102.2 nach dem Kollektor 102.3 dann genau zwei Spiegel aufweisen kann, nämlich den ersten Facettenspiegel 102.6 und den zweiten Facettenspiegel 102.8.
  • Mit Hilfe des zweiten Facettenspiegels 102.8 werden die einzelnen ersten Facetten 102.7 in das Objektfeld 103.1 abgebildet. Der zweite Facettenspiegel 102.8 ist der letzte bündelformende oder auch tatsächlich der letzte Spiegel für die Beleuchtungsstrahlung 107 im Strahlengang vor dem Objektfeld 103.1. Die Abbildung der ersten Facetten 102.7 mittels der zweiten Facetten 102.9 bzw. mit den zweiten Facetten 102.9 und einer Übertragungsoptik 102.10 in die Objektebene 103.2 ist regelmäßig nur eine näherungsweise Abbildung.
  • Die Projektionsoptik 104.1 umfasst eine Mehrzahl von Spiegeln Mi, welche gemäß ihrer Anordnung entlang des Strahlengangs der Projektionsbelichtungsanlage 101 nummeriert sind. Bei dem in der 1 dargestellten Beispiel umfasst die Projektionsoptik 104.1 sechs Spiegel M1 bis M6. Alternativen mit vier, acht, zehn, zwölf oder einer anderen Anzahl an Spiegeln Mi sind ebenso möglich. Der vorletzte Spiegel M5 und der letzte Spiegel M6 können jeweils eine (nicht näher dargestellte) Durchtrittsöffnung für die Beleuchtungsstrahlung 107 aufweisen. Bei der Projektionsoptik 104.1 handelt es sich im vorliegenden Beispiel um eine doppelt obskurierte Optik. Die Projektionsoptik 104.1 hat eine bildseitige numerische Apertur NA, die größer ist als 0,5. Insbesondere kann die bildseitige numerische Apertur NA auch größer sein kann als 0,6. Beispielsweise kann die bildseitige numerische Apertur NA 0,7 oder 0,75 betragen.
  • Die Reflexionsflächen der Spiegel Mi können als Freiformflächen ohne Rotationssymmetrieachse ausgeführt sein. Alternativ können die Reflexionsflächen der Spiegel Mi als asphärische Flächen mit genau einer Rotationssymmetrieachse der Reflexionsflächenform gestaltet sein. Die Spiegel Mi können, genauso wie die Spiegel der Beleuchtungsoptik 102.2, hoch reflektierende Beschichtungen für die Beleuchtungsstrahlung 107 aufweisen. Diese Beschichtungen können aus mehreren Schichten aufgebaut sein (Multilayer-Beschichtungen), insbesondere können sie mit alternierenden Lagen aus Molybdän und Silizium gestaltet sein.
  • Die Projektionsoptik 104.1 hat im vorliegenden Beispiel einen großen Objekt-Bildversatz in der y-Richtung zwischen einer y-Koordinate eines Zentrums des Objektfeldes 103.1 und einer y-Koordinate des Zentrums des Bildfeldes 105.1. Dieser Objekt-Bild-Versatz in der y-Richtung kann in etwa so groß sein wie ein Abstand zwischen der Objektebene 103.2 und der Bildebene 105.2 in der z-Richtung.
  • Die Projektionsoptik 104.1 kann insbesondere anamorphotisch ausgebildet sein. Sie weist insbesondere unterschiedliche Abbildungsmaßstäbe βx, βy in x- und y-Richtung auf. Die beiden Abbildungsmaßstäbe βx, βy der Projektionsoptik 104.1 liegen bevorzugt bei (βx; βy) = (+/- 0,25; +/- 0,125). Ein positiver Abbildungsmaßstab β bedeutet eine Abbildung ohne Bildumkehr. Ein negatives Vorzeichen für den Abbildungsmaßstab β bedeutet eine Abbildung mit Bildumkehr. Die Projektionsoptik 104.1 führt im vorliegenden Beispiel somit in x-Richtung, das heißt in Richtung senkrecht zur Scanrichtung, zu einer Verkleinerung im Verhältnis von 4:1. Demgegenüber führt die Projektionsoptik 104.1 in y-Richtung, das heißt in Scanrichtung, zu einer Verkleinerung im Verhältnis von 8:1. Andere Abbildungsmaßstäbe sind ebenso möglich. Auch vorzeichengleiche und absolut gleiche Abbildungsmaßstäbe in x- und y-Richtung sind möglich, zum Beispiel mit Absolutwerten von 0,125 oder von 0,25.
  • Die Anzahl von Zwischenbildebenen in der x- und in der y-Richtung im Strahlengang zwischen dem Objektfeld 103.1 und dem Bildfeld 105.1 kann gleich sein. Ebenso kann die Anzahl von Zwischenbildebenen je nach Ausführung der Projektionsoptik 104.1 unterschiedlich sein. Beispiele für Projektionsoptiken mit unterschiedlicher Anzahl derartiger Zwischenbilder in x- und y-Richtung sind beispielsweise aus der US 2018/0074303 A1 bekannt (deren gesamte Offenbarung hierin durch Bezugnahme eingeschlossen wird).
  • Im vorliegenden Beispiel ist jeweils eine der Pupillenfacetten 102.9 genau einer der Feldfacetten 102.7 zur Ausbildung jeweils eines Beleuchtungskanals zur Ausleuchtung des Objektfeldes 103.1 zugeordnet. Es kann sich hierdurch insbesondere eine Beleuchtung nach dem Köhlerschen Prinzip ergeben. Das Fernfeld wird mit Hilfe der Feldfacetten 102.7 in eine Vielzahl an Objektfeldern 103.1 zerlegt. Die Feldfacetten 102.7 erzeugen eine Mehrzahl von Bildern des Zwischenfokus auf den diesen jeweils zugeordneten Pupillenfacetten 102.9.
  • Die Feldfacetten 102.7 werden jeweils von einer zugeordneten Pupillenfacette 102.9 auf das Retikel 103.3 abgebildet, wobei sich die Abbildungen überlagern, sodass es mithin zu einer überlagernden Ausleuchtung des Objektfeldes 103.1 kommt. Die Ausleuchtung des Objektfeldes 103.1 ist bevorzugt möglichst homogen. Sie weist vorzugsweise einen Uniformitätsfehler von weniger als 2% auf. Die Felduniformität kann durch die Überlagerung unterschiedlicher Beleuchtungskanäle erreicht werden.
  • Durch eine Anordnung der Pupillenfacetten 102.9 kann geometrisch die Ausleuchtung der Eintrittspupille der Projektionsoptik 104.1 definiert werden. Durch Auswahl der Beleuchtungskanäle, insbesondere der Teilmenge der Pupillenfacetten 102.9, die Licht führen, kann die Intensitätsverteilung in der Eintrittspupille der Projektionsoptik 104.1 eingestellt werden. Diese Intensitätsverteilung wird auch als Beleuchtungssetting des Beleuchtungssystems 102 bezeichnet. Eine ebenfalls bevorzugte Pupillenuniformität im Bereich definiert ausgeleuchteter Abschnitte einer Beleuchtungspupille der Beleuchtungsoptik 102.2 kann durch eine Umverteilung der Beleuchtungskanäle erreicht werden. Die vorgenannten Einstellungen können bei aktiv verstellbaren Facetten jeweils durch eine entsprechende Ansteuerung über die Steuereinrichtung 106 vorgenommen werden.
  • Im Folgenden werden weitere Aspekte und Details der Ausleuchtung des Objektfeldes 103.1 sowie insbesondere der Eintrittspupille der Projektionsoptik 104.1 beschrieben.
  • Die Projektionsoptik 104.1 kann insbesondere eine homozentrische Eintrittspupille aufweisen. Diese kann zugänglich oder auch unzugänglich sein. Die Eintrittspupille der Projektionsoptik 104.1 lässt sich häufig mit dem Pupillenfacettenspiegel 102.8 nicht exakt ausleuchten. Bei einer Abbildung der Projektionsoptik 104.1, welche das Zentrum des Pupillenfacettenspiegels 102.8 telezentrisch auf den Wafer 105.3 abbildet, schneiden sich die Aperturstrahlen oftmals nicht in einem einzigen Punkt. Es lässt sich jedoch eine Fläche finden, in welcher der paarweise bestimmte Abstand der Aperturstrahlen minimal wird. Diese Fläche stellt die Eintrittspupille oder eine zu ihr konjugierte Fläche im Ortsraum dar. Insbesondere zeigt diese Fläche eine endliche Krümmung.
  • Es kann bei bestimmten Varianten sein, dass die Projektionsoptik 104.1 unterschiedliche Lagen der Eintrittspupille für den tangentialen und für den sagittalen Strahlengang aufweist. In diesem Fall ist es bevorzugt, wenn ein abbildendes optisches Element, insbesondere ein optisches Bauelement der Übertragungsoptik 102.10, zwischen dem zweiten Facettenspiegel 102.8 und dem Retikel 103.3 bereitgestellt wird. Mit Hilfe dieses abbildenden optischen Elements kann die unterschiedliche Lage der tangentialen Eintrittspupille und der sagittalen Eintrittspupille berücksichtigt werden.
  • Bei der Anordnung der Komponenten der Beleuchtungsoptik 102.2, wie sie in der 1 dargestellt ist, sind die optischen Flächen des Pupillenfacettenspiegels 102.8 in einer zur Eintrittspupille der Projektionsoptik 104.1 konjugierten Fläche angeordnet. Der erste Facettenspiegel 102.6 (Feldfacettenspiegel) definiert eine erste Haupterstreckungsebene seiner optischen Flächen, die im vorliegenden Beispiel zur Objektebene 5 verkippt angeordnet ist. Diese erste Haupterstreckungsebene des ersten Facettenspiegels 102.6 ist im vorliegenden Beispiel verkippt zu einer zweiten Haupterstreckungsebene angeordnet, die von der optischen Fläche des Umlenkspiegels 102.5 definiert ist. Die erste Haupterstreckungsebene des ersten Facettenspiegels 102.6 ist im vorliegenden Beispiel weiterhin verkippt zu einer dritten Haupterstreckungsebene angeordnet, die von den optischen Flächen des zweiten Facettenspiegels 102.8 definiert wird.
  • Die optischen Elementgruppen 102.2, 104.1 können ein oder mehrere erfindungsgemäße optischen Anordnungen 108 umfassen, wie dies nachfolgend anhand des Spiegels M3 beschrieben wird, der ein optisches Element der optischen Elementgruppe 104.1 bildet.
  • Die optische Anordnung 108 umfasst eine erfindungsgemäße Verbindungsanordnung 109 zum Verbinden einer ersten Komponente in Form einer Stützeinheit 104.2 und einer zweiten Komponente in Form des Spiegels M3, die über eine Verbindungseinheit 110 verbunden sind.
  • Die Stützeinheit 104.2 verbindet das optische Element M3 mit einer Stützstruktur der Projektionseinrichtung 104, um das optische Element M3 über eine Stützkraft an der Stützstruktur abzustützen, wie dies nur stark schematisiert in 1 für das optische Element M3 dargestellt ist. Die Stützeinheit 104.2 kann beispielsweise Teil einer herkömmlichen Parallelkinematik, beispielsweise einer hinlänglich bekannten Hexapodkinematik sein. Die Abstützung kann dabei insbesondere aktiv gestaltet sein, sodass die Starrkörperlage des optischen Elements M3 (also seine Position und Orientierung in den sechs Freiheitsgraden im Raum) in einem oder mehreren der Freiheitsgrade (bis hin zu allen sechs Freiheitsgraden) im Raum eingestellt werden kann, indem die Stützeinheiten 104.2 entsprechend von der Steuereinrichtung 106 angesteuert werden.
  • Die Verbindungseinheit 110 umfasst mit einem ersten Kontaktabschnitt 110.1, einem zweiten Kontaktabschnitt 110.2 und einem Kopplungsabschnitt 110.3. In den in 2 dargestellten montierten Zustand kontaktiert der erste Kontaktabschnitt 110.1 die Stützeinheit 104.2 (also die erste Komponente), während der zweite Kontaktabschnitt 110.2 den Spiegel M3 (also die zweite Komponente) kontaktiert. Der Kopplungsabschnitt 110.3 verbindet den ersten Kontaktabschnitt 110.1 und den zweiten Kontaktabschnitt 110.2, wobei er eine Mittenachse 110.4 definiert.
  • Der erste Kontaktabschnitt 110.1 weist einen ersten Kopplungsbereich 110.5 und einen zweiten Kopplungsbereich 110.6 auf, der von dem ersten Kopplungsbereich 110.5 in einer ersten Richtung R1 einen Kopplungsbereichsabstand KBA aufweist, der in einem ersten Zustand Z1 ein erster Kopplungsbereichsabstand KBA1 ist und in einem zweiten Zustand Z2 ein zweiter Kopplungsbereichsabstand KBA2 ist (siehe 4). Der Kopplungsabschnitt 110.3 weist ein erstes Ende 110.7 und ein entgegengesetztes zweites Ende 110.8 auf, wobei der Kopplungsabschnitt 110.3 (in dem montierten Zustand) den ersten Kontaktabschnitt 110.1 und den zweiten Kontaktabschnitt 110.2 miteinander koppelt. Hierzu ist der Kopplungsabschnitt zum einen an dem ersten Ende 110.7 mit dem ersten Kopplungsbereich 110.5 verbunden und an dem zweiten Ende 110.8 mit dem zweiten Kopplungsbereich 110.6 verbunden. Der Kopplungsabschnitt 110.3 ist zum anderen in dem montierten Zustand zwischen dem ersten Ende 110.7 und dem zweiten Ende 110.8 mit dem zweiten Kontaktabschnitt 110.2 verbunden. Der zweite Kontaktabschnitt 110.2 sitzt im vorliegenden Beispiel im Wesentlichen mittig zwischen dem ersten Ende 110.7 und dem zweiten Ende 110.8. Es versteht sich jedoch, dass insbesondere je nach gewünschtem Verlauf der Kontaktkraft bzw. der Kompensationsbewegung auch eine entsprechend außermittige Anbindung des zweiten Kontaktabschnitts 110.2 an dem Kopplungsabschnitt 110.3 vorgesehen sein kann.
  • Der erste Kontaktabschnitt 110.1 und der Kopplungsabschnitt 110.3 sind im vorliegenden Beispiel derart ausgebildet, dass in dem montierten Zustand bei einer durch thermische Ausdehnung bedingten Zustandsänderung von dem ersten Zustand Z1 in den zweiten Zustand Z2 mit einer Vergrößerung des Kopplungsbereichsabstands (von KBA1 zu KBA2) dem zweiten Kontaktabschnitt 110.2 eine Bewegungskomponente entlang einer zweiten Richtung R2 aufgeprägt wird, wobei die zweite Richtung quer zu der ersten Richtung verläuft.
  • Dies ist in 4 schematisch dargestellt, wobei in dem dort dargestellten Fall die Bewegungskomponente bzw. die Kompensationsbewegung, die dem zweiten Kontaktabschnitt 110.2 bei der Zustandsänderung von dem ersten Zustand Z1 in den zweiten Zustand Z2 in der zweiten Richtung R2 aufgeprägt wird, gerade so groß ist, dass der zweite Kontaktabschnitt seine Lage im Raum im Wesentlichen nicht ändert, während sich der erste Kontaktabschnitt 110.1 bedingt durch eine thermische Ausdehnung der Stützeinheit 104.2 (also der ersten Komponente) ausgehend von dem ersten Zustand Z1 (gestrichelte Kontur in 4) auf den Spiegel M3 (also die zweite Komponente) zu bewegt. Der erste Kontaktabschnitt 110.1 hat sich also in dem zweiten Zustand Z2 (durchgezogene Kontur in 4) an den Spiegel M3 angenähert.
  • Es versteht sich, dass die Verbindungseinheit 110, die erste Komponente 104.2 und die zweite Komponente M3 grundsätzlich in beliebiger geeigneter Weise zueinander angeordnet sein können, um die gewünschte Verbindung zu erzielen. Im vorliegenden Beispiel ist die Verbindungseinheit 110 in dem montierten Zustand in einem Zwischenraum ZR zwischen der Stützeinheit 104.2 und dem Spiegel M3 angeordnet. Dieser Zwischenraum ZR ergibt sich, da die Stützeinheit 104.2 in einer Ausnehmung 111 des Spiegels M3 angeordnet ist.
  • Im vorliegenden Beispiel weist die Stützeinheit 104.2 einen größeren thermischen Ausdehnungskoeffizienten auf als der Spiegel M3, der im vorliegenden Beispiel aus einem Material mit einem thermischen Ausdehnungskoeffizienten nahe Null aufgebaut sein kann.
  • Daher verringert sich der Zwischenraum ZR zwischen der Stützeinheit 104.2 und dem Spiegel M3 bei der Zustandsänderung von dem ersten Zustand Z1 in den zweiten Zustand Z2. Die Bewegungskomponente des zweiten Kontaktabschnitts 110.2 in der zweiten Richtung R2 weist daher auf die Stützeinheit 104.2 zu, um die gewünschte Kompensationsbewegung zu erzielen.
  • Bei anderen Varianten kann sich der Zwischenraum ZR bei der Zustandsänderung von dem ersten Zustand Z1 in einen zweiten Zustand Z2 aber auch vergrößern, wobei die Bewegungskomponente des zweiten Kontaktabschnitts dann entlang der zweiten Richtung R2 von der ersten Komponente weg weist, um die gewünschte Kompensationsbewegung zu erzielen, wie dies nachfolgend noch anhand der 6, 7 und 8 erläutert wird. Auch hier werden wiederum besonders günstige und kompakte Gestaltungen erzielt, wenn sich die zweite Komponente in einer Ausnehmung der ersten Komponente befindet.
  • Der Kopplungsabschnitt 110.3 kann grundsätzlich auf beliebige Weise gestaltet sein, die geeignet ist, die beschriebene Kompensationsbewegung zu erzielen. So kann der Kopplungsabschnitt 110.3 beispielsweise einen dreidimensional gekrümmten und/oder geknickten Verlauf aufweisen, der bei der Vergrößerung des Kopplungsbereichsabstands KBA gestreckt wird, um die Kompensationsbewegung zu erzielen. Hierbei können dann natürlich auch beliebig komplexe dreidimensionale Ausdehnungsverläufe der beiden gekoppelten Komponenten (also beispielsweise der Stützeinheit 104.2 und des Spiegels M3) berücksichtigt werden. Besonders einfache und dennoch wirkungsvolle Gestaltungen ergeben sich, wenn der Kopplungsabschnitt 110.3 einen gekrümmten und/oder, wie im vorliegenden Beispiel, geknickten Verlauf in aufweist (mithin diesen Verlauf also in einer Ebene aufweist).
  • Wie den 2 und 4 zu entnehmen ist, definiert der Kopplungsabschnitt 110.3 im vorliegenden Beispiel zwischen dem ersten Ende 110.7 und dem zweiten Ende 110.8 die Mittenachse 110.4, die zwischen dem ersten Ende 110.7 und dem zweiten Ende 110.8 in dem ersten Zustand Z1 (siehe 2 und 4) einen bogenförmigen, ersten Verlauf V1 aufweist. In dem zweiten Zustand Z2, in dem die oben beschriebene Vergrößerung des Kopplungsbereichsabstands von KBA1 auf KBA2 vorliegt, weist die Mittenachse 110.4 zwischen dem ersten Ende 110.7 und dem zweiten Ende 110.8 dann einen zweiten Verlauf V2 auf, der gegenüber dem ersten Verlauf V1 gestreckt ist (siehe 4). Durch diese Streckung wird dann in einfacher Weise die gewünschte Kompensationsbewegung in der zweiten Richtung R2 erzielt.
  • Bei bestimmten Varianten kann der zweite Verlauf V2 wie im Beispiel der 4 bogenförmig sein. Die Streckung des Kopplungsabschnitts 110.3 kann aber gegebenenfalls auch so weit gehen, dass der zweite Verlauf V2 im Wesentlichen geradlinig ist. Ebenso kann der erste Verlauf V1 zumindest abschnittsweise gekrümmt und/oder zumindest abschnittsweise polygonal sein. Bei bestimmten Varianten kann der zweite Verlauf V2 zumindest abschnittsweise gekrümmt und/oder zumindest abschnittsweise polygonal sein.
  • Bei bestimmten Varianten kann die Mittenachse 110.4 des Kopplungsabschnitts 110.3 zwischen dem ersten Ende 110.7 und dem zweiten Ende 110.7 in dem ersten Zustand Z1 eine erste mittlere Krümmung MK1 und in dem zweiten Zustand Z2 eine zweite mittlere Krümmung MK2 definieren, wobei die zweite mittlere Krümmung MK2 geringer ist als die erste mittlere Krümmung MK1. Dabei kann die zweite mittlere Krümmung MK2 insbesondere 95% bis 0%, vorzugsweise 75% bis 5%, weiter vorzugsweise 50% bis 10%, der ersten mittleren Krümmung MK1 betragen. In allen diesen Fällen lässt sich alleine oder in beliebiger Kombination die gewünschte Kompensationsbewegung auf besonders einfache und kompakte Weise erzielen.
  • Wie bereits oben dargelegt, können für die Kontaktkräfte FK zu den beiden Komponenten 104.2 und M3 grundsätzlich beliebig Kraftverläufe zwischen den (thermischen) ersten und zweiten Zustanden Z1, Z2 erzielt werden. Bei bestimmten vorteilhaften Varianten übt der zweite Kontaktabschnitt 110.2 in dem ersten Zustand Z1 eine erste Kontaktkraft FK21 auf die den Spiegel M3 (also die zweite Komponente) aus, während der zweite Kontaktabschnitt in dem zweiten Zustand Z2 eine zweite Kontaktkraft FK22 auf den Spiegel M3 ausübt. Dabei kann der erste Kontaktabschnitt 110.1 und/oder der Kopplungsabschnitt 110.3 derart ausgebildet sein, dass die zweite Kontaktkraft FK22 80% bis 120%, vorzugsweise 90% bis 110%, weiter vorzugsweise 95% bis 105%, der ersten Kontaktkraft FK21 beträgt.
  • Bei bestimmten Varianten kann der erste Kontaktabschnitt 110.1 und/oder der Kopplungsabschnitt 110.3 auch derart ausgebildet sein, dass die Kontaktkraft FK, die der zweite Kontaktabschnitt 110.2 auf den Spiegel M3 ausübt, beim Übergang von dem ersten Zustand Z1 in den zweiten Zustand Z2 höchstens um 15% bis 20%, vorzugsweise um höchstens 5% bis 10%, weiter vorzugsweise um höchstens 1% bis 3%, der ersten Kontaktkraft FK21 variiert. Hiermit werden jeweils alleine oder in Kombination besonders günstige Kontaktkraftverläufe erzielt.
  • Die Verbindungseinheit 110 kann grundsätzlich als unveränderbar voreingestellte Einheit gestaltet sein. Bei besonders günstigen Varianten kann die Verbindungseinheit 110 wenigstens eine Justageeinrichtung zum Einstellen der ersten Kontaktkraft FK21 umfassen, wie sie in 2 durch die gestrichelten Konturen 110.9 und 110.10 angedeutet ist. Dabei kann die Einstellung bei bestimmten Varianten auch durch eine Veränderung des Kopplungsbereichsabstands KBA erfolgen.
  • Im vorliegenden Beispiel weist der erste Kontaktabschnitt 110.1 ein erstes Kontaktsegment 110.11 und ein zweites Kontaktsegment 110.12 auf, die in dem montierten Zustand jeweils mit einer Komponentenkontaktfläche 110.13, 110.14 die Stützeinheit 104.2 kontaktieren. Das erste Kontaktsegment 110.11 und das zweite Kontaktsegment 110.12 sind dabei unter Bildung eines Freiraums FR entlang der ersten Richtung R1 voneinander beabstandet. Dabei bildet das erste Kontaktsegment 110.11 den ersten Kopplungsbereich 110.5 aus, während das zweite Kontaktsegment 110.12 den zweiten Kopplungsbereich 110.6 ausbildet. Der Kopplungsabschnitt 110.3 überbrückt in dem montierten Zustand den Freiraum FR bogenförmig. Hiermit wird eine besonders günstige Konfiguration erzielt, da die beiden separaten (über den Kopplungsabschnitt 110.3 verbundenen) Kontaktsegmente 110.11, 110.12 thermisch bedingten Relativbewegungen zueinander einfach folgen können.
  • Es versteht sich, dass die beiden Kontaktsegmente 110.11, 110.12 bei anderen Varianten auch über wenigstens einen weiteren Abschnitt, beispielsweise im Bereich ihrer jeweiligen Kontaktfläche zur Stützeinheit 104.2, verbunden sein können. Es muss dann lediglich noch ein ausreichender Freiraum FR, beispielsweise ein Spalt oder dergleichen, vorgesehen sein, damit der Kopplungsabschnitt 110.3 die Kompensationsbewegung ausführen kann. Insbesondere kann der erste Kontaktabschnitt 110.1 beispielsweise derart zusammenhängend ausgebildet sein, dass der erste Kopplungsbereich 110.5 und der zweite Kopplungsbereich 110.6 von einem einzigen gemeinsamen Segment der Verbindungseinheit 110 gebildet sind, welches dann durch einen entsprechenden Zwischenraum, beispielsweise einen Spalt, vom Kopplungsabschnitt 110.3 getrennt ist.
  • Im vorliegenden Beispiel ist die Komponentenkontaktfläche 110.13 des ersten Kontaktsegments 110.11 in der zweiten Richtung R2 von dem ersten Kopplungsbereich 110.5 beabstandet. Vergleichbares gilt für die Komponentenkontaktfläche 110.14 des zweiten Kontaktsegments 110,12, die in der zweiten Richtung R2 von dem zweiten Kopplungsbereich 110.6 beabstandet ist. Durch diesen jeweiligen Abstand kann in vorteilhafter Weise jeweils Einfluss auf Gesamtverlagerung zwischen dem ersten Kontaktabschnitt 110.1 und dem zweiten Kontaktabschnitt 110.2 genommen werden, denn je größer dieser Abstand ist, desto größer fällt die thermisch bedingte Verlagerung des Kopplungsabschnitts 110.3 weg von der Stützeinheit 104.2 aus. Bei einer vorgegebenen Kompensationsbewegung durch den Kopplungsabschnitt 110.3 kann der Abstand dann entsprechend hierauf abgestimmt werden, um eine vorgegebene Gesamtverlagerung zwischen dem ersten Kontaktabschnitt 110.1 und dem zweiten Kontaktabschnitt 110.2 zu erzielen.
  • Im vorliegenden Beispiel sind diese beiden Abstände zumindest in etwa gleich gewählt. Es versteht sich jedoch, dass bei einer Abweichung von der gezeigten Symmetrie auch bestimmte translatorische und/oder rotatorische Bewegungskomponenten der Kompensationsbewegung erzielt werden können, da es dann zu einer ungleichmäßigen Verlagerung der Kopplungsbereiche 110.5 und 110.6 kommen kann. Ebenso kann hiermit natürlich auch einer ungleichmäßigen Temperaturverteilung Rechnung getragen werden und die Folgen der Ungleichmäßigkeit zumindest teilweise kompensiert werden.
  • Im vorliegenden Beispiel sind das erste Kontaktsegment 110.11, das zweite Kontaktsegment 110.12, der Kopplungsabschnitt 110.3 und der zweite Kontaktabschnitt 110.2 Teile eines monolithisch ausgebildeten Verbindungselements 110.15. Hierdurch wird eine besonders kompakte und einfach zu handhabende Konfiguration erzielt, bei der das Verbindungselement 110.15 vorteilhaft enge Toleranzen einhält.
  • Es kann grundsätzlich ausreichen, wenn die Verbindungseinheit 110 lediglich ein solches Verbindungselement 110.15 aufweist. Im vorliegenden Beispiel ist das Verbindungselement 110.15 jedoch ein erstes Verbindungselement, während die Verbindungseinheit 110 zwei weitere Verbindungselemente 110.15 umfasst. Hierbei versteht es sich, dass die Verbindungseinheit 110 grundsätzlich N weitere Verbindungselemente 110.15 umfassen kann, wobei N den Wert 1 bis 5, vorzugsweise 2 bis 4, weiter vorzugsweise 2 bis 3, aufweisen kann. Dabei gilt grundsätzlich, dass eine größere Anzahl von Verbindungselementen 110.15 eine feiner bzw. gleichmäßiger verteilte Übertragung der Lasten zwischen der Stützeinheit 104.2 und dem Spiegel M3 ermöglicht.
  • Das erste Verbindungselement 110.15 und die weiteren Verbindungselemente 110.15 können grundsätzlich unterschiedlich gestaltet sein, beispielsweise um bestimmten ungleichmäßigen Verteilungen der zwischen der Stützeinheit 104.2 und dem Spiegel M3 zu übertragenden Lasten Rechnung zu tragen. Im vorliegenden Beispiel sind die weiteren Verbindungselemente 110.15 jedoch zumindest im Wesentlichen identisch zu dem ersten Verbindungselement 110.15 ausgebildet.
  • Das erste Verbindungselement 110.15 und die weiteren Verbindungselemente 110.15 können im montierten Zustand voneinander getrennt angeordnet sein. Bei besonders kompakten und einfach zu montierenden Varianten kontaktiert im montierten Zustand ein Kontaktsegment 110.11, 110.12 des ersten Verbindungselements 110.15 ein angrenzendes Kontaktsegment 110.11, 110.12 des angrenzenden weiteren Verbindungselements 110.15, wie dies im vorliegenden Beispiel der Fall ist. Dabei können die Verbindungselemente 110.15 im Bereich ihrer Kontaktflächen 110.16 getrennt ausgebildet sein. Ebenso können die Verbindungselemente 110.15 aber auch monolithisch miteinander ausgebildet sein, wodurch insbesondere die Handhabung und Montage vereinfacht wird.
  • Je nach der Gestaltung der zu verbindenden Komponenten (102.4, M3) kann die Verbindungseinheit 110 grundsätzlich beliebig gestaltet sein. So kann sie beispielsweise einen generell linearen oder bogenförmigen Verlauf aufweisen. Bei bestimmten Varianten ist die Verbindungseinheit 110 wie im vorliegenden Beispiel ringförmig ausgebildet. Dabei kann die Verbindungseinheit 110 beispielsweise einen Außenumfang der ersten Komponente 104.2 kontaktieren, wobei die Verbindungseinheit 110 dann einen Abschnitt der ersten Komponente 104.2 ringförmig umgeben kann, wie dies jeweils im vorliegenden Beispiel der Fall ist. Ebenso kann die Verbindungseinheit 110 die Wandung einer Ausnehmung 111 der zweiten Komponente M3 kontaktieren, wobei die Verbindungseinheit dann in die Ausnehmung 111 der zweiten Komponente eingesetzt sein kann, wie dies ebenfalls jeweils im vorliegenden Beispiel der Fall ist. In allen diesen Fällen werden besonders günstige, kompakte Konfigurationen erzielt.
  • Die Verbindungsanordnung 109 ist bevorzugt hinsichtlich der verwendeten Materialien auf die Materialien der ersten und zweiten Komponente, also im vorliegenden Beispiel der Stützeinheit 104.2 und des Spiegels M3 abgestimmt. Bei bestimmten vorteilhaften Varianten ist die Stützeinheit 104.2 zumindest in ihrem an den ersten Kontaktabschnitt 110.1 angrenzenden Bereich aus einem ersten Material mit einem ersten thermischen Ausdehnungskoeffizienten CTE1 aufgebaut, während der Spiegel M3 zumindest in seinem an den zweiten Kontaktabschnitt 110.2 angrenzenden Bereich aus einem zweiten Material mit einem zweiten thermischen Ausdehnungskoeffizienten CTE2 aufgebaut ist. Die Verbindungseinheit 110 ist aus einem dritten Material mit einem dritten thermischen Ausdehnungskoeffizienten CTE3 aufgebaut, wobei einzeln oder in beliebiger Kombination Nachfolgendes realisiert sein kann.
  • So kann der erste thermische Ausdehnungskoeffizient CTE1 größer sein als der zweite thermische Ausdehnungskoeffizient CTE2 und der dritte thermische Ausdehnungskoeffizient CTE3. Ebenso kann der zweite thermische Ausdehnungskoeffizient CTE2 größer sein als der dritte thermische Ausdehnungskoeffizient CTE3. Weiterhin kann der zweite thermische Ausdehnungskoeffizient CTE2 5% bis 25%, vorzugsweise 8% bis 20%, weiter vorzugsweise 12% bis 18%, des ersten thermischen Ausdehnungskoeffizienten CTE1 betragen. Ebenso kann der dritte thermische Ausdehnungskoeffizient CTE3 5% bis 50%, vorzugsweise 10% bis 40%, weiter vorzugsweise 20% bis 30%, des ersten thermischen Ausdehnungskoeffizienten CTE1 betragen. Dabei kann der dritte thermische Ausdehnungskoeffizient CTE3 an beliebiger geeigneter Stelle in dem Intervall zwischen dem ersten und zweiten thermischen Ausdehnungskoeffizienten angesiedelt sein (es kann also jedenfalls gelten (CTE1 > CTE3 > CTE2). Bevorzugt beträgt der Abstand zwischen dem ersten thermischen Ausdehnungskoeffizienten CTE1 und dem dritten thermischen Ausdehnungskoeffizienten CTE3 40% bis 95%, vorzugsweise 50% bis 90%, weiter vorzugsweise 75% bis 88%, des Abstands zwischen dem ersten thermischen Ausdehnungskoeffizienten CTE1 und dem zweiten thermischen Ausdehnungskoeffizienten CTE2.
  • Es versteht sich jedoch, dass der dritte thermische Ausdehnungskoeffizient CTE3 bei anderen Varianten aber auch außerhalb des Intervalls zwischen dem ersten thermischen Ausdehnungskoeffizienten CTE1 und zweiten thermischen Ausdehnungskoeffizienten CTE2 angesiedelt sein kann. Dies kann günstig sein, um über die Kombination aus der thermischen Ausdehnung der Verbindungseinheit 110 und der Kompensationsbewegung eine bestimmte Gesamtverlagerung zwischen der Stützeinheit 104.2 und dem Spiegel M3 zu erzielen.
  • Bevorzugt beträgt der erste thermische Ausdehnungskoeffizient CTE1 10·10-6K-1 bis 20·10-6K-1, vorzugsweise 11·10-6K-1 bis 17·10-6K-1, weiter vorzugsweise 13·10-6K-1 bis 15·10-6K-1, während der zweite thermische Ausdehnungskoeffizient CTE2 0,5·10-6K-1 bis 4·10-6K-1, vorzugsweise 1·10-6K-1 bis 3·10-6K-1, weiter vorzugsweise 1·10-6K-1 bis 2·10-6K-1, beträgt und der dritte thermische Ausdehnungskoeffizient CTE3 bevorzugt 2·10-6K-1 bis 6·10-6K-1, vorzugsweise 2,5·10-6K-1 bis 5·10-6K-1, weiter vorzugsweise 3·10-6K-1 bis 4·10-6K-1, beträgt.
  • Die Fixierung der Verbindungseinheit 110 relativ zu der Stützeinheit 104.2 bzw. dem Spiegel M3 kann grundsätzlich auf beliebige geeignete Weise erfolgen. So kann einzeln oder in beliebiger Kombination in einem oder mehreren Freiheitsgraden (bis hin zu allen sechs Freiheitsgraden im Raum) eine kraftschlüssige, eine formschlüssige oder eine stoffschlüssige Anbindung vorgesehen sein.
  • Im vorliegenden Beispiel weisen die Kontaktabschnitte 110.1, 110.2 in ihrem an die unmittelbar kontaktierte Komponente angrenzenden Bereich einen Fixierabschnitt 110.17, 110.18 auf, der dazu ausgebildet ist den Kontaktabschnitt 110.1 bzw. 110.2 und die unmittelbar kontaktierte Komponente 104.2, M3 in einer dritten Richtung R3, die quer zu der ersten und der zweiten Richtung R1, R2 verläuft, durch Formschluss zu fixieren, wie dies nachfolgend näher am Beispiel des Fixierabschnitts 110.18 erläutert wird. Hierdurch wird eine besonders einfache und kompakte Konfiguration erzielt, die in einfacher Weise eine thermische Ausdehnung zulässt. Hierbei ist es von Vorteil sein, wenn wie im vorliegenden Beispiel der Fixierabschnitt 110.17 in der dritten Richtung R3 in einem zentralen Bereich des Kontaktabschnitts 110.2 angeordnet ist, da hierbei eine beidseitige Ausdehnung ermöglicht wird, bei der die insgesamt aufzunehmenden lokalen Relativbewegungen zwischen der Verbindungseinheit 110 und dem Spiegel M3 reduziert bzw. minimiert werden.
  • Im vorliegenden Beispiel weist der erste Kontaktabschnitt 110.1 in seinem an die Stützeinheit 104.2 angrenzenden Bereich einen ersten Fixierabschnitt 110.17 auf, während der zweite Kontaktabschnitt 110.2 in seinem an den Spiegel M3 angrenzenden Bereich einen zweiten Fixierabschnitt 110.18 aufweist. Hierbei ist der Fixierabschnitt 110.18 durch einen Vorsprung gebildet, der sich in einer Ebene erstreckt, die senkrecht zu der dritten Richtung R3 verläuft, und sich in dem montierten Zustand in eine zugeordnete Ausnehmung in dem unmittelbar kontaktierten Spiegel M3 eingreift.
  • Bei bestimmten Varianten kann der Fixierabschnitt in dem montierten Zustand auch durch eine Verklebung ausgebildet sein, die im Bereich wenigstens einer Vertiefung des jeweiligen Kontaktabschnitts 110.1, 110.2 ausgebildet ist. Hierbei kann insbesondere die oben beschriebene Einstellung des Kontaktkraftverlaufs bzw. der Ausgleichsbewegung vorteilhaft genutzt werden, um Schrumpfeffekte der Verklebung auszugleichen.
  • Im vorliegenden Beispiel weisen die Kontaktabschnitte 110.1, 110.2 in ihrem an die unmittelbar kontaktierte Komponente 104.2, M3 angrenzenden Bereich jeweils einen Kompensationsabschnitt 110.19 auf, wie dies nachfolgend anhand des Kontaktabschnitts 110.2 erläutert wird. Der Kompensationsabschnitt 110.19 ist dazu ausgebildet, eine unterschiedliche thermische Ausdehnung zwischen dem Kontaktabschnitt 110.2 und dem unmittelbar kontaktierten Spiegel M3 in der dritten Richtung R3 durch elastische Deformation aufzunehmen. Hierdurch können in vorteilhafter Weise parasitäre Spannungen, die aus der unterschiedlichen thermischen Ausdehnung in der dritten Richtung R3 resultieren, reduziert werden.
  • Im vorliegenden Beispiel weist der jeweilige Kontaktabschnitt 110.1, 110.2 einen solchen Kompensationsabschnitt 110.19 auf, der durch voneinander entlang der dritten Richtung R3 beabstandete elastische Abschnitte 110.20 ausgebildet ist, deren Nachgiebigkeit entlang der dritten Richtung R3 ausgehend von einem zentralen Abschnitt des Kontaktabschnitts 110.2 zu den Enden des Kontaktabschnitts 110.2 hin entlang der dritten Richtung R3 zunimmt. Dabei sind die elastischen Abschnitte 110.20 durch blattfederartige Elemente ausgebildet, deren Länge zu den Enden des Kontaktabschnitts 110.2 hin zunimmt. Im vorliegenden Beispiel ist die unterschiedliche Länge der blattfederartigen Elemente einfach durch quer zu der dritten Richtung R3 unterschiedlich tiefe Schlitze 110.21 in dem Kontaktabschnitt 110.2 definiert. Dabei kann die Tiefe der Schlitze 110.21 ausgehend von dem zentralen Abschnitt zu den Enden des Kontaktabschnitts 110.2 hin entlang der dritten Richtung R3 zunehmen, um die gewünschte Nachgiebigkeit einzustellen. Ebenso kann die gewünschte Nachgiebigkeit zusätzlich oder alternativ aber auch über den Abstand der Schlitze 110.21 bzw. die Dicke der dadurch definierten elastische Abschnitte 110.20 (jeweils entlang der dritten Richtung R3) eingestellt werden.
  • Es versteht sich, dass die Verbindungsanordnung 109 grundsätzlich zur Verbindung beliebiger Komponenten verwendet werden kann. Besonders gut kommen die hierin genannten Vorteile zum Tragen, wenn die erste Komponente 104.2 wie im vorliegenden Beispiel ein Bestandteil einer Stützstruktur für ein optisches Element wie den Spiegel M3 ist, die aus wenigstens einem der Materialien Stahl, einem Metall mit geringer thermischer Ausdehnung und einem Nicht-Metall mit geringer thermischer Ausdehnung aufgebaut ist. Ebenso ist es von Vorteil, wenn die zweite Komponente ein optisches Element wie der Spiegel M3 ist, das aus wenigstens einem der Materialien Keramik, Zerodur und ULE® Glas aufgebaut ist. Bevorzugt kann die Verbindungseinheit 110 dann aus wenigstens einem der Materialien Wolfram und einer Wolframlegierung aufgebaut sein.
  • Es versteht sich, dass die Verbindungseinheit 110 grundsätzlich in beliebiger geeigneter Weise gestaltet und eingesetzt werden kann, um die Kompensationsbewegung in einer auf die erste und zweite Komponente abgestimmten zweiten Richtung R2 bereitzustellen. Besonders günstige Konfigurationen ergeben sich, wenn die erste Komponente wie im vorliegenden Beispiel eine Axialrichtung AR, eine Radialrichtung RR und eine Umfangsrichtung UR definiert und die zweite Richtung R2 zumindest im Wesentlichen entlang der Radialrichtung RR verläuft. Dabei kann die erste Richtung R1 zumindest im Wesentlichen entlang der Umfangsrichtung UR verlaufen. Ebenso kann die erste Richtung R1 aber auch zumindest im Wesentlichen entlang der Axialrichtung AR verlaufen, wie dies nachfolgend noch anhand der 5 und 6 näher erläutert wird.
  • Der zweite Kontaktabschnitt 110.2 kann grundsätzlich auf beliebige geeignete Weise gestaltet sein, um die gewünschte Anbindung an den Spiegel M3 zu erzielen. Besonders günstige Konfigurationen ergeben sich, wenn der zweite Kontaktabschnitt wie im vorliegenden Beispiel in einer Ebene, die durch die erste und zweite Richtung R1, R2 definiert ist, eine im Wesentlichen T-förmige oder pilzförmige Schnittkontur aufweist (siehe 2). Hierdurch kann eine günstige, großflächige Lasteinleitung in den Spiegel M3 erzielt werden. Bevorzugt weist der zweite Kontaktabschnitt 110.2 wie im vorliegenden Beispiel einen schmalen stegartigen Abschnitt 110.22 auf, über den der zweite Kontaktabschnitt 110.2 an den Kopplungsabschnitt 110.3 angebunden ist, wobei eine Längsachse des stegartigen Abschnitts quer zu der ersten und zweiten Richtung R1, R2 verläuft. Dabei kann der Abschnitt 110.22 gegebenenfalls auch nach Art eines Festkörpergelenks ausgebildet sein, um Kippbewegungen um die Längsachse des stegartigen Abschnitts 110.22 aufzunehmen bzw. zu ermöglichen.
  • Mit der vorstehend beschriebenen Verbindungsanordnung 109 lassen sich die erfindungsgemäßen Verfahren ausführen, sodass insoweit auf die obigen Ausführungen Bezug genommen wird.
  • Zweites Ausführungsbeispiel
  • Im Folgenden wird unter Bezugnahme auf die 1 und 5 eine weitere bevorzugte Ausführungsform der erfindungsgemäßen Anordnung 208 beschrieben, welche anstelle der Anordnung 108 in der Abbildungseinrichtung 101 der 1 verwendet werden kann. Die Anordnung 208 entspricht in ihrer grundsätzlichen Gestaltung und Funktionsweise der Anordnung 108 aus 2 bis 4, sodass hier lediglich auf die Unterschiede eingegangen werden soll. Insbesondere sind identische Komponenten mit den identischen Bezugszeichen versehen, während gleichartige Komponenten mit um den Wert 100 erhöhten Bezugszeichen versehen sind. Sofern nachfolgend nichts Anderweitiges ausgeführt wird, wird hinsichtlich der Merkmale, Funktionen und Vorteile dieser Komponenten auf die obigen Ausführungen im Zusammenhang mit dem ersten Ausführungsbeispiel verwiesen.
  • Ein Unterschied zu dem ersten Ausführungsbeispiel besteht darin, dass die erste Richtung R1 entlang der Axialrichtung AR der Stützeinheit 104.2 bzw. des Spiegels M3 verläuft, während die zweite Richtung R2 wiederum entlang der Radialrichtung RR verläuft. In diesem Beispiel wird die Vergrößerung des Kopplungsbereichsabstands KBA von dem ersten Zustand Z1 (KBA1 - durchgezogene Kontur in 5) zu dem zweiten Zustand Z2 (KBA2 - gestrichelte Kontur in 5) also durch die thermisch bedingte axiale Längenänderung der Stützeinheit 104.2 erzielt. Dabei wird aber wiederum durch die Streckung des bogenförmigen Kopplungsabschnitts 210.3 eine Kompensationsbewegung des zweiten Kontaktabschnitts 210.2 erzielt, welche die ausdehnungsbedingte Annäherung des ersten Kontaktabschnitts 210.1 an den zweiten Kontaktabschnitt 210.2 (also die Verringerung des Zwischenraumes ZR zwischen der Stützeinheit 104.2 und dem Spiegel M3) in dem gewünschten Maß ausgleicht bzw. in einem gewünschten Maß beeinflusst (also den Zwischenraum ZR auf ein gewünschtes Maß einstellt).
  • Ebenso kann wiederum ein gewünschter Kontaktkraftverlauf eingestellt werden, wobei auch hier eine Justageeinrichtung 210.17 vorgesehen sein kann, um die Kontaktkraft FK21 einzustellen. Auch dies kann wiederum über Veränderung des Kopplungsbereichsabstands KBA1 im ersten Zustand Z1 erfolgen.
  • Im Übrigen kann die Verbindungseinheit 210 analog zu der Verbindungseinheit 110 aufgebaut sein. Ebenso kann die Verbindungseinheit 210 aber auch genau definierte Gelenkabschnitte 210.23 (beispielsweise Festkörpergelenke) aufweisen, über welche die Kinematik des bogenförmigen Kopplungsabschnitts 210.3 präzise definiert wird.
  • Auch mit dieser vorstehend beschriebenen Verbindungsanordnung 209 lassen sich die erfindungsgemäßen Verfahren ausführen, sodass insoweit auf die obigen Ausführungen Bezug genommen wird.
  • Drittes Ausführungsbeispiel
  • Im Folgenden wird unter Bezugnahme auf die 1 und 6 eine weitere bevorzugte Ausführungsform der erfindungsgemäßen Anordnung 308 beschrieben, welche anstelle der Anordnung 108 in der Abbildungseinrichtung 101 der 1 verwendet werden kann. Die Anordnung 308 entspricht in ihrer grundsätzlichen Gestaltung und Funktionsweise der Anordnung 208 aus 5, sodass hier lediglich auf die Unterschiede eingegangen werden soll. Insbesondere sind identische Komponenten mit den identischen Bezugszeichen versehen, während gleichartige Komponenten mit um den Wert 100 (gegenüber der zweiten Ausführungsform bzw. 200 gegenüber der ersten Ausführungsform) erhöhten Bezugszeichen versehen sind. Sofern nachfolgend nichts Anderweitiges ausgeführt wird, wird hinsichtlich der Merkmale, Funktionen und Vorteile dieser Komponenten auf die obigen Ausführungen im Zusammenhang mit dem ersten und zweiten Ausführungsbeispiel verwiesen.
  • Ein Unterschied zu dem ersten und zweiten Ausführungsbeispiel besteht darin, dass Stützeinheit 304.2 nicht in eine Ausnehmung des Spiegels M3 eingeführt ist, sondern dass nunmehr die Stützeinheit 304.2 den Spiegel M3 von außen ringförmig umgibt. Da der zweite thermische Ausdehnungskoeffizient CTE2 des Materials der Stützeinheit 304.2 wiederum größer ist als der erste thermische Ausdehnungskoeffizient CTE1 des Spiegels M3, vergrößert sich bei einer Temperaturerhöhung des Systems, also beim Übergang vom ersten Zustand Z1 (siehe durchgezogene Kontur in 6) zum zweiten Zustand Z2 (siehe gestrichelte Kontur in 6), nunmehr der Zwischenraum ZR zwischen der Stützeinheit 304.2 und dem Spiegel M3.
  • Im vorliegenden Beispiel ist der Kopplungsabschnitt 310.3 daher so konfiguriert, dass durch die Streckung des bogenförmigen Kopplungsabschnitts 310.3 eine Kompensationsbewegung des zweiten Kontaktabschnitts 310.2 erzielt wird, welche das ausdehnungsbedingte Entfernen des ersten Kontaktabschnitts 310.1 von dem zweiten Kontaktabschnitt 310.2 (also die Erhöhung des Zwischenraumes ZR zwischen der Stützeinheit 304.2 und dem Spiegel M3) in dem gewünschten Maß ausgleicht bzw. in einem gewünschten Maß beeinflusst (also den Zwischenraum ZR auf ein gewünschtes Maß einstellt). Hierzu werden entsprechende Abschnitte des Kopplungsabschnitts 310.3 bei der ausdehnungsbedingten Vergrößerung des Kopplungsbereichsabstands (von KBA1 nach KBA2) stärker in der zweiten Richtung R2 ausgerichtet.
  • Ebenso kann auch in diesem Beispiel wiederum ein gewünschter Kontaktkraftverlauf eingestellt werden, wobei auch hier eine Justageeinrichtung 310.17 vorgesehen sein kann, um die Kontaktkraft FK21 einzustellen. Auch dies kann wiederum über Veränderung des Kopplungsbereichsabstands KBA1 im ersten Zustand Z1 erfolgen.
  • Im Übrigen kann die Verbindungseinheit 310 analog zu der Verbindungseinheit 210 aufgebaut sein. Dabei kann die Verbindungseinheit 310 wiederum genau definierte Gelenkabschnitte 310.23 (beispielsweise Festkörpergelenke) aufweisen, über welche die Kinematik des bogenförmigen Kopplungsabschnitts 310.3 präzise definiert wird.
  • Auch mit dieser vorstehend beschriebenen Verbindungsanordnung 309 lassen sich die erfindungsgemäßen Verfahren ausführen, sodass insoweit auf die obigen Ausführungen Bezug genommen wird.
  • Viertes Ausführungsbeispiel
  • Im Folgenden wird unter Bezugnahme auf die 1, 7 und 8 eine weitere bevorzugte Ausführungsform der erfindungsgemäßen Anordnung 308 beschrieben, welche anstelle der Anordnung 108 in der Abbildungseinrichtung 101 der 1 verwendet werden kann. Die Anordnung 408 entspricht in ihrer grundsätzlichen Gestaltung und Funktionsweise der Anordnung 308 aus 6, sodass hier lediglich auf die Unterschiede eingegangen werden soll. Insbesondere sind identische Komponenten mit den identischen Bezugszeichen versehen, während gleichartige Komponenten mit um den Wert 100 (gegenüber der dritten Ausführungsform bzw. 300 gegenüber der ersten Ausführungsform) erhöhten Bezugszeichen versehen sind. Sofern nachfolgend nichts Anderweitiges ausgeführt wird, wird hinsichtlich der Merkmale, Funktionen und Vorteile dieser Komponenten auf die obigen Ausführungen im Zusammenhang mit dem ersten und dritten Ausführungsbeispiel verwiesen.
  • Ein Unterschied zu dem ersten und zweiten Ausführungsbeispiel besteht auch hier darin, dass Stützeinheit 304.2 nicht in eine Ausnehmung des Spiegels M3 eingeführt ist, sondern dass nunmehr die Stützeinheit 304.2 den Spiegel M3 von außen ringförmig umgibt. Da der zweite thermische Ausdehnungskoeffizient CTE2 des Materials der Stützeinheit 304.2 wiederum größer ist als der erste thermische Ausdehnungskoeffizient CTE1 des Spiegels M3, vergrößert sich bei einer Temperaturerhöhung des Systems, also beim Übergang vom ersten Zustand Z1 (siehe durchgezogene Kontur in 8) zum zweiten Zustand Z2 (siehe gestrichelte Kontur in 8), nunmehr wie beim dritten Ausführungsbeispiel der Zwischenraum ZR zwischen der Stützeinheit 304.2 und dem Spiegel M3.
  • Im vorliegenden Beispiel weist der erste Kontaktabschnitt 410.1 ein Kontaktsegment 410.11 auf, das in dem montierten Zustand mit einer Komponentenkontaktfläche 410.13 die erste Komponente 304.2 kontaktiert. Das Kontaktsegment 410.11 bildet bei dieser Variante entfernt von der Komponentenkontaktfläche 410.13 den ersten Kopplungsbereich 410.5 und den zweiten Kopplungsbereich 410.6 aus, wobei der Kopplungsabschnitt 410.3 in dem montierten Zustand einen Zwischenraum ZRK zwischen dem ersten Kopplungsbereich 410.5 und dem zweiten Kopplungsbereich 410.6 wiederum bogenförmig überbrückt. Wie bereits oben dargelegt, muss hierbei lediglich ein Freiraum FR (beispielsweise ein Spalt) zwischen dem Kontaktsegment 410.11 und dem Kopplungsabschnitt 410.3 vorgesehen sein, der ausreicht dass der Kopplungsabschnitt 410.3 die beschriebene Kompensationsbewegung ausführen kann.
  • Auch im vorliegenden Beispiel ist die Komponentenkontaktfläche 410.13 des Kontaktsegments 410.11 in der zweiten Richtung R2 von dem ersten Kopplungsbereich 410.5 und den zweiten Kopplungsbereich 410.6 beabstandet. Durch diesen Abstand kann wie bereits erläutert in vorteilhafter Weise jeweils Einfluss auf Gesamtverlagerung zwischen dem ersten Kontaktabschnitt 410.1 und dem zweiten Kontaktabschnitt 410.2 genommen werden, denn je größer dieser Abstand ist, desto größer fällt die thermisch bedingte Verlagerung des Kopplungsabschnitts 410.3 bezüglich der ersten Komponente 404.2 aus. Bei einer vorgegebenen Kompensationsbewegung durch den Kopplungsabschnitt 410.3 kann der Abstand dann entsprechend hierauf abgestimmt werden, um eine vorgegebene Gesamtverlagerung zwischen dem ersten Kontaktabschnitt 410.1 und dem zweiten Kontaktabschnitt 410.2 zu erzielen.
  • Das Kontaktsegment 410.11 kann grundsätzlich eine beliebige Gestaltung aufweisen. Bevorzugt ist das Kontaktsegment im Wesentlichen V-förmig oder im Wesentlichen Y-förmig oder, wie im vorliegenden Beispiel, im Wesentlichen T-förmig ausgebildet, da hiermit besonders günstige, insbesondere kompakte Konfigurationen erzielt werden können, bei denen die beiden Kopplungsbereiche 410.5, 410.6 einfach an den freien Enden der beiden Schenkel angeordnet sein können.
  • Im vorliegenden Beispiel bestimmten Varianten bilden das Kontaktsegment 410.11, der zweite Kontaktabschnitt 410.2 und der Kopplungsabschnitt 410.3 ein Verbindungselement 410.15, das hier zweiteilig ausgebildet ist, indem der zweite Kontaktabschnitt 410.2 und der Kopplungsabschnitt 410.3 monolithisch ausgebildet sind. Dabei weisen der zweite Kontaktabschnitt 410.2 und der Kopplungsabschnitt 410.3 einen geringeren thermischen Ausdehnungskoeffizienten als das Kontaktsegment 410.11 auf, um die thermisch bedingte Kompensationsbewegung zu erzielen.
  • Auch bei diesen Gestaltungen kann das Verbindungselement 410.15 ein erstes Verbindungselement sein und die Verbindungseinheit 410 wenigstens ein weiteres Verbindungselement 410.15 umfassen. Dabei kann die Verbindungseinheit 410 M weitere Verbindungselemente 410.15 umfassen, wobei M den Wert 1 bis 99, vorzugsweise 2 bis 49, weiter vorzugsweise 2 bis 24, aufweist. Im vorliegenden Beispiel sind zwei weitere Verbindungselemente 410.15 vorgesehen. Auch hier kann aus den oben bereits genannten Gründen eine unterschiedliche Gestaltung der Verbindungselemente 410.15 vorgesehen sein, beispielsweise um unterschiedlichen Lastverteilungen Rechnung zu tragen. Ebenso können wie im vorliegenden Beispiel die weiteren Verbindungselemente 410.15 zumindest im Wesentlichen identisch zu dem ersten Verbindungselement 410.15 ausgebildet sein.
  • Auch bei diesen Varianten können die Verbindungselemente 410.15 der Verbindungseinheit 410 wiederum wie oben dargelegt beliebig angeordnet sein. Insbesondere können die Verbindungselemente 410.15 der Verbindungseinheit 410 wie im vorliegenden Beispiel ringförmig angeordnet sein, um die oben genannten Vorteile einer solchen Anordnung zu nutzen. Bei bestimmten Varianten kontaktiert die Verbindungseinheit 410 wie im vorliegenden Beispiel eine Wandung einer Ausnehmung der Stützeinheit 404.2 (also der ersten Komponente). Dabei ist die Verbindungseinheit 410 in die Ausnehmung der Stützeinheit 404.2 eingesetzt, die hierzu beispielsweise als Stützring ausgebildet sein kann. Entsprechend kontaktiert die Verbindungseinheit 410 im vorliegenden Beispiel einen Außenumfang des Spiegels M3 (also der zweiten Komponente), wobei die Verbindungseinheit 410 den Spiegel M3 ringförmig umgibt. Auch hiermit werden die oben bereits darlegten Vorteile einer solchen Konfiguration erzielt.
  • Auch mit dieser vorstehend beschriebenen Verbindungsanordnung 409 lassen sich die erfindungsgemäßen Verfahren ausführen, sodass insoweit auf die obigen Ausführungen Bezug genommen wird.
  • Die vorliegende Erfindung wurde vorstehend ausschließlich anhand von Beispielen aus dem Bereich der Mikrolithographie beschrieben. Es versteht sich jedoch, dass die Erfindung auch im Zusammenhang mit beliebigen anderen optischen Anwendungen, insbesondere Abbildungsverfahren bei anderen Wellenlängen, zum Einsatz kommen kann, bei denen sich ähnliche Probleme hinsichtlich der Deformation zur Korrektur von Abbildungsfehlern stellen.
  • Weiterhin kann die Erfindung im Zusammenhang mit der Inspektion von Objekten, wie beispielsweise der so genannten Maskeninspektion zu Einsatz kommen, bei welcher die für die Mikrolithographie verwendeten Masken auf ihre Integrität etc. untersucht werden. An Stelle des Wafers 105.1 tritt dann in 1 beispielsweise eine Sensoreinheit, welche die Abbildung des Projektionsmusters des Retikels 104.1 (zur weiteren Verarbeitung) erfasst. Diese Maskeninspektion kann dann sowohl im Wesentlichen bei derselben Wellenlänge erfolgen, die im späteren Mikrolithographieprozess verwendet wird. Ebenso können aber auch beliebige hiervon abweichende Wellenlängen für die Inspektion verwendet werden.
  • Die vorliegende Erfindung wurde vorstehend schließlich anhand konkreter Ausführungsbeispiele beschrieben, welches konkrete Kombinationen der in den nachfolgenden Patentansprüchen definierten Merkmale zeigt. Es sei an dieser Stelle ausdrücklich darauf hingewiesen, dass der Gegenstand der vorliegenden Erfindung nicht auf diese Merkmalskombinationen beschränkt ist, sondern auch sämtliche übrigen Merkmalskombinationen, wie sie sich aus den nachfolgenden Patentansprüchen ergeben, zum Gegenstand der vorliegenden Erfindung gehören.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
  • Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
  • Zitierte Patentliteratur
    • US 2005046815 A1 [0009]
    • DE 102008009600 A1 [0067, 0070]
    • US 20060132747 A1 [0069]
    • EP 1614008 B1 [0069]
    • US 6573978 [0069]
    • US 20180074303 A1 [0079]

Claims (20)

  1. Verbindungsanordnung zum Verbinden einer ersten Komponente (104.2; 304.2) und einer zweiten Komponente (M3) einer Abbildungseinrichtung (101) für die Mikrolithographie, insbesondere für die Verwendung von Licht im extremen UV-Bereich (EUV), mittels einer Verbindungseinheit (110; 210; 310; 410) mit - einem ersten Kontaktabschnitt (110.1; 201.1; 310.1; 410.1), - einem zweiten Kontaktabschnitt (110.2; 201.2; 310.2; 410.2), und - einem Kopplungsabschnitt (110.3; 201.3; 310.3; 410.3), wobei - der erste Kontaktabschnitt (110.1; 201.1; 310.1; 410.1) dazu konfiguriert ist, die erste Komponente (104.2; 304.2) in einem montierten Zustand zu kontaktieren, - der zweite Kontaktabschnitt (110.2; 201.2; 310.2; 410.2) dazu konfiguriert ist, die zweite Komponente (M3) in dem montierten Zustand zu kontaktieren, - der erste Kontaktabschnitt (110.1; 201.1; 310.1; 410.1) einen ersten Kopplungsbereich (110.5; 410.5) und einen zweiten Kopplungsbereich (110.6; 410.6) aufweist, der von dem ersten Kopplungsbereich (110.5; 410.5) in einer ersten Richtung einen Kopplungsbereichsabstand aufweist, - der Kopplungsabschnitt (110.3; 201.3; 310.3; 410.3) ein erstes Ende (110.7) und ein entgegengesetztes zweites Ende (110.8) aufweist, - der Kopplungsabschnitt (110.3; 201.3; 310.3; 410.3) zumindest in dem montierten Zustand den ersten Kontaktabschnitt (110.1; 201.1; 310.1; 410.1) und den zweiten Kontaktabschnitt (110.2; 201.2; 310.2; 410.2) miteinander koppelt, indem der Kopplungsabschnitt (110.3; 201.3; 310.3; 410.3) an dem ersten Ende (110.7) mit dem ersten Kopplungsbereich (110.5; 410.5) verbunden ist und an dem zweiten Ende (110.8) mit dem zweiten Kopplungsbereich (110.6; 410.6) verbunden ist, - der Kopplungsabschnitt (110.3; 201.3; 310.3; 410.3) zumindest in dem montierten Zustand zwischen dem ersten Ende (110.7) und dem zweiten Ende (110.8) mit dem zweiten Kontaktabschnitt (110.2; 201.2; 310.2; 410.2) verbunden ist dadurch gekennzeichnet, dass - der erste Kontaktabschnitt (110.1; 201.1; 310.1; 410.1) und/oder der Kopplungsabschnitt (110.3; 201.3; 310.3; 410.3) derart ausgebildet ist, dass in dem montierten Zustand bei einer, insbesondere durch thermische Ausdehnung bedingten, Zustandsänderung von einem ersten Zustand in einen zweiten Zustand mit einer Vergrößerung des Kopplungsbereichsabstands dem zweiten Kontaktabschnitt (110.2; 201.2; 310.2; 410.2) eine Bewegungskomponente entlang einer zweiten Richtung aufgeprägt wird, wobei die zweite Richtung quer zu der ersten Richtung verläuft.
  2. Verbindungsanordnung nach Anspruch 1, - Verbindungseinheit (110; 210; 310; 410) dazu ausgebildet ist in dem montierten Zustand in einem Zwischenraum zwischen der ersten Komponente (104.2; 304.2) und der zweiten Komponente (M3) angeordnet zu werden, wobei die erste Komponente (104.2; 304.2) insbesondere einen größeren thermischen Ausdehnungskoeffizienten aufweist als die zweite Komponente (M3), wobei - sich der Zwischenraum bei der Zustandsänderung von dem ersten Zustand in einen zweiten Zustand verringert und die Bewegungskomponente des zweiten Kontaktabschnitts (110.2; 201.2) in der zweiten Richtung auf die erste Komponente (104.2) zu weist, wobei sich die erste Komponente (104.2) insbesondere in einer Ausnehmung der zweiten Komponente (M3) befindet, oder - sich der Zwischenraum bei der Zustandsänderung von dem ersten Zustand in einen zweiten Zustand vergrößert und die Bewegungskomponente des zweiten Kontaktabschnitts (310.2; 410.2) entgegen der zweiten Richtung von der ersten Komponente (304.2) weg weist, wobei sich die zweite Komponente (M3) insbesondere in einer Ausnehmung der ersten Komponente (304.2) befindet.
  3. Verbindungsanordnung nach Anspruch 1 oder 2, wobei - der Kopplungsabschnitt (110.3; 201.3; 310.3; 410.3) zwischen dem ersten Ende (110.7) und dem zweiten Ende (110.8) eine Mittenachse (110.4) definiert, - die Mittenachse (110.4) des Kopplungsabschnitts (110.3; 201.3; 310.3; 410.3) zwischen dem ersten Ende (110.7) und dem zweiten Ende (110.8) zumindest in dem ersten Zustand einen bogenförmigen, ersten Verlauf aufweist und - die Mittenachse des Kopplungsabschnitts (110.3; 201.3; 310.3; 410.3) zwischen dem ersten Ende (110.7) und dem zweiten Ende (110.8) in dem zweiten Zustand, in dem die Vergrößerung des Kopplungsbereichsabstands vorliegt, einen zweiten Verlauf aufweist, der gegenüber dem ersten Verlauf gestreckt ist, wobei insbesondere wenigstens eines von Nachfolgendem gilt: - der zweite Verlauf ist bogenförmig oder zumindest im Wesentlichen geradlinig; - der erste Verlauf ist wenigstens eines von zumindest abschnittsweise gekrümmt und zumindest abschnittsweise polygonal; - der zweite Verlauf ist wenigstens eines von zumindest abschnittsweise gekrümmt und zumindest abschnittsweise polygonal; - die Mittenachse des Kopplungsabschnitts (110.3; 201.3; 310.3; 410.3) definiert zwischen dem ersten Ende (110.7) und dem zweiten Ende (110.8) in dem ersten Zustand eine erste mittlere Krümmung und in dem zweiten Zustand eine zweite mittlere Krümmung, wobei die zweite mittlere Krümmung geringer ist als die erste mittlere Krümmung, wobei die zweite mittlere Krümmung insbesondere 95% bis 0%, vorzugsweise 75% bis 5%, weiter vorzugsweise 50% bis 10%, der ersten mittleren Krümmung beträgt;
  4. Verbindungsanordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei - der zweite Kontaktabschnitt (110.2; 201.2; 310.2; 410.2) in dem ersten Zustand eine erste Kontaktkraft auf die zweite Komponente (M3) ausübt, - der zweite Kontaktabschnitt (110.2; 201.2; 310.2; 410.2) in dem zweiten Zustand eine zweite Kontaktkraft auf die zweite Komponente (M3) ausübt, wobei wenigstens eines von Nachfolgendem gilt: - der erste Kontaktabschnitt (110.1; 201.1; 310.1; 410.1) und/oder der Kopplungsabschnitt (110.3; 201.3; 310.3; 410.3) ist derart ausgebildet, dass die zweite Kontaktkraft 80% bis 120%, vorzugsweise 90% bis 110%, weiter vorzugsweise 95% bis 105%, der ersten Kontaktkraft beträgt; - der erste Kontaktabschnitt (110.1; 201.1; 310.1; 410.1) und/oder der Kopplungsabschnitt (110.3; 201.3; 310.3; 410.3) ist derart ausgebildet, dass die Kontaktkraft, die der zweite Kontaktabschnitt (110.2; 201.2; 310.2; 410.2) auf die zweite Komponente (M3) ausübt, beim Übergang von dem ersten Zustand in den zweiten Zustand höchstens um 15% bis 20%, vorzugsweise um höchstens 5% bis 10%, weiter vorzugsweise um höchstens 1% bis 3%, der ersten Kontaktkraft variiert; - die Verbindungseinheit (110; 210; 310; 410) umfasst wenigstens eine Justageeinrichtung zum Einstellen der ersten Kontaktkraft, insbesondere durch Veränderung des Kopplungsbereichsabstands.
  5. Verbindungsanordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei - der erste Kontaktabschnitt (110.1; 201.1) derart ausgebildet ist, dass dem ersten Kopplungsbereich (110.5) und dem zweiten Kopplungsbereich (110.6) bei der Zustandsänderung von dem ersten Zustand in den zweiten Zustand entgegen der zweiten Richtung eine Kopplungsbereichsverlagerung weg von der ersten Komponente (104.2) aufgeprägt wird, und - der Kopplungsabschnitt (110.3; 201.3) dazu ausgebildet ist, bei der Zustandsänderung von dem ersten Zustand in den zweiten Zustand dem zweiten Kontaktabschnitt (110.2; 201.2) eine Kontaktabschnittverlagerung aufzuprägen, wobei - die Kontaktabschnittverlagerung in der zweiten Richtung zur ersten Komponente (104.2) hin erfolgt und die Wirkung der Kopplungsbereichsverlagerung zumindest im Wesentlichen kompensiert.
  6. Verbindungsanordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei - der erste Kontaktabschnitt (110.1; 201.1) ein erstes Kontaktsegment (110.11) und ein zweites Kontaktsegment (110.12) aufweist, die in dem montierten Zustand jeweils mit einer Komponentenkontaktfläche die erste Komponente (104.2) kontaktieren, - das erste Kontaktsegment (110.11) und das zweite Kontaktsegment (110.12) unter Bildung eines Freiraums, insbesondere entlang der ersten Richtung, voneinander beabstandet sind, - das erste Kontaktsegment (110.11) den ersten Kopplungsbereich (110.5) ausbildet, - das zweite Kontaktsegment (110.12) den zweiten Kopplungsbereich (110.6) ausbildet, - der Kopplungsabschnitt (110.3; 201.3) in dem montierten Zustand den Freiraum, insbesondere bogenförmig, überbrückt, wobei insbesondere wenigstens eines von Nachfolgendem gilt: - die Komponentenkontaktfläche des ersten Kontaktsegments (110.11), insbesondere in der zweiten Richtung, von dem ersten Kopplungsbereich (110.5; 410.5) beabstandet ist; - die Komponentenkontaktfläche des zweiten Kontaktsegments (110.12), insbesondere in der zweiten Richtung, von dem zweiten Kopplungsbereich (110.6) beabstandet ist;
  7. Verbindungsanordnung nach Anspruch 6, wobei - das erste Kontaktsegment (110.11), das zweite Kontaktsegment (110.12) und der Kopplungsabschnitt (110.3; 201.3) zumindest einen Teil eines Verbindungselements (110.15) bilden, wobei insbesondere wenigstens eines von Nachfolgendem gilt: - das Verbindungselement (110.15) umfasst weiterhin den zweiten Kontaktabschnitt (110.2; 201.2); - das Verbindungselement (110.15) ist monolithisch ausgebildet.
  8. Verbindungsanordnung nach Anspruch 7, wobei - das Verbindungselement (110.15) ein erstes Verbindungselement (110.15) ist und die Verbindungseinheit (110; 210) wenigstens ein weiteres Verbindungselement (110.15) umfasst, wobei insbesondere wenigstens eines von Nachfolgendem gilt: - die Verbindungseinheit (110; 210) umfasst N weitere Verbindungselemente, wobei N den Wert 1 bis 5, vorzugsweise 2 bis 4, weiter vorzugsweise 2 bis 3, aufweist; - das wenigstens eine weitere Verbindungselement (110.15) ist zumindest im Wesentlichen identisch zu dem ersten Verbindungselement (110.15) ausgebildet, - wenigstens ein Kontaktsegment (110.12) des ersten Verbindungselements (110.15) kontaktiert ein Kontaktsegment (110.11) des wenigstens einen weiteren Verbindungselements (110.15), - wenigstens ein Kontaktsegment (110.11) des ersten Verbindungselements (110.15) und ein Kontaktsegment (110.11) des wenigstens einen weiteren Verbindungselements (110.15) sind monolithisch miteinander ausgebildet, - die Verbindungseinheit (110; 210) ist ringförmig ausgebildet; - die Verbindungseinheit (110; 210) kontaktiert einen Außenumfang der ersten Komponente (104.2; 304.2), wobei die Verbindungseinheit (110; 210) insbesondere einen Abschnitt der ersten Komponente (104.2) ringförmig umgibt; - die Verbindungseinheit (110; 210) kontaktiert eine Wandung einer Ausnehmung der zweiten Komponente (M3), wobei die Verbindungseinheit (110; 210) insbesondere in die Ausnehmung der zweiten Komponente (M3) eingesetzt ist.
  9. Verbindungsanordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei - der erste Kontaktabschnitt (310.1; 410.1) ein Kontaktsegment (410.11) aufweist, das in dem montierten Zustand mit einer Komponentenkontaktfläche die erste Komponente (304.2) kontaktiert, - das Kontaktsegment entfernt von der Komponentenkontaktfläche den ersten Kopplungsbereich (410.5) und den zweiten Kopplungsbereich (410.6) ausbildet, - der Kopplungsabschnitt (310.3; 410.3) in dem montierten Zustand einen Zwischenraum zwischen dem ersten Kopplungsbereich (410.5) und dem zweiten Kopplungsbereich (410.6), insbesondere bogenförmig, überbrückt, wobei insbesondere wenigstens eines von Nachfolgendem gilt: - die Komponentenkontaktfläche des Kontaktsegments ist in der zweiten Richtung von dem ersten Kopplungsbereich (410.5) und/oder dem zweiten Kopplungsbereich (410.6) beabstandet; - das Kontaktsegment ist im Wesentlichen V-förmig oder im Wesentlichen Y-förmig oder im Wesentlichen T-förmig ausgebildet; - das Kontaktsegment und der Kopplungsabschnitt (310.3; 410.3) bilden zumindest einen Teil eines Verbindungselements (410.15), wobei das Verbindungselement (410.15) insbesondere weiterhin den zweiten Kontaktabschnitt (310.2; 410.2) umfasst und/oder das Verbindungselement (410.15) insbesondere monolithisch ausgebildet ist.
  10. Verbindungsanordnung nach Anspruch 9, wobei - das Verbindungselement (410.15) ein erstes Verbindungselement (410.15) ist und die Verbindungseinheit (310; 410) wenigstens ein weiteres Verbindungselement (410.15) umfasst, wobei insbesondere wenigstens eines von Nachfolgendem gilt: - die Verbindungseinheit (310; 410) umfasst M weitere Verbindungselemente, wobei M den Wert 1 bis 99, vorzugsweise 2 bis 49, weiter vorzugsweise 2 bis 24, aufweist; - das wenigstens eine weitere Verbindungselement (410.15) ist zumindest im Wesentlichen identisch zu dem ersten Verbindungselement (410.15) ausgebildet, - die Verbindungselemente der Verbindungseinheit (310; 410) sind ringförmig angeordnet; - die Verbindungseinheit (310; 410) kontaktiert eine Wandung einer Ausnehmung der ersten Komponente (304.2), wobei die Verbindungseinheit (310; 410) insbesondere in die Ausnehmung der ersten Komponente (304.2) eingesetzt ist; - die Verbindungseinheit (310; 410) kontaktiert einen Außenumfang der zweiten Komponente (M3), wobei die Verbindungseinheit (310; 410) insbesondere einen Abschnitt der zweiten Komponente (M3) ringförmig umgibt.
  11. Verbindungsanordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 10, wobei - die erste Komponente (104.2; 304.2) zumindest in ihrem an den ersten Kontaktabschnitt (110.1; 201.1; 310.1; 410.1) angrenzenden Bereich aus einem ersten Material mit einem ersten thermischen Ausdehnungskoeffizienten aufgebaut ist, - die zweite Komponente (M3) zumindest in ihrem an den zweiten Kontaktabschnitt (110.2; 201.2; 310.2; 410.2) angrenzenden Bereich aus einem zweiten Material mit einem zweiten thermischen Ausdehnungskoeffizienten aufgebaut ist, - die Verbindungseinheit (110; 210; 310; 410) aus einem dritten Material mit einem dritten thermischen Ausdehnungskoeffizienten aufgebaut ist, wobei wenigstens eines von Nachfolgendem gilt: - der erste thermische Ausdehnungskoeffizient ist größer als der zweite und der dritte thermische Ausdehnungskoeffizient; - der zweite thermische Ausdehnungskoeffizient ist größer als der dritte thermische Ausdehnungskoeffizient; - der zweite thermische Ausdehnungskoeffizient beträgt 5% bis 25%, vorzugsweise 8% bis 20%, weiter vorzugsweise 12% bis 18%, des ersten thermischen Ausdehnungskoeffizienten; - der dritte thermische Ausdehnungskoeffizient beträgt 5% bis 50%, vorzugsweise 10% bis 40%, weiter vorzugsweise 20% bis 30%, des ersten thermischen Ausdehnungskoeffizienten; - der Abstand zwischen dem ersten thermischen Ausdehnungskoeffizienten und dem dritten thermischen Ausdehnungskoeffizienten beträgt 40% bis 95%, vorzugsweise 50% bis 90%, weiter vorzugsweise 75% bis 88%, des Abstands zwischen dem ersten thermischen Ausdehnungskoeffizienten und dem zweiten thermischen Ausdehnungskoeffizienten; - der erste thermische Ausdehnungskoeffizient beträgt 10·10-6K-1 bis 20·10-6K-1, vorzugsweise 11·10-6K-1 bis 17·10-6K-1, weiter vorzugsweise 13·10-6K-1 bis 15·10-6K-1, - der zweite thermische Ausdehnungskoeffizient beträgt 0,5·10-6K-1 bis 4·10-6K-1, vorzugsweise 1·10-6K-1 bis 3·10-6K-1, weiter vorzugsweise 1·10-6K-1 bis 2·10-6K-1, - der dritte thermische Ausdehnungskoeffizient beträgt 2·10-6K-1 bis 6·10-6K-1, vorzugsweise 2,5·10-6K-1 bis 5-10-6K-1, weiter vorzugsweise 3·10-6K-1 bis 4·10-6K-1.
  12. Verbindungsanordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 11, wobei - wenigstens einer der Kontaktabschnitte in seinem an die unmittelbar kontaktierte Komponente (104.2; 304.2) angrenzenden Bereich einen Fixierabschnitt aufweist, der dazu ausgebildet ist den Kontaktabschnitt (110.2; 201.2; 310.2; 410.2) und die unmittelbar kontaktierte Komponente (104.2; 304.2) in einer dritten Richtung, die quer zu der ersten und der zweiten Richtung verläuft, zu fixieren, insbesondere durch Formschluss zu fixieren, wobei insbesondere wenigstens eines von Nachfolgendem gilt: - der Fixierabschnitt ist in einer dritten Richtung in einem zentralen Bereich des Kontaktabschnitts (110.2; 201.2; 310.2; 410.2) angeordnet, - der erste Kontaktabschnitt (110.1; 201.1; 310.1; 410.1) weist in seinem an die erste Komponente (104.2; 304.2) angrenzenden Bereich einen ersten Fixierabschnitt auf, - der zweite Kontaktabschnitt (110.2; 201.2; 310.2; 410.2) weist in seinem an die zweite Komponente (M3) angrenzenden Bereich einen zweiten Fixierabschnitt auf, - der Fixierabschnitt durch wenigstens einen Vorsprung gebildet ist, der sich in einer Ebene erstreckt, die senkrecht zu der dritten Richtung verläuft, und sich in dem montierten Zustand in eine zugeordnete Ausnehmung in der unmittelbar kontaktierten Komponente (104.2; 304.2) eingreift; - der Fixierabschnitt in dem montierten Zustand durch wenigstens eine Verklebung ausgebildet, die im Bereich wenigstens einer Vertiefung des Kontaktabschnitts ausgebildet ist.
  13. Verbindungsanordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 12, wobei - wenigstens einer der Kontaktabschnitte in seinem an die unmittelbar kontaktierte Komponente (104.2; 304.2) angrenzenden Bereich einen Kompensationsabschnitt (110.19) aufweist, der dazu ausgebildet ist, eine unterschiedliche thermische Ausdehnung zwischen dem Kontaktabschnitt (110.2; 201.2; 310.2; 410.2) und der unmittelbar kontaktierten Komponente (104.2; 304.2) in einer dritten Richtung, die quer zu der ersten und der zweiten Richtung verläuft, aufzunehmen, insbesondere durch elastische Deformation aufzunehmen, wobei insbesondere wenigstens eines von Nachfolgendem gilt: - der erste Kontaktabschnitt (110.1; 201.1; 310.1; 410.1) in seinem an die erste Komponente (104.2; 304.2) angrenzenden Bereich einen ersten Kompensationsabschnitt aufweist, - der zweite Kontaktabschnitt (110.2; 201.2; 310.2; 410.2) in seinem an die zweite Komponente (M3) angrenzenden Bereich einen zweiten Kompensationsabschnitt (110.19) aufweist, - der Kompensationsabschnitt (110.19) durch voneinander entlang der dritten Richtung beabstandete elastische Abschnitte (110.20) ausgebildet ist, deren Nachgiebigkeit insbesondere entlang der dritten Richtung ausgehend von einem zentralen Abschnitt des Kontaktabschnitts (110.2; 201.2; 310.2; 410.2) zu den Enden des Kontaktabschnitts (110.2; 201.2; 310.2; 410.2) hin entlang der dritten Richtung zunimmt, wobei die elastischen Abschnitte (110.20) insbesondere durch blattfederartige Elemente (110.20) ausgebildet sind, deren Länge zu den Enden des Kontaktabschnitts (110.2; 201.2; 310.2; 410.2) hin zunimmt, wobei die unterschiedliche Länge der blattfederartigen Elemente (110.20) insbesondere durch quer zu der dritten Richtung unterschiedlich tiefe Schlitze (110.21) in dem Kontaktabschnitt (110.2; 201.2; 310.2; 410.2) definiert ist, wobei die Tiefe der Schlitze (110.21) insbesondere ausgehend von dem zentralen Abschnitt zu den Enden des Kontaktabschnitts (110.2; 201.2; 310.2; 410.2) hin entlang der dritten Richtung zunimmt.
  14. Verbindungsanordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 13, wobei - die erste Komponente (104.2; 304.2) ein Bestandteil einer Stützstruktur, insbesondere für ein optisches Element, ist, die insbesondere aus wenigstens einem der Materialien Stahl, einem Metall mit geringer thermischer Ausdehnung und einem Nicht-Metall mit geringer thermischer Ausdehnung aufgebaut ist, und/oder - die zweite Komponente (M3) ein optisches Element ist, das insbesondere aus wenigstens einem der Materialien Keramik, Zerodur und ULE® Glas aufgebaut ist; und/oder - die Verbindungseinheit (110; 210; 310; 410) insbesondere aus wenigstens einem der Materialien Wolfram und einer Wolframlegierung aufgebaut ist;
  15. Verbindungsanordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 14, wobei - die erste Komponente (104.2; 304.2) eine Axialrichtung, eine Radialrichtung und eine Umfangsrichtung definiert und - die zweite Richtung zumindest im Wesentlichen entlang der Radialrichtung verläuft, wobei - die erste Richtung zumindest im Wesentlichen entlang der Umfangsrichtung verläuft oder - die erste Richtung zumindest im Wesentlichen entlang der Axialrichtung verläuft.
  16. Verbindungsanordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 15, wobei - der zweite Kontaktabschnitt (110.2; 201.2; 310.2; 410.2) in einer Ebene, die durch die erste und zweite Richtung definiert ist, eine im Wesentlichen T-förmige oder pilzförmige Schnittkontur aufweist, und/oder - der zweite Kontaktabschnitt (110.2; 201.2; 310.2; 410.2) einen schmalen stegartigen Abschnitt aufweist, über den der zweite Kontaktabschnitt (110.2; 201.2; 310.2; 410.2) an den Kopplungsabschnitt (110.3; 201.3; 310.3; 410.3) angebunden ist, wobei eine Längsachse des stegartigen Abschnitts quer zu der ersten und zweiten Richtung verläuft.
  17. Optische Anordnung mit einem optischen Element (M3), das über eine Verbindungsanordnung (109; 209; 309; 409) nach einem Ansprüche 1 bis 16 mit einer Stützstruktur verbunden ist.
  18. Optische Abbildungseinrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit - einer Beleuchtungseinrichtung (102) mit einer ersten optischen Elementgruppe (102.2), - einer Objekteinrichtung (103) zur Aufnahme eines Objekts (103.3), - einer Projektionseinrichtung (104) mit einer zweiten optischen Elementgruppe (104.1) und - einer Bildeinrichtung (105), wobei - die Beleuchtungseinrichtung (102) zur Beleuchtung des Objekts (103.3) ausgebildet ist und - die Projektionseinrichtung (104) zur Projektion einer Abbildung des Objekts (103.3) auf die Bildeinrichtung (105) ausgebildet ist, dadurch gekennzeichnet, dass - die Beleuchtungseinrichtung (102) und/oder die Projektionseinrichtung (104) wenigstens eine optische Anordnung (108) nach Anspruch 17 umfasst,
  19. Verfahren zum Verbinden einer ersten Komponente (104.2; 304.2) und einer zweiten Komponente (M3) einer Abbildungseinrichtung für die Mikrolithographie, insbesondere für die Verwendung von Licht im extremen UV-Bereich (EUV), mittels einer Verbindungseinheit (110; 210; 310; 410), bei dem - ein erster Kontaktabschnitt (110.1; 201.1; 310.1; 410.1) der Verbindungseinheit (110; 210; 310; 410) mit der ersten Komponente (104.2; 304.2) in einem montierten Zustand in Kontakt gebracht wird, - ein zweiter Kontaktabschnitt (110.2; 201.2; 310.2; 410.2) der Verbindungseinheit (110; 210; 310; 410) mit der zweiten Komponente (M3) in dem montierten Zustand in Kontakt gebracht wird, - ein erster Kopplungsbereich (110.5; 410.5) des ersten Kontaktabschnitts und ein zweiter Kopplungsbereich (110.6; 410.6) des ersten Kontaktabschnitts (110.1; 201.1; 310.1; 410.1) in einer ersten Richtung in einem Kopplungsbereichsabstand voneinander angeordnet werden, - der erste Kontaktabschnitt (110.1; 201.1; 310.1; 410.1) und der zweite Kontaktabschnitt (110.2; 201.2; 310.2; 410.2) werden mittels eines Kopplungsabschnitts der Verbindungseinheit (110; 210; 310; 410), der ein erstes Ende (110.7) und ein entgegengesetztes zweites Ende (110.8) aufweist, zumindest in dem montierten Zustand miteinander gekoppelt, indem der Kopplungsabschnitt (110.3; 201.3; 310.3; 410.3) an dem ersten Ende (110.7) mit dem ersten Kopplungsbereich (110.5; 410.5) verbunden wird und an dem zweiten Ende (110.8) mit dem zweiten Kopplungsbereich (110.6; 410.6) verbunden wird, - der Kopplungsabschnitt (110.3; 201.3; 310.3; 410.3) zumindest in dem montierten Zustand zwischen dem ersten Ende (110.7) und dem zweiten Ende (110.8) mit dem zweiten Kontaktabschnitt verbunden wird, dadurch gekennzeichnet, dass - der erste Kontaktabschnitt (110.1; 201.1; 310.1; 410.1) und/oder der Kopplungsabschnitt (110.3; 201.3; 310.3; 410.3) in dem montierten Zustand bei einer, insbesondere durch thermische Ausdehnung bedingten, Zustandsänderung von einem ersten Zustand in einen zweiten Zustand mit einer Vergrößerung des Kopplungsbereichsabstands dem zweiten Kontaktabschnitt (110.2; 201.2; 310.2; 410.2) eine Bewegungskomponente entlang einer zweiten Richtung aufprägen, wobei die zweite Richtung quer zu der ersten Richtung verläuft.
  20. Optisches Abbildungsverfahren, insbesondere für die Mikrolithographie, bei dem - eine Beleuchtungseinrichtung (102), die eine erste optische Elementgruppe (102.2) aufweist, ein Objekt (103.3) beleuchtet und - eine Projektionseinrichtung (104), die eine zweite optische Elementgruppe (104.1) aufweist, eine Abbildung des Objekts (103.3) auf eine Bildeinrichtung (105) projiziert, dadurch gekennzeichnet, dass - wenigstens eine erste Komponente (104.2; 304.2) der Beleuchtungseinrichtung (102) und/oder der Projektionseinrichtung (104) mittels eines Verfahrens nach Anspruch 19 mit einer zweiten Komponente (M3) verbunden wird, wobei insbesondere wenigstens eines von Nachfolgendem gilt: - die erste Komponente (104.2; 304.2) ist ein optisches Element (M3) der Beleuchtungseinrichtung (102) oder der Projektionseinrichtung (104) - die zweite Komponente (M3) ist ein Teil einer Stützstruktur der Beleuchtungseinrichtung (102) oder der Projektionseinrichtung (104).
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