DE102009024870A1 - Optische Einrichtung mit einstellbarer Kraftwirkung auf ein optisches Modul - Google Patents

Optische Einrichtung mit einstellbarer Kraftwirkung auf ein optisches Modul Download PDF

Info

Publication number
DE102009024870A1
DE102009024870A1 DE102009024870A DE102009024870A DE102009024870A1 DE 102009024870 A1 DE102009024870 A1 DE 102009024870A1 DE 102009024870 A DE102009024870 A DE 102009024870A DE 102009024870 A DE102009024870 A DE 102009024870A DE 102009024870 A1 DE102009024870 A1 DE 102009024870A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
force
contact surface
connection part
support structure
optical module
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE102009024870A
Other languages
English (en)
Inventor
Yim-Bun-Patrick Dr. Kwan
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Carl Zeiss SMT GmbH
Original Assignee
Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Carl Zeiss SMT GmbH filed Critical Carl Zeiss SMT GmbH
Priority to DE102009024870A priority Critical patent/DE102009024870A1/de
Publication of DE102009024870A1 publication Critical patent/DE102009024870A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/70141—Illumination system adjustment, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of illumination system
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/02—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
    • G02B7/028—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses with means for compensating for changes in temperature or for controlling the temperature; thermal stabilisation
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/003—Alignment of optical elements
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70816—Bearings
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70833—Mounting of optical systems, e.g. mounting of illumination system, projection system or stage systems on base-plate or ground
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70975—Assembly, maintenance, transport or storage of apparatus

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
  • Lens Barrels (AREA)

Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft eine optische Einrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit einem optischen Modul, einer Stützstruktur und einer Verbindungseinrichtung, wobei die Verbindungseinrichtung wenigstens eine Verbindungseinheit mit einem ersten Verbindungsteil und einem zweiten Verbindungsteil umfasst. Der erste Verbindungsteil ist mit dem optischen Modul verbunden und der zweite Verbindungsteil ist mit der Stützstruktur verbunden. Der erste Verbindungsteil weist eine erste Kontaktfläche mit einer ersten Hauptkrümmung auf, die eine erste Hauptkrümmungsachse definiert, während der zweite Verbindungsteil eine zweite Kontaktfläche mit einer zweiten Hauptkrümmung aufweist, die eine zweite Hauptkrümmungsachse definiert. Die zweite Hauptkrümmung ist an die erste Hauptkrümmung angepasst und die erste Kontaktfläche kontaktiert die zweite Kontaktfläche in einem montierten Zustand. Die Verbindungseinrichtung umfasst zumindest einen Teil einer auf den ersten Verbindungsteil und den zweiten Verbindungsteil wirkenden Positioniereinrichtung, wobei die Positioniereinrichtung dazu ausgebildet ist, in einem vor dem montierten Zustand vorliegenden Justagezustand einen schmalen Spalt zwischen der ersten Kontaktfläche und der zweiten Kontaktfläche derart berührungslos aufrechtzuerhalten, dass eine Ausgleichsbewegung zwischen der ersten Kontaktfläche und der zweiten Kontaktfläche um die erste Hauptkrümmungsachse ohne aus der Ausgleichsbewegung resultierende ...

Description

  • HINTERGRUND DER ERFINDUNG
  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine optische Einrichtung, eine optische Abbildungseinrichtung, die eine solche optische Einrichtung umfasst sowie ein Verfahren zum Verbinden eines optischen Moduls mit einer Stützstruktur. Die Erfindung lässt sich im Zusammenhang beliebigen optischen Einrichtungen bzw. optischen Abbildungsverfahren anwenden. Insbesondere lässt sie sich im Zusammenhang mit der bei der Herstellung mikroelektronischer Schaltkreise verwendeten Mikrolithographie einsetzen.
  • Insbesondere im Bereich der Mikrolithographie ist es neben der Verwendung mit möglichst hoher Präzision ausgeführter Komponenten unter anderem erforderlich, die optischen Module der Abbildungseinrichtung (beispielsweise der Module mit optischen Elementen wie Linsen, Spiegeln oder Gittern) im Betrieb so zu halten, dass sie eine möglichst geringe Abweichung von einer vorgegebenen Sollposition bzw. einer vorgegebenen Sollgeometrie aufweisen, um eine entsprechend hohe Abbildungsqualität zu erzielen (wobei im Sinne der vorliegenden Erfindung der Begriff optisches Modul sowohl optische Elemente alleine als auch Baugruppen aus solchen optischen Elementen und weiteren Komponenten, wie z. B. Fassungsteilen etc., bezeichnen soll).
  • Im Bereich der Mikrolithographie liegen die Genauigkeitsanforderungen im mikroskopischen Bereich in der Größenordnung weniger Nanometer oder darunter. Sie sind dabei nicht zuletzt eine Folge des ständigen Bedarfs, die Auflösung der bei der Herstellung mikroelektronischer Schaltkreise verwendeten optischen Systeme zu erhöhen, um die Miniaturisierung der herzustellenden mikroelektronischen Schaltkreise voranzutreiben. Insbesondere bei modernen Lithographiesystemen, die zur Erhöhung der Auflösung mit einer hohen numerischen Apertur arbeiten, wird mit hoch polarisiertem UV Licht gearbeitet, um die Vorteile der hohen numerischen Apertur vollständig ausnutzen zu können. Von besonderer Bedeutung ist hierbei also die Erhaltung der Polarisation des Lichts beim Durchlaufen des optischen Systems. Als besonders problematisch erweist sich hierbei die spannungsinduzierte Doppelbrechung, welche durch Spannungen in den optischen Elementen hervorgerufen wird und einen wesentlichen Anteil am Polarisationsverlust im System trägt. Folglich ist es von erheblicher Bedeutung, in das betreffende optische Modul möglichst wenig unerwünschte Spannungen einzuleiten, um deren negative Auswirkungen auf die Abbildungsqualität so gering wie möglich zu halten.
  • Ein Problem in diesem Zusammenhang ergibt sich beim Herstellen der Verbindung zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur, welche das optische Modul abstützt. So soll die Anbindung des optischen Moduls an die Stützstruktur möglichst steif sein, um eine möglichst hohe, unter dynamischen Gesichtspunkten günstige Eigenfrequenz des Systems zu erzielen.
  • Diese hohe Steifigkeit des Systems hat jedoch auch erhebliche Nachteile. So können Form- und Lagetoleranzen der Kontaktflächen zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur in der Regel nur über eine reibungsbehaftete Relativbewegung sowie gegebenenfalls eine Deformation der beteiligten Komponenten ausgeglichen werden. Während die reibungsbehaftete Relativbewegung zur Einleitung von parasitären Scherspannungen in das optische Modul führt, ergeben sich (infolge der hohen Steifigkeit des Systems) auch aus der Deformation erhebliche parasitäre Spannungen in dem optischen Modul. Zudem werden diese parasitären Spannungen wegen der hohen Steifigkeit der beteiligten Komponenten nur über eine vergleichsweise lange Strecke aufgebaut, sodass sie sich gegebenenfalls bis weit in die optisch wirksamen Komponenten des optischen Moduls hinein fortpflanzen können, wo ihr negativer Einfluss auf die Abbildungsqualität besonders stark zum Tragen kommt.
  • KURZE ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
  • Der vorliegenden Erfindung liegt daher die Aufgabe zu Grunde, eine optische Einrichtung, eine optische Abbildungseinrichtung bzw. ein Verfahren zum Verbinden eines optischen Moduls mit einer Stützstruktur zur Verfügung zu stellen, welche die oben genannten Nachteile nicht oder zumindest in geringerem Maße aufweisen und insbesondere auf einfache Weise im Einsatz eine hohe Abbildungsqualität gewährleistet.
  • Der vorliegenden Erfindung liegt zum einen die Erkenntnis zu Grunde, dass man eine Reduktion der parasitären Spannungen, welche in das optische Modul aufgrund seiner Abstützung durch die Stützstruktur eingeleitet werden, und damit eine besonders hohe Abbildungsqualität auf einfache Weise dadurch erzielen kann, dass man in einem vor dem montierten Zustand vorliegenden Justagezustand einen schmalen Spalt zwischen den Kontaktflächen am optischen Modul und an der Stützstruktur derart berührungslos aufrecht zu erhalten, dass eine Ausgleichsbewegung zwischen diesen Kontaktflächen um wenigstens eine ihrer Hauptkrümmungsachsen ohne aus der Ausgleichsbewegung resultierende Kraftwirkung zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur möglich ist.
  • Die berührungslose Aufrechterhaltung des Spalts ohne aus der Ausgleichsbewegung resultierende Kraftwirkung zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur hat den Vorteil, dass aus dieser Ausgleichsbewegung keine parasitären Kräfte und Momente, also letztlich keine parasitären Spannungen resultieren. Die zur berührungslosen Aufrechterhaltung des Spalts erforderliche Kraftwirkung zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur kann auf beliebige geeignete Weise erzeugt werden. So können beliebige fluiddynamische, magnetische und elektrische Wirkprinzipien oder beliebige Kombinationen hiervon zum Einsatz kommen, welche ohne Berührung eine entsprechende Kraftwirkung zwischen zwei Körpern erzeugen, um den Spalt aufrechtzuerhalten.
  • Durch die Aufrechterhaltung des schmalen Spalts ist es möglich, in dem Justagezustand bis kurz vor dem Kontakt der Kontaktflächen Ausgleichsbewegungen zwischen den Fügepartnern auszuführen, ohne dass hieraus parasitären Spannungen resultieren. Je nach Größe des Spalts ist es somit möglich, die beiden Kontaktflächen in eine zumindest nahezu ideale Position zueinander zu bringen, sodass aus der nachfolgenden Reduzierung des Spalts bis zum endgültigen Kontakt der Kontaktflächen keine nennenswerten parasitären Spannungen mehr resultieren.
  • Die Größe des schmalen Spalts kann grundsätzlich auf beliebige für den jeweiligen Anwendungsfall geeignete Weise bemessen sein. Vorteilhafte Spaltgrößen reichen von 5 bis 200 μm. Vorzugsweise liegt die Größe des schmalen Spalts im Bereich weniger Mikrometer, bevorzugt zwischen 5 μm und 15 μm, insbesondere bei etwa 10 μm.
  • Hiermit ist es beispielsweise möglich, dass der Kontakt zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur bereits an einer oder mehreren anderen Fügestellen hergestellt ist, während der schmale Spalt zwischen dem beiden Kontaktflächen noch aufrechterhalten wird. Wird der schmale Spalt dann ebenfalls bis zum endgültigen Kontakt der Kontaktflächen abgebaut, resultiert aus dieser vergleichsweise kleinen Bewegung (sofern überhaupt) zum einen zwischen den Kontaktflächen, zum anderen aber auch im Bereich der anderen Fügestellen nur eine vergleichsweise geringe Relativbewegung zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur, sodass hieraus (sofern überhaupt) nur sehr geringe parasitäre Kräfte bzw. Momente und daraus resultierende parasitäre Spannungen entstehen können.
  • Besonders vorteilhaft ist es, wenn dieses Prinzip an mehreren, insbesondere allen Fügestellen zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur angewendet wird. Zudem ist es in diesem Fall vorteilhaft, den jeweiligen schmalen Spalt zwischen den betreffenden Kontaktflächen derart synchron zu reduzieren, dass sich die Kontaktflächen an den unterschiedlichen Fügestellen im Wesentlichen gleichzeitig berühren (wobei im Sinne der vorliegenden unter „im Wesentlichen gleichzeitig” eine maximale zeitliche Abweichung von weniger als 100 ms, vorzugsweise weniger als 10 ms, verstanden werden soll). Durch die beim Abbau des Spalts an einer der Fügestellen entstehende Relativbewegung bedingte Relativbewegungen im Bereich einer oder mehrerer der anderen Fügestellen werden hierdurch in vorteilhafter Weise vermieden.
  • Es sei an dieser Stelle angemerkt, dass es sich bei den betreffenden Kontaktflächen auch um ebene Flächen handeln kann, deren Hauptkrümmungsachsen im Unendlichen liegen kann. In diesem Spezialfall handelt es sich bei der Ausgleichsbewegung um diese (im Unendlichen liegende) Hauptkrümmungsachse mit anderen Worten nicht um eine rotatorische sondern um eine translatorische Bewegung.
  • Gemäß einem ersten Aspekt betrifft die vorliegende Erfindung daher eine optische Einrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit einem optischen Modul, einer Stützstruktur und einer Verbindungseinrichtung, wobei die Verbindungseinrichtung wenigstens eine Verbindungseinheit mit einem ersten Verbindungsteil und einem zweiten Verbindungsteil umfasst. Der erste Verbindungsteil ist mit dem optischen Modul verbunden und der zweite Verbindungsteil ist mit der Stützstruktur verbunden. Der erste Verbindungsteil weist eine erste Kontaktfläche mit einer ersten Hauptkrümmung auf, die eine erste Hauptkrümmungsachse definiert, während der zweite Verbindungsteil eine zweite Kontaktfläche mit einer zweiten Hauptkrümmung aufweist, die eine zweite Hauptkrümmungsachse definiert. Die zweite Hauptkrümmung ist an die erste Hauptkrümmung angepasst ist und die erste Kontaktfläche kontaktiert die zweite Kontaktfläche in einem montierten Zustand. Die Verbindungseinrichtung umfasst zumindest einen Teil einer auf den ersten Verbindungsteil und den zweiten Verbindungsteil wirkenden Positioniereinrichtung, wobei die Positioniereinrichtung dazu ausgebildet ist, in einem vor dem montierten Zustand vorliegenden Justagezustand einen schmalen Spalt zwischen der ersten Kontaktfläche und der zweiten Kontaktfläche derart berührungslos aufrecht zu erhalten, dass eine Ausgleichsbewegung zwischen der ersten Kontaktfläche und der zweiten Kontaktfläche um die erste Hauptkrümmungsachse ohne aus der Ausgleichsbewegung resultierende Kraftwirkung zwischen dem ersten Verbindungsteil und dem zweiten Verbindungsteil möglich ist.
  • Gemäß einem weiteren Aspekt betrifft die vorliegende Erfindung eine optische Abbildungseinrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit einer Beleuchtungseinrichtung mit einer ersten optischen Elementgruppe, einer Maskeneinrichtung zur Aufnahme einer ein Projektionsmuster umfassenden Maske, einer Projektionseinrichtung mit einer zweiten optischen Elementgruppe und einer Substrateinrichtung zur Aufnahme eines Substrats. Die Beleuchtungseinrichtung ist zum Beleuchten des Projektionsmusters unter Verwendung der ersten optischen Elementgruppe ausgebildet, während die zweite optische Elementgruppe zum Abbilden des Projektionsmusters auf dem Substrat ausgebildet ist. Die Beleuchtungseinrichtung und/oder die Projektionseinrichtung umfasst ein optisches Modul, eine Stützstruktur und eine Verbindungseinrichtung umfasst, wobei die Verbindungseinrichtung wenigstens eine Verbindungseinheit mit einem ersten Verbindungsteil und einem zweiten Verbindungsteil umfasst. Der erste Verbindungsteil ist mit dem optischen Modul verbunden ist und der zweite Verbindungsteil ist mit der Stützstruktur verbunden. Der erste Verbindungsteil weist eine erste Kontaktfläche mit einer ersten Hauptkrümmung auf, die eine erste Hauptkrümmungsachse definiert, während der zweite Verbindungsteil eine zweite Kontaktfläche mit einer zweiten Hauptkrümmung aufweist, die eine zweite Hauptkrümmungsachse definiert. Die zweite Hauptkrümmung ist an die erste Hauptkrümmung angepasst und die erste Kontaktfläche kontaktiert die zweite Kontaktfläche in einem montierten Zustand. Die Verbindungseinrichtung umfasst zumindest einen Teil einer auf den ersten Verbindungsteil und den zweiten Verbindungsteil wirkenden Positioniereinrichtung umfasst, wobei die Positioniereinrichtung dazu ausgebildet ist, in einem vor dem montierten Zustand vorliegenden Justagezustand einen schmalen Spalt zwischen der ersten Kontaktfläche und der zweiten Kontaktfläche derart berührungslos aufrecht zu erhalten, dass eine Ausgleichsbewegung zwischen der ersten Kontaktfläche und der zweiten Kontaktfläche um die erste Hauptkrümmungsachse ohne aus der Ausgleichsbewegung resultierende Kraftwirkung zwischen dem ersten Verbindungsteil und dem zweiten Verbindungsteil möglich ist.
  • Gemäß einem weiteren Aspekt betrifft die vorliegende Erfindung ein Verfahren zum Verbinden eines optischen Moduls mit einer Stützstruktur, insbesondere für die Mikrolithographie, bei dem das optische Modul über eine Verbindungseinrichtung mit der Stützstruktur verbunden wird, wobei die Verbindungseinrichtung wenigstens eine Verbindungseinheit mit einem ersten Verbindungsteil und einem zweiten Verbindungsteil umfasst, der erste Verbindungsteil mit dem optischen Modul verbunden ist und der zweite Verbindungsteil mit der Stützstruktur verbunden ist, der erste Verbindungsteil eine erste Kontaktfläche mit einer ersten Hauptkrümmung aufweist, die eine erste Hauptkrümmungsachse definiert, der zweite Verbindungsteil eine zweite Kontaktfläche mit einer an die erste Hauptkrümmung angepassten zweiten Hauptkrümmung aufweist, die eine zweite Hauptkrümmungsachse definiert, und das optische Modul und die Stützstruktur einander derart angenähert werden, dass die erste Kontaktfläche die zweite Kontaktfläche in einem montierten Zustand kontaktiert. In einem vor dem montierten Zustand vorliegenden Justagezustand wird ein schmaler Spalt zwischen der ersten Kontaktfläche und der zweiten Kontaktfläche derart berührungslos aufrecht erhalten, dass eine Ausgleichsbewegung zwischen der ersten Kontaktfläche und der zweiten Kontaktfläche um die erste Hauptkrümmungsachse ohne aus der Ausgleichsbewegung resultierende Kraftwirkung zwischen dem ersten Verbindungsteil und dem zweiten Verbindungsteil möglich ist.
  • Gemäß einem weiteren Aspekt betrifft die vorliegende Erfindung eine optische Einrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit einem optischen Modul, einer Stützstruktur und einer Verbindungseinrichtung, wobei die Verbindungseinrichtung eine Mehrzahl von Verbindungseinheiten umfasst, jede Verbindungseinheit einen mit dem optischen Modul verbundenen Modulverbindungsteil und einen mit der Stützstruktur verbundenen Strukturverbindungsteil umfasst, die einander in einem montierten Zustand kontaktieren. Die Verbindungseinrichtung umfasst zumindest einen Teil einer Positioniereinrichtung, wobei die Positioniereinrichtung dazu ausgebildet ist, in einem vor dem montierten Zustand vorliegenden Justagezustand einen Spalt zwischen dem jeweiligen Modulverbindungsteil und dem zugeordneten Strukturverbindungsteil derart berührungslos zu verringern, dass die Modulverbindungsteile und die zugeordneten Strukturverbindungsteile einander im Wesentlichen gleichzeitig kontaktieren.
  • Gemäß einem weiteren Aspekt betrifft die vorliegende Erfindung ein Verfahren zum Verbinden eines optischen Moduls mit einer Stützstruktur, insbesondere für die Mikrolithographie, bei dem das optische Modul über eine Verbindungseinrichtung mit der Stützstruktur verbunden wird, wobei die Verbindungseinrichtung eine Mehrzahl von Verbindungseinheiten umfasst, jede Verbindungseinheit einen mit dem optischen Modul verbundenen Modulverbindungsteil und einen mit der Stützstruktur verbundenen Strukturverbindungsteil umfasst, das optische Modul und die Stützstruktur einander derart angenähert werden, dass der jeweilige Modulverbindungsteil und der zugeordnete Strukturverbindungsteil einander in einem montierten Zustand kontaktieren. in einem vor dem montierten Zustand vorliegenden Justagezustand wird ein jeweils vorliegender Spalt zwischen dem jeweiligen Modulverbindungsteil und dem zugeordneten Strukturverbindungsteil derart berührungslos verringert, dass die Modulverbindungsteile und die zugeordneten Strukturverbindungsteile einander im Wesentlichen gleichzeitig kontaktieren.
  • Weitere bevorzugte Ausgestaltungen der Erfindung ergeben sich aus den Unteransprüchen bzw. der nachstehenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele, welche auf die beigefügten Zeichnungen Bezug nimmt.
  • KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
  • 1 ist eine schematische Darstellung einer bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen optischen Abbildungseinrichtung, die eine erfindungsgemäße optische Einrichtung umfasst und mit der sich eine bevorzugte Ausführungsform eines erfindungsgemäßen Verfahrens zum Verbinden zweier Komponenten einer optischen Einrichtung durchführen lässt;
  • 2A ist eine schematische perspektivische Darstellung eines Teils einer bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen optischen Einrichtung der Abbildungseinrichtung aus 1 (Detail II aus 1) in einem Justagezustand;
  • 2B ist eine schematische Darstellung der Komponenten aus 2A in einem montierten Zustand;
  • 3 ist ein Blockdiagramm einer bevorzugten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens zum Verbinden zweier Komponenten einer optischen Einrichtung, welches sich mit der optischen Einrichtung aus 2A durchführen lässt;
  • 4 ist eine schematische Darstellung eines Teils einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen optischen Einrichtung der Abbildungseinrichtung aus 1;
  • 5 ist eine schematische Darstellung eines Teils einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen optischen Einrichtung der Abbildungseinrichtung aus 1;
  • 6 ist eine schematische Darstellung einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen optischen Abbildungseinrichtung, die eine erfindungsgemäße optische Einrichtung umfasst und mit der sich eine bevorzugte Ausführungsform eines erfindungsgemäßen Verfahrens zum Verbinden zweier Komponenten einer optischen Einrichtung durchführen lässt;
  • 7 ist eine schematische perspektivische Darstellung eines Teils einer bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen optischen Einrichtung der Abbildungseinrichtung aus 6 (Detail VII aus 6) in einem noch nicht montierten Zustand;
  • 8A ist eine schematische perspektivische Darstellung der Komponenten aus 7 in einem Justagezustand;
  • 8B ist eine schematische Darstellung der Komponenten aus 8A in einem montierten Zustand (Detail VII aus 6);
  • 9A bis 9D ist jeweils eine stark schematisierte Darstellung der Komponenten weiterer bevorzugter Ausführungsformen der erfindungsgemäßen optischen Einrichtung in einem montierten Zustand.
  • DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG
  • Erstes Ausführungsbeispiel
  • Unter Bezugnahme auf die 1 bis 3 wird im Folgenden eine bevorzugte Ausführungsform der erfindungsgemäßen optischen Einrichtung beschrieben, welche in einer erfindungsgemäßen optischen Abbildungseinrichtung 101 für die Mikrolithographie zum Einsatz kommt.
  • Zur Vereinfachung der Darstellung wird dabei auf das in den 1, 2A und 2B dargestellte xyz-Koordinatensystem Bezug genommen, wobei angenommen wird, dass die Gravitationskraft parallel zur z-Achse bewirkt. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung gegebenenfalls auch eine andere Ausrichtung der Komponenten der Abbildungseinrichtung 101 gegeben sein kann.
  • 1 zeigt eine schematische Darstellung einer bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen optischen Abbildungseinrichtung in Form einer Mikrolithographieeinrichtung 101, die mit Licht im UV-Bereich mit einer Wellenlänge von 193 nm arbeitet.
  • Die Mikrolithographieeinrichtung 101 umfasst ein Beleuchtungssystem 102, eine Maskeneinrichtung in Form eines Maskentisches 103, ein optisches Projektionssystem in Form eines Objektivs 104 mit einer (in z-Richtung verlaufenden) optischen Achse 104.1 und eine Substrateinrichtung in Form eines Wafertischs 105. Das Beleuchtungssystem 102 beleuchtet eine auf dem Maskentisch 103 angeordnete Maske 103.1 mit einem – nicht näher dargestellten – Projektionslichtbündel der Wellenlänge 193 nm. Auf der Maske 103.1 befindet sich ein Projektionsmuster, welches mit dem Projektionslichtbündel über die im Objektiv 104 angeordneten optischen Elemente auf ein Substrat in Form eines Wafers 105.1 projiziert wird, der auf dem Wafertisch 105 angeordnet ist.
  • Das Beleuchtungssystem 102 umfasst neben einer – nicht dargestellten – Lichtquelle eine erste Gruppe 106 von optisch wirksamen Komponenten, die unter anderem ein optisches Element 106.1 umfasst. Das Objektiv 104 umfasst eine zweite Gruppe 107 von optisch wirksamen Komponenten, die unter anderem eine Reihe von optischen Elementen, beispielsweise das optische Element 107.1 umfasst. Die optisch wirksamen Komponenten der zweiten Gruppe 107 werden im Gehäuse 104.2 des Objektivs 104 gehalten. Wegen der Arbeitswellenlänge von 193 nm kann es sich bei dem optischen Element 106.1 bzw. 107.1 jeweils um ein refraktives optisches Element handeln, also eine Linse oder dergleichen. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch beliebige andere optische Elemente, beispielsweise reflektive oder diffraktive optische Elemente zum Einsatz kommen können. Ebenso können natürlich auch beliebige Kombinationen solcher optischer Elemente zum Einsatz kommen.
  • Das Objektiv 104 ist über eine Verbindungseinrichtung 108 mit einer Stützstruktur 109 verbunden und so auf dieser Stützstruktur 109 abgestützt, wobei das Objektiv 104, die Verbindungseinrichtung 108 und die Stützstruktur 109 Bestandteile einer optischen Einrichtung 101.1 im Sinne der vorliegenden Erfindung sind.
  • Die Verbindungseinrichtung 108 fixiert das Objektiv 104 bezüglich der Stützstruktur 109 und leitet die Gewichtskraft des Objektivs 104 in die Stützstruktur 109 ein. Die Verbindungseinrichtung 108 umfasst hierzu drei identisch aufgebaute, gleichmäßig in Umfangsrichtung U des Objektivs 104 verteilte Verbindungseinheiten 110.
  • Die 2A und 2B zeigen jeweils eine teilweise geschnittene, schematische perspektivische Darstellung einer der Verbindungseinheiten 110 in einem Justagezustand (2A) bzw. einem montierten Zustand (2B). Wie 2A zu entnehmen ist, umfasst die Verbindungseinheit 110 einen ersten Verbindungsteil 110.1 (Modulverbindungsteil) und einen zweiten Verbindungsteil 110.2 (Strukturverbindungsteil). Der erste Verbindungsteil 110.1 ist an seinem der Stützstruktur 109 abgewandten Ende (auf geeignete Weise) fest mit dem Gehäuse 104.2 des Objektivs 104 verbunden, während der zweite Verbindungsteil 110.2 an seinem dem Objektiv 104 abgewandten Ende (auf geeignete Weise) fest mit der Stützstruktur 109 verbunden ist. Die jeweilige Verbindung kann auf beliebige geeignete Weise gestaltet sein (Kraftschluss, Formschluss, Stoffschluss oder beliebige Kombinationen hiervon), insbesondere kann auch jeweils eine monolithische Gestaltung gewählt sein.
  • An seinem der Stützstruktur 109 zugewandten Ende weist der erste Verbindungsteil 110.1 eine erste Kontaktfläche 110.3 auf, während der zweite Verbindungsteil 110.2 an seinem dem Objektiv 104 zugewandten Ende eine zweite Kontaktfläche 110.4 aufweist. Die zweite Kontaktfläche 110.4 ist an die erste Kontaktfläche 110.3 derart angepasst, dass sie beide identische Hauptkrümmungen aufweisen.
  • Bei der ersten Kontaktfläche 110.3 und der zweiten Kontaktfläche 110.4 handelt es sich im vorliegenden Beispiel jeweils um eine einfach gekrümmte, zylindrische Fläche. Die erste Kontaktfläche 110.3 weist somit eine (erste) Hauptkrümmung K1-1 auf, während die zweite Kontaktfläche 110.4 eine (zweite) Hauptkrümmung K2-1 aufweist, für die gilt: K1-1 = K2-1 ≠ 0. (1)
  • Die Hauptkrümmung K1-1 ist so gewählt, dass sie eine (erste) Hauptkrümmungsachse AK1-1 definiert, die in der Radialrichtung R des Objektivs 104 (parallel zur xy-Ebene) verläuft. Analog definiert die Hauptkrümmung K2-1 eine (zweite) Hauptkrümmungsachse AK2-1, die in der Radialrichtung R des Objektivs 104 (parallel zur xy-Ebene) verläuft.
  • Weiterhin weist die erste Kontaktfläche 110.3 folglich eine weitere Hauptkrümmung K1-2 auf, während die zweite Kontaktfläche 110.4 eine weitere Hauptkrümmung K2-2 aufweist, für die gilt: K1-2 = K2-2 = 0. (2)
  • Die Hauptkrümmung K1-2 ist wiederum so gewählt, dass sie eine weitere, im Unendlichen liegende Hauptkrümmungsachse AK1-2 definiert, die parallel zur Umfangsrichtung U des Objektivs 104 (parallel zur xy-Ebene) verläuft. Analog definiert die Hauptkrümmung K2-2 eine weitere, im Unendlichen liegende Hauptkrümmungsachse AK2-2, die ebenfalls parallel zur Umfangsrichtung U des Objektivs 104 (parallel zur xy-Ebene) verläuft.
  • Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch vorgesehen sein kann, dass die erste und zweite Kontaktfläche als mehrfach gekrümmte Flächen oder als ebene Flächen ausgebildet sind. Weiterhin versteht es sich, dass die (erste) Hauptkrümmungsachse AK1-1 zu der Radialebene des Objektivs 104 (xy-Ebene) leicht geneigt verlaufen kann, um bei der Montage eine Selbstzentrierung zu erzählen. Der Neigungswinkel liegt dabei je nach der gewünschten Zentrierwirkung vorzugsweise im Bereich zwischen 0 mrad und 10 mrad. Hiermit kann vermieden werden, dass alle Hauptkrümmungsachsen der Verbindungseinrichtung zueinander parallel verlaufen, und somit sie gewünschte Zentrierwirkung erzielt werden.
  • Diese Gestaltung der ersten Kontaktfläche 110.3 und der zweiten Kontaktfläche 110.4 hat zur Folge, dass sich diese in dem im 2B dargestellten montierten Zustand vollflächig berühren, sodass eine stabile mechanische Verbindung zwischen dem ersten Verbindungsteil 110.1 und dem zweiten Verbindungsteil 110.2 gewährleistet ist.
  • Um eine feste mechanische Verbindung zwischen dem ersten Verbindungsteil 110.1 und dem zweiten Verbindungsteil 110.2 (im Bereich der ersten und zweiten Kontaktfläche 110.3, 110.4) herzustellen, können grundsätzlich beliebige geeignete Mittel verwendet werden. So kann die (lösbare oder nicht lösbare) Fixierung der Verbindung über einen Formschluss, einen Reibschluss, einen Stoffschluss oder beliebige Kombinationen hiervon erzielt werden.
  • Wie den 2A und 2B weiterhin zu entnehmen ist, weist der erste Verbindungsteil 110.1 weiterhin ein erstes Verbindungselement 110.5 und ein zweites Verbindungselement 110.6 auf.
  • Das erste Verbindungselement 110.5 ist an seinem der Stützstruktur 109 abgewandten Ende (auf geeignete Weise) fest mit dem Gehäuse 104.2 des Objektivs 104 verbunden, während das zweite Verbindungselement 110.6 an seinem dem Objektiv 104 abgewandten Ende die erste Kontaktfläche 110.3 ausbildet.
  • An seinem der Stützstruktur 109 zugewandten Ende weist das erste Verbindungselement 110.5 eine dritte Kontaktfläche 110.7 auf, während das zweite Verbindungselement 110.6 an seinem dem Objektiv 104 zugewandten Ende eine vierte Kontaktfläche 110.8 aufweist. Die vierte Kontaktfläche 110.8 ist an die dritte Kontaktfläche 110.7 derart angepasst, dass sie beide identische Hauptkrümmungen aufweisen.
  • Bei der dritten Kontaktfläche 110.7 und der vierten Kontaktfläche 110.8 handelt es sich im vorliegenden Beispiel jeweils um eine ebene Fläche. Die dritte Kontaktfläche 110.7 weist somit (in jedem Normalschnitt) eine (dritte) Hauptkrümmung K3-1 auf, während die vierte Kontaktfläche 110.8 (in jedem Normalschnitt) eine (vierte) Hauptkrümmung K4-1, aufweist, für die gilt: K3-1 = K4-1 = 0. (3)
  • Die Hauptkrümmung K3-1 definiert somit eine im Unendlichen parallel zur xy-Ebene liegende Hauptkrümmungsachse AK3-1, während die Hauptkrümmung K4-1 eine weitere, im Unendlichen parallel zur xy-Ebene liegende Hauptkrümmungsachse AK4-1 definiert.
  • Es versteht sich jedoch auch hier, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch vorgesehen sein kann, dass die dritte und vierte Kontaktfläche einfach oder mehrfach gekrümmte Flächen sind.
  • Diese Gestaltung der dritten Kontaktfläche 110.7 und der vierten Kontaktfläche 110.8 hat wiederum zur Folge, dass sich diese in dem im 2B dargestellten montierten Zustand vollflächig berühren, sodass eine stabile mechanische Verbindung zwischen dem ersten Verbindungselement 110.5 und dem zweiten Verbindungselement 110.6 gewährleistet ist.
  • Um eine feste mechanische Verbindung zwischen dem ersten Verbindungselement 110.5 und dem zweiten Verbindungselement 110.8 (im Bereich der ersten und zweiten Kontaktfläche 110.7, 110.8) herzustellen, können wiederum grundsätzlich beliebige geeignete Mittel verwendet werden. So kann die (lösbare oder nicht lösbare) Fixierung der Verbindung über einen Formschluss, einen Reibschluss, einen Stoffschluss oder beliebige Kombinationen hiervon erzielt werden.
  • Bei der Herstellung des montierten Zustands, wie er in der 2B dargestellt ist, also bei der Herstellung der Verbindung zwischen dem Objektiv 104 und der Stützstruktur 109 kann es bei herkömmlichen Einrichtungen aufgrund mehrerer Einflussfaktoren zu unerwünschten reibungsbehafteten Relativbewegungen zwischen den Fügepartnern (erster und zweiter Verbindungsteil bzw. erstes und zweites Verbindungselement) kommen.
  • So können bedingt durch Form- und/oder Lagetoleranzen der Komponenten der Verbindungseinheiten 110 selbst bei einem exakt entlang der z-Achse erfolgenden Absenken des Objektivs 104 auf die Stützstruktur 109 die jeweiligen Kontaktflächen der Verbindungseinheiten 110 zu unterschiedlichen Zeitpunkten miteinander in Kontakt kommen. Ein ähnliches Szenario kann sich bei idealer Lage und Form der Komponenten der Verbindungseinheiten 110 ergeben, wenn das absenken des Objektivs 104 auf die Stützstruktur nicht exakt entlang der z-Achse und/oder unter einer Neigung zur z-Achse erfolgt.
  • In allen diesen Fällen kann es bei herkömmlichen Gestaltungen beispielsweise dazu kommen, dass die Kontaktflächen einer der Verbindungseinheiten 110 einander bereits kontaktieren, während zwischen den Kontaktflächen wenigstens einer der anderen Verbindungseinheiten 110 noch kein Kontakt besteht. Bei der Herstellung des noch ausstehenden Kontakts für diese anderen Verbindungseinheiten 110 kommt es im Bereich der bereits in Kontakt befindlichen Kontaktflächen zwangsläufig zu einer reibungsbehafteten Relativbewegung, welche zur Einleitung unerwünschter parasitärer Spannungen in das Objektiv 104 führt.
  • Um zumindest weit gehend zu verhindern, dass beim Herstellen der Verbindung zwischen dem Objektiv 104 und der Stützstruktur 109 zu solchen reibungsbehafteten Relativbewegungen zwischen den beteiligten Fügepartnern kommt, umfasst die erfindungsgemäße optische Einrichtung 101.1 eine Positioniereinrichtung 111, deren Aufbau und Funktion nachfolgend näher erläutert wird.
  • Die Positioniereinrichtung 111 umfasst eine Krafterzeugungseinrichtung mit einer Fluidquelle 111.1, die über eine erste Fluidleitung 111.2 mit ersten Zustromöffnungen 111.3 verbunden ist, die in der zweiten Kontaktfläche 110.4 des zweiten Verbindungsteils 110.2 ausgebildet sind. Über die Fluidleitung 111.2 liefert die Fluidquelle 111.1 einen definierten Strom eines Fluids (also eines Gases und/oder einer Flüssigkeit) in den Bereich der ersten Kontaktfläche 110.3 und der zweiten Kontaktfläche 110.4. Wird das Fluid über die Fluidleitung 111.2 in ausreichender Menge und mit ausreichendem Druck zugeführt, wird über die erste Kontaktfläche 110.3 eine ausreichend große Kraft auf das Objektiv 104 ausgeübt, dass die erste Kontaktfläche 110.3 von der zweiten Kontaktfläche 110.4 abhebt und sich zwischen der ersten Kontaktfläche 110.3 und der zweiten Kontaktfläche 110.4 ein definierter schmaler erster Spalt 111.4 einer Abmessung S1 einstellt.
  • Mit anderen Worten kann also im Bereich der ersten Kontaktfläche 110.3 und der zweiten Kontaktfläche 110.4 ein hydrostatisches bzw. aerostatisches Lager realisiert sein, bei welchem ein schmaler erster Spalt 111.4 einer vorgebbaren Abmessung S1 eingestellt werden kann.
  • Als Arbeitsfluid kann grundsätzlich jedes beliebige geeignete Fluid eingesetzt werden, welches für den jeweiligen Anwendungsfall geeignet ist. Bevorzugt wird im vorliegenden Beispiel Reinraum-Druckluft (also entsprechend gereinigte bzw. aufbereitete Luft) verwendet, um möglichst wenig Verschmutzungen in das System einzubringen. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung beliebige andere Gase, insbesondere Inertgase als Arbeitsfluid eingesetzt werden können.
  • Die relevante Abmessung S1 des ersten Spalts 111.4 kann grundsätzlich in beliebiger geeigneter Weise definiert sein. Im vorliegenden Beispiel handelt es sich um den in Richtung der Gravitationskraft (z-Richtung) gemessenen Abstand zwischen der ersten Kontaktfläche 110.3 und der zweiten Kontaktfläche 110.4. Es versteht sich jedoch, dass die Abmessung S1 des ersten Spalts bei anderen Varianten in der Erfindung auch anders definiert sein kann. Beispielsweise kann der senkrecht zur ersten Kontaktfläche gemessene Abstand zwischen der ersten Kontaktfläche und der zweiten Kontaktfläche verwendet werden.
  • Je nach dem fluiddynamischen Zustand (Druck und Strömungsgeschwindigkeit) des über die erste Fluidleitung 111.2 zugeführten Fluids kann die Abmessung S1 des ersten Spalts 111.4 eingestellt werden. Um einen ersten Spalt 111.4 einer genau definierten Abmessung S1 einzustellen, umfasst die Positioniereinrichtung 111 eine erste Sensoreinrichtung 111.5, welche eine für die aktuelle Abmessung S1 repräsentative Größe erfasst und an eine Steuereinrichtung 111.6 der Positioniereinrichtung 111 weitergibt.
  • Die Sensoreinrichtung 111.5 kann grundsätzlich in beliebiger geeigneter Weise aufgebaut sein, um eine für die aktuelle Abmessung S1 repräsentative Größe zu erfassen. Dabei kann die Sensoreinrichtung 111.5 noch einen beliebigen Wirkprinzip arbeiten (z. B. einem elektrischen, magnetischen, optischen oder fluiddynamischen Wirkprinzip sowie beliebigen Kombinationen hiervon). Besonders einfach lassen sich im vorliegenden Beispiel kapazitive Sensoren im Bereich der Kontaktflächen 110.3 und 110.4 realisieren. Ebenso ist ein fluiddynamischer Sensor einfach zu realisieren, der einen oder mehrere fluiddynamische Größen der Strömung im Bereich des Spalts 111.4 erfasst. Besonders einfach lässt sich beispielsweise der Druck im Fluid im Bereich des Spalts 111.4 erfassen, aus dem dann auf die aktuelle Abmessung S1 geschlossen werden kann.
  • Die Steuereinrichtung 111.6 vergleicht die aktuelle Abmessung S1 mit einem Sollwert S1s für die der Abmessung des ersten Spalts 111.4 und liefert ein entsprechendes erstes Steuersignal an die Fluidquelle 111.1. In Abhängigkeit von diesem ersten Steuersignal stellt die Fluidquelle 111.1 dann die Zustandparameter des über die erste Fluidleitung 111.2 zugeführten Fluidstroms entsprechend ein, um die aktuelle Abmessung des ersten Spalts 111.4 an den Sollwert S1s anzunähern.
  • Im vorliegenden Beispiel wird in einem Justagezustand, zunächst ein erster Spalt 111.4 mit einer Abmessung S1 von etwa 10 μm eingestellt. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch eine andere Abmessung gewählt sein kann. Vorzugsweise liegt die Abmessung S1 im Bereich zwischen 5 μm und 15 μm.
  • In diesem Justagezustand herrscht also ein berührungsloser Zustand zwischen dem ersten Verbindungsteil 110.1 und dem zweiten Verbindungsteil 110.2, sodass mit anderen Worten im Bereich der ersten Kontaktfläche 110.3 und der zweiten Kontaktfläche 110.4 eine Art fluidisches Lager (im vorliegenden Beispiel ein aerostatisches Lager) realisiert ist. In diesem Zustand wird ohne eine nennenswerte Kräfte und Momente übertragene mechanische Verbindung zwischen der Stützstruktur 109 und dem Objektiv 104 berührungslos eine Kraft ausgeübt, welche den ersten Spalt 111.4 zwischen dem ersten Verbindungsteil 110.1 und dem zweiten Verbindungsteil 110.2 aufrechterhält. In diesem Zustand können zwischen dem ersten Verbindungsteil 110.1 und dem zweiten Verbindungsteil 110.2 Ausgleichsbewegungen erfolgen, ohne dass es zu einer reibungsbehafteten Relativbewegung zwischen der ersten Kontaktfläche 110.3 und der zweiten Kontaktfläche 110.4 kommt.
  • Bei dem in den Bereich des ersten Spalts 111.4 zugeführten Fluid handelt es sich im vorliegenden Beispiel um ein Gas. Dies hat den Vorteil, dass infolge der geringen Viskosität und damit geringen inneren Reibung des Gases lediglich besonders geringe, in der Regel vernachlässigbare Scherkräfte zwischen der ersten Kontaktfläche 110.3 und der zweiten Kontaktfläche 110.4 übertragen werden können. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch eine Flüssigkeit oder ein Gemisch aus Gas und Flüssigkeit verwendet werden kann, sofern die viskositätsbedingten Einflüsse vernachlässigbar sind.
  • Im Bereich des ersten Spalts 111.4 sind dabei uneingeschränkte Ausgleichsbewegungen in zwei Freiheitsgraden möglich, nämlich eine rotatorische Bewegung (hier eine Schwenkbewegung) um die in Radialrichtung R des Objektivs 104 ausgerichtete (erste) Hauptkrümmungsachse AK1-1 der ersten Kontaktfläche 110.3 und eine translatorische Bewegung entlang dieser Hauptkrümmungsachse AK1-1 (bei der es sich letztlich um einen Spezialfall mit einer Bewegung um die im Unendlichen liegende weitere Hauptkrümmungsachse AK1-2 der ersten Kontaktfläche 110.3 handelt).
  • Die Aufrechterhaltung des schmalen ersten Spalts 111.4 hat den Vorteil, dass die oben beschriebenen Relativbewegungen zwischen den Fügepartnern der einzelnen Verbindungseinheit 110, die beim Herstellen der Verbindung zwischen dem Objektiv 104 und der Stützstruktur 109 (bedingt durch Fertigungsungenauigkeiten und/oder Abweichungen von der Ideallinie der Fügebewegung) auftreten können, nicht zu einer (nennenswert) reibungsbehafteten Relativbewegung zwischen den Kontaktflächen 110.3, 110.4 führen.
  • Die Ausgleichsbewegung um die in Radialrichtung R ausgerichtete Hauptkrümmungsachse AK1-1 hat den Vorteil, dass eine Situation vermieden wird, bei der die aus einer reibungsbehafteten Relativbewegung resultierenden parasitären Momente um diese Radialrichtung R in der Regel besonders störende parasitäre Spannungen im Objektiv bewirken und daher einen besonders störenden Einfluss auf die Abbildungsqualität des Objektivs haben.
  • Wie den 2A und 2B weiterhin zu entnehmen ist, umfasst die Positioniereinrichtung 111 weiterhin eine zweite Fluidleitung 111.7, über welche die Fluidquelle 111.1 mit zweiten Zustromöffnungen 111.8 verbunden ist, die in der dritten Kontaktfläche 110.7 des ersten Verbindungselements 110.5 ausgebildet sind. Über die zweite Fluidleitung 111.7 liefert die Fluidquelle 111.1 einen definierten zweiten Strom eines Fluids (also eines Gases und/oder einer Flüssigkeit) in den Bereich der dritten Kontaktfläche 110.7 und der vierten Kontaktfläche 110.8. Wird das Fluid über die Fluidleitung 111.2 in ausreichender Menge und mit ausreichendem Druck zugeführt, wird über die dritte Kontaktfläche 110.7 eine ausreichend große Kraft auf das Objektiv 104 ausgeübt, dass die dritte Kontaktfläche 110.7 von der vierten Kontaktfläche 110.8 abhebt und sich zwischen der dritten Kontaktfläche 110.7 und der vierten Kontaktfläche 110.8 ein definierter schmaler zweiter Spalt 111.9 einer Abmessung S2 einstellt.
  • Die relevante Abmessung S2 des zweiten Spalts 111.9 kann wiederum grundsätzlich in beliebiger geeigneter Weise definiert sein. Im vorliegenden Beispiel handelt es sich um den in Richtung der Gravitationskraft (z-Richtung) gemessenen Abstand zwischen der dritten Kontaktfläche 110.7 und der vierten Kontaktfläche 110.8. Es versteht sich jedoch, dass die Abmessung S2 des zweiten Spalts bei anderen Varianten der Erfindung (wie schon beim ersten Spalt) wiederum anders definiert sein kann.
  • Je nach dem fluiddynamischen Zustand (Druck und Strömungsgeschwindigkeit) des über die zweite Fluidleitung 111.7 zugeführten Fluids kann die Abmessung S2 des zweiten Spalts 111.9 eingestellt werden. Um einen zweiten Spalt 111.9 einer genau definierten Abmessung S2 einzustellen, umfasst die Positioniereinrichtung 111 eine zweite Sensoreinrichtung 111.10, welche eine für die aktuelle Abmessung S2 repräsentative Größe erfasst und an eine Steuereinrichtung 111.6 der Positioniereinrichtung 111 weitergibt. Die zweite Sensoreinrichtung 111.10 kann wiederum wie die erste Sensoreinrichtung 111.5 aufgebaut sein, sodass diesbezüglich auf die obigen Ausführungen verwiesen wird.
  • Die Steuereinrichtung 111.6 vergleicht die aktuelle Abmessung S2 mit einem Sollwert S2s für die der Abmessung des zweiten Spalts 111.9 und liefert ein entsprechendes zweites Steuersignal an die Fluidquelle 111.1. In Abhängigkeit von diesem zweiten Steuersignal stellt die Fluidquelle 111.1 dann die Zustandparameter des über die zweite Fluidleitung 111.7 zugeführten Fluidstroms entsprechend ein, um die aktuelle Abmessung des zweiten Spalts 111.9 an den Sollwert S2s anzunähern.
  • Im vorliegenden Beispiel wird in dem Justagezustand, neben dem ersten Spalt 111.4 auch ein zweiter Spalt 111.9 mit einer Abmessung S2 von etwa 10 μm eingestellt. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch eine andere Abmessung gewählt sein kann. Vorzugsweise liegt auch die die Abmessung S2 im Bereich zwischen 5 μm und 15 μm.
  • In diesem Justagezustand herrscht also ein berührungsloser Zustand zwischen dem ersten Verbindungselement 110.5 und dem zweiten Verbindungselement 110.6, sodass mit anderen Worten im Bereich der dritten Kontaktfläche 110.7 und der vierten Kontaktfläche 110.8 eine Art fluidisches Lager (im vorliegenden Beispiel ein aerostatisches Lager) realisiert ist. In diesem Zustand wird ohne eine nennenswerte Kräfte und Momente übertragene mechanische Verbindung zwischen der Stützstruktur 109 und dem Objektiv 104 berührungslos eine Kraft ausgeübt, welche den zweiten Spalt 111.9 zwischen dem ersten Verbindungselement 110.5 und dem zweiten Verbindungselement 110.6 aufrechterhält. In diesem Zustand können zwischen dem ersten Verbindungselement 110.5 und dem zweiten Verbindungselement 110.6 Ausgleichsbewegungen erfolgen, ohne dass es zu einer reibungsbehafteten Relativbewegung zwischen der dritten Kontaktfläche 110.7 und der vierten Kontaktfläche 110.8 kommt.
  • Bei dem in den Bereich des zweiten Spalts 111.9 zugeführten Fluid handelt es sich im vorliegenden Beispiel wiederum um ein Gas. Dies hat den Vorteil, dass infolge der geringen Viskosität und damit geringen inneren Reibung des Gases lediglich besonders geringe, in der Regel vernachlässigbare Scherkräfte zwischen der dritten Kontaktfläche 110.7 und der vierten Kontaktfläche 110.8 übertragen werden können. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch eine Flüssigkeit oder ein Gemisch aus Gas und Flüssigkeit verwendet werden kann, sofern die viskositätsbedingten Einflüsse vernachlässigbar sind.
  • Im Bereich des zweiten Spalts 111.9 sind dabei uneingeschränkte Ausgleichsbewegungen in drei Freiheitsgraden möglich, nämlich eine rotatorische Bewegung um eine in Richtung der Gravitationskraft (z-Achse) verlaufende Achse und zwei translatorische Bewegungen in in einer Ebene (xy-Ebene) senkrecht hierzu (bei der es sich letztlich um einen Spezialfall mit einer Bewegung um die im Unendlichen liegenden weitere Hauptkrümmungsachsen der dritten Kontaktfläche 110.7 handelt).
  • Die beiden translatorischen Bewegungen umfassen wiederum eine Ausgleichsbewegung in Radialrichtung R des Objektivs 104, wie sie auch schon im Bereich des ersten Spalts 111.4 möglich ist. Es versteht sich daher, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch vorgesehen sein kann, dass im Bereich des ersten Spalts oder des zweiten Spalts durch in Radialrichtung R wirkende Schürzen (wie sie in 2B durch die gestrichelte Kontur 112 angedeutet sind) oder dergleichen dieser Freiheitsgrad eingeschränkt wird. Im Die Aufrechterhaltung des schmalen zweiten Spalts 111.9 hat ebenfalls den Vorteil, dass die oben beschriebenen Relativbewegungen zwischen den Fügepartnern der einzelnen Verbindungseinheit 110, die beim Herstellen der Verbindung zwischen dem Objektiv 104 und der Stützstruktur 109 (bedingt durch Fertigungsungenauigkeiten und/oder Abweichungen von der Ideallinie der Fügebewegung) auftreten können, nicht zu einer (nennenswert) reibungsbehafteten Relativbewegung zwischen den Kontaktflächen 110.7, 110.8 führen.
  • Wie den 2A und 2B weiterhin zu entnehmen ist, umfasst der zweite Verbindungsteil 110.2 der jeweiligen Verbindungseinheit 110 ein in der Radialrichtung R des Objektivs 104 nachgiebigen Entkopplungsabschnitt in Form eines Blattfederelements 110.9 auf. Das Blattfederelement ist so ausgerichtet, dass seine Haupterstreckungsebene tangential zur Umfangsrichtung U des Objektivs 104 verläuft. Hierdurch wird erreicht, dass im montierten Zustand (2B) zum einen eine ausreichend steife, die Lage des Objektivs 104 (relativ zur Stützstruktur 109) genau definierende Verbindung zwischen dem Objektiv 104 gewährleistet ist. Zum anderen ermöglicht der Entkopplungsabschnitt in hinlänglich bekannter Weise durch seine Deformation in Radialrichtung R (wie sie in 2B durch die gestrichelte Kontur 113 angedeutet ist) den Ausgleich unterschiedlicher thermischer Ausdehnungen zwischen den Objektiv 104 und der Stützstruktur 109.
  • Ein weiterer Vorteil des Entkopplungsabschnitts 110.9 liegt darin, dass er eine reibungsfreie Ausgleichsbewegung zwischen dem ersten Verbindungsteil 110.1 und dem zweiten Verbindungsteil 110.2 um eine tangential zur Umfangsrichtung U verlaufende Achse zulässt, sodass eventuell vorliegende Passungenauigkeiten zwischen dem ersten Verbindungsteil 110.1 und dem zweiten Verbindungsteil 110.2 in dieser Ebene ebenfalls in vorteilhafter Weise ausgeglichen werden können.
  • Ein Vorteil der soeben beschriebenen Konfiguration liegt darin, dass beim Herstellen der Verbindung zwischen dem Objektiv 104 und der Stützstruktur 109 im Bereich der jeweiligen Verbindungseinheit 110 (abgesehen von der Fügerichtung entlang der z-Achse) in dem Justagezustand (2A), in dem die jeweils berührungslos erzielten Spalte 111.4 bzw. 111.9 vorhanden sind, in allen übrigen Freiheitsgraden nicht reibungsbehaftete Ausgleichsbewegungen möglich sind, welche den Ausgleich sämtlicher Fertigungstoleranzen ermöglichen, sodass es im späteren montierten Zustand (2B) nicht zu unerwünschten Spannungszuständen zwischen den Fügepartnern und damit der Einleitung parasitärer Spannungen in das Objektiv 104 kommt.
  • Bei der Herstellung der Verbindung zwischen dem Objektiv 104 und der Stützstruktur 109 kann nach unterschiedlichen Strategien vorgegangen werden, wie nachfolgend unter Bezugnahme auf die 1 bis 3 erläutert wird. Die 3 zeigt ein Ablaufdiagramm einer bevorzugten Ausführung des erfindungsgemäßen Verfahrens zum Verbinden eines optischen Moduls mit einer Stützstruktur, gemäß dem die Verbindung zwischen dem Objektiv 104 und der Stützstruktur 109 hergestellt wird.
  • Zunächst wird in einem Schritt 114.1 der Verfahrensablauf gestartet. In einem Schritt 114.2 werden dann die Komponenten der Mikrolithographieeinrichtung 101 aus 1, insbesondere die Stützstruktur 109 und das Objektiv 104, bereitgestellt.
  • Anschließend werden in einem Schritt 114.3 das Objektiv 104 und die Stützstruktur 109 so zueinander positioniert, dass sich die oben beschriebene in 2A dargestellte Konfiguration mit dem ersten Spalt 110.4 der Abmessung S1 und dem zweiten Spalt 110.9 der Abmessung S2 ergibt.
  • Hierbei kann nach unterschiedlichen Strategien vorgegangen werden. So kann in einer ersten Variante das Objektiv 104 zunächst in einem ersten Teilschritt ohne Aktivierung der Positioniereinrichtung 111 auf die Stützstruktur 109 aufgesetzt werden, sodass sich alle Verbindungseinheiten 110 zunächst in dem in 2B dargestellten Zustand befinden, in dem sämtliche einander zugeordnete Kontaktflächen 110.3 und 110.4 bzw. 110.7 und 110.8 einander kontaktieren. Bei diesem Aufsetzen des Objektivs 104 auf die Stützstruktur 109 kann es zunächst zu den oben beschriebenen reibungsbehafteten Relativbewegungen zwischen den zugeordneten Kontaktflächen 110.3 und 110.4 bzw. 110.7 und 110.8 kommen.
  • In einem zweiten Teilschritt kann dann die Positioniereinrichtung 111 für alle Verbindungseinheiten 110 aktiviert werden, sodass der jeweilige erste Spalt 110.4 und der zweite Spalt 110.9 in der betreffenden Verbindungseinheit 110 aufgebaut werden, wie dies in 2A dargestellt ist. Hierbei kommt es dann aufgrund der berührungslosen Kraftwirkung zwischen der Stützstruktur 109 und dem Objektiv 104 zu den oben beschriebenen Ausgleichsbewegungen zwischen den Fügepartnern. Mit anderen Worten wird der zunächst hergestellte Zustand mit gegebenenfalls erheblichen parasitären Kräften und Momenten, die in das Objektiv 104 eingeleitet werden, wieder aufgehoben.
  • Bei einer zweiten Variante kann die Positioniereinrichtung 111 bereits unmittelbar bei der Annäherung des Objektivs 104 an die Stützstruktur 109 aktiviert sein, sodass die einzelnen Spalte 110.4 und 110.9 unmittelbar aufgebaut werden, es also zunächst zu keinem Kontakt zwischen den Fügepartnern kommt.
  • Weiterhin versteht es sich, dass natürlich auch eine Mischform dieser beiden Varianten gewählt werden kann, bei der eine oder mehrere der Verbindungseinheiten 110 nach der ersten Variante positioniert werden, während eine oder mehrere der Verbindungseinheiten 110 nach der zweiten Variante positioniert werden.
  • In einem Schritt 114.4 wird dann über die Positioniereinrichtung 111 in der jeweiligen Verbindungseinheit 110 eine Einstellung der Abmessung S1 bzw. S2 des jeweiligen ersten Spalts 111.4 und zweiten Spalts 111.9 vorgenommen. Hierbei wird für den jeweiligen Spalt 111.4 bzw. 111.9 in der oben beschriebenen Weise die aktuelle Abmessung S1 bzw. S2 ermittelt, in der Steuereinrichtung 111.6 mit einem jeweiligen Sollwert S1s bzw. S2s verglichen und über die Fluidquelle 111.1 in der gewünschten Weise beeinflusst, um sie an den jeweiligen Sollwert S1s bzw. S2s anzugleichen.
  • In einem Schritt 114.5 wird dann überprüft, ob eine Veränderung des jeweiligen Spalts 111.4 bzw. 111.9 vorgenommen werden soll. Ist dies der Fall, wird in einem Schritt 114.6 der jeweilige Sollwert S1s bzw. S2s entsprechend den Vorgaben angepasst und dann zum Schritt 114.4 zurück gesprungen.
  • Hiermit ist es in vorteilhafter Weise möglich, die Abmessung S1 bzw. S2 des jeweiligen Spalts 111.4 bzw. 111.9 für die Verbindungseinheiten 110 synchron zueinander zu reduzieren. Insbesondere kann hierdurch erreicht werden, dass die jeweiligen Kontaktflächen 110.3 und 110.4 bzw. 110.7 und 110.8 aller Verbindungseinheiten 110 einander zu dem selben Zeitpunkt kontaktieren. Diese im Wesentlichen gleichzeitige Kontaktherstellung hat zur Folge, dass es zu keinen reibungsbehafteten Relativbewegungen zwischen den Kontaktflächen 110.3 und 110.4 bzw. 110.7 und 110.8 der Verbindungseinheiten 110 kommen kann. Dies resultiert daraus, dass die oben beschriebene Konstellation ausgeschlossen wird, dass die Kontaktflächen 110.3 und 110.4 bzw. 110.7 und 110.8 einer Verbindungseinheit 110 einander bereits kontaktieren, während die Kontaktflächen 110.3 und 110.4 bzw. 110.7 und 110.8 einer anderen Verbindungseinheit 110 noch aufeinander zu bewegt werden (woraus reibungsbehaftete Relativbewegungen im Bereich der bereits in Kontakt befindlichen Kontaktflächen resultieren können).
  • In einem Schritt 114.7 wird dann überprüft, ob ein Ende der oben beschriebenen Regelung des jeweiligen Spalts 111.4 bzw. 111.9 erfolgen soll, wobei ein Ende der Regelung nur dann erfolgt, wenn alle einander zugeordneten Kontaktflächen 110.3 und 110.4 bzw. 110.7 und 110.8 aller Verbindungseinheiten einander kontaktieren. Ist dies nicht der Fall, wird zurück zum Schritt 114.4 gesprungen.
  • Andernfalls erfolgt in einem Schritt 114.8 in der oben beschriebenen Weise eine Fixierung der jeweiligen Verbindungseinrichtung 110, bevor in einem Schritt 114.9 der Verfahrensablauf beendet wird.
  • In dem vorliegenden Beispiel wurde eine stehende Stützkonfiguration mit einer Positioniereinrichtung beschrieben, die nach einem fluidischen Wirkprinzip berührungslos eine Kraftwirkung zwischen der Stützstruktur 109 und dem Objektiv 104 erzeugt, welche einer durch die auf das Objektiv 104 wirkenden anderweitigen Kräfte (beispielsweise die Gewichtskraft des Objektivs 104) bedingten Verringerung des jeweiligen Spalts 111.4 bzw. 111.9 entgegenwirkt.
  • Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch eine hängende Stützkonfiguration vorgesehen sein kann, bei der nach einem fluidischen Wirkprinzip berührungslos eine Kraftwirkung zwischen der Stützstruktur 109 und dem Objektiv 104 erzeugt wird, welche einer Vergrößerung des jeweiligen Spalts 111.4 bzw. 111.9 entgegenwirkt. In einem solchen Fall kann beispielsweise vorgesehen sein, dass die Positioniereinrichtung an Stelle der Fluidquelle eine Absaugeinrichtung aufweist, welche im Bereich der jeweiligen Kontaktflächen einen entsprechenden Volumenstrom absaugt, um eine Sogwirkung zu erzielen, welche der Vergrößerung des jeweiligen Spalts entgegenwirkt.
  • Zweites Ausführungsbeispiel
  • Im Folgenden wird unter Bezugnahme auf die 1 und 4 ein weiteres bevorzugtes Ausführungsbeispiel der erfindungsgemäßen optischen Einrichtung 201.1 beschrieben. Die optische Einrichtung 201.1 kann in der Mikrolithograpieeinrichtung 101 aus 1 anstelle der optischen Einrichtung 101.1 zum Einsatz kommen. Die optische Einrichtung 201.1 entspricht in ihrem Aufbau und ihrer Funktionsweise grundsätzlich der optischen Einrichtung 101.1 aus dem ersten Ausführungsbeispiel, sodass hier hauptsächlich auf die Unterschiede eingegangen werden soll. Insbesondere sind gleichartige Bauteile mit den gleichen, lediglich um den Wert 100 erhöhten Bezugszeichen versehen. Sofern nachfolgend keine anderweitigen Angaben gemacht werden, wird hinsichtlich der Merkmale und Funktionen dieser Bauteile auf die obigen Ausführungen verwiesen.
  • Ein Unterschied der optischen Einrichtung 201.1 zu der optischen Einrichtung 101.1 besteht darin, dass der erste Verbindungsteil 210.1 der jeweiligen Verbindungseinheit 210 lediglich das zweite Verbindungselement 210.6 umfasst, das in diesem Fall direkt mechanisch mit dem Objektiv 104 verbunden ist. Mit anderen Worten fehlt bei der optischen Einrichtung 201.1 gegenüber der optischen Einrichtung 101.1 lediglich das erste Verbindungselement 110.5. Demgemäß ist auch keine zweite Sensoreinrichtung sowie keine zweite Zuleitung vorgesehen.
  • Bei dieser Gestaltung sind in dem in 4 dargestellten Justagezustand durch den berührungslos aufrecht erhaltenen Spalt 111.4 uneingeschränkte Ausgleichsbewegungen in zwei Freiheitsgraden möglich, nämlich eine rotatorische Bewegung (hier eine Schwenkbewegung) um die in Radialrichtung R des Objektivs 104 ausgerichtete (erste) Hauptkrümmungsachse AK1-1 der ersten Kontaktfläche 210.3 und eine translatorische Bewegung entlang dieser Hauptkrümmungsachse AK1-1 (bei der es sich letztlich um einen Spezialfall mit einer Bewegung um die im Unendlichen liegende weitere Hauptkrümmungsachse AK1-2 der ersten Kontaktfläche 210.3 handelt).
  • Weiterhin ermöglicht der Entkopplungsabschnitt 210.9 in gewissen Grenzen eine reibungsfreie rotatorische Ausgleichsbewegung zwischen dem ersten Verbindungsteil 210.1 und dem zweiten Verbindungsteil 210.2 um eine tangential zur Umfangsrichtung U verlaufende Achse sowie um eine parallel zur Fügerichtung (z-Achse) verlaufende Achse, sodass eventuell vorliegende Passungenauigkeiten zwischen dem ersten Verbindungsteil 210.1 und dem zweiten Verbindungsteil 210.2 in diesen Freiheitsgraden ebenfalls in vorteilhafter Weise in gewissen Grenzen ausgeglichen werden können.
  • Letztlich sind mit dieser Konfiguration in vorteilhafter Weise beim Herstellen der Verbindung zwischen dem Objektiv 104 und der Stützstruktur 109 im Bereich der jeweiligen Verbindungseinheit 210 (abgesehen von der Fügerichtung entlang der z-Achse) in dem Justagezustand, in dem der berührungslos erzielte Spalt 111.4 vorhanden ist, in vier Freiheitsgraden nicht reibungsbehaftete Ausgleichsbewegungen möglich sind, welche den Ausgleich eines Großteils der Fertigungstoleranzen ermöglichen, sodass es im späteren montierten Zustand (nicht dargestellt) unerwünschte Spannungszustände zwischen den Fügepartnern weit gehend vermieden und damit der Einleitung parasitärer Spannungen in das Objektiv 104 weit gehend reduziert ist.
  • Ein weiterer Unterschied zu der optischen Einrichtung 101.1 besteht darin, dass die Positioniereinrichtung 211 nach einem elektromagnetischen Wirkprinzip arbeitet. Hierzu umfasst die Positioniereinrichtung 211 eine elektrische Energiequelle 211.1, die über eine erste Energieversorgungsleitung 211.2 mit einer ersten Elektromagneteinrichtung 211.3 verbunden ist, die im Bereich der zweiten Kontaktfläche 210.4 des zweiten Verbindungsteils 210.2 angeordnet ist. Weiterhin ist die Energiequelle 211.1 über eine zweite Energieversorgungsleitung 211.7 mit einer zweiten Elektromagneteinrichtung 211.8 verbunden, die im zweiten Verbindungselement 210.6 im Bereich der ersten Kontaktfläche 210.3 angeordnet ist.
  • Über die Energieversorgungsleitung 211.2 liefert die Energiequelle 211.1 gesteuert durch die Steuereinrichtung 211.6 eine definierte Menge elektrischer Energie an die beiden Elektromagneteinrichtungen, sodass diese Magnetfelder mit entgegengesetzter Polarität erzeugen, welche wiederum berührungslos eine entsprechende, den Spalt 111.4 aufrecht erhaltende Kraftwirkung zwischen dem Objektiv 104 und der Stützstruktur 109 erzeugen.
  • Je nach der Energiezufuhr für den Elektromagneteinrichtungen 211.3 und 211.8 und der daraus resultierenden Stärke des jeweiligen Magnetfelds kann die Abmessung S1 des Spalts 111.4 eingestellt werden. Um einen Spalt 111.4 einer genau definierten Abmessung S1 einzustellen, umfasst die Positioniereinrichtung 211 eine Sensoreinrichtung 211.5, welche eine für die aktuelle Abmessung S1 repräsentative Größe erfasst und an die Steuereinrichtung 211.6 der Positioniereinrichtung 211 weitergibt.
  • Die Steuereinrichtung 211.6 vergleicht wiederum die aktuelle Abmessung S1 mit einem Sollwert S1s für die der Abmessung des Spalts 111.4 und liefert ein entsprechendes Steuersignal an die Energiequelle 211.1. In Abhängigkeit von diesem Steuersignal stellt die Energiequelle 211.1 dann die Energiezufuhr ein, um die aktuelle Abmessung des Spalts 111.4 an den Sollwert S1s anzunähern.
  • Im vorliegenden Beispiel wird wiederum in dem dargestellten Justagezustand, zunächst ein Spalt 111.4 mit einer Abmessung S1 von etwa 10 μm eingestellt. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch eine andere Abmessung (in der Regel eine Abmessung von 5 μm bis 200 μm) gewählt sein kann. Vorzugsweise liegt die Abmessung S1 im Bereich zwischen 5 μm und 15 μm.
  • In diesem Justagezustand herrscht also wiederum ein berührungsloser Zustand zwischen dem ersten Verbindungsteil 210.1 und dem zweiten Verbindungsteil 210.2, sodass mit anderen Worten im Bereich der ersten Kontaktfläche 210.3 und der zweiten Kontaktfläche 210.4 eine Art elektromagnetisches Lager realisiert ist. In diesem Zustand wird ohne eine nennenswerte Kräfte und Momente übertragene mechanische Verbindung zwischen der Stützstruktur 109 und dem Objektiv 104 berührungslos eine Kraft ausgeübt, welche den Spalt 111.4 zwischen dem ersten Verbindungsteil 210.1 und dem zweiten Verbindungsteil 210.2 aufrechterhält. In diesem Zustand können zwischen dem ersten Verbindungsteil 210.1 und dem zweiten Verbindungsteil 210.2 die oben beschriebenen Ausgleichsbewegungen erfolgen, ohne dass es zu einer reibungsbehafteten Relativbewegung zwischen der ersten Kontaktfläche 210.3 und der zweiten Kontaktfläche 210.4 kommt.
  • Mit diesem Ausführungsbeispiel ist es ebenfalls möglich, das oben im Zusammenhang mit der 3 beschriebene Verfahren durchzuführen. Insbesondere wird auch hier wiederum gesteuert durch die Steuereinrichtung durch eine entsprechende Reduktion der Energiezufuhr zu den Elektromagneteinrichtungen 211.3 und 211.8 bei allen Verbindungseinheiten 210 synchron der Spalt 111.4 reduziert, bis sich die jeweiligen ersten und zweiten Kontaktflächen 210.3 und 210.4 mit den oben beschriebenen Vorteilen im Wesentlichen zeitgleich kontaktieren.
  • Es versteht sich auch hier wiederum, dass an Stelle der beschriebenen stehenden Anordnung mit dem in diesem Beispiel verwendeten elektromagnetischen Wirkprinzip auch eine hängende Anordnung möglich ist, bei der durch die Magnetfelder eine Kraftwirkung zwischen dem Objektiv und der Stützstruktur möglich ist, welche einer den Spalt zwischen den beiden Kontaktflächen vergrößernden Kraft entgegenwirkt.
  • Drittes Ausführungsbeispiel
  • Im Folgenden wird unter Bezugnahme auf die 1 und 5 ein weiteres bevorzugtes Ausführungsbeispiel der erfindungsgemäßen optischen Einrichtung 301.1 beschrieben. Die optische Einrichtung 301.1 kann in der Mikrolithograpieeinrichtung 101 aus 1 anstelle der optischen Einrichtung 101.1 zum Einsatz kommen. Die optische Einrichtung 301.1 entspricht in ihrem Aufbau und ihrer Funktionsweise grundsätzlich der optischen Einrichtung 101.1 aus dem ersten Ausführungsbeispiel, sodass hier hauptsächlich auf die Unterschiede eingegangen werden soll. Insbesondere sind gleichartige Bauteile mit den gleichen, lediglich um den Wert 200 erhöhten Bezugszeichen versehen. Sofern nachfolgend keine anderweitigen Angaben gemacht werden, wird hinsichtlich der Merkmale und Funktionen dieser Bauteile auf die obigen Ausführungen verwiesen.
  • Ein Unterschied der optischen Einrichtung 301.1 zu der optischen Einrichtung 101.1 besteht darin, dass es sich bei der ersten Kontaktfläche 310.3 und der zweiten Kontaktfläche 310.4 im vorliegenden Beispiel jeweils um eine zweifach gekrümmte Fläche handelt. Die erste Kontaktfläche 310.3 weist somit eine (erste) Hauptkrümmung K1-1 auf, während die zweite Kontaktfläche 310.4 eine (zweite) Hauptkrümmung K2-1 aufweist, für die gemäß Gleichung (1) gilt: K1-1 = K2-1 ≠ 0.
  • Die Hauptkrümmung K1-1 ist so gewählt, dass sie eine (erste) Hauptkrümmungsachse AK1-1 definiert, die in der Radialrichtung R des Objektivs 104 (parallel zur xy-Ebene) verläuft. Analog definiert die Hauptkrümmung K2-1 eine (zweite) Hauptkrümmungsachse AK2-1, die in der Radialrichtung R des Objektivs 104 (parallel zur xy-Ebene) verläuft.
  • Weiterhin weist die erste Kontaktfläche 310.3 folglich eine weitere Hauptkrümmung K1-2 auf, während die zweite Kontaktfläche 310.4 eine weitere Hauptkrümmung K2-2 aufweist, für die gemäß Gleichung (1) ebenfalls gilt: K1-2 = K2-2 ≠ 0.
  • Die Hauptkrümmung K1-2 ist wiederum so gewählt, dass sie eine weitere parallel zur Umfangsrichtung U des Objektivs 104 verlaufende Hauptkrümmungsachse AK1-2 definiert. Analog definiert die Hauptkrümmung K2-2 eine weitere Hauptkrümmungsachse AK2-2, die ebenfalls parallel zur Umfangsrichtung U des Objektivs 104 (parallel zur xy-Ebene) verläuft.
  • Die beiden Hauptkrümmungen der jeweiligen Kontaktfläche 310.3 bzw. 310.4 können unterschiedliche Werte aufweisen. Im vorliegenden Beispiel handelt es sich bei der jeweiligen Kontaktfläche 310.3 bzw. 310.4 jedoch um eine sphärische Fläche, d. h. es gilt: K1-1 = K2-1 = K1-2 = K2-2.
  • Bei dieser Gestaltung sind in dem in 5 dargestellten Justagezustand durch den berührungslos aufrecht erhaltenen Spalt 311.4 uneingeschränkte, nicht reibungsbehaftete Ausgleichsbewegungen in drei Freiheitsgraden möglich, nämlich rotatorische Bewegungen um die drei Raumachsen (x-, y- und z-Achse).
  • Weiterhin ermöglicht der Entkopplungsabschnitt 110.9 in gewissen Grenzen eine zusätzliche reibungsfreie translatorische Ausgleichsbewegung in Radialrichtung R des Objektivs 104 sodass eventuell vorliegende Passungenauigkeiten zwischen dem ersten Verbindungsteil 210.1 und dem zweiten Verbindungsteil 110.2 in diesem Freiheitsgrad ebenfalls in vorteilhafter Weise in gewissen Grenzen ausgeglichen werden können.
  • Letztlich sind mit dieser Konfiguration in vorteilhafter Weise beim Herstellen der Verbindung zwischen dem Objektiv 104 und der Stützstruktur 109 im Bereich der jeweiligen Verbindungseinheit 310 (abgesehen von der Fügerichtung entlang der z-Achse) in dem Justagezustand, in dem der berührungslos erzielte Spalt 311.4 vorhanden ist, in vier Freiheitsgraden nicht reibungsbehaftete Ausgleichsbewegungen möglich, welche den Ausgleich eines Großteils der Fertigungstoleranzen ermöglichen, sodass es im späteren montierten Zustand (nicht dargestellt) unerwünschte Spannungszustände zwischen den Fügepartnern weit gehend vermieden und damit der Einleitung parasitärer Spannungen in das Objektiv 104 weit gehend reduziert ist.
  • Ein weiterer Unterschied zu der optischen Einrichtung 101.1 besteht darin, dass die Krafterzeugung der Positioniereinrichtung 311 nicht in die Verbindungseinheit 110 integriert ist, sondern über eine kinematisch parallel zu der Verbindungseinheit 310 angeordnete (in 5 nur stark schematisiert dargestellte) Krafterzeugungseinrichtung 311.3, 311.8 erfolgt.
  • Die Krafterzeugungseinrichtung 311.3 arbeitet wiederum nach einem elektrischen, magnetischen oder fluidischen Wirkprinzip bzw. einer beliebigen Kombination aus diesen Wirkprinzipien. Sie erzeugt wiederum berührungslos eine Kraftwirkung zwischen dem Objektiv 104 und der Stützstruktur 109, über welche der Spalt 311.4 zwischen der ersten Kontaktfläche 310.3 und der zweiten Kontaktfläche 310.4 aufrechterhalten wird.
  • Mit diesem Ausführungsbeispiel ist es ebenfalls möglich, das oben im Zusammenhang mit der 3 beschriebene Verfahren durchzuführen. Insbesondere wird auch hier wiederum gesteuert durch die Steuereinrichtung 311.6 durch eine entsprechende Reduktion der Energiezufuhr von der Energiequelle 311.1 zu der Krafterzeugungseinrichtung 311.3, 311.8 bei allen Verbindungseinheiten 310 synchron der Spalt 311.4 reduziert, bis sich die jeweiligen ersten und zweiten Kontaktflächen 310.3 und 310.4 mit den oben beschriebenen Vorteilen im Wesentlichen zeitgleich kontaktieren.
  • Es versteht sich auch hier wiederum, dass an Stelle der beschriebenen stehenden Anordnung auch eine hängende Anordnung möglich ist, bei der durch die Krafterzeugungseinrichtung eine Kraftwirkung zwischen dem Objektiv und der Stützstruktur möglich ist, welche einer den Spalt zwischen den beiden Kontaktflächen vergrößernden Kraft entgegenwirkt.
  • Viertes Ausführungsbeispiel
  • Im Folgenden wird unter Bezugnahme auf die 6 bis 8B ein weiteres bevorzugtes Ausführungsbeispiel der erfindungsgemäßen Mikrolithograpieeinrichtung 401 mit einer erfindungsgemäßen optischen Einrichtung 401.1 beschrieben. Die Mikrolithograpieeinrichtung 401 entspricht in ihrem Aufbau und ihrer Funktionsweise grundsätzlich der Mikrolithograpieeinrichtung 101 aus dem ersten Ausführungsbeispiel, sodass hier hauptsächlich auf die Unterschiede eingegangen werden soll, die hauptsächlich in der Gestaltung der optischen Einrichtung 401.1 liegen. Diese kann im Übrigen auch in der Mikrolithograpieeinrichtung 101 aus 1 anstelle der optischen Einrichtung 101.1 zum Einsatz kommen. Die optische Einrichtung 401.1 entspricht in ihrem Aufbau und ihrer Funktionsweise grundsätzlich der optischen Einrichtung 101.1 aus dem ersten Ausführungsbeispiel, sodass hier hauptsächlich auf die Unterschiede eingegangen werden soll. Insbesondere sind gleichartige Bauteile mit den gleichen, lediglich um den Wert 300 erhöhten Bezugszeichen versehen. Sofern nachfolgend keine anderweitigen Angaben gemacht werden, wird hinsichtlich der Merkmale und Funktionen dieser Bauteile auf die obigen Ausführungen verwiesen.
  • Der Unterschied der optischen Einrichtung 401.1 zu der optischen Einrichtung 101.1 besteht lediglich in der Gestaltung der Abstützung des Objektivs 104 an der Stützstruktur 409, wie dies den 6 bis 8B zu entnehmen ist, während die Mikrolithographieeinrichtung 401 im Übrigen identisch zur Mikrolithographieeinrichtung 101 aufgebaut ist.
  • Wie insbesondere der 6 zu entnehmen ist, ist bei der optischen Einrichtung 401.1 eine hängende Abstützung des Objektivs 104 realisiert, indem das Objektiv 104 über eine Verbindungseinrichtung 408 von unten an der Stützstruktur 409 aufgehängt und so an dieser Stützstruktur 409 abgestützt ist. Hierzu umfasst die Verbindungseinrichtung 408 drei identisch aufgebaute, gleichmäßig in Umfangsrichtung U des Objektivs 104 verteilte Verbindungseinheiten 410.
  • Die 7, 8A und 8B zeigen jeweils eine teilweise geschnittene, schematische perspektivische Darstellung einer der Verbindungseinheiten 410 in einem nicht montierten Zustand (7), einem Justagezustand (8A) bzw. einem montierten Zustand (8B). Wie 8A zu entnehmen ist, umfasst die Verbindungseinheit 410 einen ersten Verbindungsteil 410.1, einen zweiten Verbindungsteil 410.2 und einen dritten Verbindungsteil 410.10.
  • Der erste Verbindungsteil 410.1 der jeweiligen Verbindungseinheit 410 umfasst dabei wiederum lediglich das zweite Verbindungselement 410.6, das in diesem Fall direkt mechanisch mit dem Objektiv 104 verbunden ist. Der dritte Verbindungsteil 410.10 umfasst ein weiteres Verbindungselement 410.11, welches identisch zu dem zweiten Verbindungselement 410.6 gestaltet ist, jedoch bezüglich der Umfangsrichtung (bzw. der y-Richtung) um 180° gedreht ist. Das Verbindungselement 410.11 ist im vorliegenden Beispiel direkt mechanisch mit der Stützstruktur 409 verbunden. Die jeweilige Verbindung kann auf beliebige geeignete Weise gestaltet sein (Kraftschluss, Formschluss, Stoffschluss oder beliebige Kombinationen hiervon), insbesondere kann auch jeweils eine monolithische Gestaltung gewählt sein.
  • An seinem der Stützstruktur 409 zugewandten Ende ist der erste Verbindungsteil 410.1 gabelförmig gestaltet, wobei er eine durch einen mittigen Einschnitt 410.12 in zwei Hälften geteilte erste Kontaktfläche 410.3 aufweist, die der Stützstruktur 409 abgewandt ist. Der zweite Verbindungsteil 410.2 weist an seinem der Stützstruktur 409 abgewandten Ende eine zweite Kontaktfläche 410.4 auf, die der Stützstruktur 409 zugewandt ist. Die zweite Kontaktfläche 410.4 ist durch einen mittig angeordneten, in Radialrichtung R des Objektivs 104 nachgiebigen Entkopplungsabschnitt in Form eines Blattfederelements 410.9 in zwei Hälften geteilt. Die zweite Kontaktfläche 410.4 ist in der oben im Zusammenhang mit dem ersten bis dritten Ausführungsbeispiel beschriebenen Weise derart an die erste Kontaktfläche 410.3 angepasst, dass sie beide identische Hauptkrümmungen aufweisen.
  • An seinem der Stützstruktur 409 zugewandten Ende weist der zweite Verbindungsteil 410.2 eine (zu der Gestaltung am der Stützstruktur 409 zugewandten Ende) identische, jedoch bezüglich der Umfangsrichtung U um 180° gedrehte Gestaltung auf, sodass der zweite Verbindungsteil 410.2 in analoger Weise mit dem dritten Verbindungsteil 410.10 gekoppelt werden kann, indem ihre aufeinander abgestimmten Kontaktflächen aneinander angelegt werden.
  • Mit dieser Gestaltung ist es folglich beispielsweise möglich, den jeweiligen zweiten Verbindungsteil 410.2 zunächst in den dritten Verbindungsteil 410.10 „einzuhängen” (sodass die zweiten Verbindungsteile 410.2 mithin also an der Stützstruktur 409 hängen) und anschließend das Objektiv 104 mit den ersten Verbindungsteilen 410.1 in die zweiten Verbindungsteile 410.2 „einzuhängen” (sodass das Objektiv 104 dann mithin also über die die zweiten Verbindungsteile 410.2 an der Stützstruktur 409 aufgehängt ist).
  • Die gabelförmige Gestaltung der Verbindungsteile 410.1 und 410.10 mit den tangential ausgerichteten Einschnitten 410.2 ermöglicht dabei jeweils ein einfaches Fügen bzw. Einhängen durch eine Drehung in Unfangsrichtung U.
  • Die Gestaltung des jeweiligen ersten Verbindungsteils 410.1 und der jeweiligen zweiten Verbindungsteils 410.2 entspricht im Übrigen der oben im Zusammenhang mit dem ersten Ausführungsbeispiel beschriebenen Gestaltung des ersten Verbindungsteils 110.1 bzw. zweiten Verbindungsteils 110.2. Insbesondere sind die Krümmungen der ersten 410.3 und der zweiten Kontaktfläche 410.4 identisch zu denjenigen der ersten Kontaktfläche 110.3 bzw. zweiten Kontaktfläche 110.4 ausgebildet. Es versteht sich jedoch auch hier, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch vorgesehen sein kann, dass die erste und zweite Kontaktfläche als mehrfach gekrümmte Flächen oder als ebene Flächen ausgebildet sind.
  • Diese Gestaltung der ersten Kontaktfläche 410.3 und der zweiten Kontaktfläche 410.4 hat auch hier wiederum zur Folge, dass sich diese in dem im 8B dargestellten montierten Zustand vollflächig berühren, sodass eine stabile mechanische Verbindung zwischen dem ersten Verbindungsteil 410.1 und dem zweiten Verbindungsteil 410.2 bzw. dem zweiten Verbindungsteil 410.2 und dem dritten Verbindungsteil 410.10 gewährleistet ist.
  • Um eine feste mechanische Verbindung zwischen dem ersten Verbindungsteil 410.1 und dem zweiten Verbindungsteil 410.2 (im Bereich der ersten und zweiten Kontaktfläche 410.3, 410.4) herzustellen, können grundsätzlich beliebige geeignete Mittel verwendet werden. So kann die (lösbare oder nicht lösbare) Fixierung der Verbindung über einen Formschluss, einen Reibschluss, einen Stoffschluss oder beliebige Kombinationen hiervon erzielt werden.
  • Bei der Herstellung des montierten Zustands, wie er in der 8B dargestellt ist, also bei der Herstellung der Verbindung zwischen dem Objektiv 104 und der Stützstruktur 409 kann es bei herkömmlichen Einrichtungen aufgrund mehrerer Einflussfaktoren zu unerwünschten reibungsbehafteten Relativbewegungen zwischen den Fügepartnern (erster und zweiter Verbindungsteil bzw. zweiter und dritter Verbindungsteil) kommen. Um diese reibungsbehafteten Relativbewegungen zumindest weit gehend zu verhindern, umfasst die optische Einrichtung 401.1 wiederum eine (nur in 8A dargestellte) Positioniereinrichtung 411, deren Aufbau und Funktion weit gehend den oben beschriebenen Varianten, insbesondere der Positioniereinrichtung 111 aus dem ersten Ausführungsbeispiel entspricht.
  • Im vorliegenden Beispiel wird ähnlich wie bei dem ersten Ausführungsbeispiel in dem (in 8A dargestellten) Justagezustand, neben dem ersten Spalt 411.4 auch ein zweiter Spalt 411.9 mit einer Abmessung S1 = S2 von etwa 40 μm eingestellt. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch eine andere Abmessung gewählt sein kann. Vorzugsweise liegt die Abmessung S1 bzw. S2 im Bereich zwischen 5 μm und 15 μm.
  • In diesem Justagezustand herrscht also ein berührungsloser Zustand zwischen dem zweiten Verbindungsteil 410.2 und dem ersten Verbindungsteil 410.1 bzw. dem dritten Verbindungsteil 410.10, sodass mit anderen Worten jeweils eine Art fluidisches Lager (im vorliegenden Beispiel ein aerostatisches Lager) realisiert ist. In diesem Zustand wird ohne eine nennenswerte Kräfte und Momente übertragene mechanische Verbindung zwischen der Stützstruktur 409 und dem Objektiv 104 berührungslos eine Kraft ausgeübt, welche den zweiten Spalt 411.9 zwischen dem ersten Verbindungselement 410.5 und dem zweiten Verbindungselement 410.6 aufrechterhält. In diesem Zustand können zwischen dem ersten Verbindungselement 410.5 und dem zweiten Verbindungselement 410.6 Ausgleichsbewegungen erfolgen, ohne dass es zu einer reibungsbehafteten Relativbewegung zwischen den jeweiligen Kontaktflächen.
  • Wie den 7, 8A und 8B weiterhin zu entnehmen ist, umfasst der zweite Verbindungsteil 410.2 der jeweiligen Verbindungseinheit 410 ein in der Radialrichtung R des Objektivs 104 nachgiebigen Entkopplungsabschnitt in Form eines Blattfederelements 410.9 auf. Das Blattfederelement ist wiederum so ausgerichtet, dass seine Haupterstreckungsebene tangential zur Umfangsrichtung U des Objektivs 104 verläuft. Hierdurch wird erreicht, dass im montierten Zustand (8B) zum einen eine (insbesondere in Umfangsrichtung U) ausreichend steife, die Lage des Objektivs 104 (relativ zur Stützstruktur 409) genau definierende Verbindung zwischen dem Objektiv 104 gewährleistet ist. Zum anderen ermöglicht der Entkopplungsabschnitt in hinlänglich bekannter Weise durch seine Deformation in Radialrichtung R (wie sie in 2B durch die gestrichelte Kontur 413 angedeutet ist) den Ausgleich unterschiedlicher thermischer Ausdehnungen zwischen den Objektiv 104 und der Stützstruktur 409.
  • Ein weiterer Vorteil des Entkopplungsabschnitts 410.9 liegt darin, dass er eine reibungsfreie Ausgleichsbewegung zwischen dem ersten Verbindungsteil 410.1 bzw. dritten Verbindungsteil 410.10 und dem zweiten Verbindungsteil 410.2 um eine tangential zur Umfangsrichtung U verlaufende Achse zulässt, sodass eventuell vorliegende Passungenauigkeiten zwischen dem ersten Verbindungsteil 410.1 bzw. dritten Verbindungsteil 410.10 und dem zweiten Verbindungsteil 410.2 in dieser Ebene ebenfalls in vorteilhafter Weise ausgeglichen werden können.
  • Bei der Herstellung der Verbindung zwischen dem Objektiv 104 und der Stützstruktur 409 kann wiederum nach unterschiedlichen Strategien vorgegangen werden, wie sie oben bereits im Zusammenhang mit der 3 erläutert wurden. So kann in einer ersten Variante das Objektiv 104 zunächst in einem ersten Teilschritt ohne Aktivierung der Positioniereinrichtung 411 in die Stützstruktur 409 eingehängt werden, sodass sich alle Verbindungseinheiten 410 zunächst in dem in 2B dargestellten Zustand befinden, in dem sämtliche einander zugeordnete Kontaktflächen 410.3 und 410.4 einander kontaktieren.
  • In einem zweiten Teilschritt kann dann die Positioniereinrichtung 411 für alle Verbindungseinheiten 410 aktiviert werden, sodass der jeweilige erste Spalt 410.4 und der zweite Spalt 410.9 in der betreffenden Verbindungseinheit 410 aufgebaut werden, wie dies in 8A dargestellt ist. Hierbei kommt es dann aufgrund der berührungslosen Kraftwirkung zwischen der Stützstruktur 409 und dem Objektiv 104 zu den oben beschriebenen Ausgleichsbewegungen zwischen den Fügepartnern. Mit anderen Worten wird der zunächst hergestellte Zustand mit gegebenenfalls erheblichen parasitären Kräften und Momenten, die in das Objektiv 104 eingeleitet werden, wieder aufgehoben.
  • Bei einer zweiten Variante kann die Positioniereinrichtung 411 bereits unmittelbar beim Einhängen des Objektivs 104 in die Stützstruktur 409 aktiviert sein, sodass die einzelnen Spalte 410.4 und 410.9 unmittelbar aufgebaut werden, es also zunächst zu keinem Kontakt zwischen den Fügepartnern kommt. Weiterhin versteht es sich, dass natürlich auch eine Mischform dieser beiden Varianten gewählt werden kann, bei der eine oder mehrere der Verbindungseinheiten 410 nach der ersten Variante positioniert werden, während eine oder mehrere der Verbindungseinheiten 410 nach der zweiten Variante positioniert werden.
  • In einem Schritt 414.4 wird dann über die Positioniereinrichtung 411 in der jeweiligen Verbindungseinheit 410 eine Einstellung der Abmessung S1 bzw. S2 des jeweiligen ersten Spalts 411.4 und zweiten Spalts 411.9 in der oben im Zusammenhang mit dem ersten Ausführungsbeispiel beschriebenen Weise vorgenommen, womit es in vorteilhafter Weise möglich ist, die Abmessung S1 bzw. S2 des jeweiligen Spalts 411.4 bzw. 411.9 für die Verbindungseinheiten 410 synchron zueinander zu reduzieren, sodass einander insbesondere die jeweiligen Kontaktflächen 410.3 und 410.4 aller Verbindungseinheiten 410 zu dem selben Zeitpunkt kontaktieren.
  • Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch vorgesehen sein kann, dass bei der jeweiligen Verbindungseinheit 410 zunächst nur der erste Spalt 411.4 oder der zweite Spalt 411.9 bis zur Anlage der Kontaktflächen reduziert wird und erst nachfolgend dann der jeweils andere Spalt bis zur Anlage der Kontaktflächen reduziert wird.
  • Es versteht sich weiterhin, dass bei anderen Varianten der Erfindung als Verbindungselement anstelle der in Umfangsrichtung U schubsteifen Blattfeder 410.9 ein einfaches Stabelement 415 vorgesehen ist, wie dies in 9A angedeutet ist. Hierbei kann das Verbindungselement in seiner Längsrichtung im Wesentlichen starr bzw. mit einer hohen Steifigkeit gestaltet sein. Ebenso kann aber das Verbindungselement zumindest einen längsweichen bzw. federnden Abschnitt mit einer geringen Steifigkeit in seiner Längsrichtung aufweisen, wie dies in 9A durch die gestrichelte Kontur 416 angedeutet ist.
  • Bei weiteren Varianten der Erfindung kann anstelle der gabelförmigen Gestaltung des ersten bzw. dritten Verbindungsteils eine Gestaltung mit ungeteilten Kontaktflächen des ersten Verbindungsteils 510.1 bzw. dritten Verbindungsteils 510.10 vorgesehen sein, wie dies beispielsweise in 9B dargestellt ist. In diesem Fall sind dann beispielsweise zwei (in Umfangsrichtung U) seitlich angeordnete Verbindungselemente 517 vorgesehen, welche die beiden die Kontaktflächen ausbildenden Abschnitte des zweiten Verbindungsteils 510.2 verbinden. Diese Verbindungselemente 517 können wiederum beliebig gestaltet sein. So können sie beispielsweise stabförmig gestaltet sein, wie dies in 9B dargestellt ist. Ebenso können aber wiederum auch Blattfedern verwendet werden.
  • In einer Abwandlung dieser Variante kann das Verbindungselement 617 des zweiten Verbindungsteils 610.2 an seinen beiden Enden gabelförmig gestaltet sein, um den ersten Verbindungsteil 510.1 bzw. dritten Verbindungsteil 510.10 zu umgreifen, wie dies in 9C gezeigt ist.
  • Bei weiteren Varianten der Erfindung kann im Übrigen beispielsweise im Bereich des zweiten Verbindungsteils eine Aktuatoreinrichtung vorgesehen sein, wie dies in 9C durch die gestrichelte Kontur 618 angedeutet ist. Diese Aktuatoreinrichtung 618 kann dazu dienen, eine Abmessung des zweiten Verbindungsteils, beispielsweise dessen Länge, aktiv zu verstellen.
  • Schließlich kann bei weiteren Varianten der Erfindung vorgesehen sein, dass der dritte Verbindungsteil (bzw. der erste Verbindungsteil 710.1) fehlt und der zweite Verbindungsteil 710.2 (z. B. über zwei nach Art eines Bipods angeordnete Verbindungselemente 717) unmittelbar mit der Stützstruktur 709 (bzw. dem Objektiv) verbunden ist, wie dies in 9D dargestellt ist.
  • Die vorliegende Erfindung wurde vorstehend anhand von Beispielen beschrieben, bei denen jeweils drei Verbindungseinheiten vorgesehen sind. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch eine andere Anzahl von Verbindungseinheiten vorgesehen sein kann. Insbesondere können bei entsprechender Gestaltung des zweiten Verbindungsteils auch lediglich zwei Verbindungseinheiten ausreichen, die dann vorzugsweise in der Umfangsrichtung U des Objektivs um 180° zueinander versetzt angeordnet sind. Hierfür eignen sich insbesondere die Gestaltungen, wie sie in den 2A, 4, 5, 7, 9B, 9C und 9D dargestellt sind, die (bei entsprechender Gestaltung) eine ausreichende Fähigkeit aufweisen, einen Kippmoment um die Radialrichtung R aufzunehmen.
  • Die vorliegende Erfindung wurde vorstehend anhand von Beispielen beschrieben, bei denen das optische Modul ein Objektiv ist, welches auf einer Stützstruktur abgestützt wird. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch vorgesehen sein kann, dass ein anderes optisches Modul auf einer zugehörigen Stützstruktur abgestützt ist. Insbesondere ist es möglich, dass das optische Modul lediglich von einem einzelnen optischen Element alleine oder gegebenenfalls zusammen mit einer entsprechenden Halteeinrichtung (beispielsweise einem Haltering oder dergleichen) gebildet ist.
  • Weiterhin wurde die die vorliegende Erfindung vorstehend anhand von Beispielen beschrieben, bei denen die Fügerrichtung in Richtung der Gravitationskraft verläuft. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch eine beliebige andere (insbesondere eine zur Richtung der Gravitationskraft geneigte) Ausrichtung der Fügerichtung und damit auch der jeweiligen Kontaktflächen vorgesehen sein kann.
  • Die vorliegende Erfindung wurde vorstehend anhand von Beispielen beschrieben, bei denen ausschließlich refraktive optische Elemente verwendet wurden. Es sei an dieser Stelle jedoch nochmals angemerkt, dass die Erfindung natürlich auch, insbesondere für den Fall der Abbildung bei anderen Wellenlängen, bei im Zusammenhang mit optischen Einrichtungen Anwendung finden kann, die alleine oder in beliebiger Kombination refraktive, reflektive oder diffraktive optische Elemente umfassen.
  • Weiterhin wurde die vorliegende Erfindung vorstehend anhand von Beispielen beschrieben, bei denen ausschließlich ein Objektiv mit einer Stützstruktur verbunden wurde. Es sei an dieser Stelle jedoch angemerkt, dass die Erfindung natürlich auch im Zusammenhang mit der Abstützung anderer optisch wirksamer Komponenten der Abbildungseinrichtung, insbesondere von Komponenten Beleuchtungseinrichtung, der Maskeneinrichtung und/oder der Substrateinrichtung, Anwendung finden kann.
  • Schließlich ist anzumerken, dass die vorliegende Erfindung vorstehend anhand von Beispielen aus dem Bereich der Mikrolithographie beschrieben wurde. Es versteht sich jedoch, dass die vorliegende Erfindung ebenso auch für beliebige andere Anwendungen bzw. Abbildungsverfahren, insbesondere bei beliebigen Wellenlängen des zur Abbildung verwendeten Lichts, eingesetzt werden kann.

Claims (62)

  1. Optische Einrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit – einem optischen Modul, – einer Stützstruktur und – einer Verbindungseinrichtung, wobei – die Verbindungseinrichtung wenigstens eine Verbindungseinheit mit einem ersten Verbindungsteil und einem zweiten Verbindungsteil umfasst, – der erste Verbindungsteil mit dem optischen Modul verbunden ist und der zweite Verbindungsteil mit der Stützstruktur verbunden ist, – der erste Verbindungsteil eine erste Kontaktfläche mit einer ersten Hauptkrümmung aufweist, die eine erste Hauptkrümmungsachse definiert, – der zweite Verbindungsteil eine zweite Kontaktfläche mit einer zweiten Hauptkrümmung aufweist, die eine zweite Hauptkrümmungsachse definiert, – die zweite Hauptkrümmung an die erste Hauptkrümmung angepasst ist und die erste Kontaktfläche die zweite Kontaktfläche in einem montierten Zustand kontaktiert, dadurch gekennzeichnet, dass – die Verbindungseinrichtung zumindest einen Teil einer auf den ersten Verbindungsteil und den zweiten Verbindungsteil wirkenden Positioniereinrichtung umfasst, wobei – die Positioniereinrichtung dazu ausgebildet ist, in einem vor dem montierten Zustand vorliegenden Justagezustand einen schmalen Spalt zwischen der ersten Kontaktfläche und der zweiten Kontaktfläche derart berührungslos aufrecht zu erhalten, dass eine Ausgleichsbewegung zwischen der ersten Kontaktfläche und der zweiten Kontaktfläche um die erste Hauptkrümmungsachse ohne aus der Ausgleichsbewegung resultierende Kraftwirkung zwischen dem ersten Verbindungsteil und dem zweiten Verbindungsteil möglich ist.
  2. Optische Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass – die Positioniereinrichtung zur Aufrechterhaltung des schmalen Spalts zwischen der ersten Kontaktfläche und der zweiten Kontaktfläche eine Krafterzeugungseinrichtung aufweist, wobei – die Krafterzeugungseinrichtung dazu ausgebildet ist, zur Aufrechterhaltung des schmalen Spalts eine Anziehungskraft zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur, insbesondere zwischen dem ersten Verbindungsteil und dem zweiten Verbindungsteil, aufzubringen, die als Gegenkraft gegen eine den Spalt vergrößernde Kraft wirkt.
  3. Optische Einrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die den Spalt vergrößernde Kraft zumindest teilweise aus einer auf das optische Modul und/oder wenigstens einen der Verbindungsteile wirkenden Gewichtskraft resultiert.
  4. Optische Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass – die Positioniereinrichtung zur Aufrechterhaltung des schmalen Spalts zwischen der ersten Kontaktfläche und der zweiten Kontaktfläche eine Krafterzeugungseinrichtung aufweist, wobei – die Krafterzeugungseinrichtung dazu ausgebildet ist, zur Aufrechterhaltung des schmalen Spalts eine Abstoßungskraft zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur, insbesondere zwischen dem ersten Verbindungsteil und dem zweiten Verbindungsteil, aufzubringen, die als Gegenkraft gegen eine den Spalt verkleinernde Kraft wirkt.
  5. Optische Einrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die den Spalt verkleinernde Kraft zumindest teilweise aus einer auf das optische Modul und/oder wenigstens einen der Verbindungsteile wirkenden Gewichtskraft resultiert.
  6. Optische Einrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass – die Positioniereinrichtung zur Aufrechterhaltung des schmalen Spalts zwischen der ersten Kontaktfläche und der zweiten Kontaktfläche eine Krafterzeugungseinrichtung aufweist, wobei – die Krafterzeugungseinrichtung dazu ausgebildet ist, zur Aufrechterhaltung des schmalen Spalts eine Kraftwirkung zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur, insbesondere zwischen dem ersten Verbindungsteil und dem zweiten Verbindungsteil, nach einem elektrischen Wirkprinzip und/oder einem magnetischen Wirkprinzip und/oder einem fluidischen Wirkprinzip aufzubringen.
  7. Optische Einrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass – die Krafterzeugungseinrichtung zur Aufrechterhaltung des schmalen Spalts eine Kraftwirkung zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur, insbesondere zwischen dem ersten Verbindungsteil und dem zweiten Verbindungsteil, nach einem elektromagnetischen Wirkprinzip erzeugt, wobei – das optische Modul und/oder die Stützstruktur, insbesondere wenigstens einer der Verbindungsteile, einen elektrisch leitenden Abschnitt der Krafterzeugungseinrichtung aufweist, der zur Erzeugung der den schmalen Spalt aufrechterhaltenden Kraftwirkung mit einem elektrischen Strom beaufschlagbar ist.
  8. Optische Einrichtung nach Anspruch 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet, dass – die Krafterzeugungseinrichtung zur Aufrechterhaltung des schmalen Spalts eine Kraftwirkung zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur, insbesondere zwischen dem ersten Verbindungsteil und dem zweiten Verbindungsteil, nach einem elektrostatischen Wirkprinzip erzeugt, wobei – das optische Modul und/oder die Stützstruktur, insbesondere wenigstens einer der Verbindungsteile, einen elektrisch leitenden Abschnitt der Krafterzeugungseinrichtung aufweist, der zur Erzeugung der den schmalen Spalt aufrechterhaltenden Kraftwirkung mit einer elektrischen Ladung beaufschlagbar ist.
  9. Optische Einrichtung nach einem der Ansprüche 6 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass – die Krafterzeugungseinrichtung zur Aufrechterhaltung des schmalen Spalts eine Kraftwirkung zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur, insbesondere zwischen dem ersten Verbindungsteil und dem zweiten Verbindungsteil, nach einem fluidischen Wirkprinzip erzeugt, wobei – wenigstens einer der Verbindungsteile eine Zufuhreinrichtung umfasst, über welche zur Erzeugung der den schmalen Spalt aufrechterhaltenden Kraftwirkung ein Strom eines Fluids, insbesondere ein Strom von Reinraum-Druckluft, in den Spalt zuführbar ist.
  10. Optische Einrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass – die Positioniereinrichtung eine Krafterzeugungseinrichtung, eine Erfassungseinrichtung und eine mit der Krafterzeugungseinrichtung und der Erfassungseinrichtung verbundene Steuereinrichtung umfasst, wobei – die Erfassungseinrichtung dazu ausgebildet ist, den Wert einer für eine Abmessung des Spalts zwischen dem ersten Verbindungsteil und dem zweiten Verbindungsteil repräsentativen Größe zu erfassen und ein entsprechendes Messsignal an die Steuereinrichtung weiterzugeben, – die Steuereinrichtung dazu ausgebildet ist, aus dem Messsignal und einem Sollwert ein Steuersignal für die Krafterzeugungseinrichtung zu generieren und an die Krafterzeugungseinrichtung weiterzugeben, und – die Krafterzeugungseinrichtung dazu ausgebildet ist, zur Aufrechterhaltung des schmalen Spalts in Abhängigkeit von dem Steuersignal eine Kraftwirkung zwischen dem ersten Verbindungsteil und dem zweiten Verbindungsteil zu erzeugen.
  11. Optische Einrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass – der erste Verbindungsteil oder der zweite Verbindungsteil ein erstes Verbindungselement und ein zweites Verbindungselement umfasst, – das erste Verbindungselement eine dritte Kontaktfläche mit einer dritten Hauptkrümmung aufweist, die eine dritte Hauptkrümmungsachse definiert, – das zweite Verbindungselement eine vierte Kontaktfläche mit einer vierten Hauptkrümmung aufweist, die eine vierte Hauptkrümmungsachse definiert, – die vierte Hauptkrümmung an die dritte Hauptkrümmung angepasst ist und die dritte Kontaktfläche die vierte Kontaktfläche in einem montierten Zustand kontaktiert, – die Verbindungseinrichtung zumindest einen Teil der auf das erste Verbindungselement und das zweite Verbindungselement wirkenden Positioniereinrichtung umfasst, wobei – die Positioniereinrichtung dazu ausgebildet ist, in dem Justagezustand einen zweiten schmalen Spalt zwischen der dritten Kontaktfläche und der vierten Kontaktfläche derart berührungslos aufrecht zu erhalten, dass eine zweite Ausgleichsbewegung zwischen der dritten Kontaktfläche und der vierten Kontaktfläche um die dritte Hauptkrümmungsachse ohne aus der zweiten Ausgleichsbewegung resultierende Kraftwirkung zwischen dem ersten Verbindungselement und dem zweiten Verbindungselement möglich ist.
  12. Optische Einrichtung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass – die Positioniereinrichtung zur Aufrechterhaltung des zweiten schmalen Spalts zwischen der dritten Kontaktfläche und der vierten Kontaktfläche eine Krafterzeugungseinrichtung aufweist, wobei – die Krafterzeugungseinrichtung dazu ausgebildet ist, zur Aufrechterhaltung des zweiten schmalen Spalts eine Anziehungskraft zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur, insbesondere inzwischen dem ersten Verbindungselement und dem zweiten Verbindungselement, aufzubringen, die als Gegenkraft gegen eine den zweiten Spalt vergrößernde Kraft wirkt.
  13. Optische Einrichtung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass die den zweiten Spalt vergrößernde Kraft zumindest teilweise aus einer das optische Modul und/oder auf wenigstens eines der Verbindungselemente wirkenden Gewichtskraft resultiert.
  14. Optische Einrichtung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass – die Positioniereinrichtung zur Aufrechterhaltung des zweiten schmalen Spalts zwischen der dritten Kontaktfläche und der vierten Kontaktfläche eine Krafterzeugungseinrichtung aufweist, wobei – die Krafterzeugungseinrichtung dazu ausgebildet ist, zur Aufrechterhaltung des zweiten schmalen Spalts eine Abstoßungskraft zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur, insbesondere zwischen dem ersten Verbindungselement und dem zweiten Verbindungselement, aufzubringen, die als Gegenkraft gegen eine den zweiten Spalt verkleinernde Kraft wirkt.
  15. Optische Einrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass die den zweiten Spalt verkleinernde Kraft zumindest teilweise aus einer auf das optische Modul und/oder wenigstens eines der Verbindungselemente wirkenden Gewichtskraft resultiert.
  16. Optische Einrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass – die Positioniereinrichtung zur Aufrechterhaltung des zweiten schmalen Spalts zwischen der dritten Kontaktfläche und der vierten Kontaktfläche eine Krafterzeugungseinrichtung aufweist, wobei – die Krafterzeugungseinrichtung dazu ausgebildet ist, zur Aufrechterhaltung des zweiten schmalen Spalts eine Kraftwirkung zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur, insbesondere zwischen dem ersten Verbindungselement und dem zweiten Verbindungselement, nach einem elektrischen Wirkprinzip und/oder einem magnetischen Wirkprinzip und/oder einem fluidischen Wirkprinzip aufzubringen.
  17. Optische Einrichtung nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass – die Krafterzeugungseinrichtung zur Aufrechterhaltung des zweiten schmalen Spalts eine Kraftwirkung zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur, insbesondere zwischen dem ersten Verbindungselement und dem zweiten Verbindungselement, nach einem elektromagnetischen Wirkprinzip erzeugt, wobei – das optische Modul und/oder die Stützstruktur, insbesondere wenigstens eines der Verbindungselemente, einen elektrisch leitenden Abschnitt der Krafterzeugungseinrichtung aufweist, der zur Erzeugung der den zweiten schmalen Spalt aufrechterhaltenden Kraftwirkung mit einem elektrischen Strom beaufschlagbar ist.
  18. Optische Einrichtung nach Anspruch 16 oder 17, dadurch gekennzeichnet, dass – die Krafterzeugungseinrichtung zur Aufrechterhaltung des zweiten schmalen Spalts eine Kraftwirkung zwischen optischen Modulen und der Stützstruktur, insbesondere zwischen dem ersten Verbindungselement und dem zweiten Verbindungselement, nach einem elektrostatischen Wirkprinzip erzeugt, wobei – das optische Modul und/oder die Stützstruktur, insbesondere wenigstens eines der Verbindungselemente, einen elektrisch leitenden Abschnitt der Krafterzeugungseinrichtung aufweist, der zur Erzeugung der den zweiten schmalen Spalt aufrechterhaltenden Kraftwirkung mit einer elektrischen Ladung beaufschlagbar ist.
  19. Optische Einrichtung nach einem der Ansprüche 16 bis 18, dadurch gekennzeichnet, dass – die Krafterzeugungseinrichtung zur Aufrechterhaltung des zweiten schmalen Spalts eine Kraftwirkung zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur, insbesondere zwischen dem ersten Verbindungselement und dem zweiten Verbindungselement, nach einem fluidischen Wirkprinzip erzeugt, wobei – das optische Modul und/oder die Stützstruktur, insbesondere wenigstens eines der Verbindungselemente, eine Zufuhreinrichtung umfasst, über welche zur Erzeugung der den zweiten schmalen Spalt aufrechterhaltenden Kraftwirkung ein Strom eines Fluids, insbesondere ein Strom von Reinraum-Druckluft, in den zweiten Spalt zuführbar ist.
  20. Optische Einrichtung nach einem der Ansprüche 11 bis 19, dadurch gekennzeichnet, dass – die Positioniereinrichtung eine Krafterzeugungseinrichtung, eine Erfassungseinrichtung und eine mit der Krafterzeugungseinrichtung und der Erfassungseinrichtung verbundene Steuereinrichtung umfasst, wobei – die Erfassungseinrichtung dazu ausgebildet ist, den Wert einer für eine Abmessung des zweiten Spalts zwischen dem ersten Verbindungselement und dem zweiten Verbindungselement repräsentativen Größe zu erfassen und ein entsprechendes zweites Messsignal an die Steuereinrichtung weiterzugeben, – die Steuereinrichtung dazu ausgebildet ist, aus dem zweiten Messsignal und einem zweiten Sollwert ein zweites Steuersignal für die Krafterzeugungseinrichtung zu generieren und an die Krafterzeugungseinrichtung weiterzugeben, und – die Krafterzeugungseinrichtung dazu ausgebildet ist, zur Aufrechterhaltung des zweiten schmalen Spalts in Abhängigkeit von dem zweiten Steuersignal eine Kraftwirkung zwischen dem ersten Verbindungselement und dem zweiten Verbindungselement zu erzeugen.
  21. Optische Einrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 20, dadurch gekennzeichnet, dass – die Verbindungseinrichtung eine weitere Verbindungseinheit umfasst, wobei die weitere Verbindungseinheit einen mit dem optischen Modul verbundenen dritten Verbindungsteil und einen mit der Stützstruktur verbundenen vierten Verbindungsteil umfasst, – der dritte Verbindungsteil eine fünfte Kontaktfläche mit einer fünften Hauptkrümmung aufweist, die eine fünfte Hauptkrümmungsachse definiert, – der vierte Verbindungsteil eine sechste Kontaktfläche mit einer sechsten Hauptkrümmung aufweist, die eine sechste Hauptkrümmungsachse definiert, – die sechste Hauptkrümmung an die fünfte Hauptkrümmung angepasst ist und die fünfte Kontaktfläche die sechste Kontaktfläche in dem montierten Zustand kontaktiert, – die Verbindungseinrichtung zumindest einen Teil der auf den dritten Verbindungsteil und den vierten Verbindungsteil wirkenden Positioniereinrichtung umfasst, wobei – die Positioniereinrichtung dazu ausgebildet ist, in dem Justagezustand einen dritten schmalen Spalt zwischen der fünften Kontaktfläche und der sechsten Kontaktfläche derart berührungslos aufrecht zu erhalten, dass eine dritte Ausgleichsbewegung zwischen der fünften Kontaktfläche und der sechsten Kontaktfläche um die fünfte Hauptkrümmungsachse ohne aus der dritten Ausgleichsbewegung resultierende Kraftwirkung zwischen dem dritten Verbindungsteil und dem vierten Verbindungsteil möglich ist.
  22. Optische Einrichtung nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, dass die Positioniereinrichtung dazu ausgebildet ist, den schmalen Spalt zwischen dem ersten Verbindungsteil und im zweiten Verbindungsteil und den schmalen Spalt zwischen dem dritten Verbindungsteil und dem vierten Verbindungsteil im Wesentlichen synchron zu verringern.
  23. Optische Einrichtung nach Anspruch 21 oder 22, dadurch gekennzeichnet, dass die Positioniereinrichtung dazu ausgebildet ist, den schmalen Spalt zwischen dem ersten Verbindungsteil und im zweiten Verbindungsteil und den schmalen Spalt zwischen dem dritten Verbindungsteil und dem vierten Verbindungsteil derart zu verringern, dass die erste Kontaktfläche und die zweite Kontaktfläche sowie die fünfte Kontaktfläche und die sechste Kontaktfläche einander im Wesentlichen gleichzeitig kontaktieren.
  24. Optische Einrichtung nach einem der Ansprüche 21 bis 23, dadurch gekennzeichnet, dass – die Positioniereinrichtung eine Krafterzeugungseinrichtung, eine Erfassungseinrichtung und eine mit der Krafterzeugungseinrichtung und der Erfassungseinrichtung verbundene Steuereinrichtung umfasst, wobei – die Erfassungseinrichtung dazu ausgebildet ist, einen ersten Wert einer für eine Abmessung des Spalts zwischen dem ersten Verbindungsteil und dem zweiten Verbindungsteil repräsentativen ersten Größe zu erfassen und ein entsprechendes erstes Messsignal an die Steuereinrichtung weiterzugeben sowie einen zweiten Wert einer für eine Abmessung des Spalts zwischen dem dritten Verbindungsteil und dem vierten Verbindungsteil repräsentativen zweiten Größe zu erfassen und ein entsprechendes zweites Messsignal an die Steuereinrichtung weiterzugeben, – die Steuereinrichtung dazu ausgebildet ist, aus dem ersten Messsignal, dem zweiten Messsignal und wenigstens einem Sollwert ein Steuersignal für die Krafterzeugungseinrichtung zu generieren und an die Krafterzeugungseinrichtung weiterzugeben, und – die Krafterzeugungseinrichtung dazu ausgebildet ist, zur Erzielung einer vorgebbaren Änderung des Spalts zwischen dem ersten Verbindungsteil und dem zweiten Verbindungsteil sowie einer vorgebbaren Änderung des Spalts zwischen dem dritten Verbindungsteil und dem vierten Verbindungsteil eine erste Kraftwirkung zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur, insbesondere zwischen dem ersten Verbindungsteil und dem zweiten Verbindungsteil, und eine zweite Kraftwirkung zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur, insbesondere zwischen dem dritten Verbindungsteil und dem vierten Verbindungsteil, zu erzeugen.
  25. Optische Einrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 24, dadurch gekennzeichnet, dass – das optische Modul eine Umfangsrichtung und eine Radialrichtung definiert und – die erste Hauptkrümmungsachse in einer Richtung verläuft, die zumindest eine Komponente in der Umfangsrichtung und/oder der Radialrichtung aufweist.
  26. Optische Einrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 25, dadurch gekennzeichnet, dass – wenigstens einer der Verbindungsteile einen in Richtung der ersten Hauptkrümmungsachse nachgiebigen Entkopplungsabschnitt aufweist, wobei – der Entkopplungsabschnitt zur Entkopplung von in Richtung der ersten Hauptkrümmungsachse wirkenden Kräften zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur ausgebildet ist.
  27. Optische Einrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 26, dadurch gekennzeichnet, dass die Verbindungseinheit in dem Justagezustand Ausgleichsbewegungen in wenigstens zwei Freiheitsgraden, insbesondere wenigstens drei Freiheitsgraden, ohne aus den Ausgleichsbewegungen resultierende Kraftwirkung zwischen den Komponenten der Verbindungseinheit ermöglicht.
  28. Optische Einrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 27, dadurch gekennzeichnet, dass Fixierungsmittel vorgesehen sind, über die der erste Verbindungsteil und der zweite Verbindungsteil in dem montierten Zustand zueinander fixierbar sind.
  29. Optische Einrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 28, dadurch gekennzeichnet, dass das optische Modul ein optisches Element umfasst.
  30. Optische Abbildungseinrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit – einer Beleuchtungseinrichtung mit einer ersten optischen Elementgruppe, – einer Maskeneinrichtung zur Aufnahme einer ein Projektionsmuster umfassenden Maske, – einer Projektionseinrichtung mit einer zweiten optischen Elementgruppe und – einer Substrateinrichtung zur Aufnahme eines Substrats, wobei – die Beleuchtungseinrichtung zum Beleuchten des Projektionsmusters unter Verwendung der ersten optischen Elementgruppe ausgebildet ist und – die zweite optische Elementgruppe zum Abbilden des Projektionsmusters auf dem Substrat ausgebildet ist, – die Beleuchtungseinrichtung und/oder die Projektionseinrichtung ein optisches Modul, eine Stützstruktur und eine Verbindungseinrichtung umfasst, wobei – die Verbindungseinrichtung wenigstens eine Verbindungseinheit mit einem ersten Verbindungsteil und einem zweiten Verbindungsteil umfasst, – der erste Verbindungsteil mit dem optischen Modul verbunden ist und der zweite Verbindungsteil mit der Stützstruktur verbunden ist, – der erste Verbindungsteil eine erste Kontaktfläche mit einer ersten Hauptkrümmung aufweist, die eine erste Hauptkrümmungsachse definiert, – der zweite Verbindungsteil eine zweite Kontaktfläche mit einer zweiten Hauptkrümmung aufweist, die eine zweite Hauptkrümmungsachse definiert, – die zweite Hauptkrümmung an die erste Hauptkrümmung angepasst ist und die erste Kontaktfläche die zweite Kontaktfläche in einem montierten Zustand kontaktiert, dadurch gekennzeichnet, dass – die Verbindungseinrichtung zumindest einen Teil einer auf den ersten Verbindungsteil und den zweiten Verbindungsteil wirkenden Positioniereinrichtung umfasst, wobei – die Positioniereinrichtung dazu ausgebildet ist, in einem vor dem montierten Zustand vorliegenden Justagezustand einen schmalen Spalt zwischen der ersten Kontaktfläche und der zweiten Kontaktfläche derart berührungslos aufrecht zu erhalten, dass eine Ausgleichsbewegung zwischen der ersten Kontaktfläche und der zweiten Kontaktfläche um die erste Hauptkrümmungsachse ohne aus der Ausgleichsbewegung resultierende Kraftwirkung zwischen dem ersten Verbindungsteil und dem zweiten Verbindungsteil möglich ist.
  31. Verfahren zum Verbinden eines optischen Moduls mit einer Stützstruktur, insbesondere für die Mikrolithographie, bei dem – das optische Modul über eine Verbindungseinrichtung mit der Stützstruktur verbunden wird, wobei – die Verbindungseinrichtung wenigstens eine Verbindungseinheit mit einem ersten Verbindungsteil und einem zweiten Verbindungsteil umfasst, – der erste Verbindungsteil mit dem optischen Modul verbunden ist und der zweite Verbindungsteil mit der Stützstruktur verbunden ist, – der erste Verbindungsteil eine erste Kontaktfläche mit einer ersten Hauptkrümmung aufweist, die eine erste Hauptkrümmungsachse definiert, – der zweite Verbindungsteil eine zweite Kontaktfläche mit einer an die erste Hauptkrümmung angepassten zweiten Hauptkrümmung aufweist, die eine zweite Hauptkrümmungsachse definiert, und – das optische Modul und die Stützstruktur einander derart angenähert werden, dass die erste Kontaktfläche die zweite Kontaktfläche in einem montierten Zustand kontaktiert, dadurch gekennzeichnet, dass – in einem vor dem montierten Zustand vorliegenden Justagezustand ein schmaler Spalt zwischen der ersten Kontaktfläche und der zweiten Kontaktfläche derart berührungslos aufrecht erhalten wird, dass eine Ausgleichsbewegung zwischen der ersten Kontaktfläche und der zweiten Kontaktfläche um die erste Hauptkrümmungsachse ohne aus der Ausgleichsbewegung resultierende Kraftwirkung zwischen dem ersten Verbindungsteil und dem zweiten Verbindungsteil möglich ist.
  32. Verfahren nach Anspruch 31, dadurch gekennzeichnet, dass zur Aufrechterhaltung des schmalen Spalts eine Anziehungskraft zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur, insbesondere zwischen dem ersten Verbindungsteil und dem zweiten Verbindungsteil, aufgebracht wird, die als Gegenkraft gegen eine den Spalt vergrößernde Kraft wirkt.
  33. Verfahren nach Anspruch 32, dadurch gekennzeichnet, dass die den Spalt vergrößernde Kraft zumindest teilweise aus einer auf das optische Modul und/oder wenigstens einen der Verbindungsteile wirkenden Gewichtskraft resultiert.
  34. Verfahren nach Anspruch 31, dadurch gekennzeichnet, dass die Aufrechterhaltung des schmalen Spalts eine Abstoßungskraft zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur, insbesondere zwischen dem ersten Verbindungsteil und dem zweiten Verbindungsteil, aufgebracht wird, die als Gegenkraft gegen eine den Spalt verkleinernde Kraft wirkt.
  35. Verfahren nach Anspruch 32, dadurch gekennzeichnet, dass die den Spalt verkleinernde Kraft zumindest teilweise aus einer auf das optische Modul und/oder wenigstens einen der Verbindungsteile wirkenden Gewichtskraft resultiert.
  36. Verfahren nach einem der Ansprüche 31 bis 35, dadurch gekennzeichnet, dass zur Aufrechterhaltung des schmalen Spalts eine Kraftwirkung zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur, insbesondere zwischen dem ersten Verbindungsteil und dem zweiten Verbindungsteil, nach einem elektrischen Wirkprinzip und/oder einem magnetischen Wirkprinzip und/oder einem fluidischen Wirkprinzip aufgebracht wird.
  37. Verfahren nach Anspruch 36, dadurch gekennzeichnet, dass – zur Aufrechterhaltung des schmalen Spalts eine Kraftwirkung zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur, insbesondere zwischen dem ersten Verbindungsteil und dem zweiten Verbindungsteil, nach einem elektromagnetischen Wirkprinzip erzeugt wird, wobei – das optische Modul und/oder die Stützstruktur, insbesondere wenigstens einer der Verbindungsteile, einen elektrisch leitenden Abschnitt der Krafterzeugungseinrichtung aufweist, der zur Erzeugung der den schmalen Spalt aufrechterhaltenden Kraftwirkung mit einem elektrischen Strom beaufschlagt wird.
  38. Verfahren Anspruch 36 oder 37, dadurch gekennzeichnet, dass – zur Aufrechterhaltung des schmalen Spalts eine Kraftwirkung zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur, insbesondere zwischen dem ersten Verbindungsteil und dem zweiten Verbindungsteil, nach einem elektrostatischen Wirkprinzip erzeugt wird, wobei – das optische Modul und/oder die Stützstruktur, insbesondere wenigstens einer der Verbindungsteile, einen elektrisch leitenden Abschnitt der Krafterzeugungseinrichtung aufweist, der zur Erzeugung der den schmalen Spalt aufrechterhaltenden Kraftwirkung mit einer elektrischen Ladung beaufschlagt wird.
  39. Verfahren nach einem der Ansprüche 36 bis 38, dadurch gekennzeichnet, dass – zur Aufrechterhaltung des schmalen Spalts eine Kraftwirkung zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur, insbesondere zwischen dem ersten Verbindungsteil und dem zweiten Verbindungsteil, nach einem fluidischen Wirkprinzip erzeugt wird, wobei – zur Erzeugung der den schmalen Spalt aufrechterhaltenden Kraftwirkung ein Strom eines Fluids, insbesondere ein Strom von Reinraum-Druckluft, in den Spalt zugeführt wird.
  40. Verfahren nach einem der Ansprüche 31 bis 39, dadurch gekennzeichnet, dass – über eine Erfassungseinrichtung der Wert einer für eine Abmessung des Spalts zwischen dem ersten Verbindungsteil und dem zweiten Verbindungsteil repräsentativen Größe erfasst und ein entsprechendes Messsignal an eine Steuereinrichtung weitergegeben wird, – die Steuereinrichtung aus dem Messsignal und einem Sollwert ein Steuersignal generiert und an eine Krafterzeugungseinrichtung weitergibt und – die Krafterzeugungseinrichtung zur Aufrechterhaltung des schmalen Spalts in Abhängigkeit von dem Steuersignal eine Kraftwirkung zwischen dem ersten Verbindungsteil und dem zweiten Verbindungsteil erzeugt.
  41. Verfahren nach einem der Ansprüche 31 bis 40, dadurch gekennzeichnet, dass – der erste Verbindungsteil oder der zweite Verbindungsteil ein erstes Verbindungselement und ein zweites Verbindungselement umfasst, – das erste Verbindungselement eine dritte Kontaktfläche mit einer dritten Hauptkrümmung aufweist, die eine dritte Hauptkrümmungsachse definiert, – das zweite Verbindungselement eine an die dritte Hauptkrümmung angepasste vierte Kontaktfläche mit einer vierten Hauptkrümmung aufweist, die eine vierte Hauptkrümmungsachse definiert, – das optische Modul und die Stützstruktur einander derart angenähert werden, dass die dritte Kontaktfläche die vierte Kontaktfläche in dem montierten Zustand kontaktiert, wobei – in dem Justagezustand ein zweiter schmaler Spalt zwischen der dritten Kontaktfläche und der vierten Kontaktfläche derart berührungslos aufrecht erhalten wird, dass eine zweite Ausgleichsbewegung zwischen der dritten Kontaktfläche und der vierten Kontaktfläche um die dritte Hauptkrümmungsachse ohne aus der zweiten Ausgleichsbewegung resultierende Kraftwirkung zwischen dem ersten Verbindungselement und dem zweiten Verbindungselement möglich ist.
  42. Verfahren nach Anspruch 41, dadurch gekennzeichnet, dass zur Aufrechterhaltung des zweiten schmalen Spalts eine Anziehungskraft zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur, insbesondere zwischen dem ersten Verbindungselement und dem zweiten Verbindungselement, aufgebracht wird, die als Gegenkraft gegen eine den zweiten Spalt vergrößernde Kraft wirkt.
  43. Verfahren nach Anspruch 42, dadurch gekennzeichnet, dass die den zweiten Spalt vergrößernde Kraft zumindest teilweise aus einer auf wenigstens einen der Verbindungsteile wirkenden Gewichtskraft resultiert.
  44. Verfahren nach Anspruch 41, dadurch gekennzeichnet, dass zur Aufrechterhaltung des zweiten schmalen Spalts eine Abstoßungskraft zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur, insbesondere zwischen dem ersten Verbindungselement und dem zweiten Verbindungselement, aufgebracht wird, die als Gegenkraft gegen eine den zweiten Spalt verkleinernde Kraft wirkt.
  45. Verfahren nach Anspruch 44, dadurch gekennzeichnet, dass die den zweiten Spalt verkleinernde Kraft zumindest teilweise aus einer auf das optische Modul und/oder wenigstens eines der Verbindungselemente wirkenden Gewichtskraft resultiert.
  46. Verfahren nach einem der Ansprüche 41 bis 45, dadurch gekennzeichnet, dass zur Aufrechterhaltung des zweiten schmalen Spalts eine Kraftwirkung zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur, insbesondere zwischen dem ersten Verbindungselement und dem zweiten Verbindungselement, nach einem elektrischen Wirkprinzip und/oder einem magnetischen Wirkprinzip und/oder einem fluidischen Wirkprinzip aufgebracht wird.
  47. Verfahren nach Anspruch 46, dadurch gekennzeichnet, dass – zur Aufrechterhaltung des zweiten schmalen Spalts eine Kraftwirkung zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur, insbesondere zwischen dem ersten Verbindungselement und dem zweiten Verbindungselement, nach einem elektromagnetischen Wirkprinzip erzeugt wird, wobei – das optische Modul und/oder die Stützstruktur, insbesondere wenigstens eines der Verbindungselemente, einen elektrisch leitenden Abschnitt der Krafterzeugungseinrichtung aufweist, der zur Erzeugung der den zweiten schmalen Spalt aufrechterhaltenden Kraftwirkung mit einem elektrischen Strom beaufschlagt wird.
  48. Verfahren nach Anspruch 46 oder 47, dadurch gekennzeichnet, dass – zur Aufrechterhaltung des zweiten schmalen Spalts eine Kraftwirkung zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur, insbesondere zwischen dem ersten Verbindungselement und dem zweiten Verbindungselement, nach einem elektrostatischen Wirkprinzip erzeugt wird, wobei – das optische Modul und/oder die Stützstruktur, insbesondere wenigstens eines der Verbindungselemente, einen elektrisch leitenden Abschnitt der Krafterzeugungseinrichtung aufweist, der zur Erzeugung der den zweiten schmalen Spalt aufrechterhaltenden Kraftwirkung mit einer elektrischen Ladung beaufschlagt wird.
  49. Verfahren nach einem der Ansprüche 46 bis 48, dadurch gekennzeichnet, dass – zur Aufrechterhaltung des zweiten schmalen Spalts eine Kraftwirkung zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur, insbesondere zwischen dem ersten Verbindungselement und dem zweiten Verbindungselement, nach einem fluidischen Wirkprinzip erzeugt wird, wobei – das optische Modul und/oder die Stützstruktur, insbesondere wenigstens eines der Verbindungselemente, eine Zufuhreinrichtung umfasst, über welche zur Erzeugung der den zweiten schmalen Spalt aufrechterhaltenden Kraftwirkung ein Strom eines Fluids, insbesondere ein Strom von Reinraum-Druckluft, in den zweiten Spalt zugeführt wird.
  50. Verfahren nach einem der Ansprüche 41 bis 49, dadurch gekennzeichnet, dass – über die Erfassungseinrichtung ein Wert einer für eine Abmessung des zweiten Spalts zwischen dem ersten Verbindungselement und dem zweiten Verbindungselement repräsentativen Größe erfasst und ein entsprechendes zweites Messsignal an die Steuereinrichtung weitergegeben wird, – die Steuereinrichtung aus dem zweiten Messsignal und einem zweiten Sollwert ein zweites Steuersignal generiert und an die Krafterzeugungseinrichtung weitergibt, und – die Krafterzeugungseinrichtung zur Aufrechterhaltung des zweiten schmalen Spalts in Abhängigkeit von dem zweiten Steuersignal eine Kraftwirkung zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur, insbesondere zwischen dem ersten Verbindungselement und dem zweiten Verbindungselement, erzeugt.
  51. Verfahren einem der Ansprüche 31 bis 50, dadurch gekennzeichnet, dass – die Verbindungseinrichtung einen mit dem optischen Modul verbundenen dritten Verbindungsteil und einen mit der Stützstruktur verbundenen vierten Verbindungsteil umfasst, – der dritte Verbindungsteil eine fünfte Kontaktfläche mit einer fünften Hauptkrümmung aufweist, die eine fünfte Hauptkrümmungsachse definiert, – der vierte Verbindungsteil eine sechste Kontaktfläche mit einer an die fünfte Hauptkrümmung angepassten sechsten Hauptkrümmung aufweist, die eine sechste Hauptkrümmungsachse definiert, – das optische Modul und die Stützstruktur einander derart angenähert werden, dass die fünfte Kontaktfläche die sechste Kontaktfläche in dem montierten Zustand kontaktiert, – in dem Justagezustand ein dritter schmaler Spalt zwischen der fünften Kontaktfläche und der sechsten Kontaktfläche derart berührungslos aufrecht erhalten wird, dass eine dritte Ausgleichsbewegung zwischen der fünften Kontaktfläche und der sechsten Kontaktfläche um die fünfte Hauptkrümmungsachse ohne aus der dritten Ausgleichsbewegung resultierende Kraftwirkung zwischen dem dritten Verbindungsteil und dem vierten Verbindungsteil möglich ist.
  52. Verfahren nach Anspruch 51, dadurch gekennzeichnet, dass der schmale Spalt zwischen dem ersten Verbindungsteil und im zweiten Verbindungsteil und der schmale Spalt zwischen dem dritten Verbindungsteil und dem vierten Verbindungsteil im Wesentlichen synchron verringert werden.
  53. Verfahren nach Anspruch 51 oder 52, dadurch gekennzeichnet, dass der schmale Spalt zwischen dem ersten Verbindungsteil und im zweiten Verbindungsteil und der schmale Spalt zwischen dem dritten Verbindungsteil und dem vierten Verbindungsteil derart verringert werden, dass die erste Kontaktfläche und die zweite Kontaktfläche sowie die fünfte Kontaktfläche und die sechste Kontaktfläche einander im Wesentlichen gleichzeitig kontaktieren.
  54. Verfahren nach einem der Ansprüche 51 bis 53, dadurch gekennzeichnet, dass – über eine Erfassungseinrichtung ein erster Wert einer für eine Abmessung des Spalts zwischen dem ersten Verbindungsteil und dem zweiten Verbindungsteil repräsentativen ersten Größe erfasst und ein entsprechendes erstes Messsignal an eine Steuereinrichtung weitergegeben wird sowie ein zweiter Wert einer für eine Abmessung des Spalts zwischen dem dritten Verbindungsteil und dem vierten Verbindungsteil repräsentativen zweiten Größe erfasst und ein entsprechendes zweites Messsignal an die Steuereinrichtung weitergegeben wird, – die Steuereinrichtung aus dem ersten Messsignal, dem zweiten Messsignal und wenigstens einem Sollwert wenigstens ein Steuersignal generiert und an eine Krafterzeugungseinrichtung weitergibt, und – die Krafterzeugungseinrichtung in Abhängigkeit von dem wenigstens einen Steuersignal zur Erzielung einer vorgebbaren Änderung des Spalts zwischen dem ersten Verbindungsteil und dem zweiten Verbindungsteil sowie einer vorgebbaren Änderung des Spalts zwischen dem dritten Verbindungsteil und dem vierten Verbindungsteil eine erste Kraftwirkung zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur, insbesondere zwischen dem ersten Verbindungsteil und dem zweiten Verbindungsteil, und eine zweite Kraftwirkung zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur, insbesondere zwischen dem dritten Verbindungsteil und dem vierten Verbindungsteil, erzeugt.
  55. Verfahren nach einem der Ansprüche 31 bis 54, dadurch gekennzeichnet, dass – das optische Modul eine Umfangsrichtung und eine Radialrichtung definiert und – die erste Hauptkrümmungsachse in einer Richtung verläuft, die zumindest eine Komponente in der Umfangsrichtung und/oder der Radialrichtung aufweist.
  56. Verfahren nach einem der Ansprüche 31 bis 55, dadurch gekennzeichnet, dass – wenigstens einer der Verbindungsteile einen in Richtung der ersten Hauptkrümmungsachse nachgiebigen Entkopplungsabschnitt aufweist, wobei – der Entkopplungsabschnitt zur Entkopplung von in Richtung der ersten Hauptkrümmungsachse wirkenden Kräften zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur ausgebildet ist.
  57. Verfahren nach einem der Ansprüche 31 bis 56, dadurch gekennzeichnet, dass in dem Justagezustand Ausgleichsbewegungen in wenigstens zwei Freiheitsgraden, insbesondere wenigstens drei Freiheitsgraden, ohne aus den Ausgleichsbewegungen resultierende Kraftwirkung zwischen den Komponenten der Verbindungseinheit ausgeführt werden.
  58. Verfahren nach einem der Ansprüche 31 bis 57, dadurch gekennzeichnet, dass der erste Verbindungsteil und der zweite Verbindungsteil in dem montierten Zustand zueinander fixiert werden.
  59. Optische Einrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit – einem optischen Modul, – einer Stützstruktur und – einer Verbindungseinrichtung, wobei – die Verbindungseinrichtung eine Mehrzahl von Verbindungseinheiten umfasst, – jede Verbindungseinheit einen mit dem optischen Modul verbundenen Modulverbindungsteil und einen mit der Stützstruktur verbundenen Strukturverbindungsteil umfasst, die einander in einem montierten Zustand kontaktieren, dadurch gekennzeichnet, dass – die Verbindungseinrichtung zumindest einen Teil einer Positioniereinrichtung umfasst, wobei – die Positioniereinrichtung dazu ausgebildet ist, in einem vor dem montierten Zustand vorliegenden Justagezustand einen Spalt zwischen dem jeweiligen Modulverbindungsteil und dem zugeordneten Strukturverbindungsteil derart berührungslos zu verringern, dass die Modulverbindungsteile und die zugeordneten Strukturverbindungsteile einander im Wesentlichen gleichzeitig kontaktieren.
  60. Optische Einrichtung nach Anspruch 59, dadurch gekennzeichnet, dass – die Positioniereinrichtung eine Krafterzeugungseinrichtung, eine Erfassungseinrichtung und eine mit der Krafterzeugungseinrichtung und der Erfassungseinrichtung verbundene Steuereinrichtung umfasst, wobei – die Erfassungseinrichtung dazu ausgebildet ist, einen Wert einer für eine Abmessung des jeweiligen Spalts zwischen dem Modulverbindungsteil und dem zugeordneten Strukturverbindungsteil repräsentativen Größe zu erfassen und ein entsprechendes Messsignal an die Steuereinrichtung weiterzugeben, – die Steuereinrichtung dazu ausgebildet ist, aus dem jeweiligen Messsignal und wenigstens einem Sollwert wenigstens ein Steuersignal für die Krafterzeugungseinrichtung zu generieren und an die Krafterzeugungseinrichtung weiterzugeben, und – die Krafterzeugungseinrichtung dazu ausgebildet ist, zur Erzielung einer vorgebbaren Änderung des jeweiligen Spalts zwischen dem Modulverbindungsteil und dem zugeordneten Strukturverbindungsteil eine Kraftwirkung zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur, insbesondere zwischen dem jeweiligen Modulverbindungsteil und dem zugeordneten Strukturverbindungsteil, zu erzeugen.
  61. Verfahren zum Verbinden eines optischen Moduls mit einer Stützstruktur, insbesondere für die Mikrolithographie, bei dem – das optische Modul über eine Verbindungseinrichtung mit der Stützstruktur verbunden wird, wobei – die Verbindungseinrichtung eine Mehrzahl von Verbindungseinheiten umfasst, – jede Verbindungseinheit einen mit dem optischen Modul verbundenen Modulverbindungsteil und einen mit der Stützstruktur verbundenen Strukturverbindungsteil umfasst, – das optische Modul und die Stützstruktur einander derart angenähert werden, dass der jeweilige Modulverbindungsteil und der zugeordnete Strukturverbindungsteil einander in einem montierten Zustand kontaktieren, dadurch gekennzeichnet, dass – in einem vor dem montierten Zustand vorliegenden Justagezustand ein jeweils vorliegender Spalt zwischen dem jeweiligen Modulverbindungsteil und dem zugeordneten Strukturverbindungsteil derart berührungslos verringert wird, dass die Modulverbindungsteile und die zugeordneten Strukturverbindungsteile einander im Wesentlichen gleichzeitig kontaktieren.
  62. Verfahren nach Anspruch 60, dadurch gekennzeichnet, dass – über eine Erfassungseinrichtung ein Wert einer für eine Abmessung des jeweiligen Spalts zwischen dem Modulverbindungsteil und dem zugeordneten Strukturverbindungsteil repräsentativen Größe erfasst und ein entsprechendes Messsignal an eine Steuereinrichtung weitergegeben wird, – die Steuereinrichtung aus dem jeweiligen Messsignal und wenigstens einem Sollwert wenigstens ein Steuersignal generiert und an eine Krafterzeugungseinrichtung weitergibt und – die Krafterzeugungseinrichtung zur Erzielung einer vorgebbaren Änderung des jeweiligen Spalts zwischen dem Modulverbindungsteil und dem zugeordneten Strukturverbindungsteil eine Kraftwirkung zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur, insbesondere zwischen dem jeweiligen Modulverbindungsteil und dem zugeordneten Strukturverbindungsteil, erzeugt.
DE102009024870A 2008-06-10 2009-06-09 Optische Einrichtung mit einstellbarer Kraftwirkung auf ein optisches Modul Withdrawn DE102009024870A1 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102009024870A DE102009024870A1 (de) 2008-06-10 2009-06-09 Optische Einrichtung mit einstellbarer Kraftwirkung auf ein optisches Modul

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102008027540 2008-06-10
DE102008027540.9 2008-06-10
DE102009024870A DE102009024870A1 (de) 2008-06-10 2009-06-09 Optische Einrichtung mit einstellbarer Kraftwirkung auf ein optisches Modul

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102009024870A1 true DE102009024870A1 (de) 2009-12-31

Family

ID=40956196

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102009024870A Withdrawn DE102009024870A1 (de) 2008-06-10 2009-06-09 Optische Einrichtung mit einstellbarer Kraftwirkung auf ein optisches Modul

Country Status (6)

Country Link
US (3) US8964165B2 (de)
JP (2) JP5580298B2 (de)
KR (1) KR101439591B1 (de)
CN (1) CN102119364B (de)
DE (1) DE102009024870A1 (de)
WO (1) WO2009150178A1 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102022134544B3 (de) 2022-12-22 2023-11-02 Sick Ag Justage-Vorrichtung und Justage-Verfahren

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102009024870A1 (de) * 2008-06-10 2009-12-31 Carl Zeiss Smt Ag Optische Einrichtung mit einstellbarer Kraftwirkung auf ein optisches Modul
DE102012102566B4 (de) * 2012-03-26 2019-02-21 Trumpf Werkzeugmaschinen Gmbh + Co. Kg Übertragungselement für eine Stellbewegung eines optischen Elementes, Positioniereinrichtung sowie Bearbeitungskopf für eine Laserbearbeitungsmaschine
DE102012206545A1 (de) * 2012-04-20 2013-03-21 Carl Zeiss Smt Gmbh Optische Anordnung mit einstellbarer Kraftwirkung auf ein optisches Modul
DE102014215452A1 (de) 2014-08-05 2016-04-07 Carl Zeiss Smt Gmbh Verkippen eines optischen Elements
US9449805B2 (en) * 2014-09-23 2016-09-20 Agilent Technologies Inc. Isolation of charged particle optics from vacuum chamber deformations
DE102021208628A1 (de) * 2021-08-09 2023-02-09 Carl Zeiss Smt Gmbh Abstützung eines optischen elements

Family Cites Families (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2720955B2 (ja) * 1989-12-18 1998-03-04 キヤノン株式会社 像ぶれ防止装置
JPH03214114A (ja) * 1990-01-18 1991-09-19 Canon Inc カメラの像ブレ抑制装置
JP2952110B2 (ja) * 1992-06-30 1999-09-20 キヤノン株式会社 画像読取装置
JP3493682B2 (ja) * 1993-04-14 2004-02-03 株式会社ニコン 鏡筒支持装置及び露光装置
JPH0764006A (ja) * 1993-08-27 1995-03-10 Canon Inc 走査光学装置の光学系調整方法
ES2118976T3 (es) * 1993-09-10 1998-10-01 Rca Thomson Licensing Corp Codificador audio de paquetes en tiempo real que funcionan en modo de capas.
JP3221823B2 (ja) * 1995-11-24 2001-10-22 キヤノン株式会社 投影露光装置およびこれを用いた露光方法ならびに半導体製造方法
JPH10186196A (ja) * 1996-12-20 1998-07-14 Canon Inc 光学素子支持装置およびこれを備えた光学機器、露光装置
JPH10206714A (ja) * 1997-01-20 1998-08-07 Canon Inc レンズ移動装置
JP3969871B2 (ja) * 1998-12-17 2007-09-05 キヤノン株式会社 露光装置およびデバイス製造方法
TWI242111B (en) * 1999-04-19 2005-10-21 Asml Netherlands Bv Gas bearings for use in vacuum chambers and their application in lithographic projection apparatus
DE69930398T2 (de) * 1999-09-20 2006-10-19 Nikon Corp. Belichtungssystem mit einem parallelen Verbindungsmechanismus und Belichtungsverfahren
JP2001126977A (ja) * 1999-10-27 2001-05-11 Nikon Corp ステージ装置および露光装置ならびに回路デバイス製造方法
JP4809987B2 (ja) * 2000-03-30 2011-11-09 キヤノン株式会社 光学要素の支持構造、それを用いた露光装置及び半導体デバイスの製造方法
US6829107B2 (en) * 2000-06-17 2004-12-07 Carl-Zeiss-Stiftung Device for mounting an optical element, for example a lens element in a lens
US6400516B1 (en) * 2000-08-10 2002-06-04 Nikon Corporation Kinematic optical mounting
JP4552337B2 (ja) * 2000-12-28 2010-09-29 株式会社ニコン 投影光学系の製造方法及び露光装置の製造方法
US6487491B1 (en) 2001-11-21 2002-11-26 United Technologies Corporation System and method of controlling clearance between turbine engine blades and case based on engine components thermal growth model
JP4022062B2 (ja) 2001-12-20 2007-12-12 京セラ株式会社 積層型圧電素子およびそれを用いた噴射装置
JP2003229350A (ja) * 2002-02-01 2003-08-15 Nikon Corp ステージ装置及び露光装置
TWI307526B (en) * 2002-08-06 2009-03-11 Nikon Corp Supporting device and the mamufacturing method thereof, stage device and exposure device
JP2004363559A (ja) * 2003-05-14 2004-12-24 Canon Inc 光学部材保持装置
DE102004018656A1 (de) * 2004-04-13 2005-11-03 Carl Zeiss Smt Ag Optisches Element
JP2006018755A (ja) 2004-07-05 2006-01-19 Stardust Promotion:Kk 情報配信装置及び情報配信方法
CN101052916B (zh) * 2004-09-30 2010-05-12 株式会社尼康 投影光学设备和曝光装置
JP2006135230A (ja) * 2004-11-09 2006-05-25 Canon Inc 圧電アクチュエータ
JP2006140366A (ja) * 2004-11-15 2006-06-01 Nikon Corp 投影光学系及び露光装置
US20070030462A1 (en) * 2005-08-03 2007-02-08 Nikon Corporation Low spring constant, pneumatic suspension with vacuum chamber, air bearing, active force compensation, and sectioned vacuum chambers
JP5109661B2 (ja) * 2005-10-05 2012-12-26 株式会社ニコン 露光装置及び露光方法
US7433050B2 (en) * 2005-10-05 2008-10-07 Nikon Corporation Exposure apparatus and exposure method
TWI412896B (zh) * 2005-12-28 2013-10-21 尼康股份有限公司 Exposure apparatus and manufacturing method thereof
US7936443B2 (en) * 2006-05-09 2011-05-03 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
KR20100018547A (ko) * 2007-05-11 2010-02-17 가부시키가이샤 니콘 광학 소자 구동 장치, 경통 및 노광 장치 및 디바이스의 제조 방법
WO2009031656A1 (ja) * 2007-09-07 2009-03-12 Nikon Corporation 吊り下げ装置及び露光装置
US8421994B2 (en) * 2007-09-27 2013-04-16 Nikon Corporation Exposure apparatus
US20090201484A1 (en) * 2007-10-29 2009-08-13 Nikon Corporation Utilities supply member connection apparatus, stage apparatus, projection optical system support apparatus and exposure apparatus
DE102009024870A1 (de) 2008-06-10 2009-12-31 Carl Zeiss Smt Ag Optische Einrichtung mit einstellbarer Kraftwirkung auf ein optisches Modul
JP2010206714A (ja) 2009-03-05 2010-09-16 Panasonic Electric Works Co Ltd 機器制御システム

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102022134544B3 (de) 2022-12-22 2023-11-02 Sick Ag Justage-Vorrichtung und Justage-Verfahren

Also Published As

Publication number Publication date
US20110085239A1 (en) 2011-04-14
KR20110026471A (ko) 2011-03-15
JP5932902B2 (ja) 2016-06-08
US20150227055A1 (en) 2015-08-13
US10175581B2 (en) 2019-01-08
WO2009150178A1 (de) 2009-12-17
CN102119364B (zh) 2014-03-12
JP2014239234A (ja) 2014-12-18
US8964165B2 (en) 2015-02-24
KR101439591B1 (ko) 2014-09-11
JP2011525701A (ja) 2011-09-22
JP5580298B2 (ja) 2014-08-27
CN102119364A (zh) 2011-07-06
US9766549B2 (en) 2017-09-19
US20180129138A1 (en) 2018-05-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102009024870A1 (de) Optische Einrichtung mit einstellbarer Kraftwirkung auf ein optisches Modul
DE102009044957A1 (de) Stützelemente für ein optisches Element
DE102009054549A1 (de) Gravitationskompensation für optische Elemente in Projektionsbelichtungsanlagen
DE102008032853A1 (de) Optische Einrichtung mit einem deformierbaren optischen Element
DE102011114123A1 (de) System zur Ausrichtung eines optischen Elements und Verfahren hierfür
WO2008022797A1 (de) Projektionsbelichtungsanlage und optisches system
DE60314557T2 (de) Verwaltung von Reaktionskräften in einem lithographischen System
DE102016219055A1 (de) Stellantrieb zur Justage eines zu bewegenden Elements, Verwendungen und Verfahren zur Justage
DE102011075316A1 (de) Optisches Modul mit einer Messeinrichtung
EP3296787A1 (de) Optisches modul mit verkippbaren optischen flächen
DE102017207433A1 (de) Abstützung eines optischen Elements
DE102016208008A1 (de) Lageranordnung für eine Lithographieanlage sowie Lithographieanlage
DE102018203925A1 (de) Strahlformungs- und Beleuchtungssystem für eine Lithographieanlage und Verfahren
DE102013223017A1 (de) Optisches Modul
DE102014215452A1 (de) Verkippen eines optischen Elements
DE102018220565A1 (de) Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit einem semiaktiven Abstandshalter und Verfahren zur Verwendung des semiaktiven Abstandshalters
DE102021205808A1 (de) Kompensation von kriecheffekten in einer abbildunsgseinrichtung
WO2020177944A1 (de) Aktuatoreinrichtung und verfahren zur ausrichtung eines optischen elements, optische baugruppe sowie projektionsbelichtungsanlage
DE102017209794B4 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Ausrichtung eines optischen Elements, sowie Projektionsbelichtungsanlage
EP3961305A2 (de) Kompensation von kriecheffekten in einer abbildungseinrichtung
DE102010018224A1 (de) Optisches Modul mit einem verstellbaren optischen Element
DE102019214242A1 (de) Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie
EP3818414B1 (de) Abstützung einer optischen einheit
DE102018216963A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Verstellung eines optischen Elements einer Projektionsbelichtungsanlage
DE102018209526A1 (de) Projektionsbelichtungsanlage mit einer Anordnung zur Halterung von optischen Elementen mit zusätzlicher Torsionsentkopplung

Legal Events

Date Code Title Description
8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: CARL ZEISS SMT GMBH, 73447 OBERKOCHEN, DE

R005 Application deemed withdrawn due to failure to request examination