JP4809987B2 - 光学要素の支持構造、それを用いた露光装置及び半導体デバイスの製造方法 - Google Patents
光学要素の支持構造、それを用いた露光装置及び半導体デバイスの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4809987B2 JP4809987B2 JP2001080798A JP2001080798A JP4809987B2 JP 4809987 B2 JP4809987 B2 JP 4809987B2 JP 2001080798 A JP2001080798 A JP 2001080798A JP 2001080798 A JP2001080798 A JP 2001080798A JP 4809987 B2 JP4809987 B2 JP 4809987B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- support member
- optical element
- lens
- thermal expansion
- expansion coefficient
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/02—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
- G02B7/028—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses with means for compensating for changes in temperature or for controlling the temperature; thermal stabilisation
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70883—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of optical system
- G03F7/70891—Temperature
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Public Health (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Lens Barrels (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学要素の支持構造、および該支持構造を用いて構成された露光装置等の光学装置と、該装置による半導体デバイス等の製造方法に関し、具体的には、レンズ、ミラーなどの光学要素の支持部材及び、このような支持部材による光学要素を用いた高精度な光学装置、例えば半導体集積回路等の製造に用いる露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体露光装置は、回路パターンを有する原板（レチクル）を基板（シリコンウエハ）に転写する装置である。転写する際には、レチクルのパターンをウエハ上に結像させるために投影レンズが用いられるが、高集積な回路を作成するために、投影レンズには高い解像力が要求される。そのために、半導体露光装置用のレンズは、収差が小さく抑えられている。
【０００３】
このようなことから、半導体露光装置用のレンズ等においては、ガラス材質や膜に関する諸特性の均一性や、ガラスの面形状の加工精度、組立精度が必要である。
【０００４】
レンズに用いられるガラスを保持する鏡筒は、金属などで形成されるのが一般的であり、ガラスと異なる材質のものが使用される。
【０００５】
図１０は、従来の半導体露光装置用の光学系の一部であり、鏡筒構造の概念を示したものである。同図において、複数のレンズ１０１、１０２がそれぞれレンズを支持する金枠１０３、１０４に固定され、さらに、この金枠が筒状の支持部材１０５の中に積み立てられ、上部から押さえネジ環１０７、１０８によって押圧固定されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記した従来のような鏡筒構造では、環境温度などの変化があると、レンズや鏡筒部品がそれぞれ温度によって形状変化するために、収差が変化することがある。特に、短波長の光源を用いる露光装置では、レンズに石英や螢石のガラスを用いるが、これらのレンズの材質及びそれを保持する鏡筒部品等は、それぞれ熱膨張係数が異なるため、それぞれが他から影響を受けることなく、自由に単純膨張、あるいは単純収縮することができず、結果的に環境温度等によってレンズの面形状が大きく変化することとなり、このような温度に起因する変形が、レンズの収差に大きな影響を与える原因となっていた。
【０００７】
また、支持部材１０５は通常複数個を軸方向に重ねて配置されるが、重ねて結合する際や、他の要因で外力を受けると、レンズを支持する金枠が押されネジ環などから外力を受け、これがレンズ面形状を変化させ、光学系の性能を落とす要因ともなっていた。
【０００８】
また前記の従来例では、金枠内周部に設置されたレンズは、自重により変形するが、こうした変形の方向および変形量はレンズ接置部の形状に依存し、レンズ接置部の平面精度はレンズの面精度以上に高精度に加工することが難しいこと、レンズ接置部の形状は加工品毎に異なり、そこに当接するレンズがどのように変形するかを事前に推定することができないことなどの理由により、微小変形が問題となる光学系では組立後に光学性能を評価した上で、所定のレンズの姿勢もしくは位置調整によって面変形による諸収差を補正する必要があり、組立調整工数を増大させていた。
【０００９】
こうした問題を解決するために、レンズを複数点で支持し、それにより生ずる各光学素子ごとの変形の結果として発生する光学系全体の収差を小さくするように、光学素子の回転角を調整するという構成が、特開２０００−６６０７５に開示されているが、前述の構成では環境温度が変化したとき、レンズと金枠との熱膨張率の差によりレンズ面が変形してしまい（例えばレンズを３点支持した場合は、３θの変形が温度に対して敏感に変化する）所望の光学性能が得られないことが判明している。
【００１０】
そこで、本発明は、上記従来のものにおける課題を解決し、温度環境の変化や、組み付けの際に発生する歪みに起因するレンズ面の変形を軽減することができ、安定で、収差が小さく、高い解像力を得ることが可能となる光学要素の支持構造、および該支持構造を用いて構成された露光装置等の光学装置と、該装置による半導体デバイス等の製造方法を提供することを目的とするものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
請求項１の光学要素の支持構造は、重力が光軸方向に作用する光学要素を支持する光学要素の支持構造であって、前記光学要素を支持する第１の支持部材と、前記第１の支持部材の外径側に位置し、前記第１の支持部材を支持する第２の支持部材を有し、該第２の支持部材は、前記第１の支持部材と前記第２の支持部材の径方向の間に位置し、内径側が前記第１の支持部材と結合し、外径側が前記第２の支持部材と結合し、径方向に弾性変形可能な複数の弾性部材を備え、前記第１の支持部材は、前記複数の弾性部材のみを介して、前記第２の支持部材に支持され、前記複数の弾性部材の前記光軸方向における剛性は前記径方向における剛性よりも高く、前記第１の支持部材の自重は、前記複数の弾性部材の前記光軸方向における剛性により支持されることを特徴としている。
【００６２】
【発明の実施の形態】
本実施の形態で開示する光学要素の支持構造、および該支持構造を用いて構成された露光装置等の光学装置と、該装置による半導体デバイス等の製造方法は、上記した構成により温度環境の変化や、組み付けの際に発生する歪みに起因するレンズ面の不要な変形を軽減することができ、安定で、収差が小さく、高い解像力を実現することができる。例えば、上記構成を用いることによって、光学装置が置かれる環境の温度変化や、光学要素の光エネルギの吸収による温度上昇などによる熱歪みで、光学要素に発生する変形等が軽減される。
【００６３】
また、上記構成を用いることによって、実質的に熱膨張係数差を小さくすることができ、光学要素の熱変形を小さくすることができる。また、上記構成を用いることによって、第１の支持部材と、第２の支持部材との熱変形の違いを弾性部が吸収する際に、応力の発生を少なくすることができ、変形を吸収する能率を向上させることができる。また、上記構成を用いることによって、光学要素の偏芯を防いだり、微少ながら光学要素に及ぶ不要な熱変形を軸対称としたりすることができるので、光学的性能に及ぼす悪影響をより有効に軽減することができる。また、上記構成を用いることによって、安定で、収差が小さく、高い解像力の光学装置または半導体等の製造装置を実現することができる。
【００６４】
以下に、本発明の実施例について説明する。
【００６５】
（実施例１）
本発明の実施例１は、上記構成を用いてレンズの支持部材を構成したものであり、図１は本実施例における光学部材の中心から半分を示したものである。
【００６６】
同図において、１は石英のレンズ、１１は１のレンズを支持する支持部材であり、石英とほぼ等しい熱膨張係数を有するニッケル合金であるインバーを用いている。なお、レンズ１は支持部材１１に接着により固定されている。
【００６７】
３はこれらのレンズを同軸上に支持するための支持部材であり、鉄材を用いている。
【００６８】
上記支持部材１１の周辺部分は、複数箇所切り欠かれ、この部分に板状のばねを構成する弾性部材１２が設けられている。この弾性部材１２は、板の両端にて支持部材１１に結合され、中央部にて支持部材３に結合されている。このような支持構造によって、弾性部材１２は光学要素に対し、半径方向に低い弾性を有するような構造になっている。
【００６９】
また、２は螢石のレンズ、２１はレンズ２を支持する支持部材であり、螢石とほぼ等しい熱膨張係数を有する銅亜鉛合金である真鍮である。
【００７０】
レンズ２も支持部材２１に接着されている。２２は１２と同様の弾性部材である。
【００７１】
図２は、図３に示すレンズの支持部材の一部であり、１つのレンズユニットで、弾性部材の取り付く位置を示している。この図に示されるように、弾性部材１２はほぼ等しい角度ピッチで支持部材１１の周囲に複数個設けられており、その内径側の両側１２ａにて支持部材１１とはネジ結合される。又、弾性部材１２はその外径側の中央位置１２ｂにて支持部材３とネジ結合されている。支持部材１１は支持部材３とは軸方向において非接触であり、支持部材１１の自重は弾性部材１２が受けることになる。
【００７２】
この弾性部材の材質は、支持部材１１と同一のものが望ましいが、ステンレスなどのばね用金属部材やジルコニウムなどの非金属類など、他の材質を用いても良い。これは、支持部材１１の剛性が、弾性部材１２に十分勝る場合は、両者の熱膨張率の違いによる熱歪みが全体に与える影響が少ないからである。同様に、弾性部材２２も支持部材２１と同一のものが望ましいが、他の材質を用いても良い。
【００７３】
図２では、３つの弾性部材を配置する場合について説明しているが、この数は望ましくは３つであるが、必ずしも３つには限られず、少なくとも２つ以上であれば良い。いずれにしても。支持部材１１、２１の周囲に弾性部材１２、２２を等間隔に配置することによって熱歪みによる支持部材１１、２１の偏芯を起こさないようにすることができる。
【００７４】
このような構造の鏡筒において、環境温度が変化すると、支持部材３と、支持部材１１とは熱膨張係数が異なるので、異なる膨張あるいは収縮を起こすことになるが、弾性部材１２の板状のばね部分が曲げ変形を起こすことによって、これらの熱膨張差を吸収し、支持部材１１がほぼ自由に単純膨張、あるいは単純収縮となる変形を起こすことができる。
【００７５】
また、石英のレンズ１及び螢石のレンズ２と、その周囲の支持部材１１、２１とは、それぞれほぼ同じ熱膨張率であるから、レンズが単純膨張あるいは単純収縮に近い形状変化となり、光学性能に有害な面形状の歪みの発生を抑えることができる。
【００７６】
レンズとその周囲の支持部材との熱膨張係数の差に関する許容値は、光学システムが置かれる温度環境の精度や、光学システムに要求される光学的性能によって異なる。
【００７７】
また、支持部材の材質は、これらの条件を勘案して、最適な部材を選択することができる。例えば、それらの条件が許容できれば、石英レンズの支持部材１１の材質として、石英の熱膨張係数に若干の差があるとしても、アルミナセラミックや、鉄系の材質などを選択することができる。いずれにしても、支持部材３の熱膨張係数よりも、よりレンズの熱膨張係数に近い材質の部材をレンズの支持部材１１、２１に用いることで、レンズの温度変化に起因するレンズ面形状の有害な変化を軽減することができ、光学システムの温度安定性を向上させることができる。又、支持部材１１、２１は支持部材３とは軸方向及び径方向において直接的には非接触であり、両者共、弾性部材１２、２２を介して支持される。このことは、支持部材３の外力や自重による変形を直接的に支持部材１１、２１へは伝えず、支持部材１１、２１の変形による各レンズ１、２の面形状の歪みを抑える効果を生み出している。
【００７８】
（実施例２）
図３に、本発明の実施例２におけるレンズの支持部材の構成を示す。
【００７９】
同図において、３１は石英のレンズ、３２はインバー部材のレンズ支持部材、３３はゴム系の接着部材で、弾性を有している。さらに３４はレンズ支持部材３２を支持する部材であり、鉄材を用いる。
【００８０】
本実施例においても、実施例１と同様、支持部材３２の熱膨張係数をレンズ３１の熱膨張係数に近いものとすることで、支持部材３４と支持部材３２との熱膨張係数の違いによる不要な熱変形を接着剤３３の弾性によって緩和させることができ、レンズの面形状の有害な歪みを軽減することが可能となる。
【００８１】
（実施例３）
本発明の実施例を以下、図５〜７を用いて説明する。図５は本発明の実施例となる光学装置の中心から半分を示したものである。重力方向は光軸と一致し、図中の−Ｚ方向である。
【００８２】
図５において、５は石英のレンズ、５１はレンズ５を支持する支持部材であり、レンズ周辺部を重力方向に支える３個所の突起を１２０度ピッチで有している。本実施例においては支持部材5１の材質は真鍮である。また、レンズ５周辺部と支持部材５１の径方向の隙間には、全周にわたって接着剤が充填され、レンズ５は支持部材５１に固定されている。５３はこれらのレンズを同軸上に支持するための支持部材であり、鉄材を用いている。支持部材５１の周辺部分を複数箇所切り欠き、この部分に板状のばねを構成する弾性部材５２を設けている。弾性部材５２は板の両端にて支持部材5１に結合され、中央部にて支持部材５３に結合されている。このような支持構造によって、弾性部材５２は光学要素に対し、半径方向に低い弾性率を有するような構造になっている。
【００８３】
５４はスペーサであり、前記レンズ５、支持部材５１、支持部材５３、弾性部材５２それぞれ一つずつから構成される鏡筒ユニット同士の光軸方向の間隔を所定の間隔に調整するため部材である。図７に示すように支持部材５３及びスペーサ５４は外周部に６０度ピッチでボルト締結用の穴およびタップが設けてあり、各鏡筒ユニットは相対的に、６０度ピッチで任意の角度で回転させて組合せて固定することができるとともに、ボルト穴とボルトとの隙間分だけ、光軸と垂直方向に移動して固定し、所望の光学特性に調整することが可能である。もちろんこのボルト締結用の穴は６０度ピッチに限らず、３０度ピッチや４５度ピッチもしくはその他のピッチでも構わない。また、ボルト締結用の穴とボルトの隙間分だけ移動可能な本実施例の構造とは異なる構造を用いて、光軸と垂直方向に移動可能な構成としても構わない。
【００８４】
各レンズ５は支持部材５１により３点で支持されているため、重力方向に３θの自重変形が起こるが、鏡筒ユニットを光軸中心に所定の角度だけ回転させてとりつけることにより、自重変形により生じる各レンズの収差を、光学系トータルでキャンセルして、所望の光学性能に調整している。本実施例では、相対的に６０度ずらして取り付けている。
【００８５】
図６は、３つの弾性部材を配置する場合について説明しているが、この数は望ましくは３つであるが、３つとは限らなく、２つ以上であれば良い。いずれにしても、支持部材５１の周囲に弾性部材５２を等間隔に配置することによって熱歪みによる支持部材５１の偏芯を起こさないようにすることができる。
【００８６】
このような構造の鏡筒において、環境温度が変化すると、支持部材５３と、支持部材５１とは熱膨張係数が異なるので、異なる膨張あるいは収縮を起こすことになるが、弾性部材５２の板状のばね部分が曲げ変形を起こすことによって、これらの熱膨張差を吸収し、支持部材５１がほぼ自由に単純膨張、あるいは単純収縮となる変形を起こすことができる。
【００８７】
また、石英のレンズ５と支持部材５１においては、熱膨張差を吸収する弾性部材が介在しないため、環境温度が変化すると、異なる膨張あるいは収縮をおこし、レンズ形状が変化するが、レンズ全周にわたって均一に接着剤が充填されているため、その変化は軸対称な微小変形に限定され、３θ形状は変化しないことを、計算および実験によって確認した。
【００８８】
このような構成を用いることで、レンズの温度変化に起因するレンズ面形状の有害な変化を軽減することができ、光学システムの温度安定性を向上させることができる。
【００８９】
また、レンズの自重変形や、レンズ研磨工程で生じたレンズ面形状に応じて、各レンズを独立に、光軸中心に所望の角度に組合せること、さらに光軸と垂直方向に偏芯調整を行うことができ、光学システムの収差を所望の性能に追い込むことが可能である。
【００９０】
（実施例４）
実施例４を図８を用いて説明する。図８は本発明の実施例４にかかる投影光学系の構成を表す概略図である。図８において、実施例３と同一の符号は同一の部材を表す。重力方向は光軸と一致し、図中の−Ｚ方向である。
【００９１】
図８において、６１はレンズ５を支持する支持部材であり、レンズ周辺部を重力方向に支える３個所の突起を１２０度ピッチで有しており、石英とほぼ等しい熱膨張係数を有するニッケル合金であるインバーを用いている。また、レンズ周辺部と支持部材６１の径方向の隙間には、前記３個所の突起部近傍に接着剤が充填され、レンズは支持部材に固定されている。この接着剤の塗布面積は、所定の加速度が本光学システムに加わった時にレンズ５が位置変動をおこさないよう、レンズの重量によって決められる。
【００９２】
各レンズ５は支持部材５１により３点で支持されているため、重力方向に３θの自重変形が起こるが、鏡筒ユニットを光軸中心に所定の角度だけ回転させてとりつけることにより、自重変形により生じる各レンズの収差を、光学系トータルでキャンセルして、所望の光学性能に調整している。本実施例では、相対的に６０度ずらして取り付けている。
【００９３】
このような構造の鏡筒において、環境温度が変化した時に、弾性部材５２の板状のばね部分が曲げ変形を起こすことによって、支持部材６１と支持部材５３との熱膨張差を吸収し、支持部材６１がほぼ自由に単純膨張、あるいは単純収縮となる変形を起こすことができる点は、前記第一の実施例と同様である。
【００９４】
本実施例においては、石英のレンズ５とその周囲の支持部材６１とは、それぞれほぼ同じ熱膨張率であるから、レンズが単純膨張あるいは単純収縮に近い形状変化となり、光学性能に有害な面形状の歪みの発生を抑えることができる。
【００９５】
また本実施例ではレンズ５と支持部材６１との接合には接着剤を用いたが、本構成を用いればレンズの周辺部を機械的に押圧することによっても同様の効果を得ることができる。
【００９６】
このように本実施例によれば、接着剤の使用を最小限に押さえることができるため、接着剤から発生し光学性能の劣化の原因となる有害なガスを、極小に押さえることが可能で、光学システムの温度安定性のみならず、長期安定性を向上させることができる。
【００９７】
（実施例５）
実施例５を図９を用いて説明する。図９は本発明の実施例にかかる投影光学系の構成を表す概略図である。図９において、実施例３と同一の符号は同一の部材を表す。重力方向は光軸と一致し、図中の−Ｚ方向である。
【００９８】
図９において、６２は鏡筒ユニットを同軸上に支持するための支持部材であり、鏡筒ユニットは、レンズを光軸方向に位置調整するためのスペーサ５４を挟んで、支持部材６２内の所望の位置にボルト締結される。
【００９９】
前記実施例３、４において、スペーサを介して鏡筒ユニット同士がボルト締結されていたが、本実施例においては、それぞれの鏡筒ユニットが高剛性を有する支持部材6２に締結されているため、鏡筒ユニット同士が相互に組立て歪みを与えることなく、光学系を構成することが可能である。
【０１００】
また、本実施例においては実施例３同様、支持部材５１は真鍮を用い、レンズ５外周部全周にわたって接着剤を充填する構成をとったが、もちろん実施例４と同様に、レンズと支持部材の熱膨張係数をほぼ等しくし、接着剤を減らした構成にすることも可能である。
【０１０１】
（実施例６）
図４は、図１あるいは図３に示すレンズの支持部材を、半導体露光装置に適用したものであり、露光装置を模式的に示す図である。この露光装置において、レチクルステージ４１に搭載されたレチクル４０の一部に照明光学系４４から露光用の照明光が照射される。照明光源は波長１９３ｎｍのエキシマレーザ光である。照射領域は、スリット状であり、レチクルのパターン領域の一部をカバーする。このスリット部分に相当するパターンは投影光学系４２によって１／４に縮小されて、ウエハステージ４３に搭載されたウエハ４５上に投影される。投影光学系は、露光装置のフレーム４６に搭載されている。
【０１０２】
投影光学系に対しレチクルとウエハとを走査することによりレチクルのパターン領域をウエハ上の感光剤に転写する。この走査露光がウエハ上の複数の転写領域（ショット）に対して繰り返し行なわれる。投影光学系４２は、高い解像性能が必要であり、レンズの支持として精度の高い構造が要求される。レンズ材料としては、石英と蛍石が用いられる。
【０１０３】
これらのレンズを支持する支持構造は図１に示す構造となっており、図１において１を石英のレンズ、２を蛍石のレンズとすると、１１はインバーなどの鉄とニッケルを主成分とする合金部材であり、２１は黄銅などの銅と亜鉛とを主成分とする合金部材とするのが適切である。両者共、レンズの熱膨張係数とほぼ同じ熱膨張係数を有する材質を用いることが望ましい。石英レンズ１を支持する支持部材１１としては、酸化マグネシウムと酸化シリコンなどからなるコージライト系のセラミックス材料、あるいはアルミナ、窒化シリコンなどのセラミックス材料、あるいは、商品名ゼロジュールと呼ばれる低熱膨張ガラスなどが適切な材料として選択できる。
【０１０４】
また、蛍石レンズを支持する部材２１としては、いわゆる１８−８ステンレスなどの鉄、クロム、ニッケルによる合金、あるいは銅、あるいはリン青銅とよばれる銅、錫、リンによる合金、あるいは銅、あるいは白銅とよばれるニッケル、鉄、マンガン、銅による合金、あるいはニッケル、クロムによる合金あるいはアルミニウムを主成分とした合金、例えばアルミニウム、シリコン、銅によるアルミニウムダイカスト用合金なども適切な材質として選択できる。特に露光装置に適用する場合は露光光のエネルギがレンズに吸収され熱を発生させるので、熱伝導率の高い銅系の合金はより望ましい。螢石の熱膨張率は約１９ｐｐｍであるが、この値に対し±１０％程度以内の違いである材料を部材２１に用いることで温度によるレンズへの悪影響を実質的に問題のない程度に抑えることができることを発明者はシミュレーションによって確認した。
【０１０５】
支持部材３の材質としては鉄をはじめとして、どのような熱膨張係数の材料を利用してもよい。弾性部材１２、２２によって異なる材質間の熱膨張係数の差に起因するレンズの不要な変形を軽減することができる。レンズ全体を露光装置本体のフレーム４６に固定する際に、レンズ支持部材３には結合による歪みが発生する場合があるが、弾性部材１２、２２はこの歪みがレンズに及ぶのも軽減する作用がある。従って高精度なレンズ支持構造を得ることができるので、半導体製造に必要な解像力を得るためのレンズシステムを実現することが可能になる。
【０１０６】
露光装置に用いるレンズ支持構造において重要なことは、レンズ自体が露光によるレーザー光によって熱を持つことである。このレンズの熱による膨張の際に支持部材１１、２１がレンズとほぼ同じ熱膨張係数を持つことは支持部材への熱伝導による支持部材１１、２１の膨張がレンズと同じ程度となり、レンズの不正な歪みの発生を抑える点で大きな効果を生むことになる。
【０１０７】
この実施例６は実施例３、４、５の光学要素の支持構造にも当然適用できる。
【０１０８】
【発明の効果】
以上の実施例においては、半導体露光装置の投影レンズシステムを例として説明したが、光学要素としてはレンズ以外にミラーに適用しても良い。また、回折を応用した光学素子など、変形を問題とする光学素子に適用することが可能である。
【０１０９】
また、本発明によれば、温度環境の変化や、組み付けの際に発生する歪みや、レンズ自体の熱に起因するレンズ面の不要な変形を軽減することができるので高精度な光学要素の支持構造を実現することができる。また、これを半導体露光装置などの投影光学系に適用することによって、安定で、収差の小さい露光が実現でき、解像力の高い転写の達成によって、微細な半導体や表示素子を製造することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例１におけるレンズ支持部材の構成を示す図
【図２】本発明の実施例１におけるレンズ支持部材の構成の一部を示す図
【図３】本発明の実施例２におけるレンズ支持部材の構成を示す図
【図４】本発明の実施例６における半導体露光装置の構成を示す図
【図５】本発明の実施例３におけるレンズ支持部材の構成を示す図
【図６】本発明の実施例３におけるレンズ支持部材の一部を示す図
【図７】本発明の実施例３における第二の支持部材の結合部を示した詳細図
【図８】本発明の実施例４におけるレンズ支持構造の構成を示す図
【図９】本発明の実施例５におけるレンズ支持構造の構成を示す図
【図１０】従来例におけるレンズ保持部材の構成を示す図
【符号の説明】
１ 石英のレンズ
２ 螢石などのレンズ
３ 支持部材
１１ 支持部材
１２ 弾性部材
２１ 合金部材
２２ 弾性部材
３１ 石英のレンズ
３２ レンズ支持部材
３３ ゴム系の接着部材
４０ レチクル
４１ レチクルステージ
４２ 投影光学系
４３ ウエハステージ
４４ 照明光学系
４５ ウエハ
４６ 露光装置のフレーム
１０２ レンズ
１０３ 金枠
１０４ 金枠
１０５ 支持部材
１０７ ネジ環
１０８ ネジ環
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学要素の支持構造、および該支持構造を用いて構成された露光装置等の光学装置と、該装置による半導体デバイス等の製造方法に関し、具体的には、レンズ、ミラーなどの光学要素の支持部材及び、このような支持部材による光学要素を用いた高精度な光学装置、例えば半導体集積回路等の製造に用いる露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体露光装置は、回路パターンを有する原板（レチクル）を基板（シリコンウエハ）に転写する装置である。転写する際には、レチクルのパターンをウエハ上に結像させるために投影レンズが用いられるが、高集積な回路を作成するために、投影レンズには高い解像力が要求される。そのために、半導体露光装置用のレンズは、収差が小さく抑えられている。
【０００３】
このようなことから、半導体露光装置用のレンズ等においては、ガラス材質や膜に関する諸特性の均一性や、ガラスの面形状の加工精度、組立精度が必要である。
【０００４】
レンズに用いられるガラスを保持する鏡筒は、金属などで形成されるのが一般的であり、ガラスと異なる材質のものが使用される。
【０００５】
図１０は、従来の半導体露光装置用の光学系の一部であり、鏡筒構造の概念を示したものである。同図において、複数のレンズ１０１、１０２がそれぞれレンズを支持する金枠１０３、１０４に固定され、さらに、この金枠が筒状の支持部材１０５の中に積み立てられ、上部から押さえネジ環１０７、１０８によって押圧固定されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記した従来のような鏡筒構造では、環境温度などの変化があると、レンズや鏡筒部品がそれぞれ温度によって形状変化するために、収差が変化することがある。特に、短波長の光源を用いる露光装置では、レンズに石英や螢石のガラスを用いるが、これらのレンズの材質及びそれを保持する鏡筒部品等は、それぞれ熱膨張係数が異なるため、それぞれが他から影響を受けることなく、自由に単純膨張、あるいは単純収縮することができず、結果的に環境温度等によってレンズの面形状が大きく変化することとなり、このような温度に起因する変形が、レンズの収差に大きな影響を与える原因となっていた。
【０００７】
また、支持部材１０５は通常複数個を軸方向に重ねて配置されるが、重ねて結合する際や、他の要因で外力を受けると、レンズを支持する金枠が押されネジ環などから外力を受け、これがレンズ面形状を変化させ、光学系の性能を落とす要因ともなっていた。
【０００８】
また前記の従来例では、金枠内周部に設置されたレンズは、自重により変形するが、こうした変形の方向および変形量はレンズ接置部の形状に依存し、レンズ接置部の平面精度はレンズの面精度以上に高精度に加工することが難しいこと、レンズ接置部の形状は加工品毎に異なり、そこに当接するレンズがどのように変形するかを事前に推定することができないことなどの理由により、微小変形が問題となる光学系では組立後に光学性能を評価した上で、所定のレンズの姿勢もしくは位置調整によって面変形による諸収差を補正する必要があり、組立調整工数を増大させていた。
【０００９】
こうした問題を解決するために、レンズを複数点で支持し、それにより生ずる各光学素子ごとの変形の結果として発生する光学系全体の収差を小さくするように、光学素子の回転角を調整するという構成が、特開２０００−６６０７５に開示されているが、前述の構成では環境温度が変化したとき、レンズと金枠との熱膨張率の差によりレンズ面が変形してしまい（例えばレンズを３点支持した場合は、３θの変形が温度に対して敏感に変化する）所望の光学性能が得られないことが判明している。
【００１０】
そこで、本発明は、上記従来のものにおける課題を解決し、温度環境の変化や、組み付けの際に発生する歪みに起因するレンズ面の変形を軽減することができ、安定で、収差が小さく、高い解像力を得ることが可能となる光学要素の支持構造、および該支持構造を用いて構成された露光装置等の光学装置と、該装置による半導体デバイス等の製造方法を提供することを目的とするものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
請求項１の光学要素の支持構造は、重力が光軸方向に作用する光学要素を支持する光学要素の支持構造であって、前記光学要素を支持する第１の支持部材と、前記第１の支持部材の外径側に位置し、前記第１の支持部材を支持する第２の支持部材を有し、該第２の支持部材は、前記第１の支持部材と前記第２の支持部材の径方向の間に位置し、内径側が前記第１の支持部材と結合し、外径側が前記第２の支持部材と結合し、径方向に弾性変形可能な複数の弾性部材を備え、前記第１の支持部材は、前記複数の弾性部材のみを介して、前記第２の支持部材に支持され、前記複数の弾性部材の前記光軸方向における剛性は前記径方向における剛性よりも高く、前記第１の支持部材の自重は、前記複数の弾性部材の前記光軸方向における剛性により支持されることを特徴としている。
【００６２】
【発明の実施の形態】
本実施の形態で開示する光学要素の支持構造、および該支持構造を用いて構成された露光装置等の光学装置と、該装置による半導体デバイス等の製造方法は、上記した構成により温度環境の変化や、組み付けの際に発生する歪みに起因するレンズ面の不要な変形を軽減することができ、安定で、収差が小さく、高い解像力を実現することができる。例えば、上記構成を用いることによって、光学装置が置かれる環境の温度変化や、光学要素の光エネルギの吸収による温度上昇などによる熱歪みで、光学要素に発生する変形等が軽減される。
【００６３】
また、上記構成を用いることによって、実質的に熱膨張係数差を小さくすることができ、光学要素の熱変形を小さくすることができる。また、上記構成を用いることによって、第１の支持部材と、第２の支持部材との熱変形の違いを弾性部が吸収する際に、応力の発生を少なくすることができ、変形を吸収する能率を向上させることができる。また、上記構成を用いることによって、光学要素の偏芯を防いだり、微少ながら光学要素に及ぶ不要な熱変形を軸対称としたりすることができるので、光学的性能に及ぼす悪影響をより有効に軽減することができる。また、上記構成を用いることによって、安定で、収差が小さく、高い解像力の光学装置または半導体等の製造装置を実現することができる。
【００６４】
以下に、本発明の実施例について説明する。
【００６５】
（実施例１）
本発明の実施例１は、上記構成を用いてレンズの支持部材を構成したものであり、図１は本実施例における光学部材の中心から半分を示したものである。
【００６６】
同図において、１は石英のレンズ、１１は１のレンズを支持する支持部材であり、石英とほぼ等しい熱膨張係数を有するニッケル合金であるインバーを用いている。なお、レンズ１は支持部材１１に接着により固定されている。
【００６７】
３はこれらのレンズを同軸上に支持するための支持部材であり、鉄材を用いている。
【００６８】
上記支持部材１１の周辺部分は、複数箇所切り欠かれ、この部分に板状のばねを構成する弾性部材１２が設けられている。この弾性部材１２は、板の両端にて支持部材１１に結合され、中央部にて支持部材３に結合されている。このような支持構造によって、弾性部材１２は光学要素に対し、半径方向に低い弾性を有するような構造になっている。
【００６９】
また、２は螢石のレンズ、２１はレンズ２を支持する支持部材であり、螢石とほぼ等しい熱膨張係数を有する銅亜鉛合金である真鍮である。
【００７０】
レンズ２も支持部材２１に接着されている。２２は１２と同様の弾性部材である。
【００７１】
図２は、図３に示すレンズの支持部材の一部であり、１つのレンズユニットで、弾性部材の取り付く位置を示している。この図に示されるように、弾性部材１２はほぼ等しい角度ピッチで支持部材１１の周囲に複数個設けられており、その内径側の両側１２ａにて支持部材１１とはネジ結合される。又、弾性部材１２はその外径側の中央位置１２ｂにて支持部材３とネジ結合されている。支持部材１１は支持部材３とは軸方向において非接触であり、支持部材１１の自重は弾性部材１２が受けることになる。
【００７２】
この弾性部材の材質は、支持部材１１と同一のものが望ましいが、ステンレスなどのばね用金属部材やジルコニウムなどの非金属類など、他の材質を用いても良い。これは、支持部材１１の剛性が、弾性部材１２に十分勝る場合は、両者の熱膨張率の違いによる熱歪みが全体に与える影響が少ないからである。同様に、弾性部材２２も支持部材２１と同一のものが望ましいが、他の材質を用いても良い。
【００７３】
図２では、３つの弾性部材を配置する場合について説明しているが、この数は望ましくは３つであるが、必ずしも３つには限られず、少なくとも２つ以上であれば良い。いずれにしても。支持部材１１、２１の周囲に弾性部材１２、２２を等間隔に配置することによって熱歪みによる支持部材１１、２１の偏芯を起こさないようにすることができる。
【００７４】
このような構造の鏡筒において、環境温度が変化すると、支持部材３と、支持部材１１とは熱膨張係数が異なるので、異なる膨張あるいは収縮を起こすことになるが、弾性部材１２の板状のばね部分が曲げ変形を起こすことによって、これらの熱膨張差を吸収し、支持部材１１がほぼ自由に単純膨張、あるいは単純収縮となる変形を起こすことができる。
【００７５】
また、石英のレンズ１及び螢石のレンズ２と、その周囲の支持部材１１、２１とは、それぞれほぼ同じ熱膨張率であるから、レンズが単純膨張あるいは単純収縮に近い形状変化となり、光学性能に有害な面形状の歪みの発生を抑えることができる。
【００７６】
レンズとその周囲の支持部材との熱膨張係数の差に関する許容値は、光学システムが置かれる温度環境の精度や、光学システムに要求される光学的性能によって異なる。
【００７７】
また、支持部材の材質は、これらの条件を勘案して、最適な部材を選択することができる。例えば、それらの条件が許容できれば、石英レンズの支持部材１１の材質として、石英の熱膨張係数に若干の差があるとしても、アルミナセラミックや、鉄系の材質などを選択することができる。いずれにしても、支持部材３の熱膨張係数よりも、よりレンズの熱膨張係数に近い材質の部材をレンズの支持部材１１、２１に用いることで、レンズの温度変化に起因するレンズ面形状の有害な変化を軽減することができ、光学システムの温度安定性を向上させることができる。又、支持部材１１、２１は支持部材３とは軸方向及び径方向において直接的には非接触であり、両者共、弾性部材１２、２２を介して支持される。このことは、支持部材３の外力や自重による変形を直接的に支持部材１１、２１へは伝えず、支持部材１１、２１の変形による各レンズ１、２の面形状の歪みを抑える効果を生み出している。
【００７８】
（実施例２）
図３に、本発明の実施例２におけるレンズの支持部材の構成を示す。
【００７９】
同図において、３１は石英のレンズ、３２はインバー部材のレンズ支持部材、３３はゴム系の接着部材で、弾性を有している。さらに３４はレンズ支持部材３２を支持する部材であり、鉄材を用いる。
【００８０】
本実施例においても、実施例１と同様、支持部材３２の熱膨張係数をレンズ３１の熱膨張係数に近いものとすることで、支持部材３４と支持部材３２との熱膨張係数の違いによる不要な熱変形を接着剤３３の弾性によって緩和させることができ、レンズの面形状の有害な歪みを軽減することが可能となる。
【００８１】
（実施例３）
本発明の実施例を以下、図５〜７を用いて説明する。図５は本発明の実施例となる光学装置の中心から半分を示したものである。重力方向は光軸と一致し、図中の−Ｚ方向である。
【００８２】
図５において、５は石英のレンズ、５１はレンズ５を支持する支持部材であり、レンズ周辺部を重力方向に支える３個所の突起を１２０度ピッチで有している。本実施例においては支持部材5１の材質は真鍮である。また、レンズ５周辺部と支持部材５１の径方向の隙間には、全周にわたって接着剤が充填され、レンズ５は支持部材５１に固定されている。５３はこれらのレンズを同軸上に支持するための支持部材であり、鉄材を用いている。支持部材５１の周辺部分を複数箇所切り欠き、この部分に板状のばねを構成する弾性部材５２を設けている。弾性部材５２は板の両端にて支持部材5１に結合され、中央部にて支持部材５３に結合されている。このような支持構造によって、弾性部材５２は光学要素に対し、半径方向に低い弾性率を有するような構造になっている。
【００８３】
５４はスペーサであり、前記レンズ５、支持部材５１、支持部材５３、弾性部材５２それぞれ一つずつから構成される鏡筒ユニット同士の光軸方向の間隔を所定の間隔に調整するため部材である。図７に示すように支持部材５３及びスペーサ５４は外周部に６０度ピッチでボルト締結用の穴およびタップが設けてあり、各鏡筒ユニットは相対的に、６０度ピッチで任意の角度で回転させて組合せて固定することができるとともに、ボルト穴とボルトとの隙間分だけ、光軸と垂直方向に移動して固定し、所望の光学特性に調整することが可能である。もちろんこのボルト締結用の穴は６０度ピッチに限らず、３０度ピッチや４５度ピッチもしくはその他のピッチでも構わない。また、ボルト締結用の穴とボルトの隙間分だけ移動可能な本実施例の構造とは異なる構造を用いて、光軸と垂直方向に移動可能な構成としても構わない。
【００８４】
各レンズ５は支持部材５１により３点で支持されているため、重力方向に３θの自重変形が起こるが、鏡筒ユニットを光軸中心に所定の角度だけ回転させてとりつけることにより、自重変形により生じる各レンズの収差を、光学系トータルでキャンセルして、所望の光学性能に調整している。本実施例では、相対的に６０度ずらして取り付けている。
【００８５】
図６は、３つの弾性部材を配置する場合について説明しているが、この数は望ましくは３つであるが、３つとは限らなく、２つ以上であれば良い。いずれにしても、支持部材５１の周囲に弾性部材５２を等間隔に配置することによって熱歪みによる支持部材５１の偏芯を起こさないようにすることができる。
【００８６】
このような構造の鏡筒において、環境温度が変化すると、支持部材５３と、支持部材５１とは熱膨張係数が異なるので、異なる膨張あるいは収縮を起こすことになるが、弾性部材５２の板状のばね部分が曲げ変形を起こすことによって、これらの熱膨張差を吸収し、支持部材５１がほぼ自由に単純膨張、あるいは単純収縮となる変形を起こすことができる。
【００８７】
また、石英のレンズ５と支持部材５１においては、熱膨張差を吸収する弾性部材が介在しないため、環境温度が変化すると、異なる膨張あるいは収縮をおこし、レンズ形状が変化するが、レンズ全周にわたって均一に接着剤が充填されているため、その変化は軸対称な微小変形に限定され、３θ形状は変化しないことを、計算および実験によって確認した。
【００８８】
このような構成を用いることで、レンズの温度変化に起因するレンズ面形状の有害な変化を軽減することができ、光学システムの温度安定性を向上させることができる。
【００８９】
また、レンズの自重変形や、レンズ研磨工程で生じたレンズ面形状に応じて、各レンズを独立に、光軸中心に所望の角度に組合せること、さらに光軸と垂直方向に偏芯調整を行うことができ、光学システムの収差を所望の性能に追い込むことが可能である。
【００９０】
（実施例４）
実施例４を図８を用いて説明する。図８は本発明の実施例４にかかる投影光学系の構成を表す概略図である。図８において、実施例３と同一の符号は同一の部材を表す。重力方向は光軸と一致し、図中の−Ｚ方向である。
【００９１】
図８において、６１はレンズ５を支持する支持部材であり、レンズ周辺部を重力方向に支える３個所の突起を１２０度ピッチで有しており、石英とほぼ等しい熱膨張係数を有するニッケル合金であるインバーを用いている。また、レンズ周辺部と支持部材６１の径方向の隙間には、前記３個所の突起部近傍に接着剤が充填され、レンズは支持部材に固定されている。この接着剤の塗布面積は、所定の加速度が本光学システムに加わった時にレンズ５が位置変動をおこさないよう、レンズの重量によって決められる。
【００９２】
各レンズ５は支持部材５１により３点で支持されているため、重力方向に３θの自重変形が起こるが、鏡筒ユニットを光軸中心に所定の角度だけ回転させてとりつけることにより、自重変形により生じる各レンズの収差を、光学系トータルでキャンセルして、所望の光学性能に調整している。本実施例では、相対的に６０度ずらして取り付けている。
【００９３】
このような構造の鏡筒において、環境温度が変化した時に、弾性部材５２の板状のばね部分が曲げ変形を起こすことによって、支持部材６１と支持部材５３との熱膨張差を吸収し、支持部材６１がほぼ自由に単純膨張、あるいは単純収縮となる変形を起こすことができる点は、前記第一の実施例と同様である。
【００９４】
本実施例においては、石英のレンズ５とその周囲の支持部材６１とは、それぞれほぼ同じ熱膨張率であるから、レンズが単純膨張あるいは単純収縮に近い形状変化となり、光学性能に有害な面形状の歪みの発生を抑えることができる。
【００９５】
また本実施例ではレンズ５と支持部材６１との接合には接着剤を用いたが、本構成を用いればレンズの周辺部を機械的に押圧することによっても同様の効果を得ることができる。
【００９６】
このように本実施例によれば、接着剤の使用を最小限に押さえることができるため、接着剤から発生し光学性能の劣化の原因となる有害なガスを、極小に押さえることが可能で、光学システムの温度安定性のみならず、長期安定性を向上させることができる。
【００９７】
（実施例５）
実施例５を図９を用いて説明する。図９は本発明の実施例にかかる投影光学系の構成を表す概略図である。図９において、実施例３と同一の符号は同一の部材を表す。重力方向は光軸と一致し、図中の−Ｚ方向である。
【００９８】
図９において、６２は鏡筒ユニットを同軸上に支持するための支持部材であり、鏡筒ユニットは、レンズを光軸方向に位置調整するためのスペーサ５４を挟んで、支持部材６２内の所望の位置にボルト締結される。
【００９９】
前記実施例３、４において、スペーサを介して鏡筒ユニット同士がボルト締結されていたが、本実施例においては、それぞれの鏡筒ユニットが高剛性を有する支持部材6２に締結されているため、鏡筒ユニット同士が相互に組立て歪みを与えることなく、光学系を構成することが可能である。
【０１００】
また、本実施例においては実施例３同様、支持部材５１は真鍮を用い、レンズ５外周部全周にわたって接着剤を充填する構成をとったが、もちろん実施例４と同様に、レンズと支持部材の熱膨張係数をほぼ等しくし、接着剤を減らした構成にすることも可能である。
【０１０１】
（実施例６）
図４は、図１あるいは図３に示すレンズの支持部材を、半導体露光装置に適用したものであり、露光装置を模式的に示す図である。この露光装置において、レチクルステージ４１に搭載されたレチクル４０の一部に照明光学系４４から露光用の照明光が照射される。照明光源は波長１９３ｎｍのエキシマレーザ光である。照射領域は、スリット状であり、レチクルのパターン領域の一部をカバーする。このスリット部分に相当するパターンは投影光学系４２によって１／４に縮小されて、ウエハステージ４３に搭載されたウエハ４５上に投影される。投影光学系は、露光装置のフレーム４６に搭載されている。
【０１０２】
投影光学系に対しレチクルとウエハとを走査することによりレチクルのパターン領域をウエハ上の感光剤に転写する。この走査露光がウエハ上の複数の転写領域（ショット）に対して繰り返し行なわれる。投影光学系４２は、高い解像性能が必要であり、レンズの支持として精度の高い構造が要求される。レンズ材料としては、石英と蛍石が用いられる。
【０１０３】
これらのレンズを支持する支持構造は図１に示す構造となっており、図１において１を石英のレンズ、２を蛍石のレンズとすると、１１はインバーなどの鉄とニッケルを主成分とする合金部材であり、２１は黄銅などの銅と亜鉛とを主成分とする合金部材とするのが適切である。両者共、レンズの熱膨張係数とほぼ同じ熱膨張係数を有する材質を用いることが望ましい。石英レンズ１を支持する支持部材１１としては、酸化マグネシウムと酸化シリコンなどからなるコージライト系のセラミックス材料、あるいはアルミナ、窒化シリコンなどのセラミックス材料、あるいは、商品名ゼロジュールと呼ばれる低熱膨張ガラスなどが適切な材料として選択できる。
【０１０４】
また、蛍石レンズを支持する部材２１としては、いわゆる１８−８ステンレスなどの鉄、クロム、ニッケルによる合金、あるいは銅、あるいはリン青銅とよばれる銅、錫、リンによる合金、あるいは銅、あるいは白銅とよばれるニッケル、鉄、マンガン、銅による合金、あるいはニッケル、クロムによる合金あるいはアルミニウムを主成分とした合金、例えばアルミニウム、シリコン、銅によるアルミニウムダイカスト用合金なども適切な材質として選択できる。特に露光装置に適用する場合は露光光のエネルギがレンズに吸収され熱を発生させるので、熱伝導率の高い銅系の合金はより望ましい。螢石の熱膨張率は約１９ｐｐｍであるが、この値に対し±１０％程度以内の違いである材料を部材２１に用いることで温度によるレンズへの悪影響を実質的に問題のない程度に抑えることができることを発明者はシミュレーションによって確認した。
【０１０５】
支持部材３の材質としては鉄をはじめとして、どのような熱膨張係数の材料を利用してもよい。弾性部材１２、２２によって異なる材質間の熱膨張係数の差に起因するレンズの不要な変形を軽減することができる。レンズ全体を露光装置本体のフレーム４６に固定する際に、レンズ支持部材３には結合による歪みが発生する場合があるが、弾性部材１２、２２はこの歪みがレンズに及ぶのも軽減する作用がある。従って高精度なレンズ支持構造を得ることができるので、半導体製造に必要な解像力を得るためのレンズシステムを実現することが可能になる。
【０１０６】
露光装置に用いるレンズ支持構造において重要なことは、レンズ自体が露光によるレーザー光によって熱を持つことである。このレンズの熱による膨張の際に支持部材１１、２１がレンズとほぼ同じ熱膨張係数を持つことは支持部材への熱伝導による支持部材１１、２１の膨張がレンズと同じ程度となり、レンズの不正な歪みの発生を抑える点で大きな効果を生むことになる。
【０１０７】
この実施例６は実施例３、４、５の光学要素の支持構造にも当然適用できる。
【０１０８】
【発明の効果】
以上の実施例においては、半導体露光装置の投影レンズシステムを例として説明したが、光学要素としてはレンズ以外にミラーに適用しても良い。また、回折を応用した光学素子など、変形を問題とする光学素子に適用することが可能である。
【０１０９】
また、本発明によれば、温度環境の変化や、組み付けの際に発生する歪みや、レンズ自体の熱に起因するレンズ面の不要な変形を軽減することができるので高精度な光学要素の支持構造を実現することができる。また、これを半導体露光装置などの投影光学系に適用することによって、安定で、収差の小さい露光が実現でき、解像力の高い転写の達成によって、微細な半導体や表示素子を製造することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例１におけるレンズ支持部材の構成を示す図
【図２】本発明の実施例１におけるレンズ支持部材の構成の一部を示す図
【図３】本発明の実施例２におけるレンズ支持部材の構成を示す図
【図４】本発明の実施例６における半導体露光装置の構成を示す図
【図５】本発明の実施例３におけるレンズ支持部材の構成を示す図
【図６】本発明の実施例３におけるレンズ支持部材の一部を示す図
【図７】本発明の実施例３における第二の支持部材の結合部を示した詳細図
【図８】本発明の実施例４におけるレンズ支持構造の構成を示す図
【図９】本発明の実施例５におけるレンズ支持構造の構成を示す図
【図１０】従来例におけるレンズ保持部材の構成を示す図
【符号の説明】
１ 石英のレンズ
２ 螢石などのレンズ
３ 支持部材
１１ 支持部材
１２ 弾性部材
２１ 合金部材
２２ 弾性部材
３１ 石英のレンズ
３２ レンズ支持部材
３３ ゴム系の接着部材
４０ レチクル
４１ レチクルステージ
４２ 投影光学系
４３ ウエハステージ
４４ 照明光学系
４５ ウエハ
４６ 露光装置のフレーム
１０２ レンズ
１０３ 金枠
１０４ 金枠
１０５ 支持部材
１０７ ネジ環
１０８ ネジ環
Claims (13)
- 重力が光軸方向に作用する光学要素を支持する光学要素の支持構造であって、
前記光学要素を支持する第１の支持部材と、前記第１の支持部材の外径側に位置し、前記第１の支持部材を支持する第２の支持部材を有し、該第２の支持部材は、前記第１の支持部材と前記第２の支持部材の径方向の間に位置し、内径側が前記第１の支持部材と結合し、外径側が前記第２の支持部材と結合し、径方向に弾性変形可能な複数の弾性部材を備え、
前記第１の支持部材は、前記複数の弾性部材のみを介して、前記第２の支持部材に支持され、
前記複数の弾性部材の前記光軸方向における剛性は前記径方向における剛性よりも高く、
前記第１の支持部材の自重は、前記複数の弾性部材の前記光軸方向における剛性により支持されることを特徴とする支持構造。 - 前記第１の支持部材の熱膨張係数が、前記光学要素の熱膨張係数と前記第２の支持部材の熱膨張係数との間であることを特徴とする請求項１記載の光学要素の支持構造。
- 前記光学要素の熱膨張係数と前記第１の支持部材の熱膨張係数との差が、前記光学要素の熱膨張係数と前記第２の支持部材の熱膨張係数との差よりも小さいことを特徴とする請求項１または２に記載の光学要素の支持構造。
- 前記光学要素が石英から成り、前記第１の支持部材がニッケルを含む合金であることを特徴とする請求項１乃至３いずれか１項記載の光学要素の支持構造。
- 前記光学要素が石英から成り、前記第１の支持部材が酸化マグネシウムと酸化シリコンなどからなるコージライト系のセラミックス材料、あるいはアルミナ、窒化シリコンなどのセラミックス材料、あるいは、低熱膨張ガラスであるゼロジュール（登録商標）であることを特徴とする請求項１乃至３いずれか１項記載の光学要素の支持構造。
- 前記光学要素が螢石から成り、前記第１の支持部材が銅を含む合金であることを特徴とする請求項１乃至３いずれか１項記載の光学要素の支持構造。
- 前記光学要素が螢石であり、前記第１の支持部材が１８−８ステンレスなどの鉄、クロム、ニッケルによる合金、あるいはアルミニウムを主成分とした合金であることを特徴とする請求項１乃至３いずれか１項記載の光学要素の支持構造。
- 前記光学要素の熱膨張係数と、前記第１の支持部材の熱膨張係数と、前記第２の支持部材の熱膨張係数とが実質的に同じあることを特徴とする請求項１記載の光学要素の支持構造。
- 重力が光軸方向に作用する光学要素を支持する光学要素の支持構造であって、
前記光学要素を支持する第１の支持部材と、前記第１の支持部材の外径側に位置し、前記第１の支持部材を支持する第２の支持部材を有し、該第２の支持部材は、前記第１の支持部材と前記第２の支持部材の径方向の間に位置し、内径側の両端部が前記第１の支持部材と結合し、外径側の中央部が前記第２の支持部材と結合し、径方向に弾性変形可能な複数の板状のバネ部材を備え、
前記第１の支持部材は、前記複数のバネ部材のみを介して、前記第２の支持部材に支持され、
前記複数のバネ部材の前記光軸方向における剛性は前記径方向における剛性よりも高く、
前記第１の支持部材の自重は、前記複数のバネ部材の前記光軸方向における剛性により支持され、
該複数の板状のバネ部材が前記第１の支持部材周辺部分に略等間隔に設けられていることを特徴とする光学要素の支持構造。 - 前記複数の弾性部材が、前記支持部材１と同じ材質で形成されていることを特徴とする請求項１乃至９いずれか１項記載の光学要素の支持構造。
- 前記光学要素が、レンズ、またはミラー、または回折を応用した光学素子のいずれかであることを特徴とする請求項１乃至１０いずれか１項記載の光学要素の支持構造。
- 光源からの光でレチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルからの光をウエハ上に導く投影光学系とを有する露光装置であって、前記照明光学系及び／又は前記投影光学系が請求項１乃至１１いずれか１項記載の光学要素の支持構造を有していることを特徴とする露光装置。
- 請求項１２に記載の露光装置による露光工程を含むことを特徴とする半導体デバイスなどの製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001080798A JP4809987B2 (ja) | 2000-03-30 | 2001-03-21 | 光学要素の支持構造、それを用いた露光装置及び半導体デバイスの製造方法 |
| US09/817,018 US6867848B2 (en) | 2000-03-30 | 2001-03-27 | Supporting structure of optical element, exposure apparatus having the same, and manufacturing method of semiconductor device |
| US10/950,420 US7113263B2 (en) | 2000-03-30 | 2004-09-28 | Supporting structure of optical element, exposure apparatus having the same, and manufacturing method of semiconductor device |
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000094936 | 2000-03-30 | ||
| JP2000094936 | 2000-03-30 | ||
| JP2000-94936 | 2000-03-30 | ||
| JP2001080798A JP4809987B2 (ja) | 2000-03-30 | 2001-03-21 | 光学要素の支持構造、それを用いた露光装置及び半導体デバイスの製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011034949A Division JP4956680B2 (ja) | 2000-03-30 | 2011-02-21 | 光学要素の支持構造、それを用いた露光装置及び半導体デバイスの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001343576A JP2001343576A (ja) | 2001-12-14 |
| JP4809987B2 true JP4809987B2 (ja) | 2011-11-09 |
Family
ID=26588935
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001080798A Expired - Fee Related JP4809987B2 (ja) | 2000-03-30 | 2001-03-21 | 光学要素の支持構造、それを用いた露光装置及び半導体デバイスの製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6867848B2 (ja) |
| JP (1) | JP4809987B2 (ja) |
Families Citing this family (52)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4956680B2 (ja) * | 2000-03-30 | 2012-06-20 | キヤノン株式会社 | 光学要素の支持構造、それを用いた露光装置及び半導体デバイスの製造方法 |
| DE10140608A1 (de) * | 2001-08-18 | 2003-03-06 | Zeiss Carl | Vorrichtung zur Justage eines optischen Elements |
| TW577108B (en) * | 2001-11-07 | 2004-02-21 | Nikon Corp | Optical device and the manufacturing method thereof, optical system, and manufacturing method of exposure device and micro-device |
| DE10222331A1 (de) * | 2002-05-18 | 2003-11-27 | Zeiss Carl Smt Ag | Verfahren zur gezielten Deformation eines optischen Elements |
| DE10239522B4 (de) * | 2002-08-23 | 2016-02-11 | Leica Geosystems Ag | Halteeinrichtung für ein optisches Element |
| JP4458323B2 (ja) * | 2003-02-13 | 2010-04-28 | キヤノン株式会社 | 保持装置、当該保持装置を有する露光装置、及びデバイス製造方法 |
| US7002759B2 (en) * | 2003-03-20 | 2006-02-21 | Pentax Corporation | Lens unit for multibeam scanning device |
| DE10316590A1 (de) * | 2003-04-11 | 2004-10-28 | Carl Zeiss Smt Ag | Lagervorrichtung für ein optisches Element mit einer Fassung |
| JP2004327529A (ja) * | 2003-04-22 | 2004-11-18 | Canon Inc | 露光装置 |
| EP1477850A1 (en) * | 2003-05-13 | 2004-11-17 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| JP2004363559A (ja) * | 2003-05-14 | 2004-12-24 | Canon Inc | 光学部材保持装置 |
| EP1695148B1 (en) * | 2003-11-24 | 2015-10-28 | Carl Zeiss SMT GmbH | Immersion objective |
| WO2006016469A1 (ja) * | 2004-08-10 | 2006-02-16 | Nikon Corporation | 照明光学装置、露光装置、および露光方法 |
| DE102004048064B4 (de) * | 2004-09-30 | 2017-11-30 | Leica Microsystems Cms Gmbh | Mikroskopobjektiv mit einer Halterung für eine Linse |
| JP2006113414A (ja) * | 2004-10-18 | 2006-04-27 | Canon Inc | 光学素子保持装置、鏡筒、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 |
| US7944628B2 (en) | 2005-03-09 | 2011-05-17 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical element unit |
| TWI454731B (zh) * | 2005-05-27 | 2014-10-01 | Zeiss Carl Smt Gmbh | 用於改進投影物鏡的成像性質之方法以及該投影物鏡 |
| US7986472B2 (en) * | 2005-05-31 | 2011-07-26 | Carl Zeiss SMT, AG. | Optical element module |
| JP5620638B2 (ja) * | 2005-07-19 | 2014-11-05 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 光学結像装置 |
| JP5243957B2 (ja) | 2005-08-16 | 2013-07-24 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 液浸リソグラフィー用オブジェクティブ |
| JP2007065017A (ja) * | 2005-08-29 | 2007-03-15 | Fujinon Corp | レンズ保持鏡筒 |
| TWI372271B (en) * | 2005-09-13 | 2012-09-11 | Zeiss Carl Smt Gmbh | Optical element unit, optical element holder, method of manufacturing an optical element holder, optical element module, optical exposure apparatus, and method of manufacturing a semiconductor device |
| US20070146908A1 (en) * | 2005-12-24 | 2007-06-28 | Largan Precision Co., Ltd. | Focal length compensation structure for a lens assembly |
| EP2444829A1 (en) * | 2006-09-14 | 2012-04-25 | Carl Zeiss SMT GmbH | Optical element unit and method of supporting an optical element |
| JP2008242448A (ja) | 2007-02-28 | 2008-10-09 | Canon Inc | 光学要素保持装置 |
| JP5013906B2 (ja) * | 2007-03-05 | 2012-08-29 | キヤノン株式会社 | 光学素子保持装置 |
| WO2008146655A1 (ja) * | 2007-05-25 | 2008-12-04 | Nikon Corporation | 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置ならびにデバイスの製造方法 |
| JP2008309903A (ja) | 2007-06-12 | 2008-12-25 | Canon Inc | 光学素子保持構造、露光装置及びデバイス製造方法 |
| JP2009010232A (ja) * | 2007-06-28 | 2009-01-15 | Canon Inc | 光学装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
| US20090219497A1 (en) * | 2008-02-28 | 2009-09-03 | Carl Zeiss Smt Ag | Optical device with stiff housing |
| DE102009024870A1 (de) * | 2008-06-10 | 2009-12-31 | Carl Zeiss Smt Ag | Optische Einrichtung mit einstellbarer Kraftwirkung auf ein optisches Modul |
| JP5271820B2 (ja) * | 2009-06-11 | 2013-08-21 | 富士フイルム株式会社 | 光学部品保持部材およびその作製方法 |
| JP5458246B2 (ja) * | 2009-06-11 | 2014-04-02 | 富士フイルム株式会社 | 光学部品保持部材およびその作製方法 |
| JP5455516B2 (ja) * | 2009-09-11 | 2014-03-26 | キヤノン株式会社 | 支持装置、光学装置、転写装置及びデバイス製造方法 |
| US9027623B2 (en) * | 2009-09-22 | 2015-05-12 | Flexible Steel Lacing Company | Welding apparatus for conveyor belts and method |
| DE102009045163B4 (de) * | 2009-09-30 | 2017-04-06 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optische Anordnung in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
| US8919724B2 (en) * | 2010-08-24 | 2014-12-30 | Raytheon Company | Mount for cryogenic fast switching mechanism |
| US9310668B2 (en) * | 2011-04-29 | 2016-04-12 | Bae Systems Information And Electronic Systems Integration Inc. | Replaceable dome assembly |
| US9486971B2 (en) | 2012-12-28 | 2016-11-08 | Flexible Steel Lacing Company | Welding apparatus for conveyor belts and method |
| US11125966B2 (en) * | 2013-06-14 | 2021-09-21 | James Alan Monroe | Lens alignment system and method |
| JP6596817B2 (ja) * | 2014-12-04 | 2019-10-30 | 株式会社リコー | 光源デバイス及び光源装置 |
| CN104483815B (zh) * | 2014-12-08 | 2016-05-11 | 上海核电装备焊接及检测工程技术研究中心（筹） | 一种射线源对中支撑装置及其固定射线源装置的方法 |
| JP6296024B2 (ja) * | 2015-08-28 | 2018-03-20 | 日亜化学工業株式会社 | 半導体レーザ装置 |
| EP3704546A1 (en) | 2017-10-30 | 2020-09-09 | ASML Holding N.V. | Assembly for use in semiconductor photolithography and method of manufacturing same |
| JP7102860B2 (ja) * | 2018-03-30 | 2022-07-20 | 住友大阪セメント株式会社 | 光モジュール |
| CN112313303B (zh) * | 2018-05-18 | 2022-12-30 | 尤尼斯拜特罗有限责任公司 | 具有膨胀补偿功能的光学装置 |
| JP2020012865A (ja) * | 2018-07-13 | 2020-01-23 | ソニー株式会社 | 光学部品の固定構造、光学ユニット及び装置 |
| CN110824656B (zh) * | 2018-08-07 | 2022-05-27 | 宁波舜宇车载光学技术有限公司 | 光学镜头和缓冲镜片及其制造方法 |
| TWI662312B (zh) * | 2018-10-11 | 2019-06-11 | 大立光電股份有限公司 | 使用金屬固定環的成像鏡頭、相機模組及電子裝置 |
| JP7224250B2 (ja) * | 2019-07-04 | 2023-02-17 | 三菱電機株式会社 | レンズマウント及び鏡筒 |
| TWI752417B (zh) * | 2020-02-20 | 2022-01-11 | 揚明光學股份有限公司 | 鏡頭結構及其製作方法 |
| DE102021208628A1 (de) | 2021-08-09 | 2023-02-09 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abstützung eines optischen elements |
Family Cites Families (29)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3525813A1 (de) * | 1984-07-23 | 1986-02-27 | Olympus Optical Co., Ltd., Tokio/Tokyo | Vorrichtung zur halterung von linsen |
| US4733945A (en) * | 1986-01-15 | 1988-03-29 | The Perkin-Elmer Corporation | Precision lens mounting |
| JP2728898B2 (ja) * | 1988-10-05 | 1998-03-18 | キヤノン株式会社 | 露光装置 |
| JP2770960B2 (ja) * | 1988-10-06 | 1998-07-02 | キヤノン株式会社 | Ｓｏｒ−ｘ線露光装置 |
| JPH02281201A (ja) * | 1989-04-24 | 1990-11-16 | Nec Corp | 集束性ロッドレンズの固定構造 |
| CH681493A5 (ja) * | 1991-02-20 | 1993-03-31 | Peter Gerber | |
| US5428482A (en) * | 1991-11-04 | 1995-06-27 | General Signal Corporation | Decoupled mount for optical element and stacked annuli assembly |
| JPH06160685A (ja) * | 1992-11-25 | 1994-06-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | レンズ組立体 |
| JPH06313833A (ja) * | 1993-04-30 | 1994-11-08 | Toshiba Corp | 光学装置 |
| JP3261948B2 (ja) * | 1995-03-28 | 2002-03-04 | キヤノン株式会社 | Ｘ線露光用マスク及びそれを用いた半導体素子の製造方法 |
| JPH0916996A (ja) * | 1995-06-30 | 1997-01-17 | Sony Corp | 二軸アクチュエータ |
| JP3894509B2 (ja) * | 1995-08-07 | 2007-03-22 | キヤノン株式会社 | 光学装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
| JP3659529B2 (ja) * | 1996-06-06 | 2005-06-15 | キヤノン株式会社 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
| JPH10133150A (ja) * | 1996-10-29 | 1998-05-22 | Canon Inc | 回折光学装置及びこれを用いた露光装置 |
| US6043863A (en) * | 1996-11-14 | 2000-03-28 | Nikon Corporation | Holder for reflecting member and exposure apparatus having the same |
| JP3445105B2 (ja) | 1997-07-25 | 2003-09-08 | キヤノン株式会社 | 光学要素移動装置 |
| JP3956454B2 (ja) * | 1997-11-18 | 2007-08-08 | 株式会社ニコン | レンズ支持装置、支持方法および投影露光装置 |
| DE19755356A1 (de) * | 1997-12-12 | 1999-06-17 | Zeiss Carl Fa | VUV-beständige Verbindungstechnik für Linsen und Fassungen |
| US6040950A (en) * | 1998-01-05 | 2000-03-21 | Intel Corporation | Athermalized mounts for lenses |
| JPH11231192A (ja) * | 1998-02-13 | 1999-08-27 | Nikon Corp | 光学素子支持装置及び鏡筒並びに投影露光装置 |
| JPH11271586A (ja) * | 1998-03-25 | 1999-10-08 | Fuji Photo Optical Co Ltd | レンズの支持構造 |
| JPH11337795A (ja) * | 1998-05-22 | 1999-12-10 | Canon Inc | レンズ鏡筒 |
| DE19827603A1 (de) * | 1998-06-20 | 1999-12-23 | Zeiss Carl Fa | Optisches System, insbesondere Projektions-Belichtungsanlage der Mikrolithographie |
| JP2000066067A (ja) | 1998-08-24 | 2000-03-03 | Sony Corp | 光送受信装置 |
| US6118599A (en) * | 1998-11-03 | 2000-09-12 | Nikon Corporation | Hybrid optical barrel |
| US6108145A (en) * | 1999-05-21 | 2000-08-22 | Lockheed Martin Corporation | Thermal loading retainer |
| US6220657B1 (en) * | 1999-12-14 | 2001-04-24 | Patent Holding Company | Cover system for a golf cart |
| JP2001242364A (ja) | 2000-03-01 | 2001-09-07 | Canon Inc | 光学素子の保持機構、および該保持機構によって構成された投影光学系を備える露光装置 |
| US6220647B1 (en) | 2000-08-08 | 2001-04-24 | David R. Winkler | Retractable awning for a golf cart |
-
2001
- 2001-03-21 JP JP2001080798A patent/JP4809987B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2001-03-27 US US09/817,018 patent/US6867848B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2004
- 2004-09-28 US US10/950,420 patent/US7113263B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20050046815A1 (en) | 2005-03-03 |
| US20010039126A1 (en) | 2001-11-08 |
| US6867848B2 (en) | 2005-03-15 |
| US7113263B2 (en) | 2006-09-26 |
| JP2001343576A (ja) | 2001-12-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4809987B2 (ja) | 光学要素の支持構造、それを用いた露光装置及び半導体デバイスの製造方法 | |
| US6859337B2 (en) | Optical-element mountings exhibiting reduced deformation of optical elements held thereby | |
| US7345834B2 (en) | Optical element holding system, barrel, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
| US6840638B2 (en) | Deformable mirror with passive and active actuators | |
| US8416386B2 (en) | Conforming seats for clamps used in mounting an optical element, and optical systems comprising same | |
| US20060072219A1 (en) | Mirror holding mechanism in exposure apparatus, and device manufacturing method | |
| JP3944095B2 (ja) | 保持装置 | |
| WO2004011984A2 (en) | Retainer, exposure apparatus, and semiconductor device fabrication method | |
| JP2002162549A (ja) | 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにマイクロデバイスの製造方法 | |
| JP4956680B2 (ja) | 光学要素の支持構造、それを用いた露光装置及び半導体デバイスの製造方法 | |
| US8508870B2 (en) | Supporting device, optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
| JP5168507B2 (ja) | 光学素子保持機構、光学系鏡筒及び露光装置 | |
| JP2013106017A (ja) | 光学素子保持装置、光学装置、及び露光装置 | |
| US7583453B2 (en) | Optical element holding structure, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
| JP2011035102A (ja) | 光学素子の保持装置、それを用いた露光装置、及びデバイスの製造方法 | |
| US20110065051A1 (en) | Supporting device, optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
| JP2010087048A (ja) | 光学要素の支持構造、それを用いた露光装置及びデバイスの製造方法 | |
| JP2003241051A (ja) | 光学素子の支持手段、該光学素子の支持手段による光学系、露光装置、デバイス製造方法 | |
| JP2003172857A (ja) | 光学素子の支持手段、およびこれを用いた光学系、露光装置、デバイス製造方法、デバイス | |
| JP2004093663A (ja) | 光学要素の支持手段、該光学要素の支持手段による光学系、露光装置等の光学装置、デバイス製造方法 | |
| JP2011096720A (ja) | 光学素子の保持装置、それを用いた露光装置、及びデバイスの製造方法 | |
| JP2003307660A (ja) | 光学素子保持装置およびそれを用いた露光装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080311 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20100201 |
|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20100630 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20101215 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101221 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110221 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110405 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110606 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110809 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110822 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140826 Year of fee payment: 3 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |