JP2001242364A - 光学素子の保持機構、および該保持機構によって構成された投影光学系を備える露光装置 - Google Patents

光学素子の保持機構、および該保持機構によって構成された投影光学系を備える露光装置

Info

Publication number
JP2001242364A
JP2001242364A JP2000055253A JP2000055253A JP2001242364A JP 2001242364 A JP2001242364 A JP 2001242364A JP 2000055253 A JP2000055253 A JP 2000055253A JP 2000055253 A JP2000055253 A JP 2000055253A JP 2001242364 A JP2001242364 A JP 2001242364A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical element
lens
holding mechanism
support member
holding
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000055253A
Other languages
English (en)
Inventor
Naoki Irie
直樹 入江
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2000055253A priority Critical patent/JP2001242364A/ja
Publication of JP2001242364A publication Critical patent/JP2001242364A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70825Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Lens Barrels (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】光学素子の形状に倣って光学素子を保持し、光
学素子の変形による光学特性の劣化を防止することを可
能とする光学素子の保持機構、および該保持機構によっ
て構成された投影光学系を備える露光装置を提供する。 【解決手段】光学素子を所定の場所に保持する光学素子
の保持機構において、前記光学素子の形状に倣って該光
学素子を保持する保持手段を構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はレンズ等の光学素子
の保持機構、および該保持機構によって構成された投影
光学系を備える露光装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来レンズ等の光学素子を所定の場所に
位置決めする光学素子の保持機構として、玉押し、投げ
込み、セル方式等による鏡筒の組立方式が挙げられる。
これを、図7に示す玉押し構造による鏡筒構造の概略図
を用いて説明する。同図において、15は屈折式投影光
学系を構成するレンズ、16はレンズ15を保持する鏡
筒本体である。各レンズ15は、予め、レンズ光軸に対
して所定の同軸度を有する外径になるよう研削されてお
り、これらの外径寸法は所定の精度で計測されている。
16の内周には各レンズの外径に応じたレンズ設置部1
6a〜16cが形成され、レンズを設置した際に所定の
クリアランスができるようになっている。各レンズの外
周近傍の下面を各レンズ設置部16a〜16cに突き当
てて、各レンズ設置部16a〜16cの上方に形成され
たねじ部にねじ込んだ押え環17によってレンズ15を
押さえ付けることでレンズを固定する。以上のように投
影光学系を構成する複数のレンズ15は、互いに所望の
間隔、同軸度を保った状態で鏡簡16内に位置決めされ
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来の鏡筒では、レンズ設置部16a〜16cが直接
レンズ15に接しているが、レンズ15の形状とレンズ
設置部16a〜16cの形状とが厳密に一致することは
少なく、レンズ15とレンズ設置部16a〜16cとが
複数の点で接触することが多い。そしてこの場合、レン
ズ自重や押え環17の押圧力によってレンズがレンズ設
置部16a〜16cの形状に倣って変形し、光学特性が
悪化してしまうという問題がある。
【0004】そこで、本発明は、上記した従来のものに
おける課題を解決し、光学素子の形状に倣って光学素子
を保持し、光学素子の変形による光学特性の劣化を防止
することを可能とする光学素子の保持機構、および該保
持機構によって構成された投影光学系を備える露光装置
を提供することを目的とするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するために、つぎの(1)〜(8)のように構成した
光学素子の保持機構、および該保持機構によって構成さ
れた投影光学系を備える露光装置を提供するものであ
る。 (1)光学素子を所定の場所に保持する光学素子の保持
機構において、前記光学素子の形状に倣って該光学素子
を保持する保持手段を有することを特徴とする光学素子
の保持機構。 (2)前記保持手段は、前記光学素子の外周部に配置さ
れる支持部材を有し、該支持部材が光学素子を自重等に
よって変形しないように支持する構成を備えていること
を特徴とする上記(1)に記載の光学素子の保持機構。 (3)前記支持部材が、リング状の支持部材であって、
該リング状の支持部材によって前記光学素子の下面部ま
たは上下面部全周に渡り、または前記光学素子の外周部
に対して、該光学素子を均等な力で押圧し、該光学素子
が変形しないようにする押圧手段を備えていることを特
徴とする上記(2)に記載の光学素子の保持機構。 (4)前記支持部材が、複数に分割されたリング状の支
持部材であって、該複数に分割されたリング状の支持部
によって前記光学素子の下面部または上下面部の複数個
所で、または前記光学素子の外周部に対して、該光学素
子を均等な力で押圧し、該光学素子が変形しないように
する押圧手段を備えていることを特徴とする上記(2)
に記載の光学素子の保持機構。 (5)前記光学素子の上下面部または外周部に対する押
圧手段を、該光学素子の上下面部を薄箔を介して作動流
体により押圧するように構成し、該押圧手段によって前
記光学素子を前記支持部材に支持するようにしたことを
特徴とする上記(3)または上記(4)に記載の光学素
子の保持機構。 (6)前記光学素子の下面部に対する押圧手段を、薄箔
を介して作動流体により押圧するように構成する一方、
該光学素子の外周面を前記支持部材の内周面に接着剤で
接合することにより、該光学素子を前記支持部材に支持
することを特徴とする上記(3)または上記(4)に記
載の光学素子の保持機構。 (7)複数の光学素子保持手段を同軸上に所定間隔で有
する光学素子の保持機構において、前記各光学素子保持
手段のそれぞれが上記(1)〜(6)のいずれかに記載
の支持部材で構成されていることを特徴とする光学素子
の保持機構。 (8)マスクのパターンを投影光学系により基板に投影
する露光装置において、前記投影光学系が上記(1)〜
(7)のいずれかに記載の光学素子の保持機構を用いて
構成されていることを特徴とする露光装置。
【0006】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態によれば、上
記した構成を用いて、光学素子を所定の場所に保持する
ための機構を構成する場合において、該光学素子をその
外周部に配置された保持部材によって支持し、該保持部
材の光学素子支持部を、例えば薄箔と該薄箔を光学素子
に押圧するための作動流体により構成することによっ
て、光学素子の形状に倣って光学素子を保持し、光学素
子の変形による光学特性の悪化を防止することを可能と
することができる。
【0007】
【実施例】以下に、本発明の実施例を図を用いて説明す
る。
【0008】[実施例1]図1は本発明の実施例1に係
る屈折式投影光学系の構成を示す概略図である。図1に
おいて、重力方向は光軸と一致し、図中のZ方向であ
る。1は屈折投影光学系を構成するレンズ(光学素
子)、2はレンズ1の外周部に取り付けられたリング状
の保持用セルであり、レンズ1とセル2は、レンズ1の
光軸とセル2の外径が所定の同軸度になるように接合さ
れる。また、6は複数のセル2を所定の位置精度で同軸
上に固定するための鏡筒であり、鏡筒6の内径は各々の
セル2を所望の同軸度で配列させることができるよう
に、所定の円筒度で加工されている。7はセル2を鏡筒
6内で所定の間隔で光軸方向に位置決めするためのスペ
ーサーである。8はセル2を鏡筒6下部の突出部に突き
当てて固定するための押え環であり、投影光学系を構成
する複数のレンズ1は、互いに所望の間隔、同軸度を保
った状態で鏡筒6内に位置決めされる。
【0009】本実施例における詳細を図2を用いて説明
する。図2において、図1と同一の符号は同一の部材で
ある。aはレンズ1の下面とセル2の接触部位(以下胴
付き部と記す)を示している。胴付き部において、作動
流体4を注入するための溝bが全周に渡って形成されて
おり、この溝を覆って薄箔3が接合される。接合方法と
しては、該薄箔の両端部が、セル2と部材cとdに挟ま
れた状態で取り付けられ、部材cとdは、セル2に溶
接、またはボルト締めされる。また、直接、該薄箔を溶
接し、セル2に接合することも可能である。また、作動
流体4の圧力を一定にするために、圧力調整用の雄ネジ
を取り付ける溝と全周に渡って形成されている溝は繋が
っており、雄ネジを用いて圧力は簡易的に調整すること
ができる。また、レンズ1の外周壁部とセル2の内壁は
接着剤で接合することによって、レンズ1はセル2に固
定される。作動流体4には非圧縮性の油を用いたが、水
や圧縮性の気体を使用することができる。
【0010】本実施例において、薄箔は作動流体によっ
てレンズの下面に押圧され、レンズの形状に倣って密着
する。そのため、レンズは全周に渡って均等な力で線又
は面で支持され、レンズ変形を極小に抑えることがで
き、光学特性が悪化することを防ぐことができる。
【0011】[実施例2]実施例1においてはレンズ1
の下面部を全周に渡って支持する場合において説明した
が、本発明の実施例2として、レンズ1の下面部を60
°ピッチで6箇所など数箇所でのみ支持する構成を図3
で説明する。なお、図3において実施例1と同一の符号
は同一の部材である。セルの胴付き部における溝bの形
状として、図3に示すように6箇所の溝が繋がる一体構
成でも、溝が6分割され、おのおので作動流体4の内圧
を調整する構成でも良い。その6箇所において薄箔を取
付け、実施例1と同様にレンズ1は薄箔3と該薄箔を押
圧するための作動流体によって支持され、レンズの外周
壁部とセル2の内壁部は接着剤で接着される。この構成
によりレンズの自重変形が予測でき、制御することがで
きる。
【0012】[実施例3]上記実施例1及び実施例2で
は、レンズ1の下面部を支持する場合について説明した
が、本発明の実施例3として、セル2の内周壁部におい
て、レンズ1の外周壁部形状に倣ってレンズ1を支持す
る構造を図4で説明する。なお、図4において、上記実
施例1及び実施例2と同一の符号は同一の部材である。
図4に示すように、セルの全周に渡って作動流体4が注
入される溝bが形成されており、該溝を覆って薄箔3が
接合される。作動流体の内圧を一定にするために、作動
流体が注入される溝を圧力調整用の雄ネジを取り付ける
溝と一体構成にすることと、薄箔をセルに接合する方法
は実施例1と同様である。なお、重力方向にFの力が加
わってもレンズが固定されているための横方向の力N
は、次式で表される。 F<μN(N:横方向の力、μ:静止摩擦係数) 上の式から、F=5.0[kgf]、μ=0.2におい
て要する横方向の力Nは25[kgf]以上となり、長
さ200[mm]、幅5[mm]、厚さ0.05[m
m]の薄箔の形状寸法において、有限要素法を用いて計
算を行うと、降伏応力が30[kgf/mm2]以上の
金属材料(アルミ、銅、真鍮、鉄)であれば1枚の薄箔
で破断せずに使用することが可能である。ここでは、金
属を用いて計算を行ったが、伸び、縮み可能な弾性特性
を有する材料(ゴム)を使用することができる。また、
レンズと薄箔との接触面積が小さく、薄箔に作用する圧
力が大きい場合においては、薄箔を何重にも重ねて使用
すれば良い。
【0013】保持部材の内周壁部において、薄箔を介し
て作動流体でレンズの外周壁部形状に倣ってレンズを支
持することにより、レンズを全周に渡って均等な力で支
持することができると共に、レンズ保持部材にレンズの
受け面を設ける必要がなくなり、レンズの表面がレンズ
受け面の形状に倣って変形することがなく、光学特性の
悪化を防止することができる。また、上記実施例1及び
実施例2と比較して、接着剤を使用しないので、接着剤
から発生するガスによるレンズ汚染がなくなることとレ
ンズとレンズ保持部材の着脱が簡単になり、着脱に費や
されてきた工数も削滅することができる。
【0014】[実施例4]本発明の実施例4として、図
5に示したレンズの上下側面において、薄箔3を作動流
体4で押圧することで支持する構成について説明する。
なお、図5において、上記した実施例と同一の符号は同
一の部材である。図5に示すように、セル2はレンズの
上面を支持するための上部品とレンズの側面と下面を支
持するための下部品に分割された構成となっており、セ
ル2の上下部品、共に、全周に渡って作動流体が注入さ
れるための溝が形成され、セル2の上下部品を組み立て
ることによって、上部品の溝と下部品の溝は繋がり、一
体構成となっている。図5には、レンズの下面を全周に
渡って支持しているが、実施例2に示すように、数箇所
においてのみ支持しても良い。薄箔の接合方法は、実施
例1〜実施例3と同様であり、作動流体の内圧は調整可
能となっている。実施例3の構成でレンズの外周面積が
小さくレンズを保持するために充分でない場合では、本
実施例の構成のようにレンズの外周壁部と上下面の3面
を支持する。レンズの上下側面を支持することにより、
接着剤から発生するガスによるレンズ汚染防止とレンズ
に照明光等が照射された場合などに、熱をレンズに蓄積
することなく、上記実施例1〜実施例3と比較して、よ
り効率良く作動流体に伝えることができ、光学特性の劣
化を防ぐことができる。
【0015】[実施例5]本発明の実施例5を図6を用
いて説明する。図6は上記実施例を露光装置に適用した
場合の露光装置の概略図である。なお、図6において、
先の実施例と同一の符号は同一の部材である。以下レン
ズ1、セル2、鏡筒6、スペーサー7、押え環8を総称
して投影光学系と呼ぶ。9は照明光源、10は転写され
るパターンの原版であるレチクル、11はレチクル10
を保持するステージである。12は投影光学系を露光装
置本体の所定の位置に設置するための定盤である。13
はパターンが転写されるウエハ、14はウエハ13を保
持するステージである。
【0016】本実施例によれば、光学素子を支持して位
置決めするセルにおいて、セルの光学素子支持部を薄箔
と該薄箔を光学素子に押圧するための作動流体によって
構成することにより、レンズを線又は面で支持し、レン
ズの自重変形を予測することができると同時に、変形量
を極小に抑えることで、投影光学系の光学特性が劣化す
るのを防ぐことができる。
【0017】
【発明の効果】以上に説明したとおり、本発明によれ
ば、光学素子を所定の場所に保持する光学素子の保持機
構において、前記光学素子の形状に倣って該光学素子を
保持する保持手段を有する構成を採ることで、光学素子
の自重等による変形を防止することが可能となり、この
ような光学素子の変形による光学特性の劣化を防止する
ことができる。また、本発明によれば、光学素子の外周
部を支持し、あるいはレンズの上下側面を支持する構成
を採ることで、光学素子と光学素子保持部材間におい
て、接着剤を使用しないので、接着剤から発生するガス
によるレンズ汚染をなくすことができ、レンズとレンズ
保持部材の着脱が簡単になり、着脱に費やされてきた工
数も削減することができる。また、本発明によれば、レ
ンズを薄い薄箔を介して作動流体により支持する構成を
採ることで、レンズに照明光等が照射された場合など
に、熱をレンズに蓄積することなく、効率良く作動流体
に伝えることができ、熱収差による光学特性の劣化を防
ぐことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例1に係る投影光学系の概略図。
【図2】本発明の実施例1に係る光学素子保持部材の構
成図。
【図3】本発明の実施例2に係る光学素子保持部材の構
成図。
【図4】本発明の実施例3に係る光学素子保持部材の構
成図。
【図5】本発明の実施例4に係る光学素子保持部材の構
成図。
【図6】本発明の実施例5に係る露光装置の概略図。
【図7】従来例におけるセル構造による鏡筒構造の概略
図。
【符号の説明】
1:レンズ 2:セル 3:金属箔 4:流動体 5:調整ネジ 6:鏡筒 7:スペーサー 8:押え環 a:胴付き部 b:溝 c.d:リング部材 9:照明光源 10:レチクル 11:レチクルステージ 12:定盤 13:ウエハ 14:ウエハステージ 15:レンズ 16:鏡筒 17:押え環

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】光学素子を所定の場所に保持する光学素子
    の保持機構において、前記光学素子の形状に倣って該光
    学素子を保持する保持手段を有することを特徴とする光
    学素子の保持機構。
  2. 【請求項2】前記保持手段は、前記光学素子の外周部に
    配置される支持部材を有し、該支持部材が光学素子を自
    重等によって変形しないように支持する構成を備えてい
    ることを特徴とする請求項1に記載の光学素子の保持機
    構。
  3. 【請求項3】前記支持部材が、リング状の支持部材であ
    って、該リング状の支持部材によって前記光学素子の下
    面部または上下面部全周に渡り、または前記光学素子の
    外周部に対して、該光学素子を均等な力で押圧し、該光
    学素子が変形しないようにする押圧手段を備えているこ
    とを特徴とする請求項2に記載の光学素子の保持機構。
  4. 【請求項4】前記支持部材が、複数に分割されたリング
    状の支持部材であって、該複数に分割されたリング状の
    支持部によって前記光学素子の下面部または上下面部の
    複数個所で、または前記光学素子の外周部に対して、該
    光学素子を均等な力で押圧し、該光学素子が変形しない
    ようにする押圧手段を備えていることを特徴とする請求
    項2に記載の光学素子の保持機構。
  5. 【請求項5】前記光学素子の上下面部または外周部に対
    する押圧手段を、該光学素子の上下面部を薄箔を介して
    作動流体により押圧するように構成し、該押圧手段によ
    って前記光学素子を前記支持部材に支持するようにした
    ことを特徴とする請求項3または請求項4に記載の光学
    素子の保持機構。
  6. 【請求項6】前記光学素子の下面部に対する押圧手段
    を、薄箔を介して作動流体により押圧するように構成す
    る一方、該光学素子の外周面を前記支持部材の内周面に
    接着剤で接合することにより、該光学素子を前記支持部
    材に支持することを特徴とする請求項3または請求項4
    に記載の光学素子の保持機構。
  7. 【請求項7】複数の光学素子保持手段を同軸上に所定間
    隔で有する光学素子の保持機構において、前記各光学素
    子保持手段のそれぞれが請求項1〜6のいずれか1項に
    記載の支持部材で構成されていることを特徴とする光学
    素子の保持機構。
  8. 【請求項8】マスクのパターンを投影光学系により基板
    に投影する露光装置において、前記投影光学系が請求項
    1〜7のいずれか1項に記載の光学素子の保持機構によ
    って構成されていることを特徴とする露光装置。
JP2000055253A 2000-03-01 2000-03-01 光学素子の保持機構、および該保持機構によって構成された投影光学系を備える露光装置 Pending JP2001242364A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000055253A JP2001242364A (ja) 2000-03-01 2000-03-01 光学素子の保持機構、および該保持機構によって構成された投影光学系を備える露光装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000055253A JP2001242364A (ja) 2000-03-01 2000-03-01 光学素子の保持機構、および該保持機構によって構成された投影光学系を備える露光装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001242364A true JP2001242364A (ja) 2001-09-07

Family

ID=18576409

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000055253A Pending JP2001242364A (ja) 2000-03-01 2000-03-01 光学素子の保持機構、および該保持機構によって構成された投影光学系を備える露光装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001242364A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003218023A (ja) * 2002-01-28 2003-07-31 Nikon Corp X線反射鏡、x線露光転写装置及び半導体デバイスの製造方法
US6867848B2 (en) 2000-03-30 2005-03-15 Canon Kabushiki Kaisha Supporting structure of optical element, exposure apparatus having the same, and manufacturing method of semiconductor device
US7672067B2 (en) 2007-06-28 2010-03-02 Canon Kabushiki Kaisha Optical device, exposure apparatus, and device manufacturing method
EP2444829A1 (en) * 2006-09-14 2012-04-25 Carl Zeiss SMT GmbH Optical element unit and method of supporting an optical element
US10539879B2 (en) 2018-04-26 2020-01-21 Canon Kabushiki Kaisha Optical apparatus, exposure apparatus, method of manufacturing optical apparatus, and method of manufacturing article
KR20200115200A (ko) 2019-03-25 2020-10-07 캐논 가부시끼가이샤 광학장치, 노광장치 및 물품 제조방법

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6867848B2 (en) 2000-03-30 2005-03-15 Canon Kabushiki Kaisha Supporting structure of optical element, exposure apparatus having the same, and manufacturing method of semiconductor device
US7113263B2 (en) 2000-03-30 2006-09-26 Canon Kabushiki Kaisha Supporting structure of optical element, exposure apparatus having the same, and manufacturing method of semiconductor device
JP2003218023A (ja) * 2002-01-28 2003-07-31 Nikon Corp X線反射鏡、x線露光転写装置及び半導体デバイスの製造方法
EP2444829A1 (en) * 2006-09-14 2012-04-25 Carl Zeiss SMT GmbH Optical element unit and method of supporting an optical element
US9134501B2 (en) 2006-09-14 2015-09-15 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical element unit and method of supporting an optical element
US7672067B2 (en) 2007-06-28 2010-03-02 Canon Kabushiki Kaisha Optical device, exposure apparatus, and device manufacturing method
US10539879B2 (en) 2018-04-26 2020-01-21 Canon Kabushiki Kaisha Optical apparatus, exposure apparatus, method of manufacturing optical apparatus, and method of manufacturing article
KR20200115200A (ko) 2019-03-25 2020-10-07 캐논 가부시끼가이샤 광학장치, 노광장치 및 물품 제조방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4751958B2 (ja) 光学要素とマウントからなるアセンブリ
US7113263B2 (en) Supporting structure of optical element, exposure apparatus having the same, and manufacturing method of semiconductor device
US7471469B2 (en) Device for the low-deformation replaceable mounting of an optical element
US20160109679A1 (en) Optical Element Unit And Method Of Supporting An Optical Element
US20100271716A1 (en) Replacement apparatus for an optical element
JP2006113414A (ja) 光学素子保持装置、鏡筒、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法
JP2002048963A (ja) レンズシステム、特に半導体リソグラフィーでのプロジェクションレンズシステム
JP5918815B2 (ja) 投影光学系
KR101134210B1 (ko) 반도체 리토그래피용 광학 서브어셈블리 및 투영 대물렌즈
JP2014225639A (ja) ミラーユニット及び露光装置
JP2001242364A (ja) 光学素子の保持機構、および該保持機構によって構成された投影光学系を備える露光装置
JPH1144834A (ja) 光学要素移動装置
JP2003156668A (ja) 光学ユニット、露光装置および光学機器
JP4956680B2 (ja) 光学要素の支持構造、それを用いた露光装置及び半導体デバイスの製造方法
JP2010135492A (ja) 露光装置およびデバイス製造方法
JP3840090B2 (ja) 円筒体のシール構造およびこれを備えた装置、光学素子保持構造、露光装置
JP2007017632A (ja) 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにデバイスの製造方法
JP2003307660A (ja) 光学素子保持装置およびそれを用いた露光装置
US20100172044A1 (en) Mount for positioning an optical element
JPS61282808A (ja) 部品取付装置
JPH09126813A (ja) ロータリーエンコーダー
CN117457693A (zh) 低应力曲面图像传感器及制作方法以及其封装结构
JP2009094220A (ja) 光学素子保持装置、露光装置およびデバイス製造方法
JP2009031695A (ja) レンズ保持装置