JP4751958B2 - 光学要素とマウントからなるアセンブリ - Google Patents

光学要素とマウントからなるアセンブリ Download PDF

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Description

本発明は、光学要素とマウントからなるアセンブリ、そのアセンブリの使用、対物レンズ系およびマイクロリソグラフィの投影露光装置に関するものである。
光学要素、例えばレンズ、プリズム、ミラー、格子(これらはしばしばガラス、結晶、あるいはセラミックスによって構成されているが)は、一般に金属製マウントによって規則的に光学アセンブリ(例えば、対物レンズ系)へとまとめられている。
その際に光学要素は、狭い公差を遵守しながら互いに位置決めされなければならない。そしてアセンブリ全体は外界の影響に対して一定の頑丈さを備えていなければならない。その際に例えば衛星により支持されたシステム(例えば、ROSATX線望遠鏡)などの天体望遠鏡でも、並びにマイクロリソグラフィの投影露光システムでも特別な要求が課せられる。
EP 0 053 463は、接着されている板バネ要素による精密ミラーの懸架を教えている。マイクロリソグラフィ投影対物レンズ系向けの先行するマウント技術は、米国特許明細書、第5,428,482号に記述されている。レンズは、ラジアル方向の3つの曲げビームによって直接接着されるか、あるいは中間リングを外周部に等分配した3つの固体リンクを介して外部マウントリングと結合させるかのいずれかである。その場合、レンズと中間リングの全面接着が見込まれている。マウントリングを積層することによって光学アセンブリ、とりわけ対物レンズ系が組立てられる。
マウントベース部に対して相対的に光学要素を移動、もしくは変形させるためのアクチュエータを有する装置は、多様な仕様で知られている。EP 0 145 902はその一例を示していて、ここではミラーは接線方向の3つのスポークを介してマウントに懸架されていて、そのスポークはペルチェ素子によってその長さを変更できる。
欧州特許第0053463号明細書 米国特許第5,528,482号明細書 欧州特許第0145902号明細書
本発明の課題は、光学要素とマウントからなるアセンブリを用意することであって、アセンブリされたときに光学要素の位置決め精度が向上され、マウントに作用を及ぼす環境影響を少なくすることである。これと同時に光学要素とマウントとの間の接合箇所、従って一般にガラス/金属結合、あるいは結晶/金属結合は、主として遠紫外線耐久性を向上させるために接着以外の別の接合方法を採用出来るようにするために、幾何学形状的精度に対する要求から開放されるべきである。
本発明による解決案は、設計原理として幅広い用途をカバーすべきである。対物レンズ系への組込み、およびマイクロリソグラフィ投影露光装置での使用が、結像性能を極めて精密に調整するための格別な適合性とともに見込まれている。この課題は、請求項1に記載の光学要素とマウントからなるアセンブリによって解決される。すなわち、このアセンブリとされた光学要素は、多数の接合板を介して剛性のある中間リングに結合されていて、中間リングはこれまた能動式アクチュエータを介してハウジングおよび/または別のマウントに接続するためにマウントに結合されている。
有利な実施態様は特許請求の範囲の従属請求項2から20の対象である。請求項2によれば、接合板はバネリンク、あるいは板バネとして取付けられている。これによって基本的に光学要素(例えば、ガラス)とマウント(金属)の異なる熱膨張が吸収される。全体的に見れば、応力は最小限にされている。光学要素と接合板との結合は、請求項3から6の対象である。ここでは光学要素に入射する光線に対する安定性を確保すること(このことは接着時に紫外線範囲において問題であるが)、そして同時に光学要素に応力を生じさせないこと(このことは、噛み合い式結合(クランプ)時には不可避であるが)が重要である。従って金属による溶接継手、あるいはロウ付け継手が望ましい。
請求項7から10によれば、これと同じことは接合板と中間リングとの結合にも当てはまり、その際にここでは請求項7によれば均質な一体仕様も可能であり、そして多くの場合においてこの仕様が有効である。しかしながら光学要素との接合部で接合板の位置公差を補正せねばならない場合には、例えば請求項10に記載のレーザ溶接によって中間リングに接合するのが有利である。
請求項11によればピエゾ素子、さらにはペルチェ素子(EP 0 145 902 Aにより)も能動的アクチュエータ向けに適した駆動手段であって、これらは加えて適切な伝動装置(固体レバーと固体リンク)を含む。重要な種類の光学要素は、請求項12に基づいて見込まれた、対称軸を有する回転対称縁部を備えた光学要素である。これは、とりわけ円筒状縁部を有する古典的レンズ、それに非球面光学面および非中心光学面を有する古典的レンズも含んでいる。これについては、請求項13から15が中間リングと接合板の有利な実施態様を示している。
請求項16は、別の種類の光学要素を示していて(請求項12に記述された種類の光学要素がその中に含まれているが)、その光学要素を用いれば接合板の配置に関してとりわけ請求項17と第18による格別有利な実施態様が可能である。それによれば接合板は、光学要素である「ボス」と中間リングである「リム」との間にスポークと同様に配置されている。
請求項19によれば、該接合板は米国特許明細書 第5,428,482号のビームと同様に接線方向に配置されている。
請求項20に設けられたような受動的アクチュエータは、請求項24、あるいは第25による調整用にとりわけ適している。請求項21から23に記載の該アセンブリは、マイクロリソグラフィの対物レンズ系および投影露光装置で望ましく用いられている。その際に請求項22による制御回路への組込みはとりわけ極端に微細な障害の修正を可能にする。
懸架式接合板とアクチュエータを有する本発明に基づく装置の模式的断面図である。 水平な接合板と、中間リングとマウントとの間の固体リンクを有する本発明に基づく装置の模式的断面図である。 図2による装置の上面図である。 接線方向の接合板を有する本発明に基づく装置の上面図である。 レバー伝動装置を有するアクチュエータとミラーを有する本発明に基づく装置の模式的断面図である。 投影露光装置を模式的に示す図である。 望ましいバネ接合板を模式的示す図である。
以下、図面をもとにして本発明実施形態を詳しく説明する。図1に示した装置は、レンズ1とマウント5を示している。本発明によれば剛性のある中間リング3、例えば、レンズの質量と剛性に依存して断面積が(オーダー的に言って)1cmのステンレス・スチール製リングが設けられている。そのリングは接合板2を介してレンズに、そしてアクチュエータ4を介してマウント5にそれぞれ接合されている。正確な高さ調整に用いられるシム6を介して、マウントはハウジング7に接続されている。ハウジング7は、例えばこのようにはめ込まれた別のレンズのためのスペーサリングとして形成されている。
レンズ1と接合板2との接続部12は、2つの理由から問題がある。まず第一にガラス、結晶(例えば、CaF、石英)、あるいはガラスセラミックス(Zerodur(R)ミラー)からなる光学要素1とステンレス・スチール、バネ青銅などからなる金属製接合板2との、性質の異なる材料組合せは溶接、ロウ付け、さらにはボルト結合、リベット結合の場合に問題がある。第二にこの接合箇所は、光線を伝送するために光学要素がここにあるために光線によって(ミラーを例外として)負荷を受ける。遠紫外スペクトル領域(波長、約300nmから100nm)で使用する場合、これによって有機接着剤が使用不能になる。光線によって破壊されるためである。
その他にこの結合部12は、装置の目的を達成するために幾何学形状公差を非常に狭くして製造せねばならない。さらに光学要素1は熱的荷重に対して鋭敏である;それは、例えば反射防止コーティングが100℃を著しく越える温度に耐えることが出来ず、そして他方ガラスと例えばCaFなどの特別な結晶(これはその遠紫外線透明性のためにアクロマートレンズ系向けの石英ガラスに対する相手部品として必要とされるのであるが)は時間的および空間的な温度勾配に対して鋭敏なためである。
例では接合部12は、上述した問題を克服するために、超音波溶接(これは、例えばE.レーダーらの「テクノロジーおよび管理」44(1995)、ページ31−39で知られているが)によって製造されている。別の可能な接合技術は、ドイツ特許明細書 第197 55 356号で示されたような低融点ロウによるロウ付けである。接合板2の位置公差は、カップリング23と連結するように製造されている場合には、剛性のある中間リングへの接合板のカップリング23によって吸収される。そのためにはレーザ溶接が適切であることが判明している。このレーザ溶接によって僅かな入熱のもとで非常に均一な溶接継手が達成される。
接合板2は、板バネ要素として板材から打ち抜き、あるいはエッチングによって精密成形される。接合板は、厚さが0.1mmから0.5mmで、幅が約3mmから20mmで、長さが10mmから30mmで、間隔が数mmであるのが典型的である。例では、接合板はレンズ1の光学軸と対称軸に平行に配置されている。
図7による実施形態、すなわち剛性のあるクランプ71、接線方向の2つの板バネ要素72、73および、レンズをその間に超音波溶接するためのゾーン74を有するエッチング部品、あるいは打抜き部品によって、レンズを無モーメントで半径方向に膨張させることが出来る。75は、中間リングと接合させるためのレーザ溶接ゾーンを示している。
例えば外周部に均等に分配された3つの箇所に剛性のある中間リング3がアクチュエータ4を介してマウント5と結合されている。アクチュエータ4は、例えば圧電要素から製造されている。この装置によってマウント5に対してレンズ1が2つの自由度、すなわち対称軸Sに垂直なX軸とY軸を中心とする傾倒が可能なように減少結合されている。なお、減少結合とは結合されるもの同士の変形の影響を減少させるように結合することを意味する。
対物レンズ系の調整時にしか必要とされない受動的アクチュエータは、セットスクリュによっても作動させることが出来る。このことは、一方ではレンズの傾倒調整を可能にし、他方ではマウント5の変形の影響を少なくする。その変形は、マウント5、シム6およびハウジング7を組立てて一つの光学系 (例えば対物レンズ系)にする際にそれぞれの製造公差などから生じるものである。
図2は、然るべく描写した一つの実施形態を示している。ここでは、レンズ1は接着箇所122によって接合板22と結合されている。ドイツ特許明細書、第197 48 211号に記載の接着剤保護層を使用する場合、接着剤の光線耐久性は保証されている。その際に矯正用パテ接合の公知の方法は、非常に正確な調整を可能にする。
接合板22は、剛性のあるリング32と統合されて一体に製造されている。その際に例えば精密に回転させるために追加的に接合板22間に分離部を設けるために放電加工が用いられる。固体リンク35はマウント52のリングであり、それでマウント52に減少結合されているので、マウントの変形は組込んだ状態ではレンズ1に影響を及ぼすことがない。典型的なサイズは図1の場合と同じである。
図3は、図2に横断面で示した装置を光学軸と対称軸Sの方向で示している。この図から、接合部22は半径方向に配置されていて、しかも対称軸Sを含んでいる平面Eに対称に形成されていることが判明する(請求項17)。光学要素1(レンズ)も対称軸Sに対して回転対称な縁部1Rを有していて、中間リング32は対称軸Sに対して回転対称的なリングであり(請求項16)、そして接合板22は、円周部にわたって等分配されている(請求項18)。直交するX軸とY軸上にはそれぞれバネリンク35、35’があり、その運動性はそれぞれの対で異なっている。マウント設計者は、所与の荷重に応じてその数、位置および運動性を選択する。マウント52もここでは一般にレンズマウントと同様に円筒状である。
図4は、同じ上面図でレンズ1に接線方向で作用している接合板24を有する本発明に基づく装置を示している。この接合板は、ここでは紙面に対して垂直にもなっていて、このため請求項20の意味においてx軸とy軸を有する主平面X、Yに(図1の懸下式接合板と同様に)垂直になっている。中間リング34は、ここでは図1に記述した構造を有する、120°の等間隔で配置された3つのアクチュエータ4を介してマウント5と結合されている。
本発明による装置は、もちろん上述した諸例のように回転対称的レンズにのみ適しているのではなくて、いかなる形状をしたあらゆる種類の光学要素、例えばプリズム、ミラー、格子、ホログラフ要素などにも適している。注意すべきことは、このマウント技術が光学要素の、重力に対して相対的な任意の位置に適していることである。
例として、図5は偏心円筒ミラー15を示している。ミラーは、対になっている傾斜式バネ接合板25によって中間リング32に結合されている。リンク452、453とレバー451を介して、剛性のある中間リングがマウント55に結合されている。アクチュエータ45(例えば、圧電式アクチュエータ、あるいはペルチェ素子によって制御された膨張要素、EP 0 145 902 Aを参照のこと)は、こうしてレバー伝動装置451、452、453を介して減速されて中間リング32に作用する。
最後に図6は、例として本発明に従いマウント652に配置されたレンズ651を対物レンズ系65内に収容する例を示している。対物レンズ系は、投影用対物レンズ系としてマイクロリソグラフィ投影露光装置の一部である。その露光装置は、公知のように光源61、照明システム63、位置決めシステム641を有するマスク64、対物レンズ系65、ウエーハー66およびその位置決めシステム661によって構成されている。
もちろん、一般に対物レンズ系65には多数のレンズが、そしてカタディオプトリック対物レンズ系、あるいはカトプトリック対物レンズ系のもとではミラーも本発明に従ってマウントされている。しかしここでは、分かり易くするために1枚のレンズしか示されていない。同様にこのマウント技術はもちろん照明システム63でも使用されている。
センサ671、672、673を有する投影露光装置の制御システム67は、マウント652のアクチュエータ653を制御する。焦点位置、波面などの画像パラメータ(センサ671)、パルス持続時間、数、照明調整(例えば、コヒーレント度、4重極照明)などの照明パラメータ(センサ672)、および/またはマスクのパラメータ(センサ673)に依存して、制御システム67はアクチュエータ653、並びに場合によっては他の光学要素のアクチュエータを制御することによって最適な画像品質を調整する。その際に、一般に制御システム67に記憶された特性領域と校正パラメータが使用される。
本発明による装置は、その数多くの自由な設計パラメータによって機械的振動の200Hzから400Hzよりも大きな最低固有振動数の設定を十分に可能にしている。これによって基本的にこれより低い振動数のもとにある障害となる振動、励振を効果的に抑制できる。本発明は、レンズの30nm以下、さらには20nm以下の非点収差、あるいは3波長残留変形が達成されている。外部リングの支持面の変形は、その95%以上、および光学的構造物においては99%以上を減少させてレンズに結合している。
1 光学要素
2 多数の接合板
3 中間リング
4 アクチュエータ
5 マウント
7 ハウジング
22 接合板
35 受動的減結合器
S 対称軸
E 平面
H 主平面
1R 縁部
65 レンズ系
653 アクチュエータ

Claims (25)

  1. 光学要素と、マウントとを有するアセンブリであって、前記光学要素は、複数の接合板と結合され、該複数の接合板は、剛性のある中間リングと結合され、該中間リングは、アクチュエータおよび受動的減少結合器を介してハウジングおよび/または別のフレームに接続するためにマウントと結合されているアセンブリ。
  2. 前記接合板は、板バネを含むバネリンクとして設計されていることを特徴とする請求項1に記載のアセンブリ。
  3. 前記光学要素は、ガラス、あるいは結晶によって構成され、前記接合板は金属製であり、そして前記光学要素と前記接合板との間の結合は有機成分を含んでいないことを特徴とする請求項1に記載のアセンブリ。
  4. 前記結合は、とりわけ拡散溶接、あるいは超音波溶接によって溶接されていることを特徴とする請求項3に記載のアセンブリ。
  5. 前記結合は、ろう付けされていることを特徴とする請求項3に記載のアセンブリ。
  6. 前記接合板は、中間リングと一体に形成していることを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載のアセンブリ。
  7. 前記接合板は、中間リングに結合されていることを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載のアセンブリ。
  8. 前記接合板と前記中間リングとの結合は、有機成分を含んでいないことを特徴とする請求項7に記載のアセンブリ。
  9. 前記接合板と前記中間リングとの結合は、とりわけレーザ溶接によって溶接されていることを特徴とする請求項8に記載のアセンブリ。
  10. 前記アクチュエータは、圧電要素、あるいはペルチェ要素を含んでいることを特徴とする請求項1から9のうちの少なくとも1つの項に記載のアセンブリ。
  11. 受動式減少結合器は、固体リンクであることを特徴とする請求項1から10のうちの少なくとも1つの項に記載のアセンブリ。
  12. 前記光学要素は、対称軸を有する回転対称縁を有していることを特徴とする請求項1から11のうちの少なくとも1つの項に記載のアセンブリ。
  13. 前記中間リングは、対称軸に対して回転対称的であることを特徴とする請求項12に記載のアセンブリ。
  14. 前記接合板は、対称軸を含む平面に対して対称的に形成されていることを特徴とする請求項12、あるいは13に記載のアセンブリ。
  15. 前記接合板は、光学要素の外周部にわたって等分配配置されていることを特徴とする請求項12から14のうちの少なくとも1つの項に記載のアセンブリ。
  16. 前記光学要素は、主平面を有し、その主平面は光学要素の縁部を閉じた曲線を突き通していることを特徴とする請求項1から15のうちの少なくとも1つの項に記載のアセンブリ。
  17. 前記接合板は、基本的に前記主平面に対して垂直に配置されていることを特徴とする請求項16に記載のアセンブリ。
  18. 前記接合板は、基本的に前記主平面において前記光学要素の縁部に対して接線方向に配置されていることを特徴とする請求項17に記載のアセンブリ。
  19. 前記接合板は、基本的に前記光学要素の部に対して接線方向に配置されていることを特徴とする請求項1から17のうちの少なくとも1つの項に記載のアセンブリ。
  20. 複数のアクチュエータのうちの少なくとも一部は、受動式であることを特徴とする請求項1に記載のアセンブリ。
  21. 請求項1から20のうちの少なくともいずれか1つの項に記載の少なくとも1つのアセンブリを含む対物レンズ系。
  22. 少なくとも1つのアクチュエータを制御する制御回路が存在することを特徴とする少なくとも1つのアクチュエータを含む、請求項1から21のうちのいずれか1項に記載の少なくとも1つのアセンブリを含んでいるマイクロリソグラフィ投影露光装置。
  23. マイクロリソグラフィ投影露光装置を構成するために請求項1から22のうちの少なくとも1項に記載のアセンブリの使用。
  24. 請求項21に記載の対物レンズ系の外部基準に対してレンズを調整するために請求項20に記載の受動的アクチュエータの使用。
  25. レンズの調整中に請求項21に記載の対物レンズ系内でレンズを調整するために請求項20に記載の受動的アクチュエータの使用。
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Families Citing this family (97)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19825716A1 (de) * 1998-06-09 1999-12-16 Zeiss Carl Fa Baugruppe aus optischem Element und Fassung
DE19859634A1 (de) * 1998-12-23 2000-06-29 Zeiss Carl Fa Optisches System, insbesondere Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie
DE19930643C2 (de) * 1999-07-02 2002-01-24 Zeiss Carl Baugruppe aus einem optischen Element und einer Fassung
US6650412B1 (en) * 1999-09-10 2003-11-18 Kaiser Optical Systems Thermal compensation for optical apparatus
DE19957398A1 (de) * 1999-11-29 2001-05-31 Zeiss Carl Verfahren zum Richten der Auflageflächen von Auflagegliedern für optische Elemente
JP4945845B2 (ja) 2000-03-31 2012-06-06 株式会社ニコン 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにマイクロデバイスの製造方法。
EP1148389B1 (en) * 2000-04-17 2008-02-27 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US6556364B2 (en) * 2000-04-25 2003-04-29 Michael F. Meehan Apparatus, system, and method for precision positioning and alignment of a lens in an optical system
DE10029306C2 (de) * 2000-06-14 2003-07-31 Physik Instr Pi Gmbh & Co Anordnung zur temperaturkompensierten, mehrdimensionalen Mikropositionierung von zueinander lagedefinierten optischen Komponenten
DE10030495A1 (de) 2000-06-21 2002-01-03 Zeiss Carl Verfahren zum Verbinden einer Vielzahl von optischen Elementen mit einem Grundkörper
EP1744193A1 (en) * 2000-08-18 2007-01-17 Nikon Corporation Optical element holding device with drive mechanism allowing movement of the element along three coordinate axes
DE10046379A1 (de) 2000-09-20 2002-03-28 Zeiss Carl System zur gezielten Deformation von optischen Elementen
DE10053899A1 (de) * 2000-10-31 2002-05-08 Zeiss Carl Vorrichtung zur Lagerung eines optischen Elementes
DE10062786A1 (de) * 2000-12-15 2002-06-20 Zeiss Carl System zur Dämpfung von Schwingungen
DE10106605A1 (de) 2001-02-13 2002-08-22 Zeiss Carl System zur Beseitigung oder wenigstens Dämpfung von Schwingungen
DE10115915A1 (de) 2001-03-30 2002-10-02 Zeiss Carl Vorrichtung zur Justierung von Einrichtungen und zum Einstellen von Verstellwegen
DE10115914A1 (de) * 2001-03-30 2002-10-02 Zeiss Carl Vorrichtung zur Lagerung eines optischen Elementes in einer Optik
US7014328B2 (en) 2001-04-12 2006-03-21 Carl Zeiss Smt Ag Apparatus for tilting a carrier for optical elements
DE10136387A1 (de) * 2001-07-26 2003-02-13 Zeiss Carl Objektiv, insbesondere Objektiv für die Halbleiter-Lithographie
DE10140608A1 (de) * 2001-08-18 2003-03-06 Zeiss Carl Vorrichtung zur Justage eines optischen Elements
JP2003107311A (ja) * 2001-09-27 2003-04-09 Nikon Corp 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにデバイスの製造方法
DE10151919B4 (de) * 2001-10-20 2007-02-01 Carl Zeiss Smt Ag Belichtungsobjektiv in der Halbleiterlithographie
TW577108B (en) * 2001-11-07 2004-02-21 Nikon Corp Optical device and the manufacturing method thereof, optical system, and manufacturing method of exposure device and micro-device
JP2003241049A (ja) * 2002-02-22 2003-08-27 Nikon Corp 光学素子保持方法、光学素子研磨加工方法及び光学素子成膜方法
DE10216114A1 (de) * 2002-04-12 2003-10-23 Zeiss Carl Smt Ag Vorrichtung zur deformationsarmen Lagerung eines nicht rotationssymmetrischen optischen Elementes
DE10219514A1 (de) * 2002-04-30 2003-11-13 Zeiss Carl Smt Ag Beleuchtungssystem, insbesondere für die EUV-Lithographie
DE10228053B4 (de) * 2002-06-19 2006-06-14 Carl Zeiss Jena Gmbh Element und Verfahren zu seiner Herstellung, bei dem zwei in Bezug zu mindestens einer Justierachse positionierte Körper stoffschlüssig miteinander verbunden sind
US20030234916A1 (en) * 2002-06-21 2003-12-25 Nikon Corporation Soft supports to reduce deformation of vertically mounted lens or mirror
JP4565261B2 (ja) * 2002-06-24 2010-10-20 株式会社ニコン 光学素子保持機構、光学系鏡筒及び露光装置
DE10229623A1 (de) * 2002-06-28 2004-01-15 Carl Zeiss Jena Gmbh Baugruppe mit einer äußeren Fassung und einem optischen Element
US20060126195A1 (en) * 2002-08-08 2006-06-15 Johannes Rau Device for receiving an optical module in an imaging unit
WO2004057398A1 (en) * 2002-12-23 2004-07-08 Bae Systems Plc Deformable-mirror holder
WO2004086148A1 (de) * 2003-03-26 2004-10-07 Carl Zeiss Smt Ag Vorrichtung zur deformationsarmen austauschbaren lagerung eines optischen elements
JP4665759B2 (ja) * 2003-06-06 2011-04-06 株式会社ニコン 光学素子保持装置、鏡筒、露光装置、及びデバイスの製造方法
CN102854755A (zh) * 2003-07-09 2013-01-02 株式会社尼康 曝光装置
DE10331390A1 (de) 2003-07-11 2005-01-27 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren zur Herstellung von asphärischen optischen Flächen
US6816325B1 (en) 2003-09-11 2004-11-09 Carl Zeiss Smt Ag Mounting apparatus for an optical element
DE10344178B4 (de) * 2003-09-24 2006-08-10 Carl Zeiss Smt Ag Halte- und Positioniervorrichtung für ein optisches Element
AU2003296244A1 (en) * 2003-10-02 2005-05-11 Carl Zeiss Smt Ag Optical subassembly and projection objective for semiconductor lithography
DE10352820A1 (de) * 2003-11-12 2005-06-23 Carl Zeiss Smt Ag Flanschbaugruppe eines optischen Systems
WO2005054953A2 (en) * 2003-11-24 2005-06-16 Carl-Zeiss Smt Ag Holding device for an optical element in an objective
US7265917B2 (en) 2003-12-23 2007-09-04 Carl Zeiss Smt Ag Replacement apparatus for an optical element
JP4654915B2 (ja) * 2003-12-25 2011-03-23 株式会社ニコン 光学素子の保持装置、鏡筒、露光装置、及びデバイスの製造方法
US20050153064A1 (en) * 2004-01-14 2005-07-14 Asml Holding N.V. Method of covering clear aperture of optic during deposition of glue protection layer
EP1577693B1 (de) * 2004-02-26 2011-07-13 Carl Zeiss SMT GmbH Objektiv mit wenigstens einem optischen Element
DE102004014641B4 (de) * 2004-03-09 2007-09-13 Carl Zeiss Smt Ag Anordnung zur Lagerung eines optischen Bauelements
US7581305B2 (en) 2004-04-12 2009-09-01 Carl Zeiss Smt Ag Method of manufacturing an optical component
US7515359B2 (en) 2004-04-14 2009-04-07 Carl Zeiss Smt Ag Support device for positioning an optical element
US7791826B2 (en) 2005-01-26 2010-09-07 Carl Zeiss Smt Ag Optical assembly
WO2006119970A2 (en) * 2005-05-09 2006-11-16 Carl Zeiss Smt Ag Assembly for adjusting an optical element
WO2006133800A1 (en) 2005-06-14 2006-12-21 Carl Zeiss Smt Ag Lithography projection objective, and a method for correcting image defects of the same
JP4710427B2 (ja) * 2005-06-15 2011-06-29 株式会社ニコン 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにデバイスの製造方法
JP4934131B2 (ja) 2005-07-01 2012-05-16 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 光学要素の支持装置
JP2007017632A (ja) * 2005-07-06 2007-01-25 Nikon Corp 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにデバイスの製造方法
DE102006038294B4 (de) * 2005-09-02 2012-03-08 Carl Zeiss Smt Gmbh Fassung für ein optisches Element
TWI372271B (en) * 2005-09-13 2012-09-11 Zeiss Carl Smt Gmbh Optical element unit, optical element holder, method of manufacturing an optical element holder, optical element module, optical exposure apparatus, and method of manufacturing a semiconductor device
DE102005057860A1 (de) * 2005-12-03 2007-06-06 Carl Zeiss Smt Ag Objektiv, insbesondere Projektionsobjektiv für die Halbleiterlithographie
DE102006038634A1 (de) * 2006-08-17 2008-02-21 Carl Zeiss Smt Ag Halteeinrichtung für ein optisches Element mit Stützkraftausgleich
JP2008058732A (ja) * 2006-08-31 2008-03-13 Mitsumi Electric Co Ltd カメラモジュール
US8441747B2 (en) 2006-09-14 2013-05-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical module with minimized overrun of the optical element
DE102006043185B4 (de) * 2006-09-14 2010-05-20 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zum justierten Verbinden von Platten und nach diesem Verfahren hergestellte optische Baugruppe
JP5013906B2 (ja) * 2007-03-05 2012-08-29 キヤノン株式会社 光学素子保持装置
DE102008040218A1 (de) 2007-07-11 2009-01-15 Carl Zeiss Smt Ag Drehbares optisches Element
JP5128665B2 (ja) 2007-08-23 2013-01-23 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 寄生負荷最小化光学素子モジュール
DE102008041310A1 (de) 2007-08-31 2009-03-05 Carl Zeiss Smt Ag Optisches Element
JP5127515B2 (ja) * 2008-03-12 2013-01-23 キヤノン株式会社 光学素子保持装置
DE102008000967B4 (de) * 2008-04-03 2015-04-09 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Mikrolithographie
WO2009124590A1 (en) * 2008-04-09 2009-10-15 Carl Zeiss Smt Ag Optical aperture device
DE102008026978A1 (de) * 2008-05-29 2009-12-03 Carl Zeiss Ag Fernrohr
DE102008032853A1 (de) 2008-07-14 2010-01-21 Carl Zeiss Smt Ag Optische Einrichtung mit einem deformierbaren optischen Element
DE102009044957A1 (de) * 2008-09-30 2010-04-08 Carl Zeiss Smt Ag Stützelemente für ein optisches Element
DE102008063223B3 (de) * 2008-12-23 2010-09-09 Jenoptik Laser, Optik, Systeme Gmbh Monolithische optische Fassung
DE102009005954B4 (de) 2009-01-20 2010-10-21 Carl Zeiss Smt Ag Dämpfungsvorrichtung
DE102009029673A1 (de) 2009-09-22 2010-11-25 Carl Zeiss Smt Ag Manipulator zur Positionierung eines optischen Elementes in mehreren räumlichen Freiheitsgraden
DE102009045163B4 (de) * 2009-09-30 2017-04-06 Carl Zeiss Smt Gmbh Optische Anordnung in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
JP2011090250A (ja) * 2009-10-26 2011-05-06 Canon Inc 光学装置、それを用いた露光装置及びデバイスの製造方法
DE102010008756A1 (de) * 2010-02-17 2011-06-30 Carl Zeiss Laser Optics GmbH, 73447 Optische Anordnung
US8542450B2 (en) * 2011-02-08 2013-09-24 Utah State University Research Foundation Kinematic optic mount
WO2013012063A1 (ja) * 2011-07-20 2013-01-24 株式会社ニコン レンズ鏡筒、撮像装置及びレンズ鏡筒の制御方法
DE102011080408A1 (de) * 2011-08-04 2013-02-07 Carl Zeiss Smt Gmbh Semiaktive Kippkorrektur für feste Spiegel
KR101693950B1 (ko) * 2011-09-29 2017-01-06 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 투영 대물 렌즈
DE102012102566B4 (de) * 2012-03-26 2019-02-21 Trumpf Werkzeugmaschinen Gmbh + Co. Kg Übertragungselement für eine Stellbewegung eines optischen Elementes, Positioniereinrichtung sowie Bearbeitungskopf für eine Laserbearbeitungsmaschine
DE102012218220A1 (de) * 2012-10-05 2013-11-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage mit Untersetzungskinematik
DE102013201604B4 (de) * 2013-01-31 2014-10-23 Picofine GmbH Kippvorrichtung und Verfahren zum Kippen
DE102013109185B3 (de) * 2013-08-23 2014-05-22 Jenoptik Optical Systems Gmbh Optische Baugruppe mit einer Fassung mit Verbindungseinheiten gerichteter Nachgiebigkeit
US9557516B2 (en) 2013-10-07 2017-01-31 Corning Incorporated Optical systems exhibiting improved lifetime using beam shaping techniques
DE102014224418A1 (de) 2014-11-28 2015-02-05 Carl Zeiss Smt Gmbh Halteeinrichtung und Lithographieanlage
DE102015115931B3 (de) * 2015-09-21 2016-10-27 Jenoptik Optical Systems Gmbh Spannungsentkoppelte monolithische Linsenfassung
DE102015115929B3 (de) 2015-09-21 2016-10-06 Jenoptik Optical Systems Gmbh Monolithische Linsenfassung
JP6240142B2 (ja) * 2015-11-26 2017-11-29 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 寄生負荷最小化光学素子モジュール
US10088468B2 (en) * 2016-02-04 2018-10-02 Nova Biomedical Corporation Analyte system and method for determining hemoglobin parameters in whole blood
DE102019213798A1 (de) * 2019-09-11 2021-03-11 Robert Bosch Gmbh Verfahren zum Fügen eines Kameraobjektivs an einem Objektivhalter
DE102019218925A1 (de) * 2019-12-05 2021-06-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zur montage eines optischen systems
CN112068274B (zh) * 2020-09-08 2022-05-17 西安应用光学研究所 一种用于精密光机系统粘接的胶头保形装置和方法
DE102021200131A1 (de) 2021-01-11 2022-07-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Baugruppe mit einem Entkopplungsgelenk zur mechanischen Lagerung eines Elements
DE102021214140A1 (de) * 2021-12-10 2023-06-15 Carl Zeiss Smt Gmbh Fassung für eine linse, anordnung, lithographieanlage sowie verfahren
DE102022214186A1 (de) 2022-12-21 2024-06-27 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches system und projektionsbelichtungsanlage

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DD151230A1 (de) * 1980-06-02 1981-10-08 Gerhard Meister Fassung fuer optische bauelemente
JPS5790607A (en) * 1980-11-28 1982-06-05 Fujitsu Ltd Optical glass fitting device
JPS5887504A (ja) * 1981-11-20 1983-05-25 Olympus Optical Co Ltd レンズ保持装置
JPS5975217A (ja) * 1982-10-23 1984-04-27 Olympus Optical Co Ltd レンズ保持装置
US4540251A (en) 1983-12-01 1985-09-10 International Business Machines Corporation Thermo-mechanical overlay signature tuning for Perkin-Elmer mask aligner
JPS60230609A (ja) * 1984-05-01 1985-11-16 Konishiroku Photo Ind Co Ltd プラスチツクレンズ保持装置
US4733945A (en) * 1986-01-15 1988-03-29 The Perkin-Elmer Corporation Precision lens mounting
DD250784A1 (de) * 1986-07-01 1987-10-21 Zeiss Jena Veb Carl Optische anordnung mit radialer und axialer temperaturkompensation
JPH0220328A (ja) * 1988-07-08 1990-01-23 Nikon Corp 紫外域用光学要素
US5428482A (en) * 1991-11-04 1995-06-27 General Signal Corporation Decoupled mount for optical element and stacked annuli assembly
US5457577A (en) * 1992-01-22 1995-10-10 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Quick-set precision optical holder
JPH0631281U (ja) * 1992-09-21 1994-04-22 日本ビクター株式会社 プロジェクションテレビの投写装置
JPH0710710U (ja) * 1993-07-12 1995-02-14 旭光学工業株式会社 レンズの保持構造
US5523893A (en) * 1994-08-24 1996-06-04 Northrop Grumman Corporation Strain free temperature-compensated optical mounts
JPH08171054A (ja) * 1994-12-16 1996-07-02 Nikon Corp 反射屈折光学系
JPH1026736A (ja) * 1996-07-10 1998-01-27 Sanyo Electric Co Ltd 太陽光採光装置における原点位置検出装置
JPH1054932A (ja) * 1996-08-08 1998-02-24 Nikon Corp 投影光学装置及びそれを装着した投影露光装置
DE19748211A1 (de) 1997-10-31 1999-05-06 Zeiss Carl Fa Optisches Array-System und Reader für Mikrotiterplatten
DE19755356A1 (de) 1997-12-12 1999-06-17 Zeiss Carl Fa VUV-beständige Verbindungstechnik für Linsen und Fassungen
DE19825716A1 (de) * 1998-06-09 1999-12-16 Zeiss Carl Fa Baugruppe aus optischem Element und Fassung

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