KR101532126B1 - 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치 - Google Patents

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프랑크 아이스에르트
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칼 짜이스 에스엠티 게엠베하
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Abstract

본 발명은 특히 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치에 관한 것이며, 상기 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치는 적어도 하나의 광학 요소(110, 210) 및 상기 광학 요소(110, 210)에 대한 지지 요소(120, 220)를 포함하며, 상기 광학 요소(110, 210) 및 상기 지지 요소(120, 220)는 적어도 3개의 디커플링 요소(131, 132, 133; 231, 232, 233)에 의해 서로 연결되고, 상기 디커플링 요소(131, 132, 133; 231, 232, 233)는 상기 광학 요소(110, 210) 및 상기 지지 요소(120, 220)와 모놀리식으로 형성된다.

Description

마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치{OPTICAL ARRANGEMENT IN A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS}
본 출원은 2009년 9월 30일자에 제출된 독일 특허 출원 10 2009 045 163.3 및, 2009년 9월 30일자에 제출된 미국 가출원 61/247,059의 우선권을 주장한다. 이들 출원의 내용은 본 명세서에서 인용된다.
본 발명은 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치에 관한 것이다.
마이크로리소그래피(microlithography)는 예컨대 집적 회로 또는 LCDs와 같은 미세 구조화된 구성 요소(microstructured components)의 제조에 이용된다. 마이크로리소그래피 프로세스는 조명 시스템 및 투영 대물렌즈(projection objective)를 갖는 투영 노광 장치라는 것에서 실시된다. 그 경우에, 조명 시스템에 의해 조명되는 마스크(=레티클(reticle))의 이미지는, 마스크 구조를 기판상의 감광성 코팅으로 전사하기 위해 투영 대물렌즈에 의해 감광성층(포토레지스트)으로 코팅되고, 투영 대물렌즈의 이미지 평면에 배치된 기판(예컨대 실리콘 웨이퍼) 상에 투영된다.
적절한 반투명 굴절 재료의 가용성 부족으로 인해, 미러는 EUV 범위, 즉, 예컨대 약 13nm 또는 약 7nm의 파장에서의 EUV 범위를 위해 설계된 투영 대물렌즈의 이미징 프로세스에 대한 광학 구성 요소로서 이용된다. 특히, (예컨대, 0.4 보다 큰 개구수의 값을 가진) 고 개구 투영 대물렌즈에서, (예컨대, 20 - 50mm의 범위 내의) 작은 간격이 그러한 경우에 웨이퍼에 가장 근접하여 배치되는 미러와, 결과적으로 (즉, 예컨대 10 이상의 두께 대 직경의 비에 대해 낮은 값을 가진) 비교적 얇은 미러를 필요로 하는 웨이퍼 사이에서 요구된다.
그러한 종류의 얇은 미러에 의하면, 실제로, 문제는 예컨대 설치 또는 코팅 효과에 의해 유발되거나 중력으로 인해 원치 않는 표면 변형 현상으로 인해 유발된다. 그 점에서, 기생 모멘트 또는 힘 또는 정적 명확성(static definiteness)을 방해하는 모멘트 또는 힘에 의해 유발되는 미러 변형 현상은 이미 예컨대 전체 미러에 대해 허용되는 표면 변형의 50%의 크기의 정도를 달성할 수 있다.
실제로는, 필요한 사양에 부합하도록 증가한 개구수와 수반되는 미러 크기의 증대가, 한편으로 외부 진동의 발생 시에도 서로에 대한 광학 요소의 위치를 단단히 유지하고, 다른 한편으로 연마 동작 후에 미러의 스크루잉(screwing)에 의해 일반적으로 생성되는 기생 및 질량 의존 모멘트 또는 간섭력에 관해 충분한 강성을 제공하기 위해 고유 주파수를 증가시키는 것을 필요하게 하는 추가적 요구가 있다.
그 경우에는 - 이것은 또한 투영 대물렌즈의 이미지 평면측에서 마지막 위치 이외의 위치의 미러와 관계하며 - 문제는, 비교적 큰 미러 직경이 수반될 때, 달성 가능한 고유 주파수가 미러 두께와 무관하게 제한된다는 것이다. 특히 예컨대 6개의 미러가 장착된 EUV 투영 대물렌즈에서 지금까지 달성된 고유 주파수는 원하는 오버레이(overlay) 사양을 달성하기 위해 외부 진동에 의해 간섭의 영향을 충분히 억제하는데 적절치 않다.
디커플링 요소(decoupling elements)를 이용하는 다수의 접근법은 미러 또는 렌즈와 같은 광학 요소에 대한 기계적 응력의 적용으로 연계된 문제를 해결하는 것으로 알려져 있다.
그 점에서, 그것은 특히 평면을 세 지점으로 명백히 정의하는 것에 의해 위치의 양호한 재현성을 달성하기 위하여 운동학적 세 점 배치(kinematic three-point arrangement)에 디커플링 요소를 제공하는 것이 알려져 있다.
WO 2005/054953 A2는 그 중에서도 투영 대물렌즈 내 광학 요소의 홀딩 장치를 개시하며, 여기서 홀더와 광학 요소 사이에는 열팽창의 계수가 실질적으로 광학 요소의 계수에 상응하는 강화 요소가 제공된다.
특히 US 2009/0122428 A1에서 투영 노광 장치의 광학 요소가 열 유도된 변형 현상이 감소되도록 설계되는 것이 알려져 있으며, 이를 위해 특히 리브 구조(ribbed structure)가 제공된 보정판이 또한 미러의 후면에 적용된다.
본 발명의 목적은 더 높은 개구수로도 광학 요소에서 발생하는 기생력 또는 모멘트로 인한 이미징 특성에 대한 부정적 효과를 감소시키거나 회피하는 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치를 제공하는 것이다.
이 목적은 독립항의 특징에 의해 달성된다.
본 발명의 한 양태에 따르면, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치는:
- 적어도 하나의 광학 요소; 및
- 광학 요소에 대한 지지 요소를 포함하며;
- 광학 요소 및 지지 요소는 적어도 3개의 디커플링 요소에 의해 서로 연결되고;
- 상기 디커플링 요소는 광학 요소 및 지지 요소와 모놀리식으로(monolithically) 형성된다.
그러므로 제 1 양태에 따르면, 본 발명은 주변 캐리어 구조체로부터 모놀리식으로, 즉 광학 요소 또는 그 광학적으로 효과적인 표면과 동일한 재료(예컨대, 석영 유리(Si02), Zerodur®, ULE® 또는 Clearceram®과 같은 유리 재료)의 블록으로부터 광학 요소를 디커플링하기 위해 이용되는 디커플링 요소를 제조하는, 즉 정확하게는 별도의 결합 단계에서가 아니거나 어떠한 연결 기술(예컨대, 화학 제품, 접착제, 클램핑 연결 등)을 이용하지 않고 디커플링 요소를 광학 요소에 적용하는 개념에 기초한다. 결과적으로, 예컨대 또한 진공 조건 하의 연결의 불안정성뿐만 아니라 접착제 연결 및 이의 경화에 수반되는 수축 또는 스트레싱 효과도 방지될 수 있다.
지지 요소는 광학 요소와 투영 노광 장치의 캐리어 구조체 사이의 인터페이스를 제공하며, 여기서 세 지점 디커플링 효과의 결과로서 지지 요소와 광학 요소 사이에는 강성(stiffness)이 전달되지 않는다.
그 점에서 본 발명에 따르면, 디커플링 요소에 대한 모놀리식 구성이 수반되는 제조 기술에 대한 증가된 복잡함 및 지출은 대응으로서 기생 모멘트 또는 힘을 감소시키고, 큰 미러 직경 또는 작은 미러 두께에도 불구하고 달성될 강성을 고려하기 위해 신중히 받아들여진다.
따라서, 본 발명에 따른 장치에서, 충분히 얇고, 그럼에도 상당한 강성인 미러를 제공할 수 있으며, 예컨대 접착제 및 이것이 수반하는 응력을 이용하는 것과 같은 결합 기술은 모놀리식 구성의 결과로 중복되어 만들어진다.
상기 양태에 따르면, 디커플링 요소는 또한 지지 요소와 모놀리식으로 형성되어, 디커플링 요소와 지지 요소 사이에는 결합 기술이 또한 적용될 필요가 없으며, 응력의 적용 또한 그 점에 있어서 제거된다. 그러나 본 발명은 그 구성으로 제한되기보다는, 본 발명은 또한 특히 EUV 리소그래피에 대한 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 실시예를 수용할 것이며, 광학 요소와 디커플링 요소 사이에만 모놀리식 구성이 존재하며, 즉 디커플링 요소와 지지 요소 사이의 결합은 별도의 결합 기술에 의해 실현된다.
실시예에서, 지지 요소는 설치 요소에 의해 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 캐리어 구조체에 연결되며, 여기서 설치 요소는 디커플링 요소에 대하여 주변 방향으로 변위되어 배치된다. 캐리어 구조체로부터의 광학 요소(예컨대, 미러)의 향상된 디커플링은 광학 요소와 지지 요소 사이의 연결을 제공하는 디커플링 요소에 대해 지지 요소와 캐리어 구조체 사이의 연결을 형성하는 설치 요소의 변위의 결과로서 달성된다.
그런 식으로, 설치 요소 또는 캐리어 구조체의 결합 위치가 광학 요소와의 접촉을 일으키는 결합 위치 또는 디커플링 요소로부터의 증가 또는 바람직하게는 최대 간격에 배치되는 한 기생 홀더 영향의 디커플링에서의 추가적 개선을 달성할 수 있다. 한편으로 캐리어 구조체로의 기계적 고정과 다른 한편으로 디커플링 요소 또는 결합 위치 사이의 최대 거리는 비교적 긴 또는 최대 이동 거리 및 이어서 캐리어 구조체과 지지 요소 사이의 기계적 연결로부터의 어떤 피할 수 없는 응력을 광학 요소로 전달하는 것에 대한 비교적 큰 억제 인자를 제공한다.
이러한 유리한 효과는, 광학 요소와 지지 요소 사이의 연결이 모놀리식 디커플링 요소에 의해 실현되지 않고, 일부 다른 결합 위치에 의해 영향을 받을 경우에, 예컨대 이하 기재된 바와 같이 (광학 요소와) 모놀리식인 디커플링 요소의 제공이 미러 위치로 인해 가능하지 않을 때에 또한 제공된다.
따라서, 본 발명의 추가적 양태에서, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치는:
- 캐리어 구조체;
- 적어도 하나의 광학 요소; 및
- 적어도 3개의 결합 위치에서 광학 요소에 부착된 지지 요소를 포함하며;
- 지지 요소는 설치 요소에 의해 캐리어 구조체에 연결되고;
- 설치 요소는 결합 위치에 대해 주변 방향으로 변위되어 배치되며;
- 광학 요소는 적어도 10의 최대 두께에 대한 최대 직경의 비율을 갖는다.
실시예에서, 디커플링 요소 또는 결합 위치는 제각기 주변 방향으로 서로 실질적으로 일정한 간격으로 배치된다. 더욱이, 실시예에서, 설치 요소는 제각기 디커플링 요소 또는 결합 위치에 대해 주변 방향으로 서로 실질적으로 일정한 간격으로 배치될 수 있다. 그것은 광학 요소와 접촉하는 디커플링 요소 또는 결합 위치로부터 캐리어 구조체의 결합 위치 사이의 최대 간격을 달성할 수 있게 한다.
앞서 언급한 접근법의 실시예에서, 디커플링 요소 또는 결합 위치는 제각기 120°± 30°, 특히 120°± 20°, 더욱 특히 120°± 10°의 각도에 걸쳐서 주변 방향으로 서로에 대해 변위된다. 게다가, 바람직하게는, 설치 요소는 디커플링 요소에 대해 또는 결합 위치에 대해 60°± 20°, 특히 60°± 10°, 더욱 특히 60°± 3°의 각도에 걸쳐서 제각기 주변 방향으로 변위된다.
실시예에서, 지지 요소는 정확히 3개의 디커플링 요소 또는 결합 위치에 의해 광학 요소에 연결된다. 이러한 구성은, 디커플링 요소 또는 결합 위치의 수의 추가적 증가가 강성 특성 또는 달성된 고유 주파수의 개선을 이끌어 내지 않고, 불리한 방식의 기생 모멘트로 인한 변형 현상 증가를 이끌어 내는 한 특히 유익한 것으로 이해된다.
실시예에서, 설치 요소는 광학 요소에 정적으로 정의된 설치(statically defined mounting)를 제공하는 구성의 설치 요소이다(이러한 점에서, 특히 해당 위치에 광학 요소를 홀딩하기 위한 불필요한 힘이 존재하지 않는다). 이를 위해, 3개의 바이포드(bipods)가 예컨대 그 자체가 알려진 방식의 설치 요소로서 제공될 수 있다. 대안적으로, 광학 요소의 정적 정의(definedness)를 초래하는 어떠한 다른 설치 장치, 예컨대 헥사포드(hexapod) 설치 구성 또한 존재할 수 있다.
실시예에서, 광학 요소 및 지지 요소는 서로 다른 열팽창 계수를 가진 재료로 만들어진다. 그러한 식으로, EUV 조건 하의 동작에서 발생할 수 있는 바와 같이, 광학 요소 및 지지 요소의 온도의 서로 다른 상승을 고려할 수 있다.
추가적 실시예에서, 광학 요소 및 지지 요소는 동일한 재료, 특히 석영 유리 (Si02), ULE®, Zerodur® 또는 Clearceram®로 만들어져, 특히 열적으로 유도된 변형이 최소화될 수 있다.
실시예에서, 광학 요소는 미러이다. 그러나 본 발명은 그것에 한정되지 않는다. 오히려, 본 출원에서 용어 '광학 요소'는 기본적으로 어떠한 광학 요소, 예컨대 렌즈와 같은 굴절 요소 또는 광학 격자(gratings)와 같은 회절 요소를 포함하는데 이용된다.
실시예에서, 지지 요소는, (특히 다수의 슬롯의 접선 배치(tangential arrangement)에 의해), 부가적인 유연성이 반경 방향으로 제공되고 반경 방향의 적어도 부분적 디커플링이 실시될 수 있는 적어도 하나의 슬롯을 갖는데, 이는 특히 지지 요소와 광학 요소 또는 미러 사이의 온도차의 경우에 유익할 수 있다.
실시예에서, 지지 요소는 광학 요소의 외부, 즉 예컨대 광학 요소에 대해 외부 링의 형태로 배치된다.
추가적 실시예에서, 지지 요소는 또한 광학적으로 효과적인 표면으로부터 떨어져 면하는 광학 요소의 표면상에 배치될 수 있다. 그것은 한편으로 지지 요소가 더 작은 외부 크기(그래서 예컨대 더 작은 반경을 가진 링의 형태인 경우)로 제조될 수 있고, 이에 의해 (유리) 재료가 절약되고, 무게가 감소된다는 이점을 갖는다. 게다가, 이런 식으로, 지지 요소는 더 높은 강성도를 제공받을 수 있다.
실시예에서, 광학 요소는 적어도 5, 특히 적어도 10, 특히 적어도 15, 더욱 특히 적어도 20의 최대 두께에 대한 최대 직경의 비율을 가지며, (여기서 직경은 제각기 광학적으로 이용되거나 광에 의해 작용되는 표면에 제각기 관계된다). 이와 같은 작은 두께로, 본 발명은 특히 본 발명에 따라 작은 두께에서 달성될 수 있는 강성이 특히 유용한 한 유익하다.
실시예에서, 광학 요소는 중앙 구멍을 가진다.
실시예에서, 광학 요소는 무게를 가볍게 하기 위한 수단(measures)을 가지고 있다. 이 경우에, 모서리 부분은 시스템의 광학 축의 방향(즉, 두께의 방향)으로 광학 요소를 강화하기 위해 증대될 수 있어, 강성이 더욱 적은 무게로 실질적으로 감소되지 않는다.
본 발명은 또한 조명 시스템 및 투영 대물렌즈를 포함하는 EUV 리소그래피를 위한 마이크로리소그래피 투영 노광 장치에 관한 것이며, 여기서 조명 시스템 및/또는 투영 대물렌즈는 본 발명에 따라 상기 기재된 특징을 갖는 광학 장치를 갖는다. 실시예에서, 광학 요소는 광학 빔 경로에서 마지막인 투영 대물렌즈의 미러일 수 있다.
추가적 실시예에서, 광학 요소는 웨이퍼에 가장 근접하여 배치되는 투영 대물렌즈의 미러가 될 수 있다. 게다가, 투영 대물렌즈는 적어도 0.3, 특히 적어도 0.4, 특히 적어도 0.45, 더욱 특히 적어도 0.5의 개구수를 가질 수 있다. 그러한 사용의 상황에서, 본 발명은, 본 명세서의 서두 부분에서 논의된 바와 같이, 이미지 평면측에서 마지막인 미러와 웨이퍼 사이에서 필요한 작은 간격을 고려하여 정확히 비교적 높은 개구수에 관하여, 본 발명에 따라 작은 두께로 달성될 수 있는 강성이 특히 유용하도록 미러가 비교적 얇을 수 있는 한 특히 유익하다.
게다가, 본 발명은,
- 캐리어 구조체;
- 적어도 10의 최대 두께에 대한 최대 직경의 비율을 가진 적어도 하나의 광학 요소; 및
- 상기 광학 요소에 대한 지지 요소를 포함하며;
- 지지 요소는 설치 요소에 의해 캐리어 구조체에 연결되며;
- 광학 요소, 지지 요소 및 설치 요소의 시스템의 고유 주파수는 적어도 250Hz인, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치에 관한 것이다.
마이크로리소그래피 투영 노광 장치는 특히 15nm 미만의 동작 파장을 위해 설계될 수 있다.
본 발명의 추가적 구성은 상세한 설명 및 종속항에서 찾을 수 있다.
본 발명은 동반하는 도면에서 도시된 예로서 실시예에 의해 이하에서 더욱 상세히 기재된다.
도 1a-b는 실시예에 따라 평면(도 1a) 및 단면(도 1b)에서 본 발명에 따른 장치를 도시한 도면이다.
도 1c는 본 발명에 따른 장치의 추가적 실시예의 평면도를 도시한 것이다.
도 2는 본 발명의 추가적 실시예를 설명하기 위해 사시도를 도시한 것이다.
도 3a-b는 본 발명의 추가적 실시예를 설명하기 위해 사시도를 도시한 것이다.
도 4는 본 발명의 추가적 실시예를 설명하기 위한 상세한 도면을 도시한 것이다.
도 5는 EUV를 위해 설계된 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 도면을 도시한 것이다.
먼저, 본 발명의 제 1 실시예는 도 1a-b와 관련하여 추가로 기재된다.
도 1a-b를 참조하면, 제 1 실시예에 따른 광학 장치(100)는 미러의 형태의 광학 요소(110)를 포함한다. 미러는 특히 EUV를 위해 설계된 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 투영 대물렌즈의 미러일 수 있으며, 이 미러는 (본 발명이 그것에 제한되지 않고) 오목 미러의 형태이며 도 1b에서 볼 수 있는 바와 같이, 특히 미러를 강화하기 위한 보강 부분(115) 및 중앙 구멍(150)을 갖는다.
장치(100)는, 도 1a-b의 실시예에서, 광학 요소(110)에 대해 동심적으로 배치되는 외부 링의 형태인 지지 요소(120)를 추가로 포함한다. 그러한 지지 요소(120)는 광학 요소(110)와 지지 요소(120) 사이에서 다리형(leg-like)으로 연장하는 디커플링 요소(131, 132 및 133)를 거쳐 광학 요소(110)에 연결된다. 더욱이, 실시예에서, 상기 언급한 보강 부분(115)은 지지 요소(120)에 대해 방사상 안쪽으로 배치되는 (내부) 링 또는 외부 링을 형성하는데, 그러나, 여기서 내부 링은 동시에 미러 자체의 부분이다.
도시된 실시예가 실질적으로 둥근 미러를 도시하지만, 본 발명은 그것에 한정되지 않는다. 오히려, 이 실시예에서의 미러는 추가적 실시예에서와 같이 예컨대 어떠한 다른 타원형, 직사각형, 신장형(reniform) 또는 삼각형 기하학적 형상 또한 될 수 있다.
디커플링 요소(131-133)는 지지 요소(120)에서 광학 요소(110)로의 변형의 전달이 일어나지 않도록 충분히 부드럽거나 탄성이 있다. 이들 디커플링 요소(131-133)의 크기는 광학 요소(110) 및 지지 요소(120)의 특정 측면 또는 크기에 따라 적절히 선택될 수 있으며, 여기서 300mm와 600mm 사이의 범위에서의 미러에 대한 일반적인 직경에 대해, 다리형 디커플링 요소(131-133)의 길이 및 폭에 대한 한 예로서 값은 5mm와 20mm 사이의 범위 내에 있을 수 있다.
게다가, 광학 장치(100)는 예컨대 바이포드와 같은 (도 1에 도시되지 않은) 설치요소를 위한 고정 부착물(fixing attachments)(141, 142 및 143)을 가지며, 이에 의해 장치(100)는 광학 시스템의 (또한 도 1에 도시되지 않은) 캐리어 구조체에 결합된다. 디커플링 요소(131-133)와 함께 광학 요소에서 캐리어 구조체로의 도중에 전체 2단계 디커플링을 제공하기 위해 디커플링 요소를 이용하여 캐리어 구조체로의 결합을 또한 실현할 수 있다.
도 1a-b에 도시된 실시예의 필수적인 특징은 광학 요소(110), 지지 요소(120) 및 디커플링 요소(131-133)가 모놀리식이고, 즉 1 피스(piece) 또는 재료의 동일한 하나의 블록에서 제조된다는 것이다. 적절한 재료는 예컨대 석영 유리(Si02), ULE®, Zerodur® 또는 Clearceram®이다.
도 1a에서 볼 수 있듯이, 디커플링 요소(131, 132 및 133)는 또한 120°에 걸쳐서 주변 방향으로 제각기 변위된다. 게다가, 외부 캐리어 구조체에 관해 연결점을 형성하는 고정 돌출부(141, 142 및 143)는 서로에 대해 또한 120°에 걸쳐서 주변 방향으로 변위될 뿐만 아니라, 주변을 따라 제각기 인접한 디커플링 요소(131-133)에 관해 제각기 60°에 걸쳐서 주변 방향으로도 변위되어, 결과적으로 각 디커플링 요소(131-133)와 각각의 가장 근접한 고정 돌출부(141-143) 사이에서 주어진 조건하에 최대 간격이 존재한다.
상술한 상대적인 장치는, 캐리어 구조체 또는 광학 시스템의 나머지 부분에 대한 기계적 연결을 위한 고정 돌출부(141-143)가 지지 요소(120) 상에서 '2시', '6시' 및 '10시'의 위치에 배치되는 반면에 디커플링 요소(131-133)는 예컨대 '12시', '4시' 및 '8시'의 위치에 배치된다는 점에서 예컨대 도 1a에 도시된 바와 같이 실시될 수 있다.
(모놀리식) 디커플링 요소(131-133), 지지 요소(120) 또는 외부 링 및, 예컨대 바이포드와 같은 설치 요소가 거기에 설치되는 고정 돌출부(141, 142 및 143)의 광학 요소(110) 또는 미러를 포함하는 장치는 동적 시스템 'M1 - K1 - M2 - K2'로 볼 수 있다. 그런 점에서, M1은 광학 요소 또는 미러의 질량(㎏)을 나타내고, K1은 디커플링 요소(131-133)의 강성(주요 방향 및 N/m의 단위)을 나타내며, M2는 지지 요소(120) 또는 외부 링의 질량을 나타내며, K2는 설치 요소 또는 바이포드의 강성을 나타낸다. 홀더-유도된 기생 영향에 대한 미러의 최상의 가능한 디커플링을 위해, K1은 특히 기생 방향으로 가능한 한 작아야 한다. 게다가, 고유 주파수는 300Hz 이상이어야 한다. M1 및 K1은 전체 시스템의 원하는 제 1 고유 주파수(Hz)보다 약간 크고, 예컨대 350Hz와 400Hz 사이의 범위에 있을 수 있는 고유 주파수를 생성하도록 크기가 정해진다. 광학 요소의 보강 부분에 의해 형성된 질량 M2의 '내부 링'은 실질적으로 단단한 몸체처럼 동작하도록 적절한 강성을 가져야 하며, 질량 M1 + M2 및 K2 전체에 의해 생성된 고유 주파수는 실질적으로 300Hz보다 커야하고, 예컨대 600Hz 이상이어야 한다.
도 1c에 표시된 바와 같이, 슬롯(161-163)은 또한 부가적인 유연성 또는 반경 방향으로 적어도 부분 디커플링을 제공하도록 광학 요소(110) 내에 제공될 수 있으며, 이는 특히 지지 요소와 광학 요소 또는 미러 사이의 온도차의 경우에 유리할 수 있다. 실시예에서, (단지 길이 20mm - 40㎜의 예의 크기인) 3개의 슬롯(161-163)은 접선으로 배치되거나 배향될 수 있다. 대안적으로, 이와 같은 슬롯은 또한 지지 요소(120) 또는 링에 배치될 수 있다.
도 2는 도 1에 필적할 수 있거나 실질적으로 동일한 기능인 요소가 '100'만큼 증가된 참조번호에 의해 식별되는 본 발명에 따른 장치(200)의 추가적 실시예를 도시한 것이다.
도 2의 실시예는, 지지 요소(220)가 광학 요소(210) 또는 미러에 대해 외부 링의 형태가 아니고, 말하자면 방사상 안쪽으로 변위되며, 여기서 지지 요소(220)는 광학 요소(210) 또는 미러의 후면 또는 광학 활성 표면의 반대 측면에 배치된다는 점에서 실질적으로 도 1의 실시예와 다르다.
따라서, 도 2의 실시예에서, 지지 요소(220)와 광학 요소(210) 사이의 연결을 형성하는 3개의 디커플링 요소(그 중에서 하나의 디커플링 요소(231)만이 도 2에 도시됨)는 또한 광학 요소(210) 또는 그의 보강 모서리 부분(215)에 대하여 방사상 안쪽으로 배치되며, 여기서 디커플링 요소(231-233)는 지지 요소(220)에서 광학 요소(210)의 보강 모서리 부분(215)으로 연장한다.
도 1a-b의 실시예와 마찬가지로, 도 2의 장치(200)는 또한 광학 요소(210) 또는 미러, 지지 요소(220) 및 디커플링 요소(231-233)가 서로 모놀리식 구성임을 규정한다.
도 1 및 도 2의 실시예에서 광학 요소 및 또한 지지 요소 모두와의 디커플링 요소(131-133 및 231-233)의 모놀리식 구성이 실시되지만, 추가적인 실시예가 가능하여, 모놀리식 구성이 광학 요소 및 디커플링 요소의 장치에 대해서만 일어나는 본 발명에 의해 포함되는 것으로 간주되어야 하며, 즉 디커플링 요소와 지지 요소 사이의 연결은 별도의 연결 절차에 의해 실현된다.
도 3a-b는 도 1과 필적하거나 실질적으로 동일한 기능인 요소가 '200'만큼 증가된 참조번호에 의해 식별되는 본 발명에 따른 장치(300)의 추가적 실시예를 도시한 것이다.
도 3a-b의 광학 장치(300)는 적어도 3개의 결합 위치(331, 332, 333)에 광학 요소(310) 또는 미러를 강화하기 위해 외부 링의 형태의 지지 요소(320)에 부착되는 미러의 형태(여기서는 볼록)의 광학 요소(310)를 다시 포함하며, 여기서 도 1의 디커플링 요소(131-133) 장치와 마찬가지로 이들 결합 위치(331, 332, 333)는 제각기 120°에 걸쳐서 서로에 대해 주변 방향으로 변위된다.
그러나 도 1의 실시예와 달리, 결합 위치(331-333)에서의 연결은 모놀리식 디커플링 요소에 의해 실현되지 않고, 적절한 연결 또는 결합 절차를 이용하여, 예컨대 레이저 납땜에 의해 또는 접착성 결합의 형태로 실현된다. 순전히 결합 위치의 예를 통한 크기는 5mm * 5mm의 범위의 크기의 정도(본 발명은 그것에 제한되지 않음)일 수 있고, 실질적으로 평평한 연결 및, 이에 따라 도 1 및 2의 실시예에 비해 낮은 휨 응력으로도, 이와 같은 작은 단면 영역은 이미 적당하다.
도 3a-b의 구성은 특히 이미지 평면측에서 마지막이거나, 웨이퍼의 바로 앞에 배치되는 투영 대물렌즈의 미러를 설치하는데 적절하며, 이는, 생산 엔지니어링 취급 또는 연마 측면에서 도 1 또는 도 2의 실시예와 마찬가지로, 모놀리식 디커플링 요소의 존재를 수반하는 경우에 미러가 매우 복잡하고 비싸기 때문이다.
또한, 도 1의 실시예와 마찬가지로, 연결점(341, 342 및 343)은 또한 한편으로 예컨대 바이포드와 같은 (도 3에 도시되지 않은) 설치 요소에 관해 서로에 대해 120°에 걸쳐서 주변 방향으로 변위되며(상기 설치 요소에 의해 장치(300)가 광학 시스템의 (또한 도 3a-b에 도시되지 않은) 캐리어 구조체에 결합됨), 다른 한편으로 또한 주변을 따라 제각기 인접한 결합 위치(331, 332, 333)에 대해 제각기 60°에 걸쳐서 주변 방향으로도 변위되는데, 결과적으로 이것은 각 결합 위치(331, 332, 333)와 각각의 가장 근접하여 인접한 연결점(341-343) 또는 설치 요소 사이에서 주어진 조건하에 최대 간격을 제공하도록 한다.
도 4에 표시된 바와 같이, 예컨대, 한편으로 미러 및 다른 한편으로 지지 요소 또는 링에 대한 EUV 조건 하에 동작 시에 가능한 온도의 서로 다른 상승을 고려하기 위해, 슬롯(461, ...)은 또한 지지 요소(420) 또는 링 내에 제공되어 디커플링 효과를 달성할 수 있다. 특히, (단지 길이 20mm - 40㎜의 예로서의 크기를 가진) 3개의 슬롯(461-463)은 접선으로 배치되거나 배향될 수 있으며, 이 경우에, 이들의 동작은 트리플 바이포드(triple bipod)와 유사하며, 미러 평면에 충분한 동적 강성(kinematic stiffness)을 제공할 수 있다.
광학 장치의 예로서 2개의 실제 실시예에 대해, 표 1은 2개의 서로 다른 미러 크기에 대한 고유값을 보여주며 (실시 예 1: 최대 미러 두께 또는 높이 t = 17.5mm; 실시 예 2: 최대 미러 두께 또는 높이 t = 25mm), 재료(석영 유리, SiO2) 뿐만 아니라 링 폭(즉, 외부 및 내부 직경 간의 차) a = 30mm 및 링 높이 h = 60mm를 가진 지지 요소(320)를 형성하는 링의 크기는 동일하도록 선택되었다.
표 1에서 보여질 수 있는 바와 같이, 실시예 1 및 또한 실시예 2의 양방에 대해, 400Hz에 가까운 (미러, 지지 요소 또는 링 및, 예로서 장치에 대한 기초를 형성하는 바이포드 세트로 구성된 시스템에 대한) 제 1 고유 주파수에 대한 값 및, 현저하게 10kg 미만인 (미러 및 지지 요소 또는 링으로 구성되는 장치에 대한) 질량 값이 달성되며, 이 점에서, 게다가 실시 예 2에 대해, 중력에 의한 변형은 500nm 아래의 값을 포함한다. 표 1은 또한 반경 및 또한 접선 모멘트의 양방에 대해 제르니케(Zernike) 다항식에서 획득되는 변형의 발생 시에 생성하는 제르니케 계수의 일부를 나타내며, 이 점에서 원하는 대로 예외없이 0.5nm 미만의 값이 달성되고, 보다 큰 두께를 포함하는 예 2에 따른 미러는 거의 변형 현상이 없다. 기생 모멘트는 또한 예로서 구성의 기초를 형성하고, 보통의 설치 및 생산 허용 오차를 가진 바이포드 세트에서 나온다.
도 5는 EUV 프로세스의 동작을 위해 설계되고, 본 발명이 실시될 수 있는 마이크로리소그래피 투영 노광 장치를 도시한 도면이다.
도 5의 투영 노광 장치는 조명 시스템(6) 및 투영 대물렌즈(31)를 갖는다. 조명 시스템(6)은, 광원(2)에 의해 방출되는 조명 광(3)의 광 전파의 방향으로, 집광기(collector)(26), 스펙트럼 필터(27), 필드 패싯(field facet) 미러(28) 및 동공 패싯(pupil facet) 미러(29)를 포함하며, 이로부터 광은 오브젝트(object) 평면(5) 내에 배치된 오브젝트 필드(4) 상에 입사한다. 오브젝트 필드(4)로부터의 광은 입사 동공(entrance pupil)(30)을 가진 투영 대물렌즈(31)로 통과한다. 투영 대물렌즈(31)는 중간 이미지 평면(17), 제 1 동공 평면(16) 및 어퍼처 부재(aperture member)(20)가 그 안에 배치된 추가 동공 평면을 갖는다.
투영 대물렌즈(31)는 통틀어 6개의 미러 M1 - M6를 포함하며, 여기서 M5는 웨이퍼 또는 이미지 평면(9)(예시된 실시예에서는 간격 dw
Figure 112012034012591-pct00001
30mm로)에 가장 근접하여 배치되는 미러를 나타내며 관통 구멍(19)을 갖는다. M6은 광학 빔 경로에 관해 마지막 미러를 나타내며 관통 구멍(18)을 갖는다. 오브젝트 평면 내에 배치되는 오브젝트 필드(4) 또는 레티클(reticle)에서 나오는 빔은, 레티클로부터 이미지화될 구조의 이미지를 생성하기 위해 미러 M1 - M6에서 반사한 후에, 이미지 평면(9) 내에 배치된 웨이퍼로 통과한다.
(비교적 가장 큰 반경을 가진) 광학 빔 경로에 관한 마지막 미러 M6는 예컨대 도 1 또는 도 2의 실시예와 유사한 본 발명에 따른 구성이 될 수 있다. 웨이퍼 또는 이미지 평면(9)에 가장 근접한 미러 M5는 도 3 또는 도 4의 실시예와 유사한 (해당 위치에서 이용 가능한 작은 구조적 공간에 관한) 본 발명에 따른 구성이 될 수 있다.
본 발명이 특정 실시예에 대한 참조에 의해 기재되었으나, 수많은 변형 및 대안적 실시예는 예컨대 개별 실시예의 특징의 결합 및/또는 교환에 의해 당업자에게는 자명할 것이다. 따라서, 당업자는 이와 같은 변형 및 대안적 실시예가 또한 본 발명에 의해 포함되고, 본 발명의 범위는 동반한 청구범위 및 이의 상당하는 것에만 제한된다는 것을 알 수 있을 것이다.
예 질량



[kg]		 제1고유 주파수


[Hz]		 1g에 대한
변형

[nm]		 방사 기생 모멘트를 가진 부하 상황에 대한 제르니케

[nm]
Z 5 Z 6 Z10 Z11		 접선 기생 모멘트를 가진 부하 상황에 대한 제르니케

[nm]
Z 5 Z 6 Z10 Z11
1 6.32 382 1114 0.24 0.14 0.02 0.00 0.24 0.14 0.02 0.00
2 7.69 360 496 0.00 0.06 0.00 0.02 0.01 0.02 0.01 0.01

Claims (43)

  1. 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치로서,
    적어도 하나의 광학 요소(110); 및
    상기 광학 요소(110)에 대한 지지 요소(120)를 포함하며;
    상기 지지 요소(120)는 상기 광학 요소(110)의 반경 방향 바깥쪽에 배치되고;
    상기 광학 요소(110) 및 상기 지지 요소(120)는 적어도 3개의 디커플링 요소들(131, 132, 133)에 의해 서로 연결되고;
    상기 적어도 3개의 디커플링 요소들(131, 132, 133)은, 반경 방향으로 상기 광학 요소(110)와 상기 지지 요소(120)와의 사이에 상기 광학 요소(110)의 주변 방향을 따라서 배치되고;
    상기 디커플링 요소들(131, 132, 133)은 상기 광학 요소(110) 및 상기 지지 요소(120)와 모놀리식으로 형성되는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 지지 요소(120)는 설치 요소들에 의해 상기 투영 노광 장치의 캐리어 구조체에 연결되며, 상기 설치 요소들은 상기 디커플링 요소들(131-133)에 대하여 주변 방향으로 변위되어 배치되는 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치.
  3. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 광학 요소(110)는 적어도 10의 최대 두께에 대한 최대 직경의 비율을 가지는 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치.
  4. 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치로서,
    적어도 하나의 광학 요소(110, 210); 및
    상기 광학 요소(110, 210)에 대한 지지 요소(120, 220)를 포함하며;
    상기 지지 요소(120, 220)는, 상기 광학 요소(110, 210)에 대해 반경 방향으로 변위하여 배치되고;
    상기 광학 요소(110, 210) 및 상기 지지 요소(120, 220)는 적어도 3개의 디커플링 요소들(131, 132, 133; 231, 232, 233)에 의해 서로 연결되고;
    상기 적어도 3개의 디커플링 요소들(131, 132, 133; 231, 232, 233)은, 반경 방향으로 상기 광학 요소(110, 210)와 상기 지지 요소(120, 220)와의 사이에 상기 광학 요소(110, 210)의 주변 방향을 따라서 배치되고;
    상기 디커플링 요소들(131, 132, 133; 231, 232, 233)은 상기 광학 요소(110, 210) 및 상기 지지 요소(120, 220)와 모놀리식으로 형성되며; 및
    상기 광학 요소(110, 210)는 적어도 10의 최대 두께에 대한 최대 직경의 비율을 갖는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치.
  5. 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치로서,
    캐리어 구조체;
    적어도 하나의 광학 요소; 및
    적어도 3개의 결합 위치들(331, 332, 333)에서 상기 광학 요소에 부착된 지지 요소(320, 420)를 포함하며;
    상기 지지 요소(320, 420)는 상기 광학 요소의 반경 방향 바깥쪽에 배치되고;
    상기 지지 요소(320, 420)는 설치 요소들에 의해 상기 캐리어 구조체에 연결되고;
    상기 설치 요소들은 상기 결합 위치들(331, 332, 333)에 대해 주변 방향으로 변위되어 배치되며;
    상기 광학 요소는 적어도 10의 최대 두께에 대한 최대 직경의 비율을 갖는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치.
  6. 청구항 4 또는 청구항 5에 있어서,
    상기 광학 요소는 적어도 15의 최대 두께에 대한 최대 직경의 비율을 갖는 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치.
  7. 청구항 1, 청구항 2, 청구항 4 및 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서,
    디커플링 요소들 또는 결합 위치들은 주변 방향으로 서로 일정한 간격으로 제각기 배치되는 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치.
  8. 청구항 2, 청구항 4 및 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서,
    설치 요소들은 디커플링 요소들 또는 결합 위치들에 대해 주변 방향으로 서로 일정한 간격으로 제각기 배치되는 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치.
  9. 청구항 1, 청구항 2, 청구항 4 및 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서,
    디커플링 요소들 또는 결합 위치들은 120°± 30°의 각도에 걸쳐서 주변 방향으로 서로에 대해 제각기 변위되는 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치.
  10. 청구항 2, 청구항 4 및 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서,
    설치 요소들은 디커플링 요소들에 대해 또는 결합 위치들에 대해 60°± 20°의 각도에 걸쳐서 주변 방향으로 제각기 변위되는 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치.
  11. 청구항 1, 청구항 2, 청구항 4 및 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 지지 요소는 정확히 3개의 디커플링 요소들 또는 결합 위치들(331, 332, 333)에 의해 상기 광학 요소에 연결되는 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치.
  12. 청구항 2, 청구항 4 및 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서,
    설치 요소들은 상기 광학 요소에 정적으로 정의된 설치(statically defined mounting)를 제공하는 구성인 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치.
  13. 청구항 5에 있어서,
    상기 광학 요소(310, 410) 및 상기 지지 요소(320, 420)는 서로 다른 열팽창 계수를 가진 재료로 만들어지는 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치.
  14. 청구항 1, 청구항 2, 청구항 4 및 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광학 요소 및 상기 지지 요소는 동일한 재료로 만들어지는 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치.
  15. 청구항 1, 청구항 2, 청구항 4, 청구항 5 및 청구항 13 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광학 요소 및 상기 지지 요소는 0.5ppm/K 미만의 열팽창 계수를 가진 재료로 만들어지는 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치.
  16. 청구항 1, 청구항 2, 청구항 4, 청구항 5 및 청구항 13 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광학 요소는 미러인 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치.
  17. 청구항 1, 청구항 2, 청구항 4, 청구항 5 및 청구항 13 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 지지 요소 및/또는 상기 광학 요소는 반경 방향으로 적어도 부분적 디커플링을 유발시키는 적어도 하나의 슬롯(461, 161)을 갖는 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치.
  18. 청구항 4 또는 청구항 13에 있어서,
    상기 지지 요소는, 광학적으로 효과적인 표면으로부터 떨어져 면하는 상기 광학 요소의 측면 상에 배치되는 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치.
  19. 청구항 1, 청구항 2, 청구항 4, 청구항 5 및 청구항 13 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광학 요소는 중앙 구멍(150, 250, 350)을 갖는 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치.
  20. 청구항 1, 청구항 2, 청구항 4, 청구항 5 및 청구항 13 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광학 요소는 상기 광학 요소를 강화하기 위한 보강 모서리 부분(115, 215)을 갖는 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치.
  21. EUV 리소그래피를 위한 마이크로리소그래피 투영 노광 장치로서,
    조명 시스템(6) 및 투영 대물렌즈(31)를 포함하며,
    상기 조명 시스템 및/또는 상기 투영 대물렌즈는, 청구항 1, 청구항 2, 청구항 4, 청구항 5 및 청구항 13 중 어느 한 항에 기재된 광학 장치를 갖는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치.
  22. EUV 리소그래피를 위한 마이크로리소그래피 투영 노광 장치로서,
    조명 시스템(6) 및 투영 대물렌즈(31)를 포함하며, 상기 조명 시스템 및/또는 상기 투영 대물렌즈는 광학 장치를 가지며, 여기서 상기 광학 장치는:
    미러인 적어도 하나의 광학 요소; 및
    상기 미러에 대한 지지 요소(120)를 포함하며;
    상기 지지 요소(120)는 상기 미러의 반경 방향 바깥쪽에 배치되고;
    상기 미러 및 상기 지지 요소(120)는 적어도 3개의 디커플링 요소들(131, 132, 133)에 의해 서로 연결되고;
    상기 적어도 3개의 디커플링 요소들(131, 132, 133)은, 반경 방향으로 상기 미러와 상기 지지 요소(120)와의 사이에 상기 미러의 주변 방향을 따라서 배치되고;
    상기 디커플링 요소들(131, 132, 133)은 상기 미러와 모놀리식으로 형성되는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치.
  23. 청구항 21에 있어서,
    상기 광학 요소는 광학 빔 경로에서 마지막에 있는 상기 투영 대물렌즈(31)의 미러(M6)인 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치.
  24. 청구항 21에 있어서,
    상기 광학 요소는 상기 투영 대물렌즈(31)의 이미지 평면(9)에 대해 사전에 설정된 간격으로 배치되는 미러(M5)인 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치.
  25. 청구항 21에 있어서,
    상기 투영 대물렌즈는 적어도 0.3의 개구수를 갖는 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치.
  26. 청구항 22에 있어서,
    상기 지지 요소는 설치 요소들에 의해 상기 투영 노광 장치의 캐리어 구조체에 연결되며, 상기 설치 요소들은 상기 디커플링 요소들에 대하여 주변 방향으로 변위되어 배치되는 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치.
  27. 청구항 22에 있어서,
    상기 광학 요소는 적어도 10의 최대 두께에 대한 최대 직경의 비율을 갖는 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치.
  28. EUV 리소그래피를 위한 마이크로리소그래피 투영 노광 장치로서,
    조명 시스템(6) 및 투영 대물렌즈(31)를 포함하며, 상기 조명 시스템 및/또는 상기 투영 대물렌즈는 광학 장치를 가지며, 여기서 상기 광학 장치는:
    미러인 적어도 하나의 광학 요소; 및
    상기 미러에 대한 지지 요소(120, 220)를 포함하며;
    상기 지지 요소(120, 220)는, 상기 미러에 대해 반경 방향으로 변위하여 배치되고;
    상기 미러 및 상기 지지 요소(120, 220)는 적어도 3개의 디커플링 요소들(131, 132, 133; 231, 232, 233)에 의해 서로 연결되고;
    상기 적어도 3개의 디커플링 요소들(131, 132, 133; 231, 232, 233)은, 반경 방향으로 상기 미러와 상기 지지 요소(120, 220)와의 사이에 상기 미러의 주변 방향을 따라서 배치되고;
    상기 디커플링 요소들(131, 132, 133; 231, 232, 233)은 상기 미러와 모놀리식으로 형성되며;
    상기 미러는 적어도 10의 최대 두께에 대한 최대 직경의 비율을 갖는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치.
  29. 청구항 22 및 청구항 26 내지 청구항 28 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 디커플링 요소들 또는 결합 위치들은 상기 주변 방향으로 서로 일정한 간격으로 제각기 배치되는 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치.
  30. 청구항 26 내지 청구항 28 중 어느 한 항에 있어서,
    설치 요소들은, 상기 디커플링 요소들 또는 결합 위치들에 대해 주변 방향으로 서로 일정한 간격으로 제각기 배치되는 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치.
  31. 청구항 22 및 청구항 26 내지 청구항 28 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 디커플링 요소들 또는 결합 위치들은 120°± 30°의 각도에 걸쳐서 주변 방향으로 서로에 대해 제각기 변위되는 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치.
  32. 청구항 26 내지 청구항 28 중 어느 한 항에 있어서,
    설치 요소들은 상기 디커플링 요소들에 대해 또는 결합 위치들에 대해 60°± 20°의 각도에 걸쳐서 주변 방향으로 제각기 변위되는 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치.
  33. 청구항 22 및 청구항 26 내지 청구항 28 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 지지 요소는 정확히 3개의 디커플링 요소들 또는 결합 위치들(331, 332, 333)에 의해 상기 광학 요소에 연결되는 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치.
  34. 청구항 26 내지 청구항 28 중 어느 한 항에 있어서,
    설치 요소들은 상기 광학 요소에 정적으로 정의된 설치를 제공하는 구성인 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치.
  35. 청구항 22 및 청구항 26 내지 청구항 28 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광학 요소 및 상기 지지 요소는 동일한 재료로 만들어지는 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치.
  36. 청구항 22 및 청구항 26 내지 청구항 28 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광학 요소 및 상기 지지 요소는 0.5ppm/K 미만의 열팽창 계수를 가진 재료로 만들어지는 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치.
  37. 청구항 22 및 청구항 26 내지 청구항 28 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 지지 요소 및/또는 상기 광학 요소는 반경 방향으로 적어도 부분적 디커플링을 유발시키는 적어도 하나의 슬롯(461, 161)을 갖는 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치.
  38. 청구항 28에 있어서,
    상기 지지 요소(220)는, 광학적으로 효과적인 표면으로부터 떨어져 면하는 상기 광학 요소(210)의 측면 상에 배치되는 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치.
  39. 청구항 22, 청구항 26 내지 청구항 28 및 청구항 38 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광학 요소(110, 210, 310)는 중앙 구멍(150, 250, 350)을 갖는 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치.
  40. 청구항 22, 청구항 26 내지 청구항 28 및 청구항 38 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광학 요소(110, 210)는 상기 광학 요소(110, 210)를 강화하기 위한 보강 모서리 부분(115, 215)을 갖는 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치.
  41. 청구항 2 또는 청구항 5에 있어서,
    상기 광학 요소, 상기 지지 요소 및 설치 요소들의 시스템의 고유 주파수는 적어도 250Hz인 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치.
  42. 청구항 41 에 있어서,
    상기 광학 요소(110, 210, 310, 410)는 적어도 5의 최대 두께에 대한 최대 직경의 비율을 가지는 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치.
  43. 청구항 41에 있어서,
    상기 마이크로리소그래피 투영 노광 장치는 15nm 미만의 동작 파장용으로 설계되는 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치.
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