KR100568195B1 - 광학 소자 및 호울더로 이루어진 부품 - Google Patents
광학 소자 및 호울더로 이루어진 부품 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100568195B1 KR100568195B1 KR1019990019790A KR19990019790A KR100568195B1 KR 100568195 B1 KR100568195 B1 KR 100568195B1 KR 1019990019790 A KR1019990019790 A KR 1019990019790A KR 19990019790 A KR19990019790 A KR 19990019790A KR 100568195 B1 KR100568195 B1 KR 100568195B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- optical element
- component
- holder
- intermediate ring
- plate
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/02—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
- G02B7/023—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses permitting adjustment
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70241—Optical aspects of refractive lens systems, i.e. comprising only refractive elements
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Lens Barrels (AREA)
Abstract
본 발명은 광학 소자(1) 및 호울더(5)로 이루어진 부품에 관한 것으로, 상기 광학 소자는 다수의 접합판(2)을 통해서 강성의 중간링(3)과 결합되어 있으며, 상기 중간링은 재차 조절 부재(4) 또는 수동형 디커플러(35)를 통해서 하우징(7)에 및/또는 다른 호울더에 연결하기 위한 상기 호울더(5)와 결합되어 있다. 본 발명에 따른 부품은 광학 소자의 기계적인 최고 하중 경감 및 DUV-내구성이 있는 실시를 특징으로 하며, 투영 노광 장치에 사용된다.
Description
도 1 은 매달린 접합판 및 액츄에이터를 갖는 본 발명에 따른 장치의 개략적인 단면도.
도 2 는 수평 접합판 및 중간링과 호울더 사이에 있는 고형체 링크를 갖는 본 발명에 따른 장치의 개략적인 단면도.
도 3 은 도 2의 유형에 따른 장치의 평면도.
도 4 는 접선 방향의 접합판을 갖는 본 발명에 따른 장치의 평면도.
도 5 는 레버 구동 장치를 갖는 액츄에이터 및 미러를 포함하는 본 발명에 따른 장치의 개략적인 단면도.
도 6 은 투영 노광 장치의 개략도.
도 7 은 바람직한 탄성 접합판의 개략도.
* 도면의 주요 부분에 대한 간단한 설명 *
1 : 렌즈 2, 22 : 접합판
3, 32 : 중간링 4 : 액츄에이터, 조절 부재
5 : 호울더 6 : 중간층
7 : 하우징 12 : 결합부
35, 35' : 디커플러
본 발명은 광학 소자 및 호울더로 이루어진 부품, 상기 부품의 사용, 대물 렌즈 및 마이크로 리소그래피 투영 노광 장치에 관한 것이다. 예컨대 렌즈, 프리즘, 미러, 격자와 같은 유리, 크리스탈 또는 세라믹으로 다양하게 이루어진 광학 소자는 일반적으로 금속으로 이루어진 호울더에 의해서 예를 들어 대물 렌즈와 같은 광학 부품에 조립된다.
이 경우, 광학 소자는 좁은 허용 오차를 유지하면서 서로에 대해 상대적으로 위치 설정되어야 하며, 전체 부품은 주변 영향에 대해서 일정한 강도를 가져야 한다. 위성에 탑재되는 시스템(예컨대 ROSAT X-선 망원경) 등과 같은 천체 망원경에서 뿐만 아니라 마이크로 리소그래피 투영 노광 장치에서는 특별한 요구들이 제기된다.
EP 0 053 463호에는, 고정된 판 스프링 부재에 정밀 미러를 매다는 것이 개시되어 있다.
고도로 발전된 마이크로 리소그래피 투영 대물 렌즈의 렌즈용 홀딩 기술은 US 5,428,482호에도 기술되어 있다.
렌즈는 3개의 방사형 만곡 빔(beam)과 직접 접착되거나, 또는 중간링은 둘레에 동일하게 분배된 3개의 고형체 링크를 통해서 외부 호울더링과 결합된다. 렌즈 및 중간링의 전면적인 접착이 제공된다. 그런 후, 호울더링을 적층함으로써 광학 부품, 특히 대물 렌즈가 구성된다.
호울더-베이스부에 대해 상대적으로 광학 소자를 변위 또는 변형하기 위한 액츄에이터를 갖는 장치는 다양한 실시예로 공지되어 있다. EP 0 145 902 A호에서는 한가지 실시예가 제안되는데, 상기 실시예에서 미러는 접선 방향의 3개의 스포크(spoke)를 통해서 호울더에 매달리며, 상기 스포크의 길이는 펠티에(Peltier) 소자에 의해서 변동될 수 있다.
본 발명의 목적은, 광학 소자의 위치 설정의 정확성을 높이며 호울더에 작용하는 주변 영향으로부터 광학 소자를 분리하기 위한, 광학 소자 및 호울더로 이루어진 부품을 제공하는 것이다. 광학 소자와 호울더 사이의 접합 장소, 즉 일반적으로 유리-금속 혹은 크리스탈-금속-결합부는, 주로 DUV-내구성을 향상시키기 위해 접착과 같은 다른 접합 방법을 사용할 수 있도록 하기 위해서, 기하학적인 정확성에 대한 요구로부터 동시에 자유로워야 한다.
본 발명에 따른 해결책은 구성 원리로서 큰 폭의 적용예를 커버하는 것이다. 대물 렌즈에 통합하는 것 및 마이크로 리소그래피 투영 노광 장치에 사용하는 것은 특히 대물 렌즈의 투영 성능을 매우 미세하게 조절하는데 적합하다.
상기 목적은 광학 소자 및 호울더로 이루어진 청구항 1 에 따른 부품에 의해 달성되며, 이 부품에서 광학 소자는 다수의 접합판을 통해서 강성의 중간링과 결합되며, 중간링은 재차 능동형 조절 부재 또는 수동형 디커플러를 통해서 하우징 또는 추가 호울더에 연결하기 위한 호울더와 결합된다.
바람직한 실시예는 청구항 2 내지 청구항 26 의 대상이다. 청구항 2 에 따라 접합판은 탄성 링크로서 또는 판 스프링으로서 설계된다. 그럼으로써 실제로 광학 소자(예컨대 유리) 및 호울더(금속)의 상이한 열팽창이 흡수된다. 전체적으로 응력이 최소화된다.
접합판과 광학 소자의 결합은 청구항 3 내지 청구항 7 의 대상이다. 상기 청구항에서는, 광학 소자에 작용하는 광선(radiation)에 대한 안정성을 보장하는 것 - 이것은 UV-범위에서의 접착에서 문제가 된다 - 및 그와 동시에 광학 소자에서 응력을 전혀 형성시키지 않는 것(능동형 결합(클램핑)에서는 불가피하지만)이 다루어진다. 따라서 금속 용접 결합 또는 납땜 결합이 바람직하다.
청구항 8 내지 청구항 12 에 따르면, 중간링과 접합판을 결합하는 경우에도 동일한 사실이 적용되는데, 이 경우에는 청구항 8 에 따르면, 균질의 일체형 실시도 가능하며 여러 가지 경우에서 중요하다. 그러나 광학 소자에 대한 결합부에서 접합판의 위치 허용 오차가 보상될 수 있는 경우에는, 예를 들어 청구항 12 에 따른 레이저 용접에 의해서 중간링에 접합하는 것이 유리하다.
청구항 13 에 따라 압전(piezoelectric) 소자 및(EP 0 145 902 A호에 따른) 펠티에 소자는 능동형 조절 부재를 위해 적합한 구동 수단이며, 이 조절 부재는 또한 적합한 구동 장치(고형체 레버 및 고형체 링크)를 더 포함할 수 있다.
청구항 14 에 따라 수동형 디커플러를 위해서는 무엇보다도 US 5,428,482호와 대략 일치하는 고형체 링크 및 고형체 구동 장치가 적합하다.
중요한 종류의 광학 소자에는 청구항 15 에 따라 대칭축을 갖는 회전 대칭 에지가 제공된다. 이것은 원통형 에지를 갖는 전통적인 렌즈, 특히, 비구면 광학면 및 비중심 광학면 갖는 전통적인 렌즈를 포함한다.
이에 위해서 청구항 16 내지 청구항 18 은 중간링 및 접합판의 바람직한 실시예를 제공한다.
청구항 19 는, - 청구항 15 에 기술된 것이 그 속에 포함된 - 접합판 장치면에서 청구항 20 및 청구항 21 에 따른 특히 바람직한 실시예를 가능하게 하는 추가적인 종류의 광학 소자를 제공한다. 그에 따르면 접합판은 광학 소자인 "허브"와 중간링인 "테" 사이의 스포크와 동일한 방식으로 배치된다.
청구항 22 에 따라 접합판은 US 5, 428, 482호의 빔과 유사하게 접선 방향으로 배치된다.
청구항 24 및 청구항 25 는 본 발명에 의해 달성될 수 있는 고품질의 무응력 지지에 대해 언급한다. 30 nm 이하에서, 20 nm 이하까지에서의 비점수차 또는 3파 잔류 렌즈 변형이 달성된다. 외부링의 지지면의 변형은 95 % 이상까지, 바람직하게는 98 % 이상 및 최상의 구성에서는 99 % 이상까지 렌즈로부터 감소된다.
삭제
청구항 26 에 기술된 바와 같은 수동형 조절 부재는 특히 청구항 30 또는 31에 따라 정렬하기 위해서 적합하다.
본 발명에 따른 부품은 청구항 27 내지 청구항 28 에 따라 대물 렌즈 및 마이크로 리소그래피 투영 노광 장치에 바람직하게 사용되며, 이 경우 특히 청구항 28 에 따른 제어 회로와의 결합은 극도로 미세한 장애의 보정을 가능하게 한다.
본 발명은 도면을 참조하여 하기에 자세히 설명된다.
도 1 에 도시된 장치는 렌즈(1) 및 호울더(5)를 포함한다. 본 발명에 따라 강성의 중간링(3)이 - 예를 들면 렌즈의 재료 및 강도에 따라 (크기가) 1 ㎠인 횡단면을 갖는 스테인레스강 링이 - 제공되며, 이 링은 접합판(2)을 통해서는 렌즈(1)와 연결되고 액츄에이터(4)를 통해서는 호울더(5)와 연결된다. 높이를 정확하게 조절하기 위해서 이용되는 중간층(6)을 통해서는 호울더가 하우징(7)에 연결되며, 이 하우징(7)은 예를 들어 상기 방식으로 설치된 추가 렌즈에 대한 간격링으로서 형성된다.
접합판(2)과 렌즈(1)의 연결부(12)는 2가지 이유에서 문제점이 있다:
첫째로는, 유리, CaF2와 같은 크리스탈 또는 석영 또는 유리 세라믹((R)-미러)으로 이루어진 광학 소자(1) 및 스레인레스강, 탄성 청동 등으로 이루어진 금속-접합판(2)의 상이한 특성으로 인해 상기 2가지의 제작 재료쌍은 용접, 납땜 및 나사 결합 또는 리벳 결합시에 문제를 동반한다는 이유이다.
둘째로는, 상기 접합 장소가 광선에 의해서(광학 소자는 이 광선을 전달하기 위해서 존재한다) - 미러에서는 예외로하고 - 부하를 받는다는 이유이다. 이것은 낮은 UV-스펙트럼 범위(대략 300 - 100 nm 파장)에서 사용할 때는 유기질 접착제를 전반적으로 무용지물로 만드는데, 그 이유는 유기질 접착제가 광선에 의해서 파괴되기 때문이다.
그밖에 상기 연결부(12)는, 원하는 배치에 도달하기 위해서 매우 좁은 구조적 허용 오차로 실시되어야 한다.
또한, 광학 소자(1)는 열적 부하에 대해 민감한데, 그 이유는 예를 들어 반사 방지 코팅이 100℃를 초과하는 온도를 견디지 못하기 때문이며, 다른 한편으로는 유리 및 특히 CaF2와 같은 - 이 물질은 그것의 DUV-투과성 때문에 무색화된 광학 소자를 위한 석영 유리의 파트너로서 필요하다 - 크리스탈은 시간적인 및 공간적인 온도 변화에 민감하기 때문이다.
실시예에서 연결부(12)는, 예를 들어 E. Roeder 등, 테크놀로지 앤드 매니지먼트 44(1995), Pages 31-39에 공지된 바와 같은 초음파 용접으로 제조되며, 이로써 전술한 문제점들이 제거될 수 있다. 가능한 다른 접합 기술로서는, DE 197 55 356호에 기술된 바와 같은 용융점이 낮은 땜납으로 납땜하는 방법이 있다. 접합판(2)의 위치 허용 오차는, 상기 접합판을 강성의 중간링에 연결하는 것이 나중에 이루어지는 경우, 상기 접합판을 강성의 중간링(3)에 연결하는 커플링(23)에 의해서 보상될 수 있다. 이를 위해서는 레이저 용접이 적합한 것으로 판명되었는데, 이 용접 방식에 의해서는 적은 열입력으로도 매우 균일한 용접 결합이 달성된다.
접합판(2)은 박판으로 이루어진 판스프링 부재를 펀칭 또는 에칭함으로써 정밀하게 형성된다. 접합판의 두께는 통상적으로 0.1 mm 내지 0.5 mm이고, 폭은 약 3-20 mm이며, 길이는 10-30 mm이고, 간격은 수 mm이다. 실시예에서 접합판은 렌즈(1)의 광학축 및 대칭축에 대해 평행하게 배치된다.
도 7 에 따른 실시예, 즉 강성의 글램프(71), 접선 방향의 2개의 판 스프링 부재(72, 73) 및 그 사이에 렌즈를 초음파 용접하기 위한 구역(74)을 갖는 에칭부 혹은 펀칭부는 렌즈의 모멘트 없는 방사 방향 팽창 가능성을 제공한다. 중간링과 결합하기 위한 레이저-용접 구역은 도면 부호(75)로 표시된다.
예를 들어 둘레에 걸쳐 동일하게 분배된 3곳의 장소에서는 강성의 중간링(3)이 액츄에이터(4)를 통해 호울더(5)와 연결된다. 액츄에이터(4)는 예컨대 압전 소자로 구성된다. 이러한 배치에 의해서 호울더(5)에 대한 렌즈(1)의 2가지 자유도, 즉 대칭축(S)에 대해 수직한 x-축 및 y-축을 중심으로 이루어지는 2가지 기울기가 얻어진다.
대물 렌즈를 정렬할 때에만 필요한 수동형 액츄에이터는 조절 나사에 의해서도 작동될 수 있다.
이것은 한편으로는 렌즈 경사도의 조절을 가능하게 하며, 다른 한편으로는 호울더(5), 중간층(6) 및 하우징(7)을 완전한 광학 시스템으로 - 예컨대 대물 렌즈로 - 조립할 때 상기 부재들의 제조 허용 오차로부터 형성되는 호울더(5)의 변형이 제거될 수 있다.
도 2는 상응하는 도시에서 한가지 변형예를 보여준다. 이 실시예에서는 렌즈(1)가 접착 지점(122)에 의해서 접합판(22)과 결합된다. DE 197 48 211호에 따른 접착제 보호층을 사용하는 경우에는 접착제의 광선-내구성(radiation-resistance)이 보장된다. 이 경우 리히트키텐(Richtkitten)의 공지된 방법은 매우 정확한 정렬을 가능하게 한다.
접합판(22)은 강성 링(32)과 함께 통합되어 일체로 제조되며, 이 경우에는 예를 들어 정밀한 회전을 위해서 접합판(22) 사이를 분리하기 위한 부식 방법이 추가로 사용된다. 고형체 링크(35)에 의해서 강성 링이 호울더(52)로부터 디커플링되어 있는데, 그 결과 조립 상태에서 상기 호울더의 변형은 렌즈(1)에 영향을 미칠 수 없게 된다.
통상적인 치수는 도 2 에서와 동일하다.
도 3 은 도 2 에 횡단면으로 도시된 장치를 광학축 및 대칭축(S)의 방향으로 바라본 것이다. 도면을 통해서는, 접합판(22)이 반경 방향으로 배치되어 있으며 대칭축(S)을 포함하는(청구항 17) 평면(E)에 대해 각각 대칭으로 형성되어 있음을 알 수 있다. 또한, 광학 소자(1)(렌즈)는 대칭축(S)에 대해 회전 대칭인 에지(1R)를 가지며, 중간링(32)은 대칭축(S)에 대해 회전 대칭인 링(청구항 16)이고, 접합판(22)은 둘레에 걸쳐 균일하게 분배된다(청구항 18). X-축 및 Y-축상에는 각각 탄성 링크(35, 35')가 배치되며, 상기 링크의 운동성은 각각 쌍의 형태로 상이하게 방향 설정된다. 호울더의 기술적 설계자는 개수, 상태 및 운동성을 주어진 부하에 따라 선택한다. 본 실시예에서는 또한 호울더(52)가 일반적인 렌즈 호울더에서와 마찬가지로 원통형이다.
도 4 는, 렌즈(1)에 접선 방향으로 작용하는 접합판(24)을 갖는 본 발명에 따른 장치를 도 3 과 동일한 방향에서 보여주며, 접합판은 본 실시예에서도 또한 투영면에 대해 수직으로 배치되며, 그럼으로써 청구항 20 에 따라 - 도 1 의 매달린 접합판과 마찬가지로 - x-축 및 y-축을 갖는 주평면(X, Y)에 대해 수직으로 배치된다. 본 실시예에서 중간링(34)은, 각각 120°로 배치되며 도 1 에 기술된 구성 방식의 3개의 액츄에이터(4)를 통해 호울더(5)와 연결된다.
본 발명에 따른 장치는 물론 전술한 실시예에서와 같은 회전 대칭 렌즈용으로 적합할 뿐만 아니라, 모든 형태의 프리즘, 미러, 격자, 홀로그래픽 소자 등과 같은 모든 종류의 광학 소자용으로도 적합하다. 주의할 사실은, 이러한 홀딩 기술은 광학 소자를 중력에 대해 임의로 배치하는데 적합하다는 것이다.
도 5 는 편심된 원통형 미러(15)를 실시예로서 보여주며, 상기 미러는 쌍의 형태로 경사지게 형성된 탄성 접합판(25)에 의해 중간링(32)에 연결된다. 고형체 링크(452, 453) 및 레버(451)를 통해서는 강성의 중간링이 호울더(55)에 결합되어 있다. 액츄에이터(45)는(예를 들어 압전 방식으로, 또는 펠티에-소자에 의해 제어되는 팽창 부재, 비교 EP 0 145 902 A) 레버 전동 장치(451, 452, 453)를 통해 감속되어 중간링(32)에 작용한다.
마지막으로 도 6 은, 호울더(652) 내에 배치된 렌즈(651)가 마이크로 리소그래피 투영 노광 장치의 부분인 투영 대물 렌즈로서의 대물 렌즈(65) 내에 제공된 실시예를 보여준다. 상기 투영 노광 장치는 공지된 바와 같이 광원(61), 조사 장치(63), 위치 설정 시스템(641)을 갖는 마스크(64), 대물 렌즈(65), 웨이퍼(66) 및 그 웨이퍼의 위치 설정 시스템(661)으로 이루어진다.
물론, 일반적으로 대물 렌즈(65) 내에는 다수의 렌즈가, 반사 굴절 또는 반사 대물 렌즈에서는 또한 미러도 본 발명에 따라 홀딩되어 있다. 본 실시예에서는 명확하게 나타낼 목적으로 단 하나만 도시하였다. 상기 홀딩 기술은 마찬가지로 조사 장치(63)에도 사용될 수 있다.
센서(671, 672, 673)를 갖는 투영 노광 장치의 가이드 시스템은 호울더(652)에서 액츄에이터(653)를 제어한다.
가이드 시스템(67)은, 포커스 위치, 파면 등과 같은 이미지 파라미터(센서 671), 펄스 지속 시간, 개수와 같은 조사 파라미터(센서 672), 코히어런스율, 4중 조사와 같은 조사 세팅, 또는 마스크의 파라미터(센서 673)에 따라, 액츄에이터(653)를 제어함으로써 그리고 경우에 따라서는 다른 광학 소자의 액츄에이터를 또한 제어함으로써 광학적인 이미지 품질을 조절하며, 이 경우에는 일반적으로 가이드 시스템(67) 내에 기억된 특성 다이아그램 및 보정 파라미터가 사용된다.
본 발명에 따른 부품에 의해, 광학 소자의 위치 설정의 정확성을 높이며 호울더에 작용하는 주변 영향으로부터 광학 소자를 분리할 수 있게 되었다.
Claims (34)
- 광학 소자(1) 및 호울더(5)로 이루어진 부품에 있어서,상기 광학 소자는 다수의 접합판(2)을 통해서 강성의 중간링(3)과 결합되어 있으며, 상기 중간링은 조절 부재(4)들 또는 수동형 디커플러(35)들을 통해 하우징(7) 및 다른 호울더 중 적어도 하나에 연결하기 위하여 상기 호울더(5)와 연결되도록 구성된 부품.
- 제 1 항에 있어서,상기 접합판(22)은 탄성 링크로서 설계되는 것을 특징으로 하는 부품.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 접합판(2)은 광학 소자(1)와 결합되는 것을 특징으로 하는 부품.
- 제 3 항에 있어서,상기 광학 소자(1)와 접합판(2)의 결합부는 광선-내구성이 있는 것을 특징으로 하는 부품.
- 제 4 항에 있어서,상기 광학 소자(1)는 유리 또는 크리스탈로 이루어지고, 상기 접합판(2)은 금속으로 이루어지며, 상기 결합부에는 유기 성분이 없는 것을 특징으로 하는 부품.
- 제 5 항에 있어서,상기 결합부는 용접되는 것을 특징으로 하는 부품.
- 제 5 항에 있어서,상기 결합부는 납땜되는 것을 특징으로 하는 부품.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 접합판(22)은 중간링(32)과 함께 일체형의 바디로 형성되는 것을 특징으로 하는 부품.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 접합판(2)은 중간링(3)과 결합되는 것을 특징으로 하는 부품.
- 삭제
- 제 9 항에 있어서,상기 접합판과 중간링의 결합부에는 유기 성분이 없는 것을 특징으로 하는 부품.
- 제 11 항에 있어서,상기 결합부는 용접되는 것을 특징으로 하는 부품.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 조절 부재(4)가 압전 소자 또는 펠티에 소자를 포함하는 것을 특징으로 하는 부품.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 수동형 디커플러(35, 35')는 고형체 링크를 포함하는 것을 특징으로 하는 부품.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 광학 소자(1)는 대칭축(S)을 갖는 회전 대칭 에지를 구비하는 것을 특징으로 하는 부품.
- 제 15 항에 있어서,상기 중간링(2)은 대칭축(S)에 대해서 회전 대칭인 것을 특징으로 하는 부품.
- 제 15 항에 있어서,상기 접합판(2)이 대칭축을 포함하는 평면(E)에 대해 대칭으로 형성되는 것을 특징으로 하는 부품.
- 제 15 항에 있어서,상기 접합판(22)은 광학 소자(1)의 둘레에 걸쳐 균일하게 분배 배치되는 것을 특징으로 하는 부품.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,광학 소자(1)는, 폐곡선을 갖는 상기 광학 소자의 에지를 관통하는 주평면(H)을 포함하는 것을 특징으로 하는 부품.
- 제 19 항에 있어서,상기 접합판(22)이 주평면(H)에 대해 실질적으로 수직으로 배치되는 것을 특징으로 하는 부품.
- 제 20 항에 있어서,상기 접합판(22)이 실질적으로 주평면(H)에서 광학 소자(1)의 에지의 직경 방향으로 배치되는 것을 특징으로 하는 부품.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 접합판(22)이 실질적으로 광학 소자(1)의 에지에 대해 접선 방향으로 배치되는 것을 특징으로 하는 부품.
- 삭제
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,광학 소자(1)의 비점수차 변형 및 3파장 변형은 30 nm 이하인 것을 특징으로 하는 부품.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 호울더(5)의 지지면의 변형이 광학 소자(1)의 95 % 이상까지 감소되는 것을 특징으로 하는 부품.
- 제 1 항에 있어서,상기 조절 부재(4)들 중 적어도 하나는 수동형 조절 부재인 것을 특징으로 하는 부품.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 따른 적어도 하나의 부품을 포함하는 대물 렌즈(65).
- 적어도 하나의 액츄에이터(653)를 포함하며, 제 1 항 또는 제 2 항에 따른 적어도 하나의 부품을 포함하는 마이크로 리소그래피 투영 노광 장치에 있어서,적어도 하나의 액츄에이터(653)를 제어하는 제어 회로가 존재하는 것을 특징으로 하는 마이크로 리소그래피 투영 노광 장치.
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 제 2 항에 있어서,상기 접합판(22)은 판스프링으로서 설계되는 것을 특징으로 하는 부품.
- 제 6 항에 있어서,상기 결합부는 확산 용접 방식 또는 초음파 용접 방식으로 용접되는 것을 특징으로 하는 부품.
- 제 12 항에 있어서,상기 결합부는 레이저 용접 방식으로 용접되는 것을 특징으로 하는 부품.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19825716.3 | 1998-06-09 | ||
DE19825716A DE19825716A1 (de) | 1998-06-09 | 1998-06-09 | Baugruppe aus optischem Element und Fassung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20000005765A KR20000005765A (ko) | 2000-01-25 |
KR100568195B1 true KR100568195B1 (ko) | 2006-04-05 |
Family
ID=7870391
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019990019790A KR100568195B1 (ko) | 1998-06-09 | 1999-05-31 | 광학 소자 및 호울더로 이루어진 부품 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6229657B1 (ko) |
EP (1) | EP0964281B1 (ko) |
JP (2) | JP4618604B2 (ko) |
KR (1) | KR100568195B1 (ko) |
DE (2) | DE19825716A1 (ko) |
TW (1) | TW459149B (ko) |
Families Citing this family (97)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19825716A1 (de) * | 1998-06-09 | 1999-12-16 | Zeiss Carl Fa | Baugruppe aus optischem Element und Fassung |
DE19859634A1 (de) * | 1998-12-23 | 2000-06-29 | Zeiss Carl Fa | Optisches System, insbesondere Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie |
DE19930643C2 (de) * | 1999-07-02 | 2002-01-24 | Zeiss Carl | Baugruppe aus einem optischen Element und einer Fassung |
US6650412B1 (en) * | 1999-09-10 | 2003-11-18 | Kaiser Optical Systems | Thermal compensation for optical apparatus |
DE19957398A1 (de) * | 1999-11-29 | 2001-05-31 | Zeiss Carl | Verfahren zum Richten der Auflageflächen von Auflagegliedern für optische Elemente |
JP4945845B2 (ja) | 2000-03-31 | 2012-06-06 | 株式会社ニコン | 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにマイクロデバイスの製造方法。 |
EP1148389B1 (en) * | 2000-04-17 | 2008-02-27 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US6556364B2 (en) * | 2000-04-25 | 2003-04-29 | Michael F. Meehan | Apparatus, system, and method for precision positioning and alignment of a lens in an optical system |
DE10029306C2 (de) * | 2000-06-14 | 2003-07-31 | Physik Instr Pi Gmbh & Co | Anordnung zur temperaturkompensierten, mehrdimensionalen Mikropositionierung von zueinander lagedefinierten optischen Komponenten |
DE10030495A1 (de) | 2000-06-21 | 2002-01-03 | Zeiss Carl | Verfahren zum Verbinden einer Vielzahl von optischen Elementen mit einem Grundkörper |
KR100775796B1 (ko) * | 2000-08-18 | 2007-11-12 | 가부시키가이샤 니콘 | 광학소자 유지장치 |
DE10046379A1 (de) | 2000-09-20 | 2002-03-28 | Zeiss Carl | System zur gezielten Deformation von optischen Elementen |
DE10053899A1 (de) * | 2000-10-31 | 2002-05-08 | Zeiss Carl | Vorrichtung zur Lagerung eines optischen Elementes |
DE10062786A1 (de) | 2000-12-15 | 2002-06-20 | Zeiss Carl | System zur Dämpfung von Schwingungen |
DE10106605A1 (de) | 2001-02-13 | 2002-08-22 | Zeiss Carl | System zur Beseitigung oder wenigstens Dämpfung von Schwingungen |
DE10115914A1 (de) | 2001-03-30 | 2002-10-02 | Zeiss Carl | Vorrichtung zur Lagerung eines optischen Elementes in einer Optik |
DE10115915A1 (de) | 2001-03-30 | 2002-10-02 | Zeiss Carl | Vorrichtung zur Justierung von Einrichtungen und zum Einstellen von Verstellwegen |
US7014328B2 (en) | 2001-04-12 | 2006-03-21 | Carl Zeiss Smt Ag | Apparatus for tilting a carrier for optical elements |
DE10136387A1 (de) * | 2001-07-26 | 2003-02-13 | Zeiss Carl | Objektiv, insbesondere Objektiv für die Halbleiter-Lithographie |
DE10140608A1 (de) * | 2001-08-18 | 2003-03-06 | Zeiss Carl | Vorrichtung zur Justage eines optischen Elements |
JP2003107311A (ja) * | 2001-09-27 | 2003-04-09 | Nikon Corp | 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにデバイスの製造方法 |
DE10151919B4 (de) | 2001-10-20 | 2007-02-01 | Carl Zeiss Smt Ag | Belichtungsobjektiv in der Halbleiterlithographie |
TW577108B (en) * | 2001-11-07 | 2004-02-21 | Nikon Corp | Optical device and the manufacturing method thereof, optical system, and manufacturing method of exposure device and micro-device |
JP2003241049A (ja) * | 2002-02-22 | 2003-08-27 | Nikon Corp | 光学素子保持方法、光学素子研磨加工方法及び光学素子成膜方法 |
DE10216114A1 (de) * | 2002-04-12 | 2003-10-23 | Zeiss Carl Smt Ag | Vorrichtung zur deformationsarmen Lagerung eines nicht rotationssymmetrischen optischen Elementes |
DE10219514A1 (de) * | 2002-04-30 | 2003-11-13 | Zeiss Carl Smt Ag | Beleuchtungssystem, insbesondere für die EUV-Lithographie |
DE10228053B4 (de) * | 2002-06-19 | 2006-06-14 | Carl Zeiss Jena Gmbh | Element und Verfahren zu seiner Herstellung, bei dem zwei in Bezug zu mindestens einer Justierachse positionierte Körper stoffschlüssig miteinander verbunden sind |
US20030234916A1 (en) * | 2002-06-21 | 2003-12-25 | Nikon Corporation | Soft supports to reduce deformation of vertically mounted lens or mirror |
JP4565261B2 (ja) * | 2002-06-24 | 2010-10-20 | 株式会社ニコン | 光学素子保持機構、光学系鏡筒及び露光装置 |
DE10229623A1 (de) * | 2002-06-28 | 2004-01-15 | Carl Zeiss Jena Gmbh | Baugruppe mit einer äußeren Fassung und einem optischen Element |
AU2003250898A1 (en) * | 2002-08-08 | 2004-03-11 | Carl Zeiss Smt Ag | Device for receiving an optical module in an imaging unit |
EP1576403A1 (en) * | 2002-12-23 | 2005-09-21 | BAE Systems PLC | Deformable-mirror holder |
AU2003219097A1 (en) * | 2003-03-26 | 2004-10-18 | Carl Zeiss Smt Ag | Device for the low-deformation replaceable mounting of an optical element |
ATE449978T1 (de) * | 2003-06-06 | 2009-12-15 | Nikon Corp | Halteeinrichtung für optische elemente, objektivtubus, belichtungseinrichtung und herstellungsverfahren für bauelemente |
EP1646074A4 (en) * | 2003-07-09 | 2007-10-03 | Nikon Corp | EXPOSURE DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURE |
DE10331390A1 (de) | 2003-07-11 | 2005-01-27 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren zur Herstellung von asphärischen optischen Flächen |
US6816325B1 (en) | 2003-09-11 | 2004-11-09 | Carl Zeiss Smt Ag | Mounting apparatus for an optical element |
DE10344178B4 (de) * | 2003-09-24 | 2006-08-10 | Carl Zeiss Smt Ag | Halte- und Positioniervorrichtung für ein optisches Element |
KR101134210B1 (ko) * | 2003-10-02 | 2012-04-09 | 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 | 반도체 리토그래피용 광학 서브어셈블리 및 투영 대물렌즈 |
DE10352820A1 (de) * | 2003-11-12 | 2005-06-23 | Carl Zeiss Smt Ag | Flanschbaugruppe eines optischen Systems |
WO2005054953A2 (en) * | 2003-11-24 | 2005-06-16 | Carl-Zeiss Smt Ag | Holding device for an optical element in an objective |
US7265917B2 (en) * | 2003-12-23 | 2007-09-04 | Carl Zeiss Smt Ag | Replacement apparatus for an optical element |
US7697222B2 (en) * | 2003-12-25 | 2010-04-13 | Nikon Corporation | Apparatus for holding optical element, barrel, exposure apparatus, and device producing method |
US20050153064A1 (en) * | 2004-01-14 | 2005-07-14 | Asml Holding N.V. | Method of covering clear aperture of optic during deposition of glue protection layer |
EP1577693B1 (de) * | 2004-02-26 | 2011-07-13 | Carl Zeiss SMT GmbH | Objektiv mit wenigstens einem optischen Element |
DE102004014641B4 (de) * | 2004-03-09 | 2007-09-13 | Carl Zeiss Smt Ag | Anordnung zur Lagerung eines optischen Bauelements |
US7581305B2 (en) | 2004-04-12 | 2009-09-01 | Carl Zeiss Smt Ag | Method of manufacturing an optical component |
US7515359B2 (en) | 2004-04-14 | 2009-04-07 | Carl Zeiss Smt Ag | Support device for positioning an optical element |
KR101332497B1 (ko) * | 2005-01-26 | 2013-11-26 | 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 | 광학 조립체를 포함하는 마이크로-리소그래피의 투사 노광기 |
JP5199068B2 (ja) * | 2005-05-09 | 2013-05-15 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 光学エレメント調整組立体 |
WO2006133800A1 (en) | 2005-06-14 | 2006-12-21 | Carl Zeiss Smt Ag | Lithography projection objective, and a method for correcting image defects of the same |
JP4710427B2 (ja) * | 2005-06-15 | 2011-06-29 | 株式会社ニコン | 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにデバイスの製造方法 |
EP1899756A2 (de) | 2005-07-01 | 2008-03-19 | Carl Zeiss SMT AG | Anordnung zur lagerung eines optischen bauelements |
JP2007017632A (ja) * | 2005-07-06 | 2007-01-25 | Nikon Corp | 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにデバイスの製造方法 |
DE102006038294B4 (de) * | 2005-09-02 | 2012-03-08 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Fassung für ein optisches Element |
TWI372271B (en) * | 2005-09-13 | 2012-09-11 | Zeiss Carl Smt Gmbh | Optical element unit, optical element holder, method of manufacturing an optical element holder, optical element module, optical exposure apparatus, and method of manufacturing a semiconductor device |
DE102005057860A1 (de) | 2005-12-03 | 2007-06-06 | Carl Zeiss Smt Ag | Objektiv, insbesondere Projektionsobjektiv für die Halbleiterlithographie |
DE102006038634A1 (de) * | 2006-08-17 | 2008-02-21 | Carl Zeiss Smt Ag | Halteeinrichtung für ein optisches Element mit Stützkraftausgleich |
JP2008058732A (ja) * | 2006-08-31 | 2008-03-13 | Mitsumi Electric Co Ltd | カメラモジュール |
US8441747B2 (en) | 2006-09-14 | 2013-05-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical module with minimized overrun of the optical element |
DE102006043185B4 (de) * | 2006-09-14 | 2010-05-20 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zum justierten Verbinden von Platten und nach diesem Verfahren hergestellte optische Baugruppe |
JP5013906B2 (ja) * | 2007-03-05 | 2012-08-29 | キヤノン株式会社 | 光学素子保持装置 |
DE102008040218A1 (de) | 2007-07-11 | 2009-01-15 | Carl Zeiss Smt Ag | Drehbares optisches Element |
JP5128665B2 (ja) | 2007-08-23 | 2013-01-23 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 寄生負荷最小化光学素子モジュール |
DE102008041310A1 (de) | 2007-08-31 | 2009-03-05 | Carl Zeiss Smt Ag | Optisches Element |
JP5127515B2 (ja) * | 2008-03-12 | 2013-01-23 | キヤノン株式会社 | 光学素子保持装置 |
DE102008000967B4 (de) * | 2008-04-03 | 2015-04-09 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Mikrolithographie |
WO2009124590A1 (en) * | 2008-04-09 | 2009-10-15 | Carl Zeiss Smt Ag | Optical aperture device |
DE102008026978A1 (de) * | 2008-05-29 | 2009-12-03 | Carl Zeiss Ag | Fernrohr |
DE102008032853A1 (de) | 2008-07-14 | 2010-01-21 | Carl Zeiss Smt Ag | Optische Einrichtung mit einem deformierbaren optischen Element |
DE102009044957A1 (de) * | 2008-09-30 | 2010-04-08 | Carl Zeiss Smt Ag | Stützelemente für ein optisches Element |
DE102008063223B3 (de) * | 2008-12-23 | 2010-09-09 | Jenoptik Laser, Optik, Systeme Gmbh | Monolithische optische Fassung |
DE102009005954B4 (de) | 2009-01-20 | 2010-10-21 | Carl Zeiss Smt Ag | Dämpfungsvorrichtung |
DE102009029673A1 (de) | 2009-09-22 | 2010-11-25 | Carl Zeiss Smt Ag | Manipulator zur Positionierung eines optischen Elementes in mehreren räumlichen Freiheitsgraden |
DE102009045163B4 (de) * | 2009-09-30 | 2017-04-06 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optische Anordnung in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
JP2011090250A (ja) * | 2009-10-26 | 2011-05-06 | Canon Inc | 光学装置、それを用いた露光装置及びデバイスの製造方法 |
DE102010008756A1 (de) * | 2010-02-17 | 2011-06-30 | Carl Zeiss Laser Optics GmbH, 73447 | Optische Anordnung |
US8542450B2 (en) * | 2011-02-08 | 2013-09-24 | Utah State University Research Foundation | Kinematic optic mount |
CN107219606A (zh) * | 2011-07-20 | 2017-09-29 | 株式会社尼康 | 透镜镜筒以及拍摄装置 |
DE102011080408A1 (de) * | 2011-08-04 | 2013-02-07 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Semiaktive Kippkorrektur für feste Spiegel |
KR101693950B1 (ko) * | 2011-09-29 | 2017-01-06 | 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 | 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 투영 대물 렌즈 |
DE102012102566B4 (de) * | 2012-03-26 | 2019-02-21 | Trumpf Werkzeugmaschinen Gmbh + Co. Kg | Übertragungselement für eine Stellbewegung eines optischen Elementes, Positioniereinrichtung sowie Bearbeitungskopf für eine Laserbearbeitungsmaschine |
DE102012218220A1 (de) * | 2012-10-05 | 2013-11-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsbelichtungsanlage mit Untersetzungskinematik |
DE102013201604B4 (de) * | 2013-01-31 | 2014-10-23 | Picofine GmbH | Kippvorrichtung und Verfahren zum Kippen |
DE102013109185B3 (de) * | 2013-08-23 | 2014-05-22 | Jenoptik Optical Systems Gmbh | Optische Baugruppe mit einer Fassung mit Verbindungseinheiten gerichteter Nachgiebigkeit |
US9557516B2 (en) | 2013-10-07 | 2017-01-31 | Corning Incorporated | Optical systems exhibiting improved lifetime using beam shaping techniques |
DE102014224418A1 (de) | 2014-11-28 | 2015-02-05 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Halteeinrichtung und Lithographieanlage |
DE102015115931B3 (de) * | 2015-09-21 | 2016-10-27 | Jenoptik Optical Systems Gmbh | Spannungsentkoppelte monolithische Linsenfassung |
DE102015115929B3 (de) * | 2015-09-21 | 2016-10-06 | Jenoptik Optical Systems Gmbh | Monolithische Linsenfassung |
JP6240142B2 (ja) * | 2015-11-26 | 2017-11-29 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 寄生負荷最小化光学素子モジュール |
US10088468B2 (en) * | 2016-02-04 | 2018-10-02 | Nova Biomedical Corporation | Analyte system and method for determining hemoglobin parameters in whole blood |
DE102019213798A1 (de) * | 2019-09-11 | 2021-03-11 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren zum Fügen eines Kameraobjektivs an einem Objektivhalter |
DE102019218925A1 (de) * | 2019-12-05 | 2021-06-10 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zur montage eines optischen systems |
CN112068274B (zh) * | 2020-09-08 | 2022-05-17 | 西安应用光学研究所 | 一种用于精密光机系统粘接的胶头保形装置和方法 |
DE102021200131A1 (de) | 2021-01-11 | 2022-07-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Baugruppe mit einem Entkopplungsgelenk zur mechanischen Lagerung eines Elements |
DE102021214140A1 (de) * | 2021-12-10 | 2023-06-15 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Fassung für eine linse, anordnung, lithographieanlage sowie verfahren |
DE102022214186A1 (de) | 2022-12-21 | 2024-06-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches system und projektionsbelichtungsanlage |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR19980018216A (ko) * | 1996-08-08 | 1998-06-05 | 고노 시게오 | 투영 노광 장치 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DD151230A1 (de) * | 1980-06-02 | 1981-10-08 | Gerhard Meister | Fassung fuer optische bauelemente |
JPS5790607A (en) * | 1980-11-28 | 1982-06-05 | Fujitsu Ltd | Optical glass fitting device |
JPS5887504A (ja) * | 1981-11-20 | 1983-05-25 | Olympus Optical Co Ltd | レンズ保持装置 |
JPS5975217A (ja) * | 1982-10-23 | 1984-04-27 | Olympus Optical Co Ltd | レンズ保持装置 |
US4540251A (en) | 1983-12-01 | 1985-09-10 | International Business Machines Corporation | Thermo-mechanical overlay signature tuning for Perkin-Elmer mask aligner |
JPS60230609A (ja) * | 1984-05-01 | 1985-11-16 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | プラスチツクレンズ保持装置 |
US4733945A (en) * | 1986-01-15 | 1988-03-29 | The Perkin-Elmer Corporation | Precision lens mounting |
DD250784A1 (de) * | 1986-07-01 | 1987-10-21 | Zeiss Jena Veb Carl | Optische anordnung mit radialer und axialer temperaturkompensation |
JPH0220328A (ja) * | 1988-07-08 | 1990-01-23 | Nikon Corp | 紫外域用光学要素 |
US5428482A (en) * | 1991-11-04 | 1995-06-27 | General Signal Corporation | Decoupled mount for optical element and stacked annuli assembly |
US5457577A (en) * | 1992-01-22 | 1995-10-10 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Quick-set precision optical holder |
JPH0631281U (ja) * | 1992-09-21 | 1994-04-22 | 日本ビクター株式会社 | プロジェクションテレビの投写装置 |
JPH0710710U (ja) * | 1993-07-12 | 1995-02-14 | 旭光学工業株式会社 | レンズの保持構造 |
US5523893A (en) * | 1994-08-24 | 1996-06-04 | Northrop Grumman Corporation | Strain free temperature-compensated optical mounts |
JPH08171054A (ja) * | 1994-12-16 | 1996-07-02 | Nikon Corp | 反射屈折光学系 |
JPH1026736A (ja) * | 1996-07-10 | 1998-01-27 | Sanyo Electric Co Ltd | 太陽光採光装置における原点位置検出装置 |
DE19748211A1 (de) | 1997-10-31 | 1999-05-06 | Zeiss Carl Fa | Optisches Array-System und Reader für Mikrotiterplatten |
DE19755356A1 (de) | 1997-12-12 | 1999-06-17 | Zeiss Carl Fa | VUV-beständige Verbindungstechnik für Linsen und Fassungen |
DE19825716A1 (de) * | 1998-06-09 | 1999-12-16 | Zeiss Carl Fa | Baugruppe aus optischem Element und Fassung |
-
1998
- 1998-06-09 DE DE19825716A patent/DE19825716A1/de not_active Withdrawn
-
1999
- 1999-05-27 DE DE59915045T patent/DE59915045D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-05-27 EP EP99110271A patent/EP0964281B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-05-31 KR KR1019990019790A patent/KR100568195B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1999-06-07 JP JP15905199A patent/JP4618604B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1999-06-08 TW TW088109494A patent/TW459149B/zh not_active IP Right Cessation
- 1999-06-09 US US09/328,938 patent/US6229657B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2010
- 2010-08-26 JP JP2010189610A patent/JP4751958B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR19980018216A (ko) * | 1996-08-08 | 1998-06-05 | 고노 시게오 | 투영 노광 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6229657B1 (en) | 2001-05-08 |
DE19825716A1 (de) | 1999-12-16 |
EP0964281B1 (de) | 2009-07-01 |
JP4751958B2 (ja) | 2011-08-17 |
JP2011013687A (ja) | 2011-01-20 |
EP0964281A1 (de) | 1999-12-15 |
DE59915045D1 (de) | 2009-08-13 |
KR20000005765A (ko) | 2000-01-25 |
TW459149B (en) | 2001-10-11 |
JP2000028886A (ja) | 2000-01-28 |
JP4618604B2 (ja) | 2011-01-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100568195B1 (ko) | 광학 소자 및 호울더로 이루어진 부품 | |
KR100575195B1 (ko) | 렌즈 및 홀더용 vuv 안정성 연결 기술 | |
US9604299B2 (en) | Method and device for connecting an optical element to a frame | |
JP7009440B2 (ja) | ディスク形のレーザ活性媒質を備えた光学システム | |
JP3058000B2 (ja) | ミラー光学装置 | |
TW201901208A (zh) | 用於光子積體電路應用中的微機電系統操控鏡 | |
US9996015B2 (en) | Mirror module, in particular for a microlithographic projection exposure appararatus | |
JP2004031491A (ja) | 光学素子保持機構、光学系鏡筒及び露光装置 | |
JPH0675150A (ja) | 温度補償光学アセンブリ | |
JP2008020489A (ja) | 光学部材固定方法 | |
JP7061666B2 (ja) | 半導体フォトリソグラフィで使用するためのアセンブリ及び同一のものを製造する方法 | |
JPH11326742A (ja) | アクティブミラ― | |
US20140022658A1 (en) | Facet mirror device | |
JPH0396707A (ja) | 角度付与組立体およびその組立方法 | |
JP4313675B2 (ja) | ミラー、光学結像システム、およびそれらの使用 | |
TWI853543B (zh) | 對溫度不敏感的致動器與變形反射鏡 | |
US7986472B2 (en) | Optical element module | |
US4759031A (en) | Lasers | |
CN107003623B (zh) | 光刻系统的连接配置 | |
US20230393485A1 (en) | Optical assembly, method for deforming an optical element, and projection exposure system | |
JP2001318300A (ja) | 光アンテナ用反射光学系 | |
US20240140082A1 (en) | Laser-bonded optical assemblies | |
JP5424013B2 (ja) | 光学系及び露光装置 | |
Yoon et al. | Development of a large-aperture deformable mirror for wavefront control | |
JP3104446B2 (ja) | 色分解光学系 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
N231 | Notification of change of applicant | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130321 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140320 Year of fee payment: 9 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |