JP2009094220A - 光学素子保持装置、露光装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】
露光装置の性能低下を小さくできる光学素子保持装置を提供する。
【解決手段】
光学素子を保持する保持装置であって、前記光学素子の第1面に当接して前記光学素子を支持する鏡筒と、前記光学素子の前記第1面とは反対側の第2面に当接する当接部材と、前記鏡筒に対して前記光学素子の光軸方向に移動可能な押え部材と、前記当接部材と前記押え部材の間に配置され、前記押え部材に対して前記当接部材を前記光学素子側へ押圧する弾性部材と、前記鏡筒に対する前記押え部材の位置を調整するための手動用つまみを有する調整手段と、を備える。
【選択図】図1
露光装置の性能低下を小さくできる光学素子保持装置を提供する。
【解決手段】
光学素子を保持する保持装置であって、前記光学素子の第1面に当接して前記光学素子を支持する鏡筒と、前記光学素子の前記第1面とは反対側の第2面に当接する当接部材と、前記鏡筒に対して前記光学素子の光軸方向に移動可能な押え部材と、前記当接部材と前記押え部材の間に配置され、前記押え部材に対して前記当接部材を前記光学素子側へ押圧する弾性部材と、前記鏡筒に対する前記押え部材の位置を調整するための手動用つまみを有する調整手段と、を備える。
【選択図】図1
Description
本発明は、原版の回路パターンを基板に投影転写する露光装置の光学素子を保持する光学素子保持装置、露光装置およびそのデバイス製造方法に関するものである。
原版の回路パターンを基板に投影転写する投影露光装置では、各種の波長帯域の光を露光ビームとして基板上に照射する。
露光ビームには、KrFエキシマレーザ(λ=248nm)、ArFエキシマレーザ(λ=193nm)などが用いられている。
光源から放射された露光ビームは、レチクル(マスク)を照明する照明光学系、及びレチクルに形成された微細パターンを、半導体ウェハ基板などの基板上に結像させる投影光学系(投影レンズ)により、微細パターンを感光基板上に露光転写する。
近年の電子機器の小型化及び薄型化への要請を実現するためには、電子機器に搭載されるデバイスを高集積化する必要があり、転写される回路パターンの微細化、即ち、高解像度化がますます要求されている。
高解像度を得るためには、光源の波長を短くすること、及び、投影光学系の開口数(NA)を上げることが有効であり、同時に投影光学系の収差を極めて小さく抑えなくてはならない。
この投影露光装置において、高いNA下でも高いコントラストを維持するには像のコントラストを高める特性が有るS偏光の活用が重要となり、偏光状態を管理してS偏光を維持できる光学系が必要となる。
S偏光を維持するためには、光学素子の複屈折性を管理しなければならない。
光学素子の複屈折性には、光学素子の硝材そのものがもつ複屈折と、光学素子の保持力により生じる応力複屈折がある。
光学素子の硝材そのものが持つ複屈折に関しては硝材の選別で、ある程度の数値に抑えることが出来る。
しかし、光学素子の保持力により生じる応力複屈折に関しては、光学素子を保持する光学素子保持装置の見直しが必要である。
露光ビームには、KrFエキシマレーザ(λ=248nm)、ArFエキシマレーザ(λ=193nm)などが用いられている。
光源から放射された露光ビームは、レチクル(マスク)を照明する照明光学系、及びレチクルに形成された微細パターンを、半導体ウェハ基板などの基板上に結像させる投影光学系(投影レンズ)により、微細パターンを感光基板上に露光転写する。
近年の電子機器の小型化及び薄型化への要請を実現するためには、電子機器に搭載されるデバイスを高集積化する必要があり、転写される回路パターンの微細化、即ち、高解像度化がますます要求されている。
高解像度を得るためには、光源の波長を短くすること、及び、投影光学系の開口数(NA)を上げることが有効であり、同時に投影光学系の収差を極めて小さく抑えなくてはならない。
この投影露光装置において、高いNA下でも高いコントラストを維持するには像のコントラストを高める特性が有るS偏光の活用が重要となり、偏光状態を管理してS偏光を維持できる光学系が必要となる。
S偏光を維持するためには、光学素子の複屈折性を管理しなければならない。
光学素子の複屈折性には、光学素子の硝材そのものがもつ複屈折と、光学素子の保持力により生じる応力複屈折がある。
光学素子の硝材そのものが持つ複屈折に関しては硝材の選別で、ある程度の数値に抑えることが出来る。
しかし、光学素子の保持力により生じる応力複屈折に関しては、光学素子を保持する光学素子保持装置の見直しが必要である。
図9の断面図を参照して、従来例の光学素子保持装置を説明する。
レンズ鏡筒41はレンズ1を保持し、リング状の押え環42はレンズ1を固定し、ネジ部41-1にねじこみ、レンズ1をレンズ鏡筒41に固定する。
この従来例においては、レンズ1は一つの保持力でしか保持できない。
また、特開2005−266146号公報(特許文献1)にて、光学素子であるレンズをバネで3点で保持する光学素子保持装置が提案されている。
特開2005−266146号公報
レンズ鏡筒41はレンズ1を保持し、リング状の押え環42はレンズ1を固定し、ネジ部41-1にねじこみ、レンズ1をレンズ鏡筒41に固定する。
この従来例においては、レンズ1は一つの保持力でしか保持できない。
また、特開2005−266146号公報(特許文献1)にて、光学素子であるレンズをバネで3点で保持する光学素子保持装置が提案されている。
図9および特許文献1の従来例の光学素子保持装置は、光学素子の保持力により生じる応力複屈折の発生を抑える構造ではなく、投影露光装置の運搬時に生じる振動および衝撃に耐えることのみを重視していた。
応力複屈折の発生を最小にして高解像度のパターンを得る状態を維持するためには光学素子の保持力を減らす必要がある。
しかし、光学素子の保持力を減らしたまま露光装置の運搬を行うと、露光装置の運搬時の振動および衝撃で光学素子の位置ずれが発生し、露光装置の性能を低下させる。 このため、専用の除振装置を搭載した運搬装置が必要となり、運搬コストが高くなる。
また、光学素子の保持力を減らしたままでは、メンテナンス時の衝撃、地震等の振動を受け、光学素子の位置ずれを生じ、露光装置の性能を低下させる。
そこで、本発明は、露光装置の性能低下を小さくできる光学素子保持装置を提供することを目的とする。
応力複屈折の発生を最小にして高解像度のパターンを得る状態を維持するためには光学素子の保持力を減らす必要がある。
しかし、光学素子の保持力を減らしたまま露光装置の運搬を行うと、露光装置の運搬時の振動および衝撃で光学素子の位置ずれが発生し、露光装置の性能を低下させる。 このため、専用の除振装置を搭載した運搬装置が必要となり、運搬コストが高くなる。
また、光学素子の保持力を減らしたままでは、メンテナンス時の衝撃、地震等の振動を受け、光学素子の位置ずれを生じ、露光装置の性能を低下させる。
そこで、本発明は、露光装置の性能低下を小さくできる光学素子保持装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するための本発明の光学素子保持装置は、光学素子を保持する光学素子保持装置であって、前記光学素子の第1面に当接して前記光学素子を支持する鏡筒と、前記光学素子の前記第1面とは反対側の第2面に当接する当接部材と、前記鏡筒に対して前記光学素子の光軸方向に移動可能な押え部材と、前記当接部材と前記押え部材の間に配置され、前記押え部材に対して前記当接部材を前記光学素子側へ押圧する弾性部材と、前記鏡筒に対する前記押え部材の位置を調整するための手動用つまみを有する調整手段と、を備えることを特徴とする。
さらに、本発明の光学素子保持装置は、光学素子を保持する光学素子保持装置であって、前記光学素子の第1面に当接して前記光学素子を支持する鏡筒と、前記光学素子の前記第1面とは反対側の第2面に当接する当接部材と、前記鏡筒に対して前記光学素子の光軸方向に移動可能な押え部材と、前記当接部材と前記押え部材の間に配置され、前記押え部材に対して前記当接部材を前記光学素子側へ押圧する弾性部材と、前記鏡筒に対する前記押え部材の位置を検出する検出手段と、前記検出手段の検出結果に基づいて、前記鏡筒に対する前記押え部材の位置を調整する調整手段と、を備えることを特徴とする。
さらに、本発明の光学素子保持装置は、光学素子を保持する光学素子保持装置であって、前記光学素子の第1面に当接して前記光学素子を支持する鏡筒と、前記光学素子の前記第1面とは反対側の第2面に当接する当接部材と、前記鏡筒に対して前記光学素子の光軸方向に移動可能な押え部材と、前記当接部材と前記押え部材の間に配置され、前記押え部材に対して前記当接部材を前記光学素子側へ押圧する弾性部材と、地震計と、前記地震計の計測結果に基づいて、前記鏡筒に対する前記押え部材の位置を調整する調整手段と、を備えることを特徴とする。
本発明によれば、露光装置の性能低下を小さくできる。
以下、図面を参照して、本発明の実施例を説明する。
図1および図2の断面図を参照して、本発明の実施例1の光学素子保持装置を説明する。
本発明の実施例の光学素子保持装置を有する露光装置は、原版のパターンを基板上に露光する装置である。
さらに、原版を照明する照明系、および、原版のパターンを基板上に投影する投影光学系のうち少なくとも1つは、本発明の実施例の光学素子保持装置により保持された光学素子を含む。
図1は、露光装置の運用状態における本実施例1の光学素子保持装置を示し、光学素子であるレンズ1を保持することにより生じる応力複屈折の発生を最小にして高解像度のパターンを得る状態を示す。
本実施例1は、光学素子であるレンズ1を保持する保持装置で、鏡筒であるレンズ鏡筒2は、光学素子であるレンズ1の第1面である下面に当接して光学素子であるレンズ1を支持する手段である。ここで、光学素子は、ミラーの場合もある。
当接部材であるリング状の押え環3は、光学素子であるレンズ1の第1面の下面とは反対側の第2面である上面に当接する。
押え部材であるリング状のばね押え5は、レンズ鏡筒2に対して光学素子であるレンズ1の光軸方向に移動可能に設けられる。
弾性部材である圧縮ばね4は、当接部材であるリング状の押え環3と押え部材であるリング状のばね押え5の間に配置され、押え部材であるリング状のばね押え5に対して当接部材である押え環3を光学素子側であるレンズ1側へ押圧する。
レンズ鏡筒2はレンズ1を保持する手段である。リング状の押え環3はレンズ1を押し付ける部材である。
リング状の押え環3は、圧縮ばね4を円周上に配置するための凹部3aを圧縮ばね4の数に対応して有する。
圧縮ばね4は、押え環3がレンズ1をレンズ鏡筒2に押し付ける時に必要な保持力を発生させ、リング状の押え環3上に複数個配置される。
リング状のばね押え5は、圧縮ばね4を受ける凹部5aをばねの数に対応して有する。
押え環3及びばね押え5は、レンズ鏡筒2の中で回転しないようにキーとキー溝等(図示無し)によって回転防止機構を設けている。
回転金物6は、ばね押え5をレンズ1側に押し付けて圧縮ばね4を押しつぶすことによりレンズ1を保持する力を発生させ、レンズ鏡筒2の外周に加工されたネジ部2−1にねじ込まれる。
本発明の実施例の光学素子保持装置を有する露光装置は、原版のパターンを基板上に露光する装置である。
さらに、原版を照明する照明系、および、原版のパターンを基板上に投影する投影光学系のうち少なくとも1つは、本発明の実施例の光学素子保持装置により保持された光学素子を含む。
図1は、露光装置の運用状態における本実施例1の光学素子保持装置を示し、光学素子であるレンズ1を保持することにより生じる応力複屈折の発生を最小にして高解像度のパターンを得る状態を示す。
本実施例1は、光学素子であるレンズ1を保持する保持装置で、鏡筒であるレンズ鏡筒2は、光学素子であるレンズ1の第1面である下面に当接して光学素子であるレンズ1を支持する手段である。ここで、光学素子は、ミラーの場合もある。
当接部材であるリング状の押え環3は、光学素子であるレンズ1の第1面の下面とは反対側の第2面である上面に当接する。
押え部材であるリング状のばね押え5は、レンズ鏡筒2に対して光学素子であるレンズ1の光軸方向に移動可能に設けられる。
弾性部材である圧縮ばね4は、当接部材であるリング状の押え環3と押え部材であるリング状のばね押え5の間に配置され、押え部材であるリング状のばね押え5に対して当接部材である押え環3を光学素子側であるレンズ1側へ押圧する。
レンズ鏡筒2はレンズ1を保持する手段である。リング状の押え環3はレンズ1を押し付ける部材である。
リング状の押え環3は、圧縮ばね4を円周上に配置するための凹部3aを圧縮ばね4の数に対応して有する。
圧縮ばね4は、押え環3がレンズ1をレンズ鏡筒2に押し付ける時に必要な保持力を発生させ、リング状の押え環3上に複数個配置される。
リング状のばね押え5は、圧縮ばね4を受ける凹部5aをばねの数に対応して有する。
押え環3及びばね押え5は、レンズ鏡筒2の中で回転しないようにキーとキー溝等(図示無し)によって回転防止機構を設けている。
回転金物6は、ばね押え5をレンズ1側に押し付けて圧縮ばね4を押しつぶすことによりレンズ1を保持する力を発生させ、レンズ鏡筒2の外周に加工されたネジ部2−1にねじ込まれる。
さらに、レンズ鏡筒2に対する押え部材であるばね押え5の位置を調整するための手動用つまみ9を有する調整手段を備える。
さらに、レンズ鏡筒2に対する押え部材であるばね押え5の位置を検出する検出手段であるセンサー10を有し、検出手段であるセンサー10の検出結果に基づいて、レンズ鏡筒2に対する押え部材であるばね押え5の位置を調整する調整手段を備える。
さらに、地震計22と、地震計22の計測結果に基づいて、レンズ鏡筒2に対する押え部材であるばね押え5の位置を調整する調整手段を備える。
センサー10は、回転金物6の高さ位置を測定するセンサーで、回転金物6との距離Aを測定して、圧縮ばね4のつぶし量を変化させる。
これにより、露光装置の運用時に必要なレンズ1を保持する力でレンズ1を保持し、レンズ1を保持することにより生じる応力複屈折を最小な値にする。
モーター7は、ギヤ8を介して回転金物6を駆動する。
つまみ9はギヤ8に直結され、モーター7を回転させる電力が供給できない状態でも 手動によりギヤ8を回転させることができる。
制御装置21は、センサー10から出力される信号によりモーター7を制御し、駆動する。
センサー10は、リニアエンコーダーを内蔵した接触式変位センサー、静電容量変化を測定原理に使った静電容量式センサー、電磁誘導によるインピーダンスの変化を測定原理に使った渦電流式センサー等から成る。
さらに、センサー10は、三角測距方式を測定原理に使った光学式変位センサー、超音波の反射時間の変化を測定原理に使った超音波式センサー等から成り、必要な測定精度、設置スペース、コストなどから最適なセンサーを選択する。
さらに、レンズ鏡筒2に対する押え部材であるばね押え5の位置を検出する検出手段であるセンサー10を有し、検出手段であるセンサー10の検出結果に基づいて、レンズ鏡筒2に対する押え部材であるばね押え5の位置を調整する調整手段を備える。
さらに、地震計22と、地震計22の計測結果に基づいて、レンズ鏡筒2に対する押え部材であるばね押え5の位置を調整する調整手段を備える。
センサー10は、回転金物6の高さ位置を測定するセンサーで、回転金物6との距離Aを測定して、圧縮ばね4のつぶし量を変化させる。
これにより、露光装置の運用時に必要なレンズ1を保持する力でレンズ1を保持し、レンズ1を保持することにより生じる応力複屈折を最小な値にする。
モーター7は、ギヤ8を介して回転金物6を駆動する。
つまみ9はギヤ8に直結され、モーター7を回転させる電力が供給できない状態でも 手動によりギヤ8を回転させることができる。
制御装置21は、センサー10から出力される信号によりモーター7を制御し、駆動する。
センサー10は、リニアエンコーダーを内蔵した接触式変位センサー、静電容量変化を測定原理に使った静電容量式センサー、電磁誘導によるインピーダンスの変化を測定原理に使った渦電流式センサー等から成る。
さらに、センサー10は、三角測距方式を測定原理に使った光学式変位センサー、超音波の反射時間の変化を測定原理に使った超音波式センサー等から成り、必要な測定精度、設置スペース、コストなどから最適なセンサーを選択する。
図2は、露光装置の運用時ではなく、衝撃がかかるメンテナンス時、露光装置の運搬時、または、地震発生時の本実施例1の光学素子保持装置を示し、衝撃でレンズ1がずれて光学性能を低下させないように、レンズ1を保持する力を強くした状態を示す。
センサー10の出力値から制御装置21によりモーター7を制御し、駆動して回転金物6を回転させ、センサー10と回転金物6の距離をAからA’に変化させる。
これにより、圧縮ばね4を縮めレンズ1の保持力を増加させる。
衝撃がかかるようなメンテナンス時、露光装置の運搬時または地震発生時に振動や衝撃などによりレンズ1がずれることを下記の方法により防止する。
(1)モーター7への通電が止まった場合、センサー10の値を読みながら、センサー10と回転金物6との距離が距離A’になるよう、ギヤ8に直結したつまみ9を手動で回転させる。
この手動よる方法の場合、投影露光装置において、本実施例1の光学素子保持装置一つ毎の作業が必要となる。
(2)センサー10の値を読みながら、回転金物6とセンサー10との距離が距離A’になるように自動的に制御装置21でモーター7を制御し、駆動させる。
この自動による方法の場合は露光装置に設けられる複数のレンズ保持装置を一度に駆動してレンズ1を保持することが可能である。
(3)露光装置の運用中に地震が生じた場合、地震のP波の発生検知から地震のS波到達までの時間差は数秒から数十秒あり、地震災害の大半は、S波到達以降に集中する。
そこで、地震計22により地震のP波を検知してS波の到達前に制御装置21によりモーター7を駆動してレンズ1の保持力を強くする。
このため、地震の振動によるレンズ1の移動を防ぎ、露光装置の性能の低下を防止する。
センサー10の出力値から制御装置21によりモーター7を制御し、駆動して回転金物6を回転させ、センサー10と回転金物6の距離をAからA’に変化させる。
これにより、圧縮ばね4を縮めレンズ1の保持力を増加させる。
衝撃がかかるようなメンテナンス時、露光装置の運搬時または地震発生時に振動や衝撃などによりレンズ1がずれることを下記の方法により防止する。
(1)モーター7への通電が止まった場合、センサー10の値を読みながら、センサー10と回転金物6との距離が距離A’になるよう、ギヤ8に直結したつまみ9を手動で回転させる。
この手動よる方法の場合、投影露光装置において、本実施例1の光学素子保持装置一つ毎の作業が必要となる。
(2)センサー10の値を読みながら、回転金物6とセンサー10との距離が距離A’になるように自動的に制御装置21でモーター7を制御し、駆動させる。
この自動による方法の場合は露光装置に設けられる複数のレンズ保持装置を一度に駆動してレンズ1を保持することが可能である。
(3)露光装置の運用中に地震が生じた場合、地震のP波の発生検知から地震のS波到達までの時間差は数秒から数十秒あり、地震災害の大半は、S波到達以降に集中する。
そこで、地震計22により地震のP波を検知してS波の到達前に制御装置21によりモーター7を駆動してレンズ1の保持力を強くする。
このため、地震の振動によるレンズ1の移動を防ぎ、露光装置の性能の低下を防止する。
以上の図1、図2の本実施例1により、露光装置の運用時のレンズ1の保持力は、露光装置の運用時のみに受ける微振動でレンズ1が移動しない必要最小限の荷重で保持する。
このため、露光装置の運用時にはレンズ1の保持により生じる応力複屈折の発生を最小にして高解像度のパターンを得ることができる。
また、露光装置の運搬時のレンズ1の保持力は、露光装置の運搬時に生じる振動に対してレンズ1が移動しない強固な保持力に切り替えるため、特殊な除振装置付き搬送装置を使用する必要がなく、搬送コストを削減できる。
また、衝撃がかかるメンテナンス時には事前にメンテナンスでかかる衝撃に対してレンズ1が移動しない強固な保持力に切り替え、メンテナンスでかかる衝撃によるレンズ1の移動を防止し、露光装置の解像性能の低下を防止する。
さらに、露光装置の運用中は地震による揺れを常時監視し、異常振動を検知した場合は即座にレンズ1の保持力を強固な保持力に切り替え、地震による揺れによるレンズ1の移動を防止し、露光装置の解像性能の低下を防止する。
この結果、像のコントラストを高める特性を有するS偏光を維持する。
このため、露光装置の運用時にはレンズ1の保持により生じる応力複屈折の発生を最小にして高解像度のパターンを得ることができる。
また、露光装置の運搬時のレンズ1の保持力は、露光装置の運搬時に生じる振動に対してレンズ1が移動しない強固な保持力に切り替えるため、特殊な除振装置付き搬送装置を使用する必要がなく、搬送コストを削減できる。
また、衝撃がかかるメンテナンス時には事前にメンテナンスでかかる衝撃に対してレンズ1が移動しない強固な保持力に切り替え、メンテナンスでかかる衝撃によるレンズ1の移動を防止し、露光装置の解像性能の低下を防止する。
さらに、露光装置の運用中は地震による揺れを常時監視し、異常振動を検知した場合は即座にレンズ1の保持力を強固な保持力に切り替え、地震による揺れによるレンズ1の移動を防止し、露光装置の解像性能の低下を防止する。
この結果、像のコントラストを高める特性を有するS偏光を維持する。
次に、図3を参照して、本発明の実施例2の光学素子保持装置を説明する。
本実施例2の光学素子保持装置は、図1の本実施例1に、さらに、露光装置の運搬時に、押え部材であるばね押え5を押し付ける光学素子保護部材である保護カバー31、押し付けピン32および保護カバー取り付けネジ33を取り付ける。
これにより、センサー10と回転金物6の距離を距離Aから距離A’に変化させ、圧縮ばね4を縮めレンズ1の保持力を増加させる。
保護カバー31をレンズ鏡筒2に保護カバー取り付けネジ33で固定する。
保護カバー31は、ばね押え5を押し付けるための押し付けピン32を有する。
押し付けピン32は回転金物6に設けられた円弧状開口部6-1を通過してばね押え5を押し付ける。
保護カバー取り付けネジ33は保護カバー31の円周上に設けられた複数個の穴を利用して保護カバー31をレンズ鏡筒2に固定する。
本実施例2の光学素子保持装置は、図1の本実施例1に、さらに、露光装置の運搬時に、押え部材であるばね押え5を押し付ける光学素子保護部材である保護カバー31、押し付けピン32および保護カバー取り付けネジ33を取り付ける。
これにより、センサー10と回転金物6の距離を距離Aから距離A’に変化させ、圧縮ばね4を縮めレンズ1の保持力を増加させる。
保護カバー31をレンズ鏡筒2に保護カバー取り付けネジ33で固定する。
保護カバー31は、ばね押え5を押し付けるための押し付けピン32を有する。
押し付けピン32は回転金物6に設けられた円弧状開口部6-1を通過してばね押え5を押し付ける。
保護カバー取り付けネジ33は保護カバー31の円周上に設けられた複数個の穴を利用して保護カバー31をレンズ鏡筒2に固定する。
図4を参照して、本発明の実施例3を説明する。
本実施例3は、光学素子であるレンズ1と当接部材である弾性部材用押え環12との間に弾性部材11を介在させる。
弾性部材用押え環12とレンズ1の接触する部分に紫外線に強い弾性部材11を介在し、弾性部材用押え環12とレンズ1の接触する部分を面接触にし、圧縮ばね4による荷重がかかった場合、単位面積当りの荷重を低減する。
これにより、図1、図2の本実施例1における線接触より、応力複屈折の発生をさらに低減する。
本実施例3は、光学素子であるレンズ1と当接部材である弾性部材用押え環12との間に弾性部材11を介在させる。
弾性部材用押え環12とレンズ1の接触する部分に紫外線に強い弾性部材11を介在し、弾性部材用押え環12とレンズ1の接触する部分を面接触にし、圧縮ばね4による荷重がかかった場合、単位面積当りの荷重を低減する。
これにより、図1、図2の本実施例1における線接触より、応力複屈折の発生をさらに低減する。
図5を参照して、本発明の実施例4を説明する。
本実施例4は、光学素子であるレンズ1と当接部材であるR付押え環14との間を面接触させ、光学素子であるレンズ1とR付レンズ鏡筒13との間を面接触させる。
R付レンズ鏡筒13と、レンズ1のRと同じ形状のレンズ受け部13-1を有する。
さらに、R付押え環14と、レンズ1のRと同じ形状のレンズ受け部14-1を有する。
R付レンズ鏡筒13及びR付押え環14と、レンズ受け部13-1およびレンズ受け部14-1とが幅を有して面接触し、圧縮ばね4による荷重がかかった場合、単位面積当りの荷重を低減する。
これにより、図1、図2の本実施例1における線接触より、応力複屈折の発生をさらに低減する。
本実施例4は、光学素子であるレンズ1と当接部材であるR付押え環14との間を面接触させ、光学素子であるレンズ1とR付レンズ鏡筒13との間を面接触させる。
R付レンズ鏡筒13と、レンズ1のRと同じ形状のレンズ受け部13-1を有する。
さらに、R付押え環14と、レンズ1のRと同じ形状のレンズ受け部14-1を有する。
R付レンズ鏡筒13及びR付押え環14と、レンズ受け部13-1およびレンズ受け部14-1とが幅を有して面接触し、圧縮ばね4による荷重がかかった場合、単位面積当りの荷重を低減する。
これにより、図1、図2の本実施例1における線接触より、応力複屈折の発生をさらに低減する。
図6を参照して、本発明の実施例5を説明する。
本実施例5は、光学素子であるレンズ1と当接部材である弾性部材用押え環12との間に弾性部材11を介在させ、光学素子であるレンズ1とR付レンズ鏡筒13との間を面接触させる。
弾性部材用押え環12とレンズ1の接触する部分に紫外線に強い弾性部材11を介在し、弾性部材用押え環12とレンズ1の接触する部分を面接触にし、圧縮ばね4による荷重がかかった場合、単位面積当りの荷重を低減する。
R付レンズ鏡筒13と、レンズ1のRと同じ形状のレンズ受け部13-1を有する。
R付レンズ鏡筒13と、レンズ受け部13-1とが幅を有して面接触し、圧縮ばね4による荷重がかかった場合、単位面積当りの荷重を低減する。
この面接触により、圧縮ばね4による荷重がかかった場合、単位面積当りの荷重を低減し、図1、図2の本実施例1における線接触より、応力複屈折の発生をさらに低減する。
本実施例5は、光学素子であるレンズ1と当接部材である弾性部材用押え環12との間に弾性部材11を介在させ、光学素子であるレンズ1とR付レンズ鏡筒13との間を面接触させる。
弾性部材用押え環12とレンズ1の接触する部分に紫外線に強い弾性部材11を介在し、弾性部材用押え環12とレンズ1の接触する部分を面接触にし、圧縮ばね4による荷重がかかった場合、単位面積当りの荷重を低減する。
R付レンズ鏡筒13と、レンズ1のRと同じ形状のレンズ受け部13-1を有する。
R付レンズ鏡筒13と、レンズ受け部13-1とが幅を有して面接触し、圧縮ばね4による荷重がかかった場合、単位面積当りの荷重を低減する。
この面接触により、圧縮ばね4による荷重がかかった場合、単位面積当りの荷重を低減し、図1、図2の本実施例1における線接触より、応力複屈折の発生をさらに低減する。
次に、図7及び図8を参照して、上述の露光装置を利用したデバイス製造方法の実施例を説明する。
図7は、デバイス(ICやLSIなどの半導体チップ、LCD、CCD等)の製造を説明するためのフローチャートである。ここでは、半導体チップの製造方法を例に説明する。
露光装置を用いてウェハを露光する工程と、前記ウェハを現像する工程とを備え、具体的には、以下の工程から成る。
ステップ1(回路設計)では半導体デバイスの回路設計を行う。
ステップ2(マスク製作)では設計した回路パターンに基づいてマスクを製作する。
ステップ3(ウェハ製造)ではシリコン等の材料を用いてウェハを製造する。
ステップ4(ウェハプロセス)は前工程と呼ばれ、マスクとウェハを用いて、上記の露光装置によりリソグラフィ技術を利用してウェハ上に実際の回路を形成する。
ステップ5(組立)は、後工程と呼ばれ、ステップ4によって作製されたウェハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディング)、パッケージング工程(チップ封入)等の組み立て工程を含む。
ステップ6(検査)では、ステップ5で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。
こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、それが出荷(ステップ7)される。
図7は、デバイス(ICやLSIなどの半導体チップ、LCD、CCD等)の製造を説明するためのフローチャートである。ここでは、半導体チップの製造方法を例に説明する。
露光装置を用いてウェハを露光する工程と、前記ウェハを現像する工程とを備え、具体的には、以下の工程から成る。
ステップ1(回路設計)では半導体デバイスの回路設計を行う。
ステップ2(マスク製作)では設計した回路パターンに基づいてマスクを製作する。
ステップ3(ウェハ製造)ではシリコン等の材料を用いてウェハを製造する。
ステップ4(ウェハプロセス)は前工程と呼ばれ、マスクとウェハを用いて、上記の露光装置によりリソグラフィ技術を利用してウェハ上に実際の回路を形成する。
ステップ5(組立)は、後工程と呼ばれ、ステップ4によって作製されたウェハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディング)、パッケージング工程(チップ封入)等の組み立て工程を含む。
ステップ6(検査)では、ステップ5で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。
こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、それが出荷(ステップ7)される。
図8は、ステップ4のウェハプロセスの詳細なフローチャートである。
ステップ11(酸化)では、ウェハの表面を酸化させる。
ステップ12(CVD)では、ウェハの表面に絶縁膜を形成する。
ステップ13(電極形成)では、ウェハに電極を形成する。
ステップ14(イオン打込み)では、ウェハにイオンを打ち込む。
ステップ15(レジスト処理)では、ウェハに感光剤を塗布する。
ステップ16(露光)では、露光装置によってマスクの回路パターンをウェハに露光する。
ステップ17(現像)では、露光したウェハを現像する。
ステップ18(エッチング)では、現像したレジスト像以外の部分を削り取る。
ステップ19(レジスト剥離)では、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。
これらのステップを繰り返し行うことによってウェハ上に多重に回路パターンが形成される。
ステップ11(酸化)では、ウェハの表面を酸化させる。
ステップ12(CVD)では、ウェハの表面に絶縁膜を形成する。
ステップ13(電極形成)では、ウェハに電極を形成する。
ステップ14(イオン打込み)では、ウェハにイオンを打ち込む。
ステップ15(レジスト処理)では、ウェハに感光剤を塗布する。
ステップ16(露光)では、露光装置によってマスクの回路パターンをウェハに露光する。
ステップ17(現像)では、露光したウェハを現像する。
ステップ18(エッチング)では、現像したレジスト像以外の部分を削り取る。
ステップ19(レジスト剥離)では、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。
これらのステップを繰り返し行うことによってウェハ上に多重に回路パターンが形成される。
1 レンズ 2 レンズ鏡筒 2−1 ネジ部
3 押え環 4 圧縮ばね 5 ばね押え
6 回転金物 6−1開口部
7 モーター 8 ギヤ
9 つまみ 10 センサー
11 弾性部材 12 弾性部材用押え環
13 R付レンズ鏡筒 13−1レンズ受け部
14 R付押え環 14−1レンズ受け部
21 制御装置 22 地震計
31 保護カバー 32 押し付けピン
33 保護カバー取り付けネジ
41 従来構造のレンズ鏡筒
41−1 ネジ部
42 従来構造の押え環
3 押え環 4 圧縮ばね 5 ばね押え
6 回転金物 6−1開口部
7 モーター 8 ギヤ
9 つまみ 10 センサー
11 弾性部材 12 弾性部材用押え環
13 R付レンズ鏡筒 13−1レンズ受け部
14 R付押え環 14−1レンズ受け部
21 制御装置 22 地震計
31 保護カバー 32 押し付けピン
33 保護カバー取り付けネジ
41 従来構造のレンズ鏡筒
41−1 ネジ部
42 従来構造の押え環
Claims (10)
- 光学素子を保持する光学素子保持装置であって、
前記光学素子の第1面に当接して前記光学素子を支持する鏡筒と、
前記光学素子の前記第1面とは反対側の第2面に当接する当接部材と、
前記鏡筒に対して前記光学素子の光軸方向に移動可能な押え部材と、
前記当接部材と前記押え部材の間に配置され、前記押え部材に対して前記当接部材を前記光学素子側へ押圧する弾性部材と、
前記鏡筒に対する前記押え部材の位置を調整するための手動用つまみを有する調整手段と、を備えることを特徴とする光学素子保持装置。 - 光学素子を保持する光学素子保持装置であって、
前記光学素子の第1面に当接して前記光学素子を支持する鏡筒と、
前記光学素子の前記第1面とは反対側の第2面に当接する当接部材と、
前記鏡筒に対して前記光学素子の光軸方向に移動可能な押え部材と、
前記当接部材と前記押え部材の間に配置され、前記押え部材に対して前記当接部材を前記光学素子側へ押圧する弾性部材と、
前記鏡筒に対する前記押え部材の位置を検出する検出手段と、
前記検出手段の検出結果に基づいて、前記鏡筒に対する前記押え部材の位置を調整する調整手段と、を備えることを特徴とする光学素子保持装置。 - 光学素子を保持する光学素子保持装置であって、
前記光学素子の第1面に当接して前記光学素子を支持する鏡筒と、
前記光学素子の前記第1面とは反対側の第2面に当接する当接部材と、
前記鏡筒に対して前記光学素子の光軸方向に移動可能な押え部材と、
前記当接部材と前記押え部材の間に配置され、前記押え部材に対して前記当接部材を前記光学素子側へ押圧する弾性部材と、
地震計と、
前記地震計の計測結果に基づいて、前記鏡筒に対する前記押え部材の位置を調整する調整手段と、を備えることを特徴とする光学素子保持装置。 - 前記押え部材を押し付ける光学素子保護部材を有すること特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の光学素子保持装置。
- 前記光学素子と前記当接部材との間に弾性部材を介在させる請求項1から4のいずれかに記載の光学素子保持装置。
- 前記光学素子と前記当接部材との間を面接触させる請求項1から4のいずれかに記載の光学素子保持装置。
- 前記光学素子と前記鏡筒との間を面接触させる請求項1から4のいずれかに記載の光学素子保持装置。
- 前記光学素子は、レンズ、または、ミラーであること特徴とする請求項1から7のいずれかに記載の光学素子保持装置。
- 原版のパターンを基板上に露光する露光装置であって、
前記原版を照明する照明系、および、前記原版のパターンを前記基板上に投影する投影光学系のうち少なくとも1つは、請求項1から8のいずれかに記載の光学素子保持装置により保持された光学素子を含むことを特徴とする露光装置。 - デバイスを製造するデバイス製造方法であって、請求項9記載の露光装置を用いて、
原版のパターンを基板上に露光するステップと、
露光された前記基板を現像するステップと、を備えるデバイス製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007262293A JP2009094220A (ja) | 2007-10-05 | 2007-10-05 | 光学素子保持装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
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JP2007262293A Pending JP2009094220A (ja) | 2007-10-05 | 2007-10-05 | 光学素子保持装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
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JP (1) | JP2009094220A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN112147855A (zh) * | 2019-06-27 | 2020-12-29 | 佳能株式会社 | 保持装置、曝光装置、物品制造方法 |
-
2007
- 2007-10-05 JP JP2007262293A patent/JP2009094220A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN112147855A (zh) * | 2019-06-27 | 2020-12-29 | 佳能株式会社 | 保持装置、曝光装置、物品制造方法 |
JP2021005018A (ja) * | 2019-06-27 | 2021-01-14 | キヤノン株式会社 | 保持装置 |
JP7297555B2 (ja) | 2019-06-27 | 2023-06-26 | キヤノン株式会社 | 調整方法及び保持装置 |
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