TWI454731B - 用於改進投影物鏡的成像性質之方法以及該投影物鏡 - Google Patents

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Description

用於改進投影物鏡的成像性質之方法以及該投影物鏡
本發明有關於一種用於改進光微影投影物鏡的成像性質之方法。
本發明更進一步有關於用於自光微影投影物鏡的複數個透鏡中選出至少一透鏡以作為一主動可變形裝置的方法，至少部分地修正一影像缺陷。
本發明更進一步有關於一投影物鏡。
投影物鏡被使用於平版微影之方法中，以產生如半導體組件，影像讀取頭元件，顯示裝置等等。通常，投影物鏡會被使用於平版微影中，以製造結構精密的組件。
一投影物鏡可由複數個全部都是透鏡的光學元件組成，或者此投影物鏡可以包含透鏡和鏡子的組合形成。
投影物鏡被使用於將一結構或一光罩(分劃板)的圖案，也就是配置在投影物鏡中的物體平面上，成像到被配置在投影物鏡中之影像平面上的一感光基板上。被成像的結構或圖案會變得越來越小，以增加生產組件的整合密度，因此對於現在投影物鏡的解析度和成像品質有越來越高的要求。
投影物鏡的成像品質會因為像差而變得不好。
這些像差具有各種各樣的類型。因此，這樣的投影物鏡在被改善之前，在生產或組裝過程中使用不符要求的材 料規格或不精確的操作，會在像差上產生嚴重後果。然而，會產生嚴重後果的這些像差大部分在物鏡之個別光學元件的生產期間和在組裝過程的期間中可以被除去，特別是，目前的解決方式為裝置非球面表面至物鏡的個別透鏡上。
不過，像差也可能在改善後和/或在投影物鏡操作時期或者在投影物鏡的老化過程中再度產生。這些像差可能導因於投影物鏡中光學元件的光學材料之輻射相關變化。例如，就結構緊密結合的光學元件材料而言，輻射相關變化可能是永久性的，或者他們可能只是暫時性的。投影物鏡中光學元件之光學物質的暫時性變化，主要是基於個別光學元件受熱和因為在操作期間內曝光，造成變形。
輻射相關的材料的變化會造成像差，此變化的特徵為照明狹縫之矩形場及影像場之對稱性的兩倍會被轉移至像差上。如此會破壞投影物鏡的旋轉對稱性，也通常導致一般難以修正的典型像差。
因為光學元件材料受熱引起的典型像差，造成折射係數的變化以及表面的改變，或者因為密度的變化引起的(緊密結構)，使折射係數變化，導致波前錯誤，例如，一恆定場像散，一恆定場三軸差像差的發生或者一恆定場四軸差像差的發生。不過，除恆定場像差之外，還有一場相關或者一場輪廓的像差發生，例如，一倍場輪廓變形(變質作用)以及一影像表面的像散場輪廓變形。
眾所周知，一恆定場像散可以使用透鏡的像散變形加 以修正。
一主動可變形透鏡裝置可以在這裡被用來說明，例如，在文件WO 99/67683中所述。在此，一主動可變形透鏡被配置在一個底座上，透鏡被指派至一操縱器，其具有一或更多致動器，在對光軸大約垂直的方向上對透鏡作用。致動器在光學元件上產生力量和/或力矩，其非為旋轉性對稱並且不依照徑向線方向，以產生如同彎曲形式的變形。取決於此操縱器具有多少致動器，可能產生一倍，二倍，三倍，或者一般n倍的變形或者如同彎曲的變形，至少部分變形此主動可變形透鏡，使用各種變形，以修正一倍，二倍，三倍或者一般n倍像差。
和上述可形成任何所需複雜形狀的非球面光學元件不同，為了修正相應的複雜波前輪廓錯誤，修正一主動可變形透鏡的方式傾向於小倍數的修正，並且基本上侷限於簡單的波前像差輪廓。
使用主動可變形透鏡的傳統想法為侷限在只使用單一主動可變形裝置，用來修正特定原因所引起的影像缺陷。當然可以使用此種操作模式，適當地變形主動可變形透鏡，大幅地修正影像缺陷(像差)，但是此修正會導致或者加強其他的影像缺陷，使得投影物鏡的總成像品質常常無法改善，或者無法實質上地改善。
這表示仍然需要有一種方法，用於改進一投影物鏡的成像性質，以有效地克服一或更多種的影像缺陷，特別是因為材料老化和/或暫時的物質受熱所引起的缺陷。
本發明之一目的，為提供此種解決方法。
本發明之一目的，為更進一步提供一有關於改善成像性質之投影物鏡。
本發明之一目的，為更進一步描述一光微影投影物鏡之方法，從投影物鏡的複數個透鏡中選出至少一適當透鏡，作為主動可變形裝置，以至少部分地修正一影像缺陷。
根據本發明的一第一樣式，提供一種用於改進一光微影投影物鏡成像性質的方法，此投影物鏡包括在一物體平面以及一影像平面之間的複數個透鏡，複數個透鏡中的一第一透鏡被指派至一第一操縱器，用於使透鏡主動地變形，第一透鏡被變形以至少部分地修正一影像缺陷，而且複數個透鏡中的至少一第二透鏡被指派至至少一第二操縱器，以及除第一透鏡之外，第二透鏡也被變形。
根據本發明的此種方法是基於在一投影物鏡中提供至少兩個可主動變形透鏡，並且這樣的互相配置，可提高修正基本和更高級數之影像缺陷的可能性。相反地，當只使用一主動可變形透鏡，基於基本和更高級數的影像缺陷可能是線性地彼此相關，這樣的可能性是不存在的。例如，在Z5中，兩倍影像缺陷的基本級數是與在Z12中的次高級數之影像缺陷線性相關。舉例來說，在Z11中的三倍影像缺陷，是與在Z20中的次高級數之影像缺陷線性相關，以及用在Z17中的四倍影像缺陷是與在Z28中的次高級數之影像缺陷線性相關。在這個例子當中，Z5，Z12，Z11，Z20，Z17，Z28係為澤尼克(Zernike)係數，已知是被使用於一波前展開級數中，將影像缺陷作分類。
根據本發明所述之方法，可以應用在一浸潤構造中或在一乾燥構造中的投影物鏡。而且，根據本發明之方法，不只能被用於非專由折射元件，如透鏡，所組成的投影物鏡，而且也能被用於折射元件和反射元件，如反射鏡，的組合。
更進一步的優點為，因為使用至少兩個主動可變形透鏡，以部分地修正投影物鏡的影像缺陷，藉由適當選擇至少兩個主動可變形透鏡的位置和/或幾何形狀，可以使用簡單的操縱器，以產生更複雜波前輪廓，或者，因為上述單一透鏡的可變形能力之限制，在只使用一主動可變形透鏡時，某些無法做出或者實質上不再花費更大功夫就無法做出的效果。
因此，第一透鏡和至少一第二透鏡儘可能是被配置在物體平面與影像平面之間，鄰近或者是在光學方法上相互共軛的位置，之後兩個透鏡會被變形，此變形顯現一不同變形輪廓。
這形成一種優點，可以至少部分地對於具有複雜的場輪廓之波前像差加以修正。
當第一透鏡和至少一第二透鏡被配置在物體平面與影像平面之間，非鄰近或者是在光學方法上非相互共軛的位置時，會產生一種有利地相似效果，兩個透鏡會被變形，此變形顯現一不同變形輪廓。
當中，投影物鏡的透鏡被配置在鄰近或者在共軛位置上，對於影像的場輪廓有實質上相同的影響，投影物鏡中的非鄰近透鏡或者透鏡被配置在光學方法上相互共軛位置對影像場有不同的影響。為了在兩個例子中，補償特定像差場輪廓或者恆定場像差，在前面的例子中此至少二透鏡儘可能被不同地變形，並且在第二個例子中，是被實質上同等的變形。
事實上，上述不同輪廓的變形，可以藉由使第一透鏡和至少一第二透鏡具有不同形狀達成。
如果此至少二主動可變形透鏡具有不同外形或者幾何形狀，即使施加相同力量至此二透鏡，導致不同的變形輪廓，也可產生不同的修正作用。
事實上可以藉由使用不同的力使第一透鏡和至少一第二透鏡變形，因此具有不同輪廓之變形同樣是可以被做成的。
特別是，第一和至少一第二透鏡可以被藉由使用相反方向的力被變形，以取得具體的修正作用。
當第一透鏡和至少一第二透鏡是被配置在物體平面和影像平面之間的光學非相互共軛的位置時，兩者可以被至少實質上同等地變形，然而相同的變形可以對影像平面的影像缺陷產生一不同修正作用，因為此兩個主動可變形透鏡的修正作用，可以藉由在投影物鏡中的位置所構成的函數加以描述。
相反地，當第一透鏡和至少一第二透鏡是被配置在物體平面和影像平面之間的光學相互共軛的位置時，也可以對兩者作實質上不同的變形，以這種方式取得一種不同的修正作用。
而且，在某些有利的情形之下，也可以依照一特定比率，使第一透鏡和至少一第二透鏡被變形。
舉例來說，如果第一透鏡和至少一第二透鏡對於影像場上恆定模式中Z5和Z12的波前像差產生影響，如對於第一透鏡的Z5和Z12之間的比率為-3，與如對於第二透鏡的為+2，便可以在3+x/2-x之比率上藉由選擇第二透鏡的變形與第一透鏡的相比，在Z5和Z12之間設定一所需的比率x。其絕對值之大小係由在波前中Z5所需之大小決定。
概括地說，上述之比率係被選定，作為第一透鏡和至少一第二透鏡對其徑向基本澤尼克級數(如Z5)以及徑向高階澤尼克級數(如Z12)之波前像差的作用之函數。
更進一步地說，當第一透鏡與至少一第二透鏡是從複數個透鏡中選出，使得影像缺陷的徑向基本澤尼克級數可以實質上獨立於其徑向高階澤尼克級數而被修正，或者反之亦然。
如開始已經提及的，以只有單一透鏡被變形為例，對於相同影像缺陷，在其基本澤尼克級數和徑向高階澤尼克級數之間存在線性關係，例如在Z5和Z12之間。藉由合 適地選擇第一和至少一第二透鏡的幾何形狀和/或位置，此線性關係可以被改變，且可以修正其波前像差。
較佳的情況是，儘可能地藉由自複數個透鏡中選出第一透鏡和至少一第二透鏡，使得第一透鏡對徑向基本澤尼克級數以及徑向高階澤尼克級數之比率的修正作用之大小，大約等於至少一第二透鏡的修正作用，但是，具有不同的符號。
可以藉由相同修正作用之大小但是不同符號的第一透鏡之修正作用與至少一第二透鏡之修正作用，破壞此線性關係。
第一透鏡和至少一第二透鏡的修正作用，分別具有不同符號，事實上可以儘可能使用正透鏡於第一透鏡並且使用負透鏡於至少一第二透鏡。在投影物鏡中光的路徑順序並不重要，也就是說，第一透鏡可以被配置在至少一第二透鏡的光傳播路徑的上方或在其下方。
以下描述更多具體且精確的方法。
當影像缺陷包含場相關和恆定場部件的組合或者主要場相關部件時，由複數個透鏡中選出作為第一透鏡和/或作為至少一第二透鏡之透鏡，其透鏡前側以及透鏡後側的次孔徑半徑之比率大小，在使用負透鏡的情況下，位於大約0.8至大約0.9或者位於大約1.1至大約1.2的範圍內，並且，在使用正透鏡的情況下，位於大約0.9至大約1.1的範圍內。
可以知道的是，一透鏡的次孔徑半徑可從在透鏡前側或透鏡後側的一個場點，藉由放大的光圓錐半徑量測。其透鏡前側以及透鏡後側的次孔徑半徑取決於透鏡在投影物鏡中的位置和其幾何形狀。
在上述提及的例子中，此被修正的影像缺陷包含場相關和恆定場部件的組合或者主要場相關部件，由複數個透鏡中選出作為第一透鏡和/或作為至少一第二透鏡之透鏡，其透鏡前側或透鏡後側的次孔徑半徑對最大透鏡高度之比率大小，小於大約0.7，並且大於大約0.1。
透鏡在投影物鏡中的位置自然地會影響透鏡前側或者透鏡後側之次孔徑半徑對最大透鏡高度的比率。影像缺陷的場相關組件，例如在Z2(變質性)中，大部分可以被主動可變形透鏡有效地修正，其位置較接近場平面且較不接近光瞳平面，如上述提及的，其值大約為0.7。
如果當影像缺陷至少包含主要恆定場部件時，由複數個透鏡中選出作為第一透鏡和/或作為至少一第二透鏡之透鏡，其透鏡前側以及透鏡後側的次孔徑半徑之比率大小，在使用負透鏡的情況下，位於大約0.8至大約0.9或者位於大約1.1至大約1.2的範圍內，並且，在使用正透鏡的情況下，位於大約0.9至大約1.1的範圍內。
如果當選擇一正透鏡以及一負透鏡用於修正影像缺陷時，其位置的選定最好是位於正透鏡正上方的邊緣光線的光束角度之大小比位於負透鏡正上方的邊緣光線的光束角度之大小更小。
在某些例子中，由複數個透鏡中選出作為第一透鏡和/或作為至少一第二透鏡的透鏡，其透鏡前側或透鏡後側的次孔徑半徑對最大透鏡高度之比率大小，大於大約0.7。
因此，恆定場組件應該儘可能地藉由距離一光瞳平面較近而距離一場平面較遠的一主動變形透鏡加以修正，因為在光瞳平面附近的元件對於影像場的波前像差顯現出一種實質上恆定場的作用。
在投影物鏡中，由複數個透鏡中選出作為第一透鏡和/或作為至少一第二透鏡之透鏡，可以是一主動可變形裝置或複數個主動可變形裝置，在較佳的狀況下，其透鏡中心厚度對最大透鏡高度之比率大小，小於大約0.4。
在此，可以知道一透鏡的最大高度係為在透鏡主體內之最大射線高度。一般只稍微地小於透鏡的真正總高度。
因此，上述的例子是屬於比較好的，然而，對於作為主動可變形裝置的薄透鏡，因為在這種情況下，變形可以藉由使用一相對弱的力被取得，並且這樣可以有利地降低在組裝上所需的費用和所需配置的操縱器。
不過，當如上所描述的一薄透鏡，並未被使用在適當位置或具有合適的幾何形狀，而是在這個適當位置上選擇一作為主動可變形透鏡，其對於變形而言是過厚的，此透鏡被分成至少兩單獨透鏡，並且這些單獨透鏡中的至少一個被變形。
在另一個較佳的例子中，複數個透鏡中選出作為第一透鏡和/或作為至少一第二透鏡之透鏡，在操作期間內被光多次穿透。
在此的優勢是多種的，例如光以兩倍傳輸地穿過透鏡可以加強具有修正作用的透鏡之變形的光學效應，且在兩倍傳輸的情況下，實際上它已經是被加強兩倍。例如，在具有光束偏折的反射折光投影物鏡中，在操作期間，其中的一透鏡會被光的穿過兩次。
在另一個較佳的例子中，第一透鏡和至少一第二透鏡以一倍、二倍、三倍或n倍對稱而被變形，其中n>3。
根據上述的例子，在使用主動可變形透鏡的情形中，可以至少部分地修正一倍、二倍、三倍或n倍的波前像差。
根據本發明之另一例子，描述一種用於自光微影投影物鏡的複數個透鏡中選擇至少一透鏡以作為一主動可變形裝置的方法，其中複數個透鏡中的至少一透鏡之幾何形狀和/或位置被用來作為待修正的一影像缺陷之函數的選擇標準，用於至少部分地修正影像缺陷。
因此，這種方法是基於在一投影物鏡的現有光學設計或被提出的光學設計之想法，決定在複數個透鏡中，至少一透鏡，其儘可能是如上所述的至少二透鏡，作為合適的主動可變形透鏡，以修正一或更多的影像缺陷。
在某些較佳的例子當中，作為正透鏡或負透鏡的至少一透鏡的性質，被用作為一合適幾何形狀的選擇標準。
正透鏡以及負透鏡在波前像差上的不同效應，特別是在影響特定波前像差的符號(＋/－)，已經在上面被描述。
更進一步地說，透鏡之中心厚度對最大透鏡高度的比率，被用作為一合適幾何形狀的選擇標準。
"最大透鏡高度"可以知道是被作為類似透鏡中的最大射線高度。這樣的選擇標準也考慮投影物鏡中特定透鏡的適當性，在適當模式中藉由操縱器，使其變形，且操作時不需要施加很大的力。
在某些情況之下，較佳透鏡的選擇方式為，中心厚度對最大透鏡高度的比率大約小於0.4。
在某些情況之下，透鏡的前側以及後側之次孔徑半徑的比率，被用作為至少一透鏡之一合適位置的選擇標準。
如果影像缺陷至少包含主要恆定場部件，由複數個透鏡中選出作為至少一透鏡之透鏡，其透鏡前側以及透鏡後側的次孔徑半徑之比率大小，在使用負透鏡的情況下，位於大約0.8至大約0.9或者位於大約1.1至大約1.2的範圍內，並且，在使用正透鏡的情況下，位於大約0.9至大約1.1的範圍內。
如果影像缺陷包含場相關和恆定場部件的組合或者主要場相關部件，由複數個透鏡中選出作為至少一透鏡之透鏡，其透鏡前側以及透鏡後側的次孔徑半徑之比率大小，在使用負透鏡的情況下，位於大約0.8至大約0.9或者位於大約1.1至大約1.2的範圍內，並且，在使用正透鏡的情況下，位於大約0.9至大約1.1的範圍內。
另外一個較佳的例子中，透鏡前側以及透鏡後側的較大次孔徑半徑對最大透鏡高度的比率，被用作為至少一透鏡之合適位置的選擇標準。
如果影像缺陷至少包含主要恆定場部件，被選定以作為至少一透鏡之透鏡，其透鏡前側或透鏡後側的次孔徑半徑對最大透鏡高度之比率大小，大於大約0.7。
如果影像缺陷包含場相關和恆定場部件的組合或者主要場相關部件，被選定以作為至少一透鏡之透鏡，其透鏡前側或透鏡後側的次孔徑半徑對最大透鏡高度之比率大小，小於大約0.7。
在另一個選擇標準中，可以依照被選定作為至少一透鏡之透鏡，在操作期間內是否被光多次穿透。
如上述已經提到的，此透鏡，在較佳的情形下，被選擇作為主動可變形透鏡，其可以多次被光穿過，例如兩次，就像是在使用反射折光投影物鏡的情況下一樣。
根據本發明所提供之一另一例子，一種光微影投影物鏡，此投影物鏡包含在一物體平面和一影像平面之間的複數個透鏡，當用於主動地變形一第一透鏡之一第一操縱器，被指派至此複數個透鏡中的第一透鏡，此第一透鏡是可變形的以至少部分地修正一影像缺陷，至少一第二操縱器被指派至複數個透鏡中的至少一第二透鏡，並且除第一透鏡之外，第二透鏡也被變形。
根據本發明之投影物鏡而論，可以根據此投影物鏡之較佳實施例，也就如申請專利範圍中描述的，應用上述方法，改善投影物鏡的成像性質。
更進一步的優點和特徵可藉由下列的說明與所附的圖式而顯現出來。
很明顯地，以上所描述的特徵和在以下的說明並不只是可用於個別特定的結構中，在不超出本發明的範圍內，還可以被使用在其他結構中或者在自我形成的結構中。
為了描述由複數個透鏡所組成的一光微影投影物鏡，用於修正因為在操作期間內光學元件的材料受熱或老化而產生的影像缺陷，根據本發明所提供的方法，選擇投影物鏡之複數個透鏡中的至少二透鏡，並且藉由操縱器主動地使它們變形，以至少部分地修正所產生的影像缺陷。
不管是否選擇至少兩透鏡作為主動可變形透鏡，或者是否選擇只有單一透鏡作為主動可變形透鏡，本發明之另一例子包括指定一合適標準，用於選擇此透鏡，作為主動可變形透鏡。
本發明在之前所提及的第一實例以及因此由複數個透鏡中選出之至少兩透鏡，作為主動可變形透鏡，將在此首先被更詳細的說明。
一被用作主動可變形透鏡之透鏡，用於修正一影像缺陷，此個別透鏡之變形對應在影像場中的波前，只有一相對簡單的波前作用可以被產生。相對地說，如果，兩個或更多鄰近透鏡或者被配置在系統中的共軛位置之透鏡被相互組合，因此這些透鏡具有不同符號的變形，舉例來說，根據透鏡的不同形狀和/或以一操縱器或者複數個操縱器所施加之不同的力，如果適當使用的話，會有不同的符號，例如，施加相反方向的力，也可能具有結合至少二透鏡而產生出現不同輪廓的變形，造成在只使用單一可變形透鏡下不能獲得的一複雜波前作用。
當使用兩個或者更多主動可變形透鏡被配置在投影物鏡中的不同位置時，也可以獲得相同的結果，這些被選擇的不同透鏡也能具有相似的變形，但是因為在投影物鏡中的不同位置，而有不同的波前作用。
在第1圖中描述一個簡單的例子。投影物鏡中複數個透鏡中的一第一透鏡之波前作用係為最高曲線A，假設是二次曲線。
在較低的曲線B係為一主動可變形第二透鏡之波前作用，具有四次曲線特性，而且，與曲線A之波前不同的是，具有相反的符號。
曲線C係用虛線表示，根據曲線A和B之波前作用顯示其疊加結果，導致一總和，相較於第一透鏡和第二透鏡各自的波前作用，在此顯示更複雜的場輪廓。因此可以使用這種方法，結合兩透鏡或更多，和以適當變形產生一複雜的波前場輪廓，以至少部分地補償在影像場內的波前像差。
特別是在另一例子中，第一透鏡和至少一第二透鏡係以彼此間的特定比率而被變形。此比率係被選定，作為第一透鏡和至少一第二透鏡對其放射基本澤尼克級數以及放射高階澤尼克級數之波前像差的作用之函數。
在此將對基本澤尼克級數Z5和下一徑向高階澤尼克級數Z12作說明。
可以假設第一透鏡產生一波前作用，如對於其Z5和Z12之間的比率為-3。另外再假設對於第二透鏡的為+2。便可以在3+x/2-x之比率上藉由選擇第二透鏡的變形與第一透鏡的相比，在Z5和Z12之間設定一所需的比率x。其大小係由在波前中的Z5(或Z12)所需之大小決定。
當使用主動可變形透鏡，以一倍，二倍或三倍或者更高倍的變形方式，舉例來說，可能由於操作期間內的光學元件受熱，在投影物鏡中要修正與對稱性相關的影像缺陷時，應該記住，如果只有一主動可變形透鏡被用於修正，基本澤尼克級數和相關較高階澤尼克級數是彼此線性相關。
因此，舉例來說，在具有二倍對稱性的影像缺陷中，其基本澤尼克級數Z5和徑向高階澤尼克級數Z12彼此相關，且其三倍基本澤尼克級數Z11和其三倍澤尼克級數Z20同樣相關，以及其四倍澤尼克級數Z17也相關於徑向高階四倍澤尼克級數Z28。
因為在基本和更高階級數之間的線性關係，無法使用Z5來修正Z12，例如以下的例子，在具有二倍對稱性的影像缺陷中，只使用一主動可變形透鏡，在修正之後的結果只可能會產生此兩個澤尼克級數之一。因此不可能有一合理最佳化結果。
不過，當在投影物鏡中，至少二透鏡被選擇作為主動 可變形透鏡，被用於修正之目的時，合理地修正此影像缺陷也是有可能的。當然，也可能選擇超過二透鏡作為主動可變形透鏡，特別是利用一偶數數量的透鏡。藉由使用至少二透鏡作為主動可變形透鏡，可以使基本和徑向高階級數之間的設定彼此互相獨立。
為了保證基本和徑向高階級數之修正的獨立性，兩透鏡的修正作用必須有不同的符號，但是就大小而言是相近的。
相對應地，在投影物鏡中，必需要選擇其透鏡的幾何形狀和位置。
如此導致各種各樣的選擇標準，用於自投影物鏡之複數個透鏡中選擇合適的透鏡，作為主動可變形透鏡，以修正影像缺陷。
例如，藉由第一透鏡使用負透鏡，以及例如，第二透鏡使用正透鏡，可以得到一修正，其第一澤尼克級數以及徑向高階澤尼克級數之間是互相獨立的。關於第2圖，在下文會被更詳細的描述。
第2圖說明一負透鏡10和一正透鏡12。
一光線14進入負透鏡10的一透鏡前側16。
連續線條說明負透鏡10係在非變形狀態中，並且虛線線條說明其係在變形狀態中，其可以藉由操縱器21產生。
在負透鏡10中，發生在非變形狀態時進入光線14的傳導係為路線18，在變形狀態係為路線20。在離開負透鏡10的後側22之後，此光線在負透鏡10為非變形狀態時會根據路線24更進一步地傳播，並且在變形狀態中係根據路線26傳播。
28表示正透鏡12的前側，而30表示後側。連續線條說明正透鏡12在非變形狀態，並且虛線線條說明它在變形的狀態中。透鏡12的變形藉由操縱器31完成。進入光線32在正透鏡12為非變形狀態時，根據路線34和36傳播，而在變形狀態時，根據路線38和40傳播。
這裡假設負透鏡10的變形，還有正透鏡12的變形，是一個與光軸z垂直且距離r的二次函數。
在變形之後，對於透鏡之厚度d(r)來說大約是d (r ) d 0 (1＋ar 2 )其中，d0 係為負透鏡10或者正透鏡12的中心厚度和Rv係為透鏡前側16或者28的曲率半徑以及RH 係為透鏡後側22或者30的曲率半徑。
n倍波前變形WFD可以在各自透鏡之前側16或28，以及各自透鏡之後側22或30的次孔徑半徑RS 被大約描述，例如
因為曲率半徑RH 和RV 受符號影響，並且因為在負透鏡10和正透鏡12之間的符號互相不同，負透鏡10為a>0和正透鏡12為a<0。
假設施加於此負透鏡10和正透鏡12之n倍對稱性變形是二倍(n＝2)，其遵循的波前變形WFD大約為：
現在說明波前變形WFD對基本澤尼克級數Z5和對徑向高階澤尼克級數Z12的影響，對於負透鏡10而言，其為：，以及對於正透鏡12而言，其為：
如果此變形選擇將澤尼克級數Z5的參數a5在波前變形方面的影響調整為相等，波前變形在Z5的影響會彼此消除，並且波前變形在級數Z12方面可以獨立於第一澤尼克級數Z5。
相反地，當然也有可能，波前變形在Z12的影響彼此消除，並且在Z5的影響，與修正有關係的Z5之加總係為有限值，因此在此例中，Z5可以獨立於Z12。
另外，在一投影物鏡中，被選為主動可變形透鏡的透鏡之幾何形狀，在第3圖中被更進一步地描述一些重要的選擇標準，用於選擇合適的主動可變形透鏡之透鏡。
一透鏡在影像場的波前變形之光學效應或變形，也取決於在投影物鏡中透鏡的位置。
透鏡之變形的光學效應，取決於在投影物鏡裡面之透鏡的位置，至少受到在透鏡前側以及透鏡後側之次孔徑比率彼此之間，以及在前或後側(或者這兩者中較大的)的次孔徑對透鏡最大高度的比率的影響。
第3圖顯示一圖式，描述在變形和光學效應之間的關係，可作為各種透鏡之次孔徑的函數。
圖式中的橫座標顯示次孔徑(在透鏡前側或者透鏡後側，或者這兩者中較大的)對透鏡最大高度的比率，此比率自然地不會超過1。
圖式中的縱座標顯示在透鏡前側之次孔徑對在透鏡後側之次孔徑的比率。
在圖式中，LE1至LE23的23個透鏡被指派至數值對(RS V /RS H ；RS H /Hm a x )。透鏡LE1至LE23是屬於投影物鏡，分別如第3圖中說明的那樣。透鏡LE1至LE23的數值在第3圖的圖式中相當於透鏡的順序，自左到右，也就是說從物體平面至影像平面。
在圖式中也說明了某些路線，每一路線皆對應於數值對(RS V /RS H ；RS H /Hm a x )，描述一變形的相等光學效應。
箭號A與B描述其光學效應的增加方向。
假設全部透鏡皆具有相同的變形時，此光學效應係為所產生的波前變形之量測。增加的產生波前變形表示光學效應的增加。
在第3圖中也說明一個圖表，描述數值對(RS V /RS H ；RS H /Hm a x )的範圍，其中在透鏡中的變形表示在恆定場和場相關的波前變形上具有最大的光學效應。透鏡LE11至LE23係關於恆定場波前變形。此範圍包含透鏡，其透鏡前側或透鏡後側的次孔徑半徑對最大透鏡高度之比率大小，大於大約0.7，並且在另一例子中，當其透鏡前側以及透鏡後側的次孔徑半徑之比率大小，在使用正透鏡的情況下，位於大約0.9至大約1.1的範圍內，並且，在使用負透鏡的情況下，位於大約0.8至大約0.9或者位於大約1.1至大約1.2的範圍內。
類似的情形也可以應用於修正影像缺陷之組件，其包含主要場相關部件或者場相關和恆定場部件的組合，其中選出主動可變形透鏡之透鏡，其透鏡前側或透鏡後側的次孔徑半徑對最大透鏡高度之比率大小，小於大約0.7，並且在另一例子中，當其透鏡前側以及透鏡後側的次孔徑半徑之比率大小，在使用正透鏡的情況下，位於大約0.9至大約1.1的範圍內，並且，在使用負透鏡的情況下，位於大約0.8至大約0.9或者位於大約1.1至大約1.2的範圍內。這顯示在第3圖中的透鏡LE1至LEI0。
更進一步地說，當被選為主動可變形透鏡之透鏡的選擇標準是透鏡厚度時，在此情形下，透鏡之中心厚度和透鏡高度的比率應該大約比0.4小，並且不管是否在投影物鏡的操作期間內，光不僅僅一次穿透過相關的透鏡，也會是兩次或者多次，因為在後面提到的例子中，其光學效應實際上是在每一次穿透時被加倍或者多倍增加。
第4a)至11b)圖係說明用於解說的投影物鏡之實施例，在某些上述例子中說明藉由使用主動可變形透鏡以修正像差的概念。
第4a)以及4b)圖係顯示一投影物鏡50，如文件DE 102 10 899中所描述的。此投影物鏡50具有數值孔徑NA 1.1。
在以下依順序所列出的光學有效模組中，投影物鏡50包含在光路徑的方向上，一具有正折射力的第一組折光部件，配置於投影物鏡50的中間地帶之一雙凹透鏡，以及一具有正折射力的第三純折光部件。
在某一例子中，此投影物鏡50的最大半徑Y'係為11.0 mm。
第4a)圖說明投影物鏡50的一區域，其中的個別透鏡之次孔徑對最大透鏡高度的比率大約比0.7小。
在此區域內，其中的透鏡可以被選擇作為主動可變形透鏡，用於修正像差，之後將被指派至合適的操縱器M1 ，．．．，Mn (n1)，以至少部分地修正多數的場相關影像缺陷或者結合恆定場和場相關的影像缺陷(例如在光軸上的像散和變質)，也就是因為透鏡受熱或者透鏡老化所產生的。
用第4a)圖中具有黑色背景的透鏡來說明，其為合適的主動可變形透鏡，用於修正影像缺陷。另外要確定，沒有黑色背景的透鏡，可以符合次孔徑對最大透鏡高度的比率大約比0.7小的選擇標準，由於其他原因，這些透鏡較少適合作為主動可變形透鏡。例如，透鏡L4對於作為一主動可變形透鏡而言是過厚的，然而，在此例中，透鏡L4可以被分成兩個單獨的透鏡，並且這兩個單獨的透鏡之一或者兩者可以被選擇作為主動可變形透鏡。
這也可從第4a)圖中知道，負透鏡，如透鏡L1，L2和L3可以被選擇作為主動可變形透鏡，並且透鏡L7和L8可以被選擇作為正透鏡。
在第4a)圖中，具有一黑色背景的透鏡可以作為用於修正影像缺陷的主動可變形透鏡，如之前提及的，其大部分為場相關組件。
在第4b)圖中描述相同的投影物鏡50，在此例中，被畫影線的透鏡，其各自透鏡的次孔徑對最大透鏡高度的比率大約比0.7大。在此例中，被畫影線的透鏡，依順序，包括負透鏡和正透鏡，可以被選擇作為主動可變形透鏡，用於修正這些影像缺陷，其大部分為恆定場組件，例如Z5，Z11，Z17等等。合適的操縱器Kn，‧‧‧，Km(m1)，被用於變形一或更多被選擇的變形透鏡。
第5至11圖以更進一步地的實施例為例子，說明類似於第4a)以及4b)圖中的一投影物鏡。在第5至11圖中，用於變形物鏡中的透鏡之操縱器，並沒有如同在第4a)以及4b)圖中以黑色背景或者畫影線之方式表示，其在第5至11圖中是被省略的。
第5a)以及5b)圖中說明的投影物鏡係已在文件WO 2004/019128A中被描述，正如第8a)以及8b)圖中描述的投影物鏡一樣。
以在光路徑的方向上來看，第6a)和6b)圖中說明的投影物鏡之光學方法有效模組中，按以下順序有，一第一純折光部件G1，經由一第一光瞳平面P1，將物體平面O成像至一第一中間影像F1上，一第二純反射部件G2，經由一第二光瞳平面P2，將第一中間影像F1成像至一第 二中間影像F2上，並且包含分別位於第二光瞳平面P2上游與下游的二凹面鏡M1與M2，和一第三純折光部件G3，經由一第三光瞳平面P3，將第二中間影像F2成像至影像平面I上。根據第6a)以及6b)圖的投影物鏡具有一數值孔徑NA=1.35，此投影物鏡中的一影像點之最大半徑Y'係為16.25mm。
以在光路徑的方向上來看，第7a)和7b)圖中說明的投影物鏡之光學方法有效模組中，按以下順序有，一第一反射折光部件，經由一第一光瞳平面，將物體平面成像至一第一中間影像上，一第二反射折光部件，經由一第二光瞳平面，將第一中間影像成像至一第二中間影像上，和一第三反射折光部件，經由一第三光瞳平面，將第二中間影像成像至影像平面上。此投影物鏡具有一數值孔徑NA=1.20，此投影物鏡中的一影像點之最大半徑Y'係為14.4mm。
第8a)和8b)圖中說明的投影物鏡之設計原理類似於第圖7a)以及7b)圖所描述的。此投影物鏡具有數值孔徑NA=1.25，此投影物鏡中的一影像點之最大半徑Y'係為15.0mm。
以在光路徑的方向上來看，第9a)和9b)圖中說明的投影物鏡之光學方法有效模組中，按以下順序有，一第一折光部件G1，經由一第一光瞳平面P1，將物體平面O成像至一第一中間影像F1上，一第二反射折光部件G2，經由一第二光瞳平面P2，將第一中間影像F1成像至一第 二中間影像F2上，一第三反射折光部件G3，經由一第三光瞳平面P3，將第二中間影像F2成像至一第三中間影像F3上，和一第四反射折光部件G4，經由一第四光瞳平面P4，將第三中間影像F3成像至影像平面I上。此投影物鏡具有一數值孔徑NA=1.30，此投影物鏡中的一影像點之最大半徑Y'係為16.1mm。第一中間影像F1位於一第一折疊鏡M1的立即之前。第二反射折光部件G2包含第一折疊鏡M1與反射鏡M2。第三反射折光部件G3包含一反射鏡M3。以光傳播方向而言，第三中間影像F3位於一第二折疊鏡M4之前。第四反射折光部件G4包含第二折疊鏡M4。必須注意的是，光瞳平面P1至P4與中間影像F1至F3的位置並非精確繪示，而僅為近似。
第10a)和10b)圖中說明的投影物鏡之設計原理類似於第圖9a)以及9b)圖所描述的。此投影物鏡具有數值孔徑NA=0.92，此投影物鏡中的一影像點之最大半徑Y'係為16.1mm。
第10a)和10b)圖中說明的投影物鏡被描述於文件JP 2004 317534A中。
最後，第11a)和11b)圖中說明的投影物鏡之設計原理類似於第圖4a)以及4b)圖所描述的。此投影物鏡具有數值孔徑NA=0.95，此投影物鏡中的一影像點之最大半徑Y'係為14.0mm。
數值孔徑NA和各自投影物鏡中的一影像點所具有的最大半徑Y'，在下述表格中作一整理：
10．．．負透鏡
12．．．正透鏡
14．．．光線
16．．．前側
18．．．路線
20．．．路線
21．．．操縱器
22．．．後側
24．．．路線
26．．．路線
28．．．前側
30．．．後側
31．．．操縱器
32．．．光線
34．．．路線
36．．．路線
38．．．路線
40．．．路線
50．．．投影物鏡
本發明可藉由以下詳細的說明與特定用來解說的實施例，加以描述。圖式包含：第1圖係為一圖式，說明在投影物鏡中結合不同變形的兩透鏡，或者在不同位置情況下之波前作用；第2圖顯示一負透鏡以及一正透鏡，用於說明當負透鏡以及正透鏡被主動變形時，所具有的不同修正作用或者波前作用；第3圖係為一圖式，說明如第11圖中的投影物鏡，其變形的光學效應與各種透鏡之次孔徑之間的關係；第4a)以及4b)圖顯示用於說明的投影物鏡之一實施例，第4a)圖中強調的是此投影物鏡中的特定透鏡，如同主動可變形透鏡，用於修正一影像缺陷或者多種影像缺陷，具有或者具備場相關組件，另外，在第4b)圖中強調的是此投影物鏡中的透鏡，如同主動可變形透鏡，用於修正一影像缺陷或者多種影像缺陷，具有或者具備恆定場組件；第5a)以及5b)圖更進一步顯示用於說明的另一投影物鏡之實施例，類似於第4a)以及4b)圖中所描述的；第6a)以及6b)圖更進一步顯示用於說明的另一投影物鏡之實施例，類似於第4a)以及4b)圖中所描述的；第7a)以及7b)圖更進一步顯示用於說明的另一投影物鏡之實施例，類似於第4a)以及4b)圖中所描述的；第8a)以及8b)圖更進一步顯示用於說明的另一投影物鏡之實施例，類似於第4a)以及4b)圖中所描述的；第9a)以及9b)圖更進一步顯示用於說明的另一投影物鏡之實施例，類似於第4a)以及4b)圖中所描述的；第10a)以及10b)圖更進一步顯示用於說明的另一投影物鏡之實施例，類似於第4a)以及4b)圖中所描述的；第11a)以及11b)圖更進一步顯示用於說明的另一投影物鏡之實施例，類似於第4a)以及4b)圖中所描述的。
10．．．負透鏡
12．．．正透鏡
14．．．光線
16．．．前側
18．．．路線
20．．．路線
21．．．操縱器
22．．．後側
24．．．路線
26．．．路線
28．．．前側
30．．．後側
31．．．操縱器
32．．．光線
34．．．路線
36．．．路線
38．．．路線
40．．．路線

Claims (59)

  1. 一種光微影投影物鏡，包含：複數個透鏡，在該物鏡之一物體平面和一影像平面之間，該複數個透鏡包含一第一透鏡與至少一第二透鏡；一第一操縱器，用於主動地變形該複數個透鏡中的該第一透鏡，該第一透鏡是可變形的以至少部分地修正一影像缺陷；至少一第二操縱器，用於主動地變形該複數個透鏡中的該至少一第二透鏡，除該第一透鏡之外，該至少一第二透鏡也可變形；其中，該投影物鏡在其使用期間在光路徑的方向上包含下列順序的可光學操作之結構部件：一具有正折射力的第一純折光部件，一雙凹透鏡，一具有正折射力的第三純折光部件，以及，其中該第一透鏡包含於該第一折光部件之中，和該至少一第二透鏡包含於該第三折光部件之中。
  2. 一種光微影投影物鏡，包含：複數個透鏡，在該物鏡之一物體平面和一影像平面之間，該複數個透鏡包含一第一透鏡與至少一第二透鏡；一第一操縱器，用於主動地變形該複數個透鏡中的該第一透鏡，該第一透鏡是可變形的以至少部分地修正一影像缺陷；至少一第二操縱器，用於主動地變形該複數個透鏡中 的該至少一第二透鏡，除該第一透鏡之外，該至少一第二透鏡也可變形；其中，該投影物鏡在其使用期間在光路徑的方向上包含下列順序的可光學操作之結構部件：一第一純折光部件，經由一第一光瞳平面，將該物體平面成像至一第一中間影像上，一第二純反射部件，經由一第二光瞳平面，將該第一中間影像成像至一第二中間影像上，並且包含分別位於該第二光瞳平面上游與下游的二凹面鏡，一第三純折光部件，經由一第三光瞳平面，將該第二中間影像成像至該影像平面上，以及，其中該第一透鏡包含於該第一折光部件之中，和該至少一第二透鏡包含於該第一或第三折光部件之中。
  3. 一種光微影投影物鏡，包含：複數個透鏡，在該物鏡之一物體平面和一影像平面之間，該複數個透鏡包含一第一透鏡與至少一第二透鏡；一第一操縱器，用於主動地變形該複數個透鏡中的該第一透鏡，該第一透鏡是可變形的以至少部分地修正一影像缺陷；至少一第二操縱器，用於主動地變形該複數個透鏡中的該至少一第二透鏡，除該第一透鏡之外，該至少一第二透鏡也可變形；其中，該投影物鏡在其使用期間在光路徑的方向上包含下列順序的可光學操作之結構部件： 一第一反射折光部件，經由一第一光瞳平面，將該物體平面成像至一第一中間影像上，一第二反射折光部件，經由一第二光瞳平面，將該第一中間影像成像至一第二中間影像上，一第三反射折光部件，經由一第三光瞳平面，將該第二中間影像成像至該影像平面上，以及，其中該第一透鏡包含於該第一或第三反射折光部件之中，和該至少一第二透鏡包含於該第二或第三反射折光部件之中。
  4. 一種光微影投影物鏡，包含：複數個透鏡，在該物鏡之一物體平面和一影像平面之間，該複數個透鏡包含一第一透鏡與至少一第二透鏡；一第一操縱器，用於主動地變形該複數個透鏡中的該第一透鏡，該第一透鏡是可變形的以至少部分地修正一影像缺陷；至少一第二操縱器，用於主動地變形該複數個透鏡中的該至少一第二透鏡，除該第一透鏡之外，該至少一第二透鏡也可變形；其中，該投影物鏡在其使用期間在光路徑的方向上包含下列順序的可光學操作之結構部件：一第一折光部件，經由一第一光瞳平面，將該物體平面成像至一第一中間影像上，一第二反射折光部件，經由一第二光瞳平面，將該第一中間影像成像至一第二中間影像上， 一第三反射折光部件，經由一第三光瞳平面，將該第二中間影像成像至一第三中間影像上，一第四反射折光部件，經由一第四光瞳平面，將該第三中間影像成像至該影像平面上，以及，其中該第一透鏡包含於該第一折光部件或該第三或第四反射折光部件之中，和該至少一第二透鏡包含於該第二、第三或第四反射折光部件之中。
  5. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之投影物鏡，其中該第一透鏡和該至少一第二透鏡係彼此鄰近或被配置在該物體平面和該影像平面之間的相互光學共軛位置，並且都可變形，使得該些變形顯現不同的變形輪廓。
  6. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之投影物鏡，其中該第一透鏡和該至少一第二透鏡係非彼此鄰近或被配置在該物體平面和該影像平面之間的非相互光學共軛位置，並且都可變形，使得該些變形顯現不同的變形輪廓。
  7. 如申請專利範圍第5項所述之投影物鏡，其中該第一透鏡和該至少一第二透鏡具有不同形狀。
  8. 如申請專利範圍第6項所述之投影物鏡，其中該第一透鏡和該至少一第二透鏡具有不同形狀。
  9. 如申請專利範圍第5項所述之投影物鏡，其中該第一透鏡和該至少一第二透鏡藉由使用不同的力而可變形。
  10. 如申請專利範圍第5項所述之投影物鏡，其中該第一透鏡和該至少一第二透鏡藉由使用相反方向的力而可 變形。
  11. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之投影物鏡，其中該第一透鏡和該至少一第二透鏡係被配置在該物體平面和該影像平面之間的非相互光學共軛位置，並且是至少實質地同等地可變形的。
  12. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之投影物鏡，其中該第一透鏡和該至少一第二透鏡係被配置在該物體平面和該影像平面之間的相互光學共軛位置，並且是實質地不同地可變形的。
  13. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之投影物鏡，其中該第一透鏡和該至少一第二透鏡係以彼此間的特定比率而可變形。
  14. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之投影物鏡，其中該第一透鏡和該至少一第二透鏡係由該複數個透鏡中選出，使得該影像缺陷的一徑向基本澤尼克級數可以實質地獨立於該影像缺陷的一徑向高階澤尼克級數而被修正，或者反之亦然。
  15. 如申請專利範圍第14項所述之投影物鏡，其中該第一透鏡和該至少一第二透鏡係由該複數個透鏡中選出，使得該第一透鏡對於該徑向基本澤尼克級數以及該徑向高階澤尼克級數之比率的修正作用之大小，大約等於該至少一第二透鏡的修正作用，但是，具有不同的符號。
  16. 如申請專利範圍第14項所述之投影物鏡，其中該第一透鏡係一正透鏡，並且該至少一第二透鏡係為一負透 鏡。
  17. 如申請專利範圍第15項所述之投影物鏡，其中該第一透鏡係一正透鏡，並且該至少一第二透鏡係為一負透鏡。
  18. 如申請專利範圍第16項所述之投影物鏡，其中直接位於該正透鏡上游的邊緣光線的光束角度之大小比直接位於該負透鏡上游的邊緣光線的光束角度之大小更小。
  19. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之投影物鏡，其中被修正的該影像缺陷包含場相關和恆定場部件的組合或者主要場相關部件，由該複數個透鏡中選出作為該第一透鏡和/或作為該至少一第二透鏡，其透鏡前側以及透鏡後側的次孔徑半徑之比率大小，在使用負透鏡的情況下，位於大約0.8至大約0.9或者位於大約1.1至大約1.2的範圍內，並且，在使用正透鏡的情況下，位於大約0.9至大約1.1的範圍內。
  20. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之投影物鏡，其中該影像缺陷包含場相關和恆定場部件的組合或者主要場相關部件，由該複數個透鏡中選出作為該第一透鏡和/或作為該至少一第二透鏡，其透鏡前側或透鏡後側的次孔徑半徑對最大透鏡高度之比率大小，小於大約0.7，並且大於大約0.1。
  21. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之投影物鏡，其中該影像缺陷包含至少主要恆定場部件，由該複數個透鏡中選出作為該第一透鏡和/或作為該至少一第二 透鏡，其透鏡前側以及透鏡後側的次孔徑半徑之比率大小，在使用負透鏡的情況下，位於大約0.8至大約0.9或者位於大約1.1至大約1.2的範圍內，並且，在使用正透鏡的情況下，位於大約0.9至大約1.1的範圍內。
  22. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之投影物鏡，其中該影像缺陷包含至少主要恆定場部件，由該複數個透鏡中選出作為該第一透鏡和/或作為該至少一第二透鏡，其透鏡前側或透鏡後側的次孔徑半徑對最大透鏡高度之比率大小，大於大約0.7。
  23. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之投影物鏡，其中由該複數個透鏡中選出作為該第一透鏡和/或作為該至少一第二透鏡，其透鏡中心厚度對最大透鏡高度之比率大小，小於大約0.4。
  24. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之投影物鏡，其中由該複數個透鏡中選出作為該第一透鏡和/或作為該至少一第二透鏡，對於變形而言是過厚的，該透鏡被分成至少兩單獨透鏡，並且該些單獨透鏡中的至少一個為可變形。
  25. 如申請專利範圍第6項所述之投影物鏡，其中該第一透鏡和該至少一第二透鏡藉由使用不同的力而可變形。
  26. 如申請專利範圍第6項所述之投影物鏡，其中該第一透鏡和該至少一第二透鏡藉由使用相反方向的力而可變形。
  27. 一種用於改進光微影投影物鏡的成像性質之方法，該投影物鏡包含在一物體平面和一影像平面之間的複數個透鏡，該複數個透鏡中的一第一透鏡被指派至一第一操縱器以使該第一透鏡主動地變形，該第一透鏡被變形以至少部分地修正一影像缺陷，該複數個透鏡中的至少一第二透鏡另外被指派至至少一第二操縱器，並且除該第一透鏡之外，該第二透鏡也被變形，其中該第一透鏡與該至少一第二透鏡被變形以獨立地修正該影像缺陷的基本與高階級數。
  28. 如申請專利範圍第27項所述之方法，其中該第一透鏡和該至少一第二透鏡係彼此鄰近或被配置在該物體平面和該影像平面之間的相互光學共軛位置，並且都被變形，使得該些變形顯現不同的變形輪廓。
  29. 如申請專利範圍第27項所述之方法，其中該第一透鏡和該至少一第二透鏡係非彼此鄰近或被配置在該物體平面和該影像平面之間的非互相光學共軛位置，並且都被變形，使得該些變形顯現不同的變形輪廓。
  30. 如申請專利範圍第28或29項所述之方法，其中該第一透鏡和該至少一第二透鏡具有不同形狀。
  31. 如申請專利範圍第28或29項所述之方法，其中該第一透鏡和該至少一第二透鏡藉由使用不同的力而變形。
  32. 如申請專利範圍第28或29項所述之方法，其中該第一透鏡和該至少一第二透鏡藉由使用相反方向的力而 變形。
  33. 如申請專利範圍第27項所述之方法，其中該第一透鏡和該至少一第二透鏡係被配置在該物體平面和該影像平面之間的非相互光學共軛位置，並且被至少實質地同等變形。
  34. 如申請專利範圍第27項所述之方法，其中該第一透鏡和該至少一第二透鏡係被配置在該物體平面和該影像平面之間的相互光學共軛位置，並且被實質地不同地變形。
  35. 如申請專利範圍第27至29項以及第33至34項中任一項所述之方法，其中該第一透鏡和該至少一第二透鏡係以彼此間的特定比率而被變形。
  36. 如申請專利範圍第35項所述之方法，其中該比率係被選定，作為該第一透鏡和該至少一第二透鏡對其一徑向基本澤尼克(Zernike)級數以及一徑向高階澤尼克級數之波前像差的作用的函數。
  37. 如申請專利範圍第27至29項以及第33至34項中任一項所述之方法，其中該第一透鏡和該至少一第二透鏡係由該複數個透鏡中選出，使得該影像缺陷的一徑向基本澤尼克級數可以實質地獨立於該影像缺陷的一徑向高階澤尼克級數而被修正，或者反之亦然。
  38. 如申請專利範圍第37項所述之方法，其中該第一透鏡和該至少一第二透鏡係由該複數個透鏡中選出，使得該第一透鏡對於該徑向基本澤尼克級數以及該徑向高階澤 尼克級數之比率的修正作用之大小，大約等於該至少一第二透鏡的修正作用，但是，具有不同的符號。
  39. 如申請專利範圍第38項所述之方法，其中該第一透鏡係一正透鏡，並且該至少一第二透鏡係為一負透鏡。
  40. 如申請專利範圍第39項所述之方法，其中直接位於該正透鏡上游的邊緣光線的光束角度之大小比直接位於該負透鏡上游的邊緣光線的光束角度之大小更小。
  41. 如申請專利範圍第27至29項以及第33至34項中任一項所述之方法，其中該影像缺陷包含場相關和恆定場部件的組合或者主要場相關部件，由該複數個透鏡中選出作為該第一透鏡和/或作為該至少一第二透鏡，其透鏡前側以及透鏡後側的次孔徑半徑之比率大小，在使用負透鏡的情況下，位於大約0.8至大約0.9或者位於大約1.1至大約1.2的範圍內，並且，在使用正透鏡的情況下，位於大約0.9至大約1.1的範圍內。
  42. 如申請專利範圍第27至29項以及第33至34項中任一項所述之方法，其中該影像缺陷包含場相關和恆定場部件的組合或者主要場相關部件，由該複數個透鏡中選出作為該第一透鏡和/或作為該至少一第二透鏡，其透鏡前側或透鏡後側的次孔徑半徑對最大透鏡高度之比率大小，小於大約0.7，並且大於大約0.1。
  43. 如申請專利範圍第27至29項以及第33至34項中任一項所述之方法，其中該影像缺陷至少包含主要恆定場部件，由該複數個透鏡中選出作為該第一透鏡和/或作 為該至少一第二透鏡，其透鏡前側以及透鏡後側的次孔徑半徑之比率大小，在使用負透鏡的情況下，位於大約0.8至大約0.9或者位於大約1.1至大約1.2的範圍內，並且，在使用正透鏡的情況下，位於大約0.9至大約1.1的範圍內。
  44. 如申請專利範圍第27至29項以及第33至34項中任一項所述之方法，其中該影像缺陷至少包含主要恆定場部件，由該複數個透鏡中選出作為該第一透鏡和/或作為該至少一第二透鏡，其透鏡前側或透鏡後側的次孔徑半徑對最大透鏡高度之比率大小，大於大約0.7。
  45. 如申請專利範圍第27至29項以及第33至34項中任一項所述之方法，其中由該複數個透鏡中選出作為該第一透鏡和/或作為該至少一第二透鏡，其透鏡中心厚度對最大透鏡高度之比率大小，小於大約0.4。
  46. 如申請專利範圍第27至29項以及第33至34項中任一項所述之方法，其中由該複數個透鏡中選出作為該第一透鏡和/或作為該至少一第二透鏡，對於變形而言是過厚的，該透鏡被分成至少兩單獨透鏡，並且該些單獨透鏡中的至少一個被變形。
  47. 如申請專利範圍第27至29項以及第33至34項中任一項所述之方法，其中由該複數個透鏡中選出作為該第一透鏡和/或作為該至少一第二透鏡，在操作期間內被光多次穿透。
  48. 如申請專利範圍第27至29項以及第33至34項 中任一項所述之方法，其中該第一透鏡和該至少一第二透鏡以一倍、二倍、三倍或n倍對稱而被變形，其中n>3。
  49. 一種用於自光微影投影物鏡的複數個透鏡中選擇一第一透鏡與至少一第二透鏡以作為複數個主動可變形裝置的方法，用以至少部分地修正一影像缺陷，其中該複數個透鏡中的該第一透鏡與該至少一第二透鏡之幾何形狀和/或位置被用來作為選擇標準，其為待修正的該影像缺陷的函數，以獨立地修正該影像缺陷的基本與高階級數。
  50. 如申請專利範圍第49項所述之方法，其中作為正透鏡或負透鏡的該第一透鏡的性質和/或作為正透鏡或負透鏡的該至少一第二透鏡的性質，被用作為一合適幾何形狀的選擇標準。
  51. 如申請專利範圍第49或50項所述之方法，其中該第一透鏡和/或該至少一第二透鏡之中心厚度對最大透鏡高度的比率，被用作為一合適幾何形狀的選擇標準。
  52. 如申請專利範圍第51項所述之方法，其中當該中心厚度對該最大透鏡高度的比率小於大約0.4時，選擇該第一透鏡和/或該至少一第二透鏡。
  53. 如申請專利範圍第49或50項所述之方法，其中透鏡的前側以及後側之次孔徑半徑的比率，被用作為該第一透鏡和/或該至少一第二透鏡之一合適位置的選擇標準。
  54. 如申請專利範圍第53項所述之方法，其中該影像缺陷至少包含主要恆定場部件，由該複數個透鏡中選出作 為該第一透鏡和/或作為該至少一第二透鏡，其透鏡前側以及透鏡後側的次孔徑半徑之比率大小，在使用負透鏡的情況下，位於大約0.8至大約0.9或者位於大約1.1至大約1.2的範圍內，並且，在使用正透鏡的情況下，位於大約0.9至大約1.1的範圍內。
  55. 如申請專利範圍第53項所述之方法，其中該影像缺陷包含場相關和恆定場部件的組合或者主要場相關部件，由該複數個透鏡中選出作為該第一透鏡和/或作為該至少一第二透鏡，其透鏡前側以及透鏡後側的次孔徑半徑之比率大小，在使用負透鏡的情況下，位於大約0.8至大約0.9或者位於大約1.1至大約1.2的範圍內，並且，在使用正透鏡的情況下，位於大約0.9至大約1.1的範圍內。
  56. 如申請專利範圍第49或50項所述之方法，其中透鏡前側以及透鏡後側的較大次孔徑半徑對最大透鏡高度的比率，被用作為該第一透鏡和/或該至少一第二透鏡之合適位置的選擇標準。
  57. 如申請專利範圍第56項所述之方法，其中該影像缺陷至少包含主要恆定場部件，被選定以作為該第一透鏡和/或作為該至少一第二透鏡，其透鏡前側或透鏡後側的次孔徑半徑對最大透鏡高度之比率大小，大於大約0.7。
  58. 如申請專利範圍第56項所述之方法，其中該影像缺陷包含場相關和恆定場部件的組合或者主要場相關部件，被選定以作為該第一透鏡和/或作為該至少一第二透 鏡，其透鏡前側或透鏡後側的次孔徑半徑對最大透鏡高度之比率大小，小於大約0.7，並且大於大約0.1。
  59. 如申請專利範圍第49或50項所述之方法，其中被選定作為該第一透鏡和/或作為該至少一第二透鏡，在操作期間內被光多次穿透。
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