JP2004516526A - 少なくとも1つの非球面レンズを有するレンズ系 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、少なくとも1つの非球面レンズ表面を有するレンズ並びに少なくとも1つの非球面レンズ表面を有するレンズ系並びにマイクロリソグラフィーの投影露光装置及び少なくとも1つの非球面レンズ表面を有するレンズ系で微細構造化素子を製造する方法に関する。
【0002】
特にマイクロリソグラフィーの投影レンズ系においては、ますます結像性能を改良するために非球面のレンズ表面を有するレンズが使用される。例えば、このようなレンズは、DE19942281,US5,990,926、US4,948,328、EP332201B1から公知である。
【0003】
非球面レンズは、ますますマイクロリソグラフィーの投影レンズ系において像性能を改良するために使用される。しかしながら、所望の性能改良を非球面のレンズ表面を有するレンズを使用することによって達成するためには、また、非球面のレンズ表面の実際の形が所定の程度を越えてレンズ表面の目標データからずれないことが必要である。マイクロリソグラフィーにおいては、目標表面と現実表面の間の許容偏差はますます微細に結像すべき構造に基づき極めて小さい。存在する非球面のレンズ表面が要求されるレンズ表面の測定精度の範囲内に存在するかどうか検査するためには、特殊な試験光学系が必要とされる。この試験光学系を用いて、非球面のレンズ表面の質が検査される。
【0004】
このような試験光学系の複雑性は、決定的に非球面のレンズ表面の表面形状に依存する。特に、非球面のレンズ表面が、代替可能な費用で調達することができかつ有利には少ない数の非球面のレンズからなる試験光学系で試験可能である非球面のレンズの使用が追求される。
【0005】
非球面のレンズ表面を製造する際には、非球面のレンズ表面を製造工程中に数回試験しかつ後加工を行わねばならないことが必要となることもある。
【0006】
また、研磨により表面に依存して表面形状の不所望のかつ不均一な変化が研磨剥離に基づき発生し、それにより非球面のレンズ表面の許容されない変化が生じることもある。
【0007】
更に、高い非球面度を有する非球面の表面の場合、即ち球面の面からの偏差が大きい場合、及び局部的曲率の変化が大きくなるに伴い、これらの面は極めて小さい研磨工具を用いて著しく高い費用をかけて研磨することができるに過ぎないか、又は非球面のレンズ表面を研磨することが殆ど不可能であるという事態が生じることもある。まさにレンズ系の設計過程において、設計者が設計過程で、研磨専門家、及び試験光学系を提供する専門家との複数回の話合いにより初めて、設計者によって開発された設計が代替可能な費用で製造することができかどうか又は該設計を、製造観点においても許容される設計であるように変更しなければならないかどうかを知ることは好ましいことでない。特に、製造と開発が互いに遠距離で行われる場合には、設計と製造との間の一致が著しい時間的浪費と結び付いている。
【0008】
本発明の課題は、非球面レンズ表面の製造可能性に対して必要な条件を見出すことである。
【0009】
更に、本発明の課題は、非球面レンズ表面を有する新規の設計で製造者との協議を必要とせずに製造することができる方法を提供することである。
【0010】
本発明の課題は、請求項1及び3に記載の特徴により解決される。
【0011】
非球面レンズ表面をゼルニケ多項式に表す手段により、非球面レンズ表面の分類を、請求項1に記載の条件a)〜c)の少なくとも2つが存在する際にそれぞれの非球面レンズ表面を代替可能な費用で研磨可能かつ試験可能であるように実施することが可能になった。
【0012】
それに伴い、設計者には、設計過程で製造者と協議を必要とせずにその設計の試験可能性及び製造可能性に対する言明を行うことが可能である。設計者は、製造可能なかつ試験可能な設計図を書くことに専念することができる。
【0013】
特に、条件c)の存在は、有利に非球面レンズ表面の製造可能性に作用する。
【0014】
基準化された半径に対して、ゼルニケ多項式から生じる配分が、以下の条件:
ゼルニケ多項式Z9≦ 300μm、
ゼルニケ多項式Z16≦ 35μm、
ゼルニケ多項式Z25≦ 5μm、
ゼルニケ多項式Z36≦ 1μm、
ゼルニケ多項式Z49≦ 0.2μm
を上回らない手段により、簡単な製造可能性及び試験可能性に関して優れた等級の非球面レンズ表面が形成される。
【0015】
振動する空気柱又は振動する側面に類似して、係数Z16,Z25,Z49,Z64等は球面の球面のオーバートーン(倍音)と称される。オーバートーンが少ない程、従ってゼルニケ多項式からの配分に振幅がZ16からなる割合の振幅が急速になりかつ大きくなればなる程に、ますます容易に非球面を製造することができる。更にそれにより、レンズからなる補正光学素子又はコンピュータで形成されたホログラムは、非球面を試験するために許容誤差に関しては著しく敏感でない。付加的に、振幅の急速な減衰はアイソプラナチック補正光学素子を見出すことを可能にする。非球面レンズ表面に対する試験光学素子の適合品質(波面の残留RMS値)のためには、ゼルニケ論の振幅の自然の減衰が決定的である。このことは高いゼルニケ振幅の特に調和した減衰を有する所定の例で明らかになる。従って、個々の高次のゼルニケ項を不自然にその振幅において低下させることは望ましくない。技術的に重要なSin−i負荷を有する球面レンズからなる補正光学素子は、完全に自ら高次のゼルニケ項の弱く減衰する振幅パターンを発生する。
【0016】
更に、凸面レンズ表面に非球面レンズ表面を設けるのが有利であることが立証された。これは特に有利に研磨工程に影響を及ぼす。
【0017】
レンズ系において、ゼルニケ多項式による特徴付けに基づき必要とされる精度で容易に製造可能である非球面レンズ表面のみを設けるのが有利であることが立証された。
【0018】
この非球面レンズ表面の作用を更に改良するためには、非球面レンズ表面に対してそれぞれ隣接して、半径が最大非球面のレンズ表面の半径から30%ずれた球面レンズ表面を配置するのが有利であることが立証された。この手段により、非球面のレンズ表面と、隣接して配置された球面のレンズ表面との間に殆ど等間隔の空隙が形成される。それにより、設計者は球面の湾曲において自由になり、ことのことは非球面の付加的な重要な自由度を意味し、しかもそれにより非球面の製造可能性が困難になることはない。
【0019】
その他の有利な手段は、別の従属請求項に記載されており、以下の実施例により詳細に説明する。
【0020】
図1により、まず投影露光装置1の原理的構造を説明する。投影露光装置は、照明装置3及び投影レンズ5を有する。投影レンズ5は、開口絞りAPを有するレンズ系19を有し、該レンズ系19により光軸7が規定される。照明装置3と投影レンズ5の間に、マスクホルダ11によって光路内に保持されるマスク9が配置されている。このようなマイクロリソグラフィーで使用されるマスク9は、マイクロメートル〜ナノメートルの構造を有し、該構造は投影レンズ5によって1/10、特に1/4まで縮小されて結像面13に結像される。結像面13で、基板ホルダ17により位置決めされた基板もしくはウェーハ15が保持される。なお解像可能な微細構造は、照明のために使用される光の波長λ並びに投影レンズ5の開口に依存し、その際投影露光装置の最大達成可能な解像力は、照明の波長が低下するに伴いかつ投影レンズ5の開口が増大するに伴い上昇する。
【0021】
マイクロリソグラフィー用の投影レンズ5の、図2に示されたレンズ系19は、6つのレンズ群G1〜G6に分けれることができる31個のレンズを有する。このレンズ系は、波長351nmのために構成されている。
【0022】
第1のレンズ群G1は、負レンズL1で開始し、4枚の正レンズL2〜L5が続く。この第1のレンズ群は、正の屈折力を有する。
【0023】
第2のレンズ群G2は、物体に向かって湾曲した、負の屈折力を有する厚いメニスカスレンズL6で開始する。この負レンズに、2個の別の負レンズL7及びL8が引き続いている。それに続くレンズL9は、物体側に凸レンズ表面を有し、従って物体に向かって湾曲した、正の屈折力を有するメニスカスレンズである。第2のレンズ群の最後のレンズとしては、像に向かって湾曲した、負の屈折力を有するメニスカスレンズが設けられており、該レンズは像側に配置された凸面が非球面化されている。第2のレンズ群G2の前記非球面レンズ表面により、特にイメージフィールド帯域とイメージフィールド縁部の間の像収差の補正が可能である。特に、サジタル断面を考察すると明らかになる高次の像収差を補正することができる。このサジタル断面に現れる像収差は特に補正するのが困難であるので、これは特に重要な貢献である。
【0024】
この非球面レンズ表面は、ゼルニケ多項式Z9,Z16,Z25,Z36,Z49及びZ64を有する以下の式で数学的に表すことができる。非球面レンズ表面に以下のことが当てはまる:
【0025】
【数4】
【0026】
上記式において、Pは光軸7からの基準化された距離hの関数としてのアーチの高さである。
【0027】
【数5】
【0028】
ゼルニケ多項式に配属される係数及び非球面のレンズ表面の数学的表現のための半径も同様に表に記載されている。非球面のレンズ表面の半径は、以下の式が当てはまるように規定されている:
【0029】
【数6】
【0030】
ずれた半径を選択すると、別のゼルニケ係数が生じる。特に、低次のゼルニケ多項式が変化することになる。K4=0又は殆ど0である選択の際には、ゼルニケ多項式により特に簡単にゼルニケ係数から非球面の製造可能性及び試験可能性に関する証言を導き出すことができる。ゼルニケ多項式Z9から生じる配分は、3次の球面収差に貢献する。ゼルニケ多項式Z16から生じる配分は、5次の球面収差に貢献する。ゼルニケ多項式Z25から生じる配分は、6次の球面収差の補正に貢献かつゼルニケ多項式Z36から生じる配分は、9次の球面収差の補正に貢献する。
【0031】
第3のレンズ群G3は、以下のレンズL11〜L15が構成されている。第3のレンズ群の中心には、2つの厚い正レンズが配置されており、それらの対向する正レンズは強度に湾曲せしめられている。これらの2つの厚い正レンズの間に、殆ど屈折力を有しない極めて薄い正レンズ13が配置されている。このレンズは、あまり重要ではないので、レンズ系構造の僅かな修正の下で必要であれば省略することができる。この第3のレンズ群は正の屈折力を有する。
【0032】
第4のレンズ群G4は、負レンズL16〜L18により構成されており、従って負の屈折力を有する。
【0033】
第5のレンズ群G5は、レンズL19〜L27から構成されている。最初の3つの正レンズL19〜L21の後方に絞りが配置されている。絞りの後方に、向かい合った表面が強度の曲率を有する2つの厚い正レンズが配置されている。このレンズL22及びL23の構成は、有利に球面収差に作用する。このレンズL22及びL23の構成により、“最良の形のレンズ”の原理の1つが考慮される、即ちほぼ平行な光線の光路内に、強度に湾曲された面が生じる。同時に、鮮鋭な球面収差のアンダー補正のための分担が提供され、これは鮮鋭な球面収差にオーバー作用する2つの後方に設置されたメニスカスL24及びL25と協働して優れた全補正を可能にする。これらのレンズの焦点距離は、f12=465.405mm及びf34=448.462mmである。
【0034】
第6のレンズ群G6は、第1のレンズとしてL28を有し、該レンズに厚いレンズが引き続いている。記載の実施例からのずれは、コンパクション(Compaction)の減少のために、レンズ材料として石英ガラスをこのレンズ群の最後の2つのレンズのために使用することが有利なこともある。
【0035】
このレンズ系の長さは、物体面Oから像面O’まで1000mmである。イメージフィールドは8×26mmである。このレンズ系の開口数は0.75である。このレンズ系においては、約2.5pmの帯域幅が許容される。正確なレンズデータは、第1表に記載されている:
【0036】
【表1】
【0037】
【表2】
【0038】
図3には、波長193nmのために構成され、かつ31枚のレンズを有するレンズ系が示されている。これらの31枚のレンズは、6つのレンズ群G1〜G6に分けることが可能である。
【0039】
第1のレンズ群G1は、レンズL101〜L105を有しかつ全体で正の屈折力を有する。
【0040】
第2のレンズ群G2は、レンズL106〜L110を有する。これらのレンズ群は、全体で正の屈折力を有しかつこのレンズ群により1つのウエスト部分が形成される。最初の3つのレンズL106〜L110は負の屈折力を有し、この場合レンズL109はレチクルから湾曲せしめられており、正の屈折力を有する。レンズL110はウェーハに向かって湾曲せしめられたメニスカスレンズであり、該レンズは両側のレンズ表面に非球面AS1を備えている。これらの非球面AS1及びレンズL111の後続の球面のレンズ表面により、少なくとも10mmの厚さを有する殆ど等間隔の空隙が形成される。
【0041】
レンズ111は既にレンズ群G3に属し、該レンズ群は正の屈折力を有するレンズL111〜L115を有する。これらのレンズ群G3は、全体で正の屈折力を有する。
【0042】
第4のレンズ群G4は、レンズL116〜L118から構成されかつ負の屈折力を有する。
【0043】
第5のレンズ群G2は、レンズL119〜L127から構成されかつ正の屈折力を有する。レンズL121とレンズL122の間に絞りが配置されている。レンズL128〜L131により第6のレンズ群が形成され、該レンズ群は正の屈折力を有する。
【0044】
第3のレンズ群において、レンズL111はCaF2からなる。この位置にCaF2を使用することは、色横収差の減少のために貢献する。
【0045】
更に、絞りの周りに正レンズ、即ちCaF2からなる、絞りの前方の2つの正レンズ、及び絞りの後方の2つの正レンズL122及びL123が存在する。色縦収差はビーム直径並びにまた屈折力に依存するので、ビーム直径が最大でありかつレンズの屈折力が比較的に大きい絞りの領域で、この領域内の色縦収差を十分に補正することができる。これらのCaF2レンズL120〜L123は、第3のレンズ群とは異なりある程度の不均一性を有していてもより、該不均一性はそれぞれのレンズの意図的表面形成により補償することができる。このことは、ここでは極く僅かなビーム傾斜が生じるに過ぎないので可能である。
【0046】
最後のレンズ群G6には、もう1つのCaF2レンズL130が設けられている。このレンズL130は、ビームにより特に強度に負荷されるレンズであり、それにより材料CaF2の使用がコンパクション及びレンズの加熱を軽減するために貢献する。それというのも、材料CaF2は石英ガラスよりも少ないコンパクション効果を示すからである。
【0047】
このレンズ系は、理想波面からの偏差が≦7.5mλ(λ=193nm)である極めて良好に補正されたレンズ系である。物体面Oと像面O’の間の距離は1000mmでありかつ8×26mm2のイメージフィールドを露光可能である。開口数は0.76である。正確なレンズデータは第2表に記載されている。
【0048】
【表3】
【0049】
【表4】
【0050】
図4には、図2及び3に含まれた非球面レンズ表面の光学特性を検査するために適当である試験光学素子の可能な構造が示されている。この光学素子は、石英ガラスからなる4枚の球面レンズT1〜T4を有する。この試験構造の長さは480mmである。作業距離、即ち試験光学素子と試験すべき非球面レンズ表面の間の距離は20mmである。この試験光学素子を用いると、155.4mmの最大直径をまでの試験片の試験が可能である。試験光学系の入口直径は192.107mmである。この試験光学素子の最大直径は193.874mmである。理想波面からの偏差は、632.8nmの試験波長で0.384である。この残留収差は、計算で補正することができる。
【0051】
この試験光学素子は、当平面であることを特徴とする。K光学素子の当平面補正は、非球面レンズ表面の結像の際の結像尺度を生じる干渉像上の中心から縁部まで得られるので重要である。それにより、非球面試験において一定の横方向解像力が得られる。平坦な波面で照射する際に生じる干渉パターンに基づき、非球面レンズ表面の表面形状が出現する干渉パターンにより測定される。
【0052】
試験項光学素子の正確なレンズデータは、第3表に記載されている。
【0053】
【表5】
【図面の簡単な説明】
【図1】
投影露光装置の概略図である。
【図2】
波長351nmのために構成された投影レンズのレンズ構成を示す図である。
【図3】
波長193nmのために構成された投影レンズのレンズ構成を示す図である。
【図4】
図2に示された非球面レンズの試験構成を示す図である。
【符号の説明】
1 投影露光装置、 3 照明装置、 5 投影レンズ、 7 光軸、 9 マスク、 11 レンズホルダ、 13 像面、 15 ウェーハ(基板)、 17 基板ホルダ、 19 レンズ装置、 AP アパーチャ絞り
Claims (13)
- 非球面のレンズ表面が3つの条件a)〜c)の全てを満たす、請求項1記載のレンズ。
- 非球面のレンズ表面(AS1)が凸レンズ表面に設けられている、請求項1から4までのいずれか1項記載のレンズ。
- 請求項1から5までのいずれか1項記載の少なくとも1つのレンズを有することを特徴とするレンズ系。
- 請求項1から5までのいずれか1項記載の非球面のレンズ表面を有する少なくとも1つのレンズが第2の膨らみ部を含むまでに配置されていることを特徴とする、少なくとも第1及び第2の膨らみ部を有する投影レンズ系。
- 非球面のレンズ表面(AS1)に隣接して、半径が非球面のレンズ表面を(AS1)の半径から最大30%ずれているレンズ表面(S2)が配置されている、請求項7記載のレンズ系。
- マイクロリソグラフィーレンズ系である、請求項7から8までのいずれか1項記載のレンズ系。
- 請求項7から9までのいずれか1項記載の投影レンズ系を含むことを特徴とする、マイクロリソグラフィーの投影露光装置。
- 感光性層を備えた基板をマスク、及び請求項1から6までのいずれか1項記載の非球面のレンズ表面を有する少なくとも1つのレンズを備えたレンズ装置を有する投影露光装置を用いて露光することを特徴とする、微細構造化素子の製造方法。
- 設計において設けられた全ての非球面のレンズ表面が請求項1から6までのいずれか1項記載のレンズ表面である、新規のレンズ系設計を行う方法。
- 少なくとも3つのレンズを含み、120mm〜350mmの試験直径を有しかつアイソプラナティック補正されている、非球面のレンズ試験のための補正光学系において、非球面のレンズ表面と平坦又は湾曲した球面参照面との間の試験の際の結像縮尺が3%未満、有利には1%変動することを特徴とする、非球面のレンズ試験のための光学系。
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