JP5527970B2 - 投影対物系の結像特性を改良する方法 - Google Patents

投影対物系の結像特性を改良する方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5527970B2
JP5527970B2 JP2008512758A JP2008512758A JP5527970B2 JP 5527970 B2 JP5527970 B2 JP 5527970B2 JP 2008512758 A JP2008512758 A JP 2008512758A JP 2008512758 A JP2008512758 A JP 2008512758A JP 5527970 B2 JP5527970 B2 JP 5527970B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lens
lenses
ratio
sub
projection objective
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2008512758A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2008546007A5 (ja
JP2008546007A (ja
Inventor
コンラディ,オーラフ
フェルトマン,ハイコ
リヒター,ゲラルド
ブライディシュテール,サーシャ
フロムマイヤー,アンドレアス
グルーナー,トラルフ
フンメル,ヴォルフガング
Original Assignee
カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー filed Critical カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
Publication of JP2008546007A publication Critical patent/JP2008546007A/ja
Publication of JP2008546007A5 publication Critical patent/JP2008546007A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5527970B2 publication Critical patent/JP5527970B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/0025Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration
    • G02B27/0068Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration having means for controlling the degree of correction, e.g. using phase modulators, movable elements
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70308Optical correction elements, filters or phase plates for manipulating imaging light, e.g. intensity, wavelength, polarisation, phase or image shift
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70258Projection system adjustments, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of projection system
    • G03F7/70266Adaptive optics, e.g. deformable optical elements for wavefront control, e.g. for aberration adjustment or correction
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/0816Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements
    • G02B26/0825Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a flexible sheet or membrane, e.g. for varying the focus
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00Simple or compound lenses
    • G02B3/0081Simple or compound lenses having one or more elements with analytic function to create variable power
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems
    • G03F7/7015Details of optical elements
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/7055Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
    • G03F7/70558Dose control, i.e. achievement of a desired dose
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S359/00Optical: systems and elements
    • Y10S359/90Methods

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Description

本発明は、マイクロリソグラフィー投影対物系の結像特性を改良する方法に関する。
本発明は、マイクロリソグラフィー投影対物系の複数のレンズのうち少なくとも1つのレンズを、像欠を少なくとも部分的に修正するための能動変形可能な素子として選択する方法に関する。
本発明は、さらに、投影対物系に関する。
投影対物系は、たとえば、半導体部品、撮像素子、ディスプレイ等を製造するために、リソグラフィ法で用いられる。一般に、投影対物系は、微細構造部品のリソグラフィ製造のために用いられる。
投影対物系は、すべてがレンズであってもよい複数の光学素子から構成され、または投影対物系は、レンズと鏡との組合せからなることもある。
投影対物系は、投影対物系の物体平面に配置されるマスク(レティクル)の構造またはパターンを、投影対物系の像平面に配置される感光性基板上に結像するために用いられる。結像される構造またはパターンは、製造される部品の集積度を上げるためにさらに小さくなってきており、そのため現在の投影対物系の解像度および結像品質の要求がますます高まってきている。
投影対物系の結像品質は、収差によって悪化することがある。
そのような収差は、さまざまな種類がある。したがって、そのような投影対物系を稼働する前に、収差は、不満足な材料仕様または製造もしくは組立における誤差のせいで切迫したものとなることがある。しかしながら、そのように切迫した収差を、対物レンズの個々の光学素子の製造中および組立工程中に大幅に除去することができ、特にこの目的のために、対物レンズの個々のレンズには非球面化された表面が設けられる。
しかしながら、収差は、投影対物系の稼働後および/または動作中または投影対物系のエージングの過程でも生じることがある。そのような収差は、投影対物系の光学素子の光学材料の放射依存性変化によって生じることがある。放射依存性変化は、たとえば、光学素子の材料の圧縮の場合のように永久的であることもあり、または一時的なものにすぎないこともある。投影対物系の光学素子の光学材料の一時的な変化は、個々の光学素子が熱くなり、それゆえ露光動作中変形されるということに大きく基づいている。
照明スリットの矩形視野および像視野の2対称性が収差に移行されるのは、収差を起こす放射依存性材料変化に特有のものである。投影対物系の回転対称性をこのように損なうことによって、修正するのが一般に困難である典型的な収差がもたらされる。
屈折率の変化をもたらし、かつ表面変化ももたらす光学素子の材料の加熱によって生じ、または屈折率の変化によって波面誤差をもたらすことがある密度の変化(圧縮)によって生じる典型的な収差は、たとえば、一定視野非点収差、三葉収差の一定視野発生、または四葉収差の一定視野発生である。しかしながら、一定視野収差に加えて、視野依存性または視野プロファイル、たとえばひずみ(歪像)の一視野プロファイルおよび像表面の非点視野プロファイルを示す収差も生じる。
一定視野非点収差を、レンズの非点変形を経て修正することができることが公知である。
この目的のために用いることができる能動変形可能なレンズ素子は、たとえば、下記特許文献1に記載されている。ここで、能動変形可能なレンズはマウントに配置され、レンズには光学軸にほぼ垂直にレンズに作用する1つ以上のアクチュエータを有するマニピュレータが割り当てられる。アクチュエータは、曲げ事例の形態の変形をもたらすために、回転対称ではなくかつ半径方向からそれる力および/またはトルクを光学素子上に生じさせる。マニピュレータがアクチュエータをいくつ有するかに応じて、能動変形可能なレンズを少なくとも部分的に変形することによって相応して1、2、3または略n収差を修正するために、1、2、3、または略n変形または曲げ事例を生じさせることが可能である。
任意の所望の複雑な幾何学形状を示すことができる光学素子の上記非球面化と対照してみると、相応して複雑な波面誤差プロファイルを修正するために、能動変形可能なレンズの修正潜在力はより低くなる傾向にあり、かつ実質的には簡単な波面収差プロファイルに限られる。
能動変形可能なレンズを使用するという従来の概念は、特定の誘起された像欠陥を修正するために用いられることを目的とする1つの能動変形可能な素子の使用に限られている。能動変形可能なレンズを適切に変形し、修正対象の像欠陥(収差)を大幅に修正するこの方法の手順を用いることは確かに可能であるが、この修正は、他の像欠陥を誘起または増大し、この結果、投影対物系の結像品質全体が、改良されないことがあるか、または実質的に改良されない。
このことは、1つ以上の像欠陥、特に材料のエージングおよび/または一時的な材料の加熱のせいで生じるものを効果的に抑えるために用いることができる投影対物系の結像特性を改良する方法が今もなお必要であることを意味している。
国際公開第99/67683号パンフレット 独国特許出願公開第102 10 899号明細書 国際公開第2004/019128号パンフレット 特開2004−317534号公報
本発明の目的は、マイクロリソグラフィー投影対物系の結像特性を改良する方法を提供することである。
さらに、本発明の目的は、結像特性に関して改良される投影対物系を提供することである。
さらに、本発明の目的は、マイクロリソグラフィー投影対物系について、投影対物系の複数のレンズから、少なくとも1つの好適なレンズを像欠陥を少なくとも部分的に修正するための能動変形可能な素子として選択することによる方法を特定することである。
本発明の第1態様にしたがって、マイクロリソグラフィー投影対物系の結像特性を改良する方法が提供され、該投影対物系は物体平面と像平面との間に複数のレンズを備え、複数のレンズのうち第1レンズにはレンズを能動変形するための第1マニピュレータが割り当てられ、第1レンズは像欠陥を少なくとも部分的に修正するために変形され、複数のレンズのうち少なくとも1つの第2レンズはさらに少なくとも1つの第2マニピュレータが割り当てられ、かつ第2レンズは第1レンズに加えて変形される。
本発明による方法は、投影対物系の少なくとも2つの能動変形可能なレンズを提供することに基づき、かつこのことは、とりわけ、基本像欠陥および高次像欠陥を互いに独立して修正する可能性を広げる。対照的に、この可能性は1つの能動変形可能なレンズのみを使用する際には存在せず、このことは基本像欠陥および高次像欠陥が互いに線形依存できるということに基づいている。たとえば、Z5における基本の2像欠陥は、Z12における関連する次に高次の像欠陥に線形依存している。Z11における3像欠陥は、たとえばZ20における次に高次の像欠陥に線形依存しており、かつZ17における4像欠陥は、Z28における次に高次の像欠陥に線形依存している。この場合、Z5、Z12、Z11、Z20、Z17、Z28は像欠陥を波面の級数展開において分類するために公知であるように用いられているツェルニケ係数である。
本発明による方法は液浸構成または乾燥構成の投影対物系に応用することができる。さらに、本発明による方法は屈折素子、すなわちレンズのみから構成されている投影対物系に応用することができるのみならず、屈折素子と反射素子、たとえば鏡との組合せから構成される投影対物系に応用することもできる。
投影対物系の像欠陥を少なくとも部分的に修正するための少なくとも2つの能動変形可能なレンズを使用するさらなる利点は、少なくとも2つの能動変形可能なレンズの位置および/または幾何学形状の好適な選択が与えられたとすると、簡単なマニピュレータを用いて、さらにより複雑な波面プロファイル、すなわち上述したレンズの変形性の限定によって、1つの能動変形可能なレンズのみを用いては実施することができないもの、または費用を実質的に増やしてしか実施することができないものを作成することが可能であるという点にある。
したがって、第1レンズおよび少なくとも第2レンズを好ましくは隣接させことができ、または物体平面と像平面との間の互いに光学的共役位置に配置することができ、そして両方のレンズは変形が異なる変形プロファイルを示すように変形される。
このことは、複雑な視野プロファイルがある波面収差を少なくとも部分的に修正するという有利な可能性となる。
第1レンズおよび少なくとも第2レンズが隣接していない、または物体平面と像平面との間の互いに光学的共役位置に配置され、かつどちらも変形が異なる変形プロファイルを示すように変形されれば、類似の効果を有利に達成することができる。
投影対物系において隣接または共役位置に配置されるレンズには像の視野プロファイルに対して実質的に同一な効果があるが、非隣接レンズまたは互いに光学的共役でない位置に配置される投影対物系におけるレンズは、像視野に対して異なる効果がある。両方の場合において特定の収差視野プロファイルまたは一定視野収差を補正するために、少なくとも2つのレンズは、前者の場合には好ましくは異なって変形され、かつ後者の場合には実質的に同一に変形される。
異なるプロファイルの上で指定された変形を、第1レンズおよび少なくとも第2レンズは形状が異なるという事実によって好適に達成することができる。
少なくとも2つの能動変形可能なレンズが異なる形状または幾何学的形状を有するなら、2つのレンズに加える同一の力を生じさせても、異なる変形プロファイル、ひいては異なる修正効果がもたらされる。
同様に、第1レンズおよび少なくとも第2レンズは異なる力を生じさせることによって変形されるという事実によって、異なるプロファイルの変形を達成することが可能である。
特に、特定の修正効果を達成するために、逆方向の力を生じさせて第1および少なくとも第2レンズを変形することができる。
第1レンズおよび少なくとも第2レンズが物体平面と像平面との間の互いに光学的共役位置に配置されれば、どちらも少なくとも実質的に同一に変形することができ、しかも2つの能動変形可能なレンズの修正効果は投影対物系におけるそれらの位置の関数であるので、同一変形は像平面における像欠陥に対する異なる修正効果を生じることができる。
逆に、第1レンズおよび少なくとも第2レンズが物体平面と像平面との間の互いに光学的共役位置に配置される場合、両方のレンズを実質的に異なって変形することが可能であり、このようにして異なる修正効果を達成する。
さらに、好都合なことには、第1レンズおよび少なくとも第2レンズを互いに対して特定の比で変形することを規定することができる。
たとえば、第1レンズおよび少なくとも第2レンズが像視野にわたって一定にZ5およびZ12における波面収差に影響を及ぼし、Z5とZ12との間の比がたとえば第1レンズについて−3であり、たとえば第2レンズについて+2であるなら、第1レンズの場合と比較して、Z5とZ12との間の所望の比xを、第2レンズの変形を3+x/2−xの比で選択することによって設定することが可能である。絶対的な大きさは、波面におけるZ5の所望の振幅によって決まる。
一般的な言葉で表現すると、上で指定された比は、好ましくは、第1レンズおよび少なくとも第2レンズの、その半径方向一次ツェルニケ次数(たとえば、Z5)および半径方向高次ツェルニケ次数(たとえば、Z12)の波面収差に対する影響の関数として選択される。
さらに、第1レンズおよび少なくとも第2レンズが、像欠陥の半径方向基本ツェルニケ次数をその半径方向高次ツェルニケ次数とは実質的に独立して、またはその逆に修正できるように複数のレンズから選択されることが好ましい。
最初にすでに述べたように、たとえば1つのレンズのみが変形されるとき、Z5とZ12との間などの、同じ像欠陥の基本ツェルニケ次数と半径方向高次ツェルニケ次数との間に線形依存性がある。第1レンズおよび少なくとも第2レンズの幾何学的形状および/または位置を好適に選択することによって、この線形依存性を修正される波面収差に関して断ち切ることができる。
このことは、好ましくは、第1および少なくとも第2レンズを、半径方向基本ツェルニケ次数と半径方向高次ツェルニケ次数との比に対する第1レンズの修正影響の大きさが少なくとも第2レンズの修正影響にほぼ等しいが、符が異なるように複数のレンズから選択することによって生じることができる。
修正影響の同一の大きさとともに少なくとも第2レンズの修正影響を参照して、線形依存性を第1レンズの修正影響の異なる符号によって断ち切ることができる。
それぞれ異なる符の第1レンズおよび少なくとも第2レンズの修正影響は、好ましくは、それぞれ第1レンズが正レンズであり、かつ少なくとも第2レンズが負レンズであるという事実によって実現することができる。投影対物系中のビーム経路の方向における配列は、ここでは重要ではなく、すなわち第1レンズを少なくとも第2レンズの上流またはその下流のビーム伝搬方向に配置することができる。
本方法のより具体的な改良形態を以下で説明する。
像欠陥が、視野依存性要素と一定視野要素との組合せまたは主に視野依存性の要素を含み、複数のレンズから第1レンズとしておよび/または少なくとも第2レンズとして、レンズ前側の副開口半径とレンズ後側の副開口半径との比の大きさが負レンズの場合には約0.8〜約0.9または約1.1〜約1.2の範囲にあり、かつ正レンズの場合には約0.9〜約1.1の範囲にあるレンズが選択される
レンズの副開口半径は、レンズ前側またはレンズ後側視野点から発する光円錐の半径として理解される。レンズ前側およびレンズ後側の副開口半径は、投影対物系のレンズの位置およびそれらの幾何学的形状に依存している。
修正される像欠陥が、視野依存性要素と一定視野要素との組合せまたは主に視野依存性の要素を含む前述の場合には、複数のレンズから第1レンズとしておよび/または少なくとも第2レンズとして、レンズ前側またはレンズ後側の副開口半径の最大レンズ高さに対する比の大きさが約0.7より小さく、かつ約0.1より大きいレンズが選択される
レンズ前側またはレンズ後側の副開口半径の最大レンズ高さに対する比は、次に投影対物系におけるレンズの位置によって影響される。たとえばZ2(歪像)におけるような像欠陥の視野依存性要素は、約0.7という前述の値によって表現されるように、瞳平面よりも視野平面の近くに位置決めされる能動変形可能なレンズによって最も効果的に修正することができる。
修正される像欠陥が、少なくとも主に一定視野の要素を有する場合、複数のレンズから第1レンズとしておよび/または少なくとも第2レンズとして、レンズ前側の副開口半径とレンズ後側の副開口半径との比の大きさが、負レンズの場合には約0.8〜約0.9または約1.1〜約1.2の範囲にあり、かつ正レンズの場合には約0.9〜約1.1の範囲にあるレンズが選択される
正レンズおよび負レンズが像欠陥を修正するために選択される場合、これらのレンズの位置は、好ましくは、正レンズのすぐ上流の周辺光線のビーム角の大きさが選択された負レンズのすぐ上流の周辺光線のビーム角よりも小さいように選択される。
同様に、複数のレンズから第1レンズとしておよび/または少なくとも第2レンズとして、レンズ前側またはレンズ後側の副開口半径の最大レンズ高さに対する比の大きさが約0.7より大きいレンズが選択されることがこの場合好ましい。
したがって、瞳近くの素子が像視野における波面収差に対して実質的に一定の視野効果を示すので、一定視野要素は、好ましくは視野平面よりも瞳平面に近いレンズの能動変形によって生じる。
能動変形可能な素子としての第1レンズおよび/または第2レンズの投影対物系の複数のレンズからの好適な選択については、レンズ中心部の厚みの最大レンズ高さに対する比は約0.4より小さいレンズを選択することが好ましい。
ここでは、レンズの最大高さはレンズ本体の最大光線の高さとして理解される。これは一般にレンズの実際の高さ全体より若干小さい。
しかしながら、これらの場合には比較的弱い力を生じさせることによって変形を達成することができるので、能動変形可能な素子としてレンズを薄くすることが優先され、かつこのことは好都合なことに、組立のコストおよびマニピュレータに関する要件を低減する。
しかしながら、前述したような薄いレンズは好適な位置にまたは好適な幾何学的形状では存在せず、その代わり、能動変形可能なレンズとしての選択に関して好適な位置に、変形にはそれ自体厚すぎる厚いレンズが置かれる場合、このレンズは少なくとも2つの個別のレンズに分割することができ、かつ個別のレンズのうち少なくとも1つを変形することができる。
さらに好ましい改良形態では、複数のレンズから第1レンズとしておよび/または第2レンズとして動作中2回以上光が通過するレンズが選択されると規定されている。
ここにおける利点は、そのようなレンズを光が多重、たとえば2通過することが、このレンズの変形の光学効果を修正潜在力として強化し、かつ2通過の場合にはその効果をすでに事実上2倍にするということである。たとえば、ビーム偏向を有するカタディオプトリック(反射屈折)投影対物系には、動作中に光が2回通過するレンズが存在する。
さらに好ましい改良形態では、第1レンズおよび少なくとも第2レンズは、1、2、3またはn(n>3)対称性によって変形される。
前述した改良形態によって、能動変形可能なレンズを用いて、1、2、3またはn波面収差を、このようにして少なくとも部分的に修正することが可能である。
本発明のさらなる態様によれば、マイクロリソグラフィー投影対物系の複数のレンズのうち少なくとも1つのレンズを、像欠陥を少なくとも部分的に修正するための能動変形可能な素子として選択する方法が特定され、複数のレンズのうち少なくとも1つのレンズの幾何学的形状および/または位置が、修正される像欠陥の関数としての選択基準として用いられる。
したがって、本方法は、複数のレンズを有する投影対物系の既存の光学設計または製図の場合に、1つ以上の像欠陥を修正するための能動変形可能なレンズとして最適な上記で特定したような少なくとも1つの、好ましくは少なくとも2つのレンズを決定するという思想に基づいている。
好適な幾何学的形状についての選択基準として、少なくとも1つのレンズの正レンズまたは負レンズとしての特性を用いることが好ましい。
正レンズおよび負レンズの波面収差に対する、特に特定の波面収差に対する影響の符号(+/−)に対する異なる効果はすでに上述している。
さらに、中心部厚みの最大レンズ高さに対する比を、好適な幾何学的形状についての選択基準として用いることが好ましい。
「最大レンズ高さ」は、関連したレンズに対する最大光線高さとして理解されるものである。この選択基準は、強い力を生じることによって作動する必要なく、投影対物系の特定のレンズをマニピュレータを用いて好適な方法で変形することができるという好適性を考慮している。
この場合、中心部厚みと最大レンズ高さとの比が約0.4より小さいレンズを選択することが好ましい。
少なくとも1つのレンズの好適な位置についてのさらに好ましい選択基準は、レンズ前側の副開口半径とレンズ後側の副開口半径との比である。
像欠陥が、少なくとも主に一定視野の要素を含む場合、少なくとも1つのレンズとして、レンズ前側の副開口半径とレンズ後側の副開口半径との比の大きさが負レンズの場合には約0.8〜約0.9または約1.1〜約1.2の範囲にあり、かつ正レンズの場合には約0.9〜約1.1の範囲にあるレンズが選択される
像欠陥が、視野依存性要素と一定視野要素との組合せまたは主に視野依存性の要素である場合、少なくとも1つのレンズとして、レンズ前側の副開口半径とレンズ後側の副開口半径との比の大きさが負レンズの場合には約0.8〜約0.9または約1.1〜約1.2の範囲にあり、かつ正レンズの場合には約0.9〜約1.1の範囲にあるレンズが選択される
少なくとも1つのレンズの好適な位置についてのさらに好ましい選択基準は、レンズ前側またはレンズ後側の副開口半径と最大レンズ高さとの比である。
像欠陥が、少なくとも主に一定視野の要素を含む場合、少なくとも1つのレンズとして、レンズ前側またはレンズ後側の副開口半径の最大レンズ高さに対する比の大きさが約0.7より大きいレンズが選択される
像欠陥が、視野依存性要素と一定視野要素との組合せまたは主に視野依存性の要素である場合、少なくとも1つのレンズとして、レンズ前側またはレンズ後側の副開口半径の最大レンズ高さに対する比の大きさが0.7より小さいレンズが選択される
さらなる選択基準は、投影対物系の動作中に2回以上光が少なくとも1つのレンズを通過するかどうかということである。
すでに上述したように、カタディオプトリック投影対物系の場合において規定することができように、そのようなレンズを好ましくは、2回以上、たとえば2回光が通過する能動変形可能なレンズとして選択することができる。
本発明のさらなる態様によれば、マイクロリソグラフィー投影対物系が設けられ、対物レンズの物体平面と像平面との間に配置される複数のレンズを備え、第1レンズを能動変形するための第1マニピュレータは複数のレンズのうち第1レンズに割り当てられ、第1レンズは収差を少なくとも部分的に修正するために変形可能であり、少なくとも1つの第2マニピュレータはさらに複数のレンズのうち少なくとも1つの第2レンズに割り当てられ、かつ少なくとも第2レンズは第1レンズに加えて変形可能である。
本発明による投影対物系の場合には、請求項において特定される投影対物系の好ましい改良形態によって、該投影対物系の結像特性を改良するために前述した方法を応用することが可能である。
さらなる利点および特徴は、次の説明および添付の図面から明らかとなる。
上記の特徴およびさらに以下で説明すべき特徴を、それぞれ特定された組合せにおいてのみならず、本発明の趣旨を逸脱することなく他の組合せで、または単独で用いることができることは自明である。
選択した例示的実施形態を用いて、本発明を以下でより詳細に説明する。
複数のレンズから構成されるマイクロリソグラフィー投影対物系の場合、光学素子の材料の動作またはエージング中の加熱に基づいて生じることがある像欠陥を修正するために、本発明による方法では、投影対物系の複数のレンズから少なくとも2つのレンズを、選択し、かつ生じる像欠陥を少なくとも部分的に修正するために、マニピュレータを介して能動変形されると規定されている。
少なくとも2つのレンズが能動変形可能なレンズとして選択されるかどうか、または1つのレンズのみが、能動変形可能なレンズとして選択されるかどうかにかかわらず、本発明のさらなる態様は、能動変形可能なレンズのようなレンズを選択するのに好適な基準を特定することにある。
まず第一に述べる、かつそれに従って少なくとも2つのレンズが複数のレンズから能動変形可能なレンズとして選択される本発明の態様を、まずより詳細に説明する。
1つのレンズのみが、像欠陥を修正するための能動変形可能なレンズとして用いられる場合、個々のレンズの変形によって比較的単純な波面の影響のみが像視野における波面上に生じることがある。対照的に、システムにおいて共役位置に配置される2つ以上の隣接するレンズが、たとえば、レンズの異なる形状および/またはマニピュレータによる力の異なる導入に基づいて異なる符号の、および適切な場合には、たとえば力を逆方向に導入することによって異なる符号の変形を有するなら、1つの変形可能なレンズを用いて達成することができないような複雑な波面の影響が、少なくとも2つのレンズの変形の異なるプロファイルの組合せにおいて生じることがある。
2つ以上の能動変形可能なレンズが投影対物系における異なる位置で変形されるとき、同じ結果を達成することができ、これらの選択されたレンズは、類似の変形をすることができるが、投影対物系における異なる位置によって異なる波面の影響を有する。
このことを、簡単な場合について、図1に図示する。一番上の曲線Aで図示するのは、投影対物系の複数のレンズのうち第1レンズの、二次であると仮定する波面の影響である。
下方の曲線Bで図示するのは、4の依存性を示す能動変形された第2レンズの波面の影響であり、しかも、曲線Aに沿った波面の影響と符号が異なっている。
破線で図示する曲線Cは、曲線Aおよび曲線Bに沿った波面の影響の合計として生じる重ね合わせを示し、単独では、第1レンズおよび第2レンズの個々の波面の影響よりも複雑な視野プロファイルを示す。像視野における波面収差を少なくとも部分的に補正するために、2つ以上のレンズを組み合せ、かつ適切な変形によって波面の複雑な視野プロファイルを生成することは、このようにして可能である。
この場合、特に、第1レンズおよび少なくとも第2レンズを互いに特定の比で変形することが可能である。この比は、第1レンズおよび少なくとも第2レンズの、半径方向基本ツェルニケ次数および半径方向高次ツェルニケ次数の波面収差に対する影響の関数として選択される。
このことを、その基本ツェルニケ次数Z5および半径方向の次の高次ツェルニケ次数Z12の例で説明する。
第1レンズは、Z5とZ12との比が−3である場合、波面の影響を生じさせると仮定してもよい。この比が、第2レンズについて+2であるとさらに仮定してもよい。次に、Z5とZ12との所望の比xを、第1レンズと比較して、3+x/2−xの比で第2レンズの変形を選択することによって設定することができる。大きさは、波面におけるZ5(またはZ12)の所望の振幅によって決まる。
たとえば、1、2、または3またはより多重で対に変形される能動変形可能なレンズを用いて、光学素子の加熱によって動作中に生じる可能性がある投影対物系の像欠陥を修正するとき、1つの能動変形可能なレンズのみが修正のために用いられる場合には、基本ツェルニケ次数および関連する高次ツェルニケ次数が互いに線形依存していることに留意されたい。
このように、Z5の基本ツェルニケ次数、およびZ12の半径方向高次ツェルニケ次数に従って2の対称性を持つ像欠陥は、互いに依存しており、かつ同様に3重基本ツェルニケ次数Z11および3ツェルニケ次数Z20が互いに依存しており、かつ4ツェルニケ次数Z17が、半径方向高次4ツェルニケ次数Z28に依存している。
たとえば2対称性を持つ像欠陥の場合には、1つの能動変形可能なレンズのみを用いて一次および高次次数間の線形依存性に基づいて、Z12をZ5と無関係に修正することは不可能であり、結果として、2つのツェルニケ係数の一方が修正後にかなり増加する可能性がある。したがって、合理的な最適化は不可能である。
しかしながら、少なくとも2つのレンズが、投影対物系内の能動変形可能なレンズとして修正のために選択されるとき、かかる像欠陥の合理的な修正が可能である。もちろん、3つ以上のレンズを能動変形可能なレンズとして選択することも可能であり、特に偶数のかかるレンズが使用される。少なくとも2つのレンズを能動変形可能なレンズとして用いることによって、基本次数および半径方向に高次の次数を互いに独立して設定することができる。
基本次数および半径方向に高次な次数から修正がそのように独立していることを確実なものにするために、2つのレンズの修正影響は異なる符号でなければならないが、大きさの点で類似であるものとする。
同様に、投影対物系における選択されたレンズの幾何学的形状および位置について特定の要求をする必要がある。
この結果、投影対物系の複数のレンズから、像欠陥の修正のための能動変形可能なレンズとして好適なレンズを選択することについて、さまざまな選択基準が生じる。
たとえば第1レンズを負レンズとし、かつたとえば第2レンズを正レンズとすることによって、第1ツェルニケ次数およびそれに関連する半径方向高次ツェルニケ次数に関して独立した修正を達成することが可能である。このことを、図2を参照して以下でより詳細に説明する。
図2は負レンズ10および正レンズ12を図示している。
光線14は、負レンズ10のレンズ前側16に入射する。
連続線は非変形状状態の負レンズ10を図示し、かつ破線はマニピュレータ21によって生じた変形状態のレンズを図示している。
負レンズ10内部での入射光線14の伝搬は、非変形状態では線18に沿って、変形状態では線20に沿って起こる。光線は、負レンズ10の後側22から出た後、負レンズ10の非変形状態では線24に沿って、および変形状態では線26に沿ってさらに伝搬する。
28は正レンズ12の前側を示し、かつ30は後側を示している。連続線は非変形状態の正レンズ12を図示し、かつ破線は変形状態のレンズを図示している。入射光線32は、正レンズ12の非変形状態では線34および36に沿って、かつ変形状態では線38および40に沿って伝搬する。
負レンズ10の変形は、正レンズ12の変形のように、光学軸zに垂直な距離rの二次関数であると以下で仮定する
次に、変形の後生じるレンズの厚さd(r)については、およそ以下のように考えられる。
Figure 0005527970
ここでd0は負レンズ10または正レンズ12の中心部厚みであり、RVはレンズ前側16または28の曲率半径であり、RHは、レンズ後側22または30の曲率半径である。
それぞれのレンズ前側16または28およびそれぞれのレンズ後側22または30での副開口(subaperture)半径RSによって、n波面変形WFDをおよそ以下のように説明することができる。
Figure 0005527970
率半径RHおよびRVは符号によって影響され、かつこれらの符号が同様に負レンズ10と正レンズ12との間で互いに異なっているので、負レンズ10についてはa>0、および正レンズ12についてはa<0である。
負レンズ10および正レンズ12に付与さられる、n対称性を有する変形が2(n=2)であると仮定すると、波面変形WFDについては、およそ以下のようになる。
Figure 0005527970
さて、基本ツェルニケ次数Z5および半径方向高次ツェルニケ次数Z12に対する波面変形WFDの寄与率に戻ると、負レンズ10については以下のように考えられる。
Figure 0005527970
かつ、正レンズ12については以下のように考えられる。
Figure 0005527970
波面変形におけるツェルニケ係数Z5に対する寄与率a5が等しいように変形が選択される場合、Z5に対する波面変形の寄与率は互いに消去し合い、第1ツェルニケ次数Z5と独立に次数Z12における波面変形を攻撃することができる。
逆に、もちろん、Z12における波面変形の寄与率が互いに消去し合い、かつこの場合Z5をZ12と独立に修正することができるように、Z5におけるZ5の修正に関する寄与率の合計が有限値になるようにして進ることも可能である。
投影対物系内部の能動変形可能なレンズとして選択されるレンズの幾何学的形状に加えて、図3を参照して以下で説明する能動変形可能なレンズとして好適なレンズを選択するためのさらなる選択基準が重要である。
レンズまたはレンズの変形の像視野における波面変形に対する光学効果も、投影対物系内部のレンズの位置に依存している。
投影対物系内部のレンズの位置に依存しているレンズの変形の光学効果は、少なくとも、とりわけレンズ前側における副口径とレンズ後側における副口径との比によって、および前側または後側における副口径(またはこれら2つのうち大きい方)のレンズの最大高さに対する比によって影響される。
図3は、変形と光学効果との間の関係をさまざまなレンズの副開口半径の関数として図示する図を示している。
図面の横座標は、副口径(レンズ前側もしくはレンズ後側における、またはこれらの2つのうち大きい方)の最大レンズ高さに対する比を示し、この比は当然1を超えることができない。
図面の縦座標は、レンズ前側における副口径のレンズ後側における副口径に対する比を示す。
23個のレンズLE1〜LE23が、図面における値の対(RSV/RSH;RSH/Hmax)に割り当てられている。図11a)および図11b)に図示するように、レンズLE1〜LE23はそれぞれ投影対物系に属している。レンズLE1〜LE23の一覧は、図11a)および図11b)の図示におけるレンズの左から右への、すなわち物体平面から像平面への配列に対応している。
線は図面にもプロットされ、各線は、値の対(RSV/RSH;RSH/Hmax)についての変形の同一の光学効果を図示している。
光学効果の増加の方向を、矢印AおよびBによって図示している。
光学効果は、すべてのレンズについて同一であると仮定する変形事例の結果生じる波面変形の1つの尺度である。増加する派生波面変形は、増加する光学効果を意味している。
存在しているレンズの変形が一定視野および視野依存性波面変形に対して最も大きな光学効果を有する値の対(RSV/RSH;RSH/Hmax)の範囲を図示する枠も図3にプロットされている。これらは、一定視野波面変形に関するレンズLE11〜LE23である。この範囲はレンズを含んでおり、それらのレンズについては、レンズ前側またはレンズ後側における副口径の最大レンズ高さに対する比が約0.7より大きく、かつレンズ前側における副口径とレンズ後側における副口径との比が、正レンズについては約0.9〜約1.1の範囲にあり、負レンズについては約0.8〜約0.9および約1.1〜約1.2の範囲にある。
圧倒的に視野依存性要素を有する、または視野依存性要素と一定視野要素との組合せからなる像欠陥を修正するために、能動変形可能なレンズとしてレンズが選択され、それらの選択されたレンズについては、副口径の最大レンズ高さに対する比が約0.7より小さく、かつレンズ前側における副口径のレンズ後側における副口径に対する比が、正レンズについては約0.9〜約1.1の範囲にあり、かつ負レンズについては約0.8〜約0.9または約1.1〜約1.2の範囲にあると同様に考えることができる。このことを、レンズLE1〜LE10について図3に示す。
レンズの中心部厚みのレンズ高さに対する比が、約0.4より小さくなる場合、および投影対物系の動作中、光が対応するレンズを1回だけでなく2回または数回通過するとしても、後者の場合には光学効果が通過ごとに実質的に2倍、または増大するので、能動変形可能なレンズとして選択されるレンズについてのさらなる選択基準はレンズの厚みとなる。
図4a〜図11bは、投影対物系の例示的な実施形態を図示し、能動変形可能なレンズを用いて収差の修正をするという前述の概念の場合を図示している。
図4aおよび図4bは、上記特許文献2に記載されているような投影対物系50を示している。投影対物系50は、1.1の開口数NAを有している。
光学的に有効なモジュールの以下の配列において、投影対物系50は、光の通過の意味において、正の屈折率の第1純ディオプトリック部、投影対物系50の中間領域に配置される両凹レンズ、および正の屈折率の第3純ディオプトリック部を含んでいる。
この投影対物系50の場合に有することができる像点の最大半径Y’は、11.0mmである。
図4aは、存在するレンズについて、それぞれのレンズにおける副口径の最大レンズ高さに対する比が、約0.7より小さい投影対物系50の領域を強調している。
この領域では、存在するレンズを、レンズの加熱またはレンズのエージングによって生じることがある圧倒的に視野依存性の像欠陥または一定視野欠陥と視野依存性像欠陥との組合せ(たとえば、軸上の非点収差および歪像)を少なくとも部分的に修正するために適切なマニピュレータM1,・・・,Mn(n≧1)が次に割り当てられる、収差を修正するための能動変形可能なレンズとして選択することができる。
図4aにおいて暗い背景で図示するのは、像欠陥を修正するための能動変形可能なレンズとして好適であるレンズである。暗い背景をもたない、ひいては、副口径の最大レンズ高さに対する比が約0.7より小さいという選択基準を満たすレンズは、確かに他の理由で能動変形可能なレンズとしてはあまり適していない。たとえば、レンズL4は能動変形可能なレンズとしては厚すぎるが、この場合、レンズL4は2つの別個のレンズに分割することができ、かつこれらの2つの別個のレンズの一方または両方を能動変形可能なレンズとして選択することができる。
たとえば、レンズL1、L2およびL3等の負レンズを能動変形可能なレンズとして選択することができ、かつレンズL7およびL8を正レンズとして選択することができることも、図4aから分かる。
図4aにおいて暗い背景を有するレンズは、前述したように視野依存性の要素を圧倒的に有する像欠陥を修正するための能動変形可能なレンズとして用いることができる。
同じ投影対物系50を図4bに図示し、レンズにおける副口径の最大レンズ高さに対する比が約0.7より大きい場合のレンズをハッチングで図示している。次に、ハッチングで図示するこれらのレンズは負レンズおよび正レンズを含み、一定視野要素、たとえば、Z5、Z11、Z17等を圧倒的に有する像欠陥を修正するための能動変形可能なレンズとして選択することができる。適切なマニピュレータKn,...,Km(m≧1)は、変形のために選択されるレンズの1つ以上を変形するために設けられている。
図5〜図11は、図4aおよび図4bと同様に解釈される投影対物系のさらなる例示的な実施形態を特徴付けている。暗い背景を有する、またはハッチングで図5〜図11に表す対物レンズのレンズを変形するためのマニピュレータは図5〜図11に示されていないが、図4aおよび図4bに図示するように設けられている。
図5aおよび図5bに図示する投影対物系は、ちょうど図8aおよび図8bに図示する投影対物系と同様に、上記特許文献3に記載されている。
光の通過の意味において、図6aおよび図6bに図示する投影対物系は、光学的に有効なモジュールの以下の配列において、第1瞳平面を経て物体平面を第1中間像上に結像する第1純ディオプトリック部、第2瞳平面を経て第1中間像を第2中間像上に結像しかつ第2瞳平面のそれぞれ上流および下流に2つ凹面鏡を有する第2純カトプトリック(光反射)部、および第3瞳平面を経て第2中間像を像平面上に結像する第3ディオプトリック部を有している。投影対物系は、図6aおよび図6bによれば、開口数NA=1.35を有し、この投影対物系に対して有することができる像点の最大半径Y’は、16.25mmである。
光の通過の意味において、図7aおよび7bに図示する投影対物系は、光学的に有効なモジュールの以下の配列において、第1瞳平面を経て物体平面を第1中間像上に結像する第1カタディオプトリック(反射屈折)部、第2瞳平面を経て第1中間像を第2中間像上に結像する第2カタディオプトリック部、および第3瞳平面を経て第2中間像を像上に結像する第3カタディオプトリック部を有している。投影対物系の開口数は、NA=1.20であり、この投影対物系に対して有することができる像点の最大半径は、14.4mmである。
図8aおよび図8bに図示する投影対物系は、図7aおよび図7bを参照して前述した設計原理に対応し、この投影対物系は、NA=1.25の開口数を有し、この投影対物系に対して有することができる像点の最大半径Y’は、15.0mmである。
光の通過の意味において、図9aおよび図9bに図示する投影対物系は、光学的に有効なモジュールの以下の配列において、第1瞳平面を経て物体平面を第1中間像上に結像する第1ディオプトリック部、第2瞳平面を経て第1中間像を第2中間像上に結像する第2カタディオプトリック部、第3瞳平面を経て第2中間像を第3中間像上に結像する第3カタディオプトリック部、および第4瞳平面を経て第3中間像を像上に結像する第4カタディオプトリック部を有している。投影対物系は、NA=1.30の開口数を有し、この投影対物系に対して有することができる像点の最大半径Y’は、15.75mmである。
図10aおよび図10bに図示する投影対物系は、図9aおよび図9bに準じる投影対物系による設計原理に対応し、この投影対物系は、NA=0.92の開口数を有し、かつこの投影対物系に対して有することができる像点の最大半径Y’は、16.1mmである。
図10aおよび図10bに図示する投影対物系は、上記特許文献4に記載されている。
最後に、図11aおよび図11bに図示する投影対物系は、図4aおよび図4bの投影対物系を参照して上述した設計原理を有している。この投影対物系は、NA=0.95の開口数を有し、この投影対物系に対して有することができる像点の最大半径Y’は、14.0mmである。
それぞれの投影対物系に対して有することができる像点の開口数NAおよび最大半径Y’を以下の表にまとめる。
Figure 0005527970
異なる変形の2つのレンズの組合せの場合、または投影対物系における異なる位置での波面効果を図示する図を示す。 負レンズおよび正レンズが能動変形する際のこれらのレンズの異なる修正効果または波面効果を図示する目的で、負レンズおよび正レンズを示す。 変形の光学効果間の関係を、図11に表される投影対物系内のさまざまなレンズの副口径の関数として図示する図を示す。 図4aおよび図4bは、投影対物系の例示的実施形態を示し、図4aにおいては視野依存性要素を有する像欠陥または多数の像欠陥を修正するための能動変形可能なレンズとして好適である投影対物系の特定のレンズが強調され、一方図4bにおいては圧倒的多数の一定視野要素を有する像欠陥を修正するための能動変形可能なレンズとして好適である投影対物系のレンズが強調されている。 図4aおよび図4bは、投影対物系の例示的実施形態を示し、図4aにおいては視野依存性要素を有する像欠陥または多数の像欠陥を修正するための能動変形可能なレンズとして好適である投影対物系の特定のレンズが強調され、一方図4bにおいては圧倒的多数の一定視野要素を有する像欠陥を修正するための能動変形可能なレンズとして好適である投影対物系のレンズが強調されている。 図5aおよび図5bは、図4aおよび図4bに類似の図において、投影対物系のさらなる例示的実施形態を示す。 図5aおよび図5bは、図4aおよび図4bに類似の図において、投影対物系のさらなる例示的実施形態を示す。 図6aおよび図6bは、図4aおよび図4bに類似の図において、投影対物系のさらなる例示的実施形態を示す。 図6aおよび図6bは、図4aおよび図4bに類似の図において、投影対物系のさらなる例示的実施形態を示す。 図7aおよび図7bは、図4aおよび図4bに類似の図において、投影対物系のさらなる例示的実施形態を示す。 図7aおよび図7bは、図4aおよび図4bに類似の図において、投影対物系のさらなる例示的実施形態を示す。 図8aおよび図8bは、図4aおよび図4bに類似の図において、投影対物系のさらなる例示的実施形態を示す。 図8aおよび図8bは、図4aおよび図4bに類似の図において、投影対物系のさらなる例示的実施形態を示す。 図9aおよび図9bは、図4aおよび図4bに類似の図において、投影対物系のさらなる例示的実施形態を示す。 図9aおよび図9bは、図4aおよび図4bに類似の図において、投影対物系のさらなる例示的実施形態を示す。 図10aおよび図10bは、図4aおよび図4bに類似の図において、投影対物系のさらなる例示的実施形態を示す。 図10aおよび図10bは、図4aおよび図4bに類似の図において、投影対物系のさらなる例示的実施形態を示す。 図11aおよび図11bは、図4aおよび図4bに類似の図において、投影対物系のさらなる例示的実施形態を示す。 図11aおよび図11bは、図4aおよび図4bに類似の図において、投影対物系のさらなる例示的実施形態を示す。

Claims (31)

  1. マイクロリソグラフィー投影対物系の結像特性を改良する方法であって、前記投影対物系は、物体平面と像平面との間に複数のレンズを備え、前記複数のレンズのうち第1レンズには前記レンズを能動変形するための第1マニピュレータが割り当てられ、前記第1レンズは像欠陥を少なくとも部分的に修正するために変形され、前記複数のレンズのうちの少なくとも1つの第2レンズにはさらに少なくとも1つの第2マニピュレータが割り当てられ、かつ前記第2レンズは前記第1レンズに加えて変形され、
    前記第1レンズおよび前記少なくとも1つの第2レンズは、前記第1レンズおよび前記少なくとも1つの第2レンズが協働して半径方向基本ツェルニケ次数の像欠陥および半径方向高次ツェルニケ次数の像欠陥のうちの一方のみを修正するように変形し、
    前記像欠陥は、視野依存性要素と一定視野要素との組合せまたは主に視野依存性の要素を含み、前記複数のレンズから前記第1レンズとしておよび/または前記少なくとも1つの第2レンズとして、レンズ前側の副開口半径とレンズ後側の副開口半径との比の大きさが負レンズの場合には約0.8〜約0.9または約1.1〜約1.2の範囲にあり、かつ正レンズの場合には約0.9〜約1.1の範囲にあるレンズが選択される方法。
  2. 前記複数のレンズから前記第1レンズとしておよび/または前記少なくとも1つの第2レンズとして、レンズ前側またはレンズ後側の副開口半径の最大レンズ高さに対する比の大きさが約0.7より小さく、約0.1より大きいレンズが選択される、請求項1に記載の方法。
  3. マイクロリソグラフィー投影対物系の結像特性を改良する方法であって、前記投影対物系は、物体平面と像平面との間に複数のレンズを備え、前記複数のレンズのうち第1レンズには前記レンズを能動変形するための第1マニピュレータが割り当てられ、前記第1レンズは像欠陥を少なくとも部分的に修正するために変形され、前記複数のレンズのうちの少なくとも1つの第2レンズにはさらに少なくとも1つの第2マニピュレータが割り当てられ、かつ前記第2レンズは前記第1レンズに加えて変形され、
    前記第1レンズおよび前記少なくとも1つの第2レンズは、前記第1レンズおよび前記少なくとも1つの第2レンズが協働して半径方向基本ツェルニケ次数の像欠陥および半径方向高次ツェルニケ次数の像欠陥のうちの一方のみを修正するように変形され
    前記像欠陥は、少なくとも主に一定視野の要素を含み、前記複数のレンズから前記第1レンズとしておよび/または前記少なくとも1つの第2レンズとして、レンズ前側の副開口半径とレンズ後側の副開口半径との比の大きさが、負レンズの場合には約0.8〜約0.9または約1.1〜約1.2の範囲にあり、かつ正レンズの場合には約0.9〜約1.1の範囲にあるレンズが選択される方法。
  4. 前記複数のレンズから前記第1レンズとしておよび/または前記少なくとも1つの第2レンズとして、レンズ前側またはレンズ後側の副開口半径の最大レンズ高さに対する比の大きさが約0.7より大きいレンズが選択される、請求項に記載の方法。
  5. 前記第1レンズおよび前記少なくとも1つの第2レンズは、隣接しているかまたは前記物体平面と前記像平面との間の互いに光学的に共役な位置に配置され、かつどちらも前記変形が異なる変形プロファイルを示すように変形される、請求項1ないし4のいずれかに記載の方法。
  6. 前記第1レンズおよび前記少なくとも1つの第2レンズは、隣接していないかまたは前記物体平面と前記像平面との間の互いに光学的に共役でない位置に配置され、かつどちらも前記変形が異なる変形プロファイルを示すように変形される、請求項1ないし4のいずれかに記載の方法。
  7. 前記第1レンズおよび前記少なくとも1つの第2レンズは形状が異なっている、請求項またはに記載の方法。
  8. 前記第1レンズおよび前記少なくとも1つの第2レンズは異なる力を導入することによって変形される、請求項ないしのいずれかに記載の方法。
  9. 前記第1レンズおよび前記少なくとも1つの第2レンズは逆方向の力を導入することによって変形される、請求項ないしのいずれかに記載の方法。
  10. 前記第1レンズおよび前記少なくとも1つの第2レンズは前記物体平面と前記像平面との間の互いに光学的に共役でない位置に配置され、かつ少なくとも実質的に同一に変形される、請求項1ないし4のいずれかに記載の方法。
  11. 前記第1レンズおよび前記少なくとも1つの第2レンズは前記物体平面と前記像平面との間の互いに光学的に共役な位置に配置され、かつ実質的に異なるように変形される、請求項1ないし4のいずれかに記載の方法。
  12. 前記第1レンズおよび前記少なくとも1つの第2レンズは互いに対して特定の比で変形される、請求項1ないし11のいずれかに記載の方法。
  13. 前記比は、前記第1レンズおよび前記少なくとも1つの第2レンズの半径方向基本ツェルニケ次数および半径方向高次ツェルニケ次数の波面収差に対する影響の関数として選択される、請求項12に記載の方法。
  14. 前記第1レンズおよび前記少なくとも1つの第2レンズは、前記像欠陥の半径方向基本ツェルニケ次数をその半径方向高次ツェルニケ次数とは実質的に独立して、またはその逆に、修正できるように前記複数のレンズから選択される、請求項1ないし13のいずれかに記載の方法。
  15. 前記第1レンズおよび前記少なくとも1つの第2レンズは、前記半径方向基本ツェルニケ次数と前記半径方向高次ツェルニケ次数との比に対する前記第1レンズの修正影響の大きさが前記少なくとも1つの第2レンズの修正影響にほぼ等しいが、符号が異なるように前記複数のレンズから選択される、請求項14に記載の方法。
  16. 前記第1レンズは正レンズであり、かつ前記少なくとも1つの第2レンズは負レンズである、請求項15に記載の方法。
  17. 前記正レンズのすぐ上流の周辺光線のビーム角の大きさは、前記負レンズのすぐ上流の周辺光線のビーム角より小さい、請求項16に記載の方法。
  18. 前記複数のレンズから前記第1レンズとしておよび/または前記少なくとも1つの第2レンズとして、レンズ中心部厚みの最大レンズ高さに対する比は約0.4より小さいレンズが選択される、請求項1ないし17のいずれかに記載の方法。
  19. 前記複数のレンズから前記第1レンズおよび/または前記少なくとも1つの第2レンズとして変形にはそれ自体厚すぎるレンズが選択され、このレンズは少なくとも2つの個別のレンズに分割され、かつ前記個別のレンズのうち少なくとも1つが変形される、請求項1ないし18のいずれかに記載の方法。
  20. 前記複数のレンズから前記第1レンズとしておよび/または前記第2レンズとして動作中2回以上光が通過するレンズが選択される、請求項1ないし19のいずれかに記載の方法。
  21. 前記第1レンズおよび前記少なくとも1つの第2レンズは、1重、2重、3重またはn(n>3)重対称性によって変形される、請求項1ないし20のいずれかに記載の方法。
  22. 像欠陥を少なくとも部分的に修正するための能動変形可能な素子として、マイクロリソグラフィー投影対物系の複数のレンズのうち第1レンズおよび少なくとも1つの第2レンズを選択する方法であって、前記第1レンズおよび前記少なくとも1つの第2レンズの幾何学的形状および/または位置が、前記第1レンズおよび前記少なくとも1つの第2レンズが協働して半径方向基本ツェルニケ次数の像欠陥および半径方向高次ツェルニケ次数の像欠陥のうちの一方のみを修正するために、修正される前記像欠陥の関数として選択基準として用いられ
    前記第1レンズおよび/または前記少なくとも1つの第2レンズのレンズ前側の副開口半径とレンズ後側の副開口半径との比は、前記第1レンズおよび/または前記少なくとも1つの第2レンズの好適な位置についての選択基準として用いられ、
    前記像欠陥は、少なくとも主に一定視野の要素を含み、前記第1レンズおよび/または前記少なくとも1つの第2レンズとして、レンズ前側の副開口半径とレンズ後側の副開口半径との比の大きさが負レンズの場合には約0.8〜約0.9または約1.1〜約1.2の範囲にあり、かつ正レンズの場合には約0.9〜約1.1の範囲にあるレンズが選択される方法。
  23. レンズ前側およびレンズ後側のうち大きい方の副開口半径の最大レンズ高さに対する比が、前記第1レンズおよび/または前記少なくとも1つの第2レンズの好適な位置についての選択基準として用いられる、請求項22に記載の方法。
  24. 前記第1レンズおよび/または前記少なくとも1つの第2レンズとして、レンズ前側またはレンズ後側の副開口半径の最大レンズ高さに対する比の大きさが約0.7より大きいレンズが選択される、請求項23に記載の方法。
  25. 像欠陥を少なくとも部分的に修正するための能動変形可能な素子として、マイクロリソグラフィー投影対物系の複数のレンズのうち第1レンズおよび少なくとも1つの第2レンズを選択する方法であって、前記第1レンズおよび前記少なくとも1つの第2レンズの幾何学的形状および/または位置が、前記第1レンズおよび前記少なくとも1つの第2レンズが協働して半径方向基本ツェルニケ次数の像欠陥および半径方向高次ツェルニケ次数の像欠陥のうちの一方のみを修正するために、修正される前記像欠陥の関数として選択基準として用いられ
    前記第1レンズおよび/または前記少なくとも1つの第2レンズのレンズ前側の副開口半径とレンズ後側の副開口半径との比は、前記第1レンズおよび/または前記少なくとも1つの第2レンズの好適な位置についての選択基準として用いられ、
    前記像欠陥は、視野依存性要素と一定視野要素との組合せまたは主に一定視野の要素を含み、前記第1レンズおよび/または前記少なくとも1つの第2レンズとして、レンズ前側の副開口半径とレンズ後側の副開口半径との比の大きさが負レンズの場合には約0.8〜約0.9または約1.1〜約1.2の範囲にあり、かつ正レンズの場合には約0.9〜約1.1の範囲にあるレンズが選択される方法。
  26. レンズ前側およびレンズ後側のうち大きい方の副開口半径の最大レンズ高さに対する比が、前記第1レンズおよび/または前記少なくとも1つの第2レンズの好適な位置についての選択基準として用いられる、請求項25に記載の方法。
  27. 前記第1レンズおよび/または前記少なくとも1つの第2レンズとして、レンズ前側またはレンズ後側の副開口半径の最大高さに対する比の大きさが約0.7より小さく、かつ約0.1より大きいレンズが選択される、請求項26に記載の方法。
  28. 前記第1レンズおよび/または前記少なくとも1つの第2レンズの正レンズまたは負レンズとしての特性は、好適な幾何学的形状についての選択基準として用いられる、請求項22ないし27のいずれかに記載の方法。
  29. 前記第1レンズおよび/または前記少なくとも1つの第2レンズの中心部厚みの最大レンズ高さに対する比は、好適な幾何学的形状についての選択基準として用いられる、請求項22ないし28のいずれかに記載の方法。
  30. 前記第1レンズおよび/または前記少なくとも1つの第2レンズとして、中心部厚みの最大レンズ高さに対する比が約0.4より小さいレンズが選択される、請求項29に記載の方法。
  31. 前記第1レンズおよび/または前記少なくとも1つの第2レンズとして動作中2回以上光が通過するレンズが選択される、請求項22ないし30のいずれかに記載の方法。
JP2008512758A 2005-05-27 2006-05-24 投影対物系の結像特性を改良する方法 Active JP5527970B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US68571605P 2005-05-27 2005-05-27
US60/685,716 2005-05-27
PCT/EP2006/004929 WO2006125617A2 (en) 2005-05-27 2006-05-24 Method for improving the imaging properties of a projection objective, and such a projection objective

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2008546007A JP2008546007A (ja) 2008-12-18
JP2008546007A5 JP2008546007A5 (ja) 2012-08-02
JP5527970B2 true JP5527970B2 (ja) 2014-06-25

Family

ID=36764394

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008512758A Active JP5527970B2 (ja) 2005-05-27 2006-05-24 投影対物系の結像特性を改良する方法

Country Status (6)

Country Link
US (3) US7777963B2 (ja)
EP (1) EP1883861B1 (ja)
JP (1) JP5527970B2 (ja)
KR (1) KR101346402B1 (ja)
TW (1) TWI454731B (ja)
WO (1) WO2006125617A2 (ja)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI454731B (zh) 2005-05-27 2014-10-01 Zeiss Carl Smt Gmbh 用於改進投影物鏡的成像性質之方法以及該投影物鏡
JP5069232B2 (ja) 2005-07-25 2012-11-07 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズ
DE102006047666A1 (de) * 2006-09-28 2008-04-03 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsobjektiv für eine Mikrolithographieanlage mit verbesserten Abbildungseigenschaften und Verfahren zum Verbessern der Abbildungseigenschaften des Projektionsobjektives
WO2008089953A1 (en) 2007-01-22 2008-07-31 Carl Zeiss Smt Ag Method for improving imaging properties of an optical system, and optical system
US7929115B2 (en) 2007-06-01 2011-04-19 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection objective and projection exposure apparatus for microlithography
DE102007027200A1 (de) * 2007-06-13 2008-12-18 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie
JP2009004509A (ja) * 2007-06-20 2009-01-08 Canon Inc 露光装置およびデバイス製造方法
DE102008001909A1 (de) 2007-07-11 2009-01-15 Carl Zeiss Smt Ag Kompensation von durch Linsenerwärmung hervorgerufener Bildfehler bei verdrehter Multipolbeleuchtung
DE102008021833B4 (de) * 2007-12-19 2010-04-22 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren zur Einstellung einer Beleuchtungswinkelverteilung und gleichzeitig einer Intensitätsverteilung über ein in ein Bildfeld abzubildendes Objektfeld
JP5511199B2 (ja) * 2009-02-25 2014-06-04 キヤノン株式会社 投影光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
JP5656682B2 (ja) * 2011-02-22 2015-01-21 キヤノン株式会社 反射屈折光学系及びそれを有する撮像装置
CN104537182B (zh) * 2015-01-05 2017-11-24 中国科学院光电技术研究所 一种透镜热变形对光学系统成像结果影响的分析方法
JP2017102275A (ja) * 2015-12-02 2017-06-08 株式会社ニコン 投影光学系、投影光学系の調整方法、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法
JP2017102274A (ja) * 2015-12-02 2017-06-08 株式会社ニコン 投影光学系、投影方法、投影光学系の調整方法、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法
JP2017102273A (ja) * 2015-12-02 2017-06-08 株式会社ニコン 投影光学系、投影方法、投影光学系の調整方法、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法
JP6744797B2 (ja) * 2016-10-07 2020-08-19 リコーインダストリアルソリューションズ株式会社 投射光学系および投射装置および撮像装置

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4226507A (en) 1979-07-09 1980-10-07 The Perkin-Elmer Corporation Three actuator deformable specimen
US4993823A (en) 1989-06-29 1991-02-19 Eastman Kodak Company Method for correction of distortions of an imaging device
US5995263A (en) * 1993-11-12 1999-11-30 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
JPH1039208A (ja) * 1996-07-23 1998-02-13 Nikon Corp 投影光学系
JP4096399B2 (ja) * 1998-04-09 2008-06-04 株式会社ニコン 大口径ズームレンズ
DE19827603A1 (de) * 1998-06-20 1999-12-23 Zeiss Carl Fa Optisches System, insbesondere Projektions-Belichtungsanlage der Mikrolithographie
DE19859634A1 (de) * 1998-12-23 2000-06-29 Zeiss Carl Fa Optisches System, insbesondere Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie
US6600608B1 (en) 1999-11-05 2003-07-29 Carl-Zeiss-Stiftung Catadioptric objective comprising two intermediate images
DE50012452D1 (de) * 1999-12-29 2006-05-11 Zeiss Carl Smt Ag Projektionsobjektiv mit benachbart angeordneten asphärischen linsenoberflächen
JP4809987B2 (ja) * 2000-03-30 2011-11-09 キヤノン株式会社 光学要素の支持構造、それを用いた露光装置及び半導体デバイスの製造方法
EP1344111A1 (de) * 2000-12-22 2003-09-17 Carl Zeiss SMT AG Objektiv mit mindestens einer asphärischen linse
KR100893516B1 (ko) * 2000-12-28 2009-04-16 가부시키가이샤 니콘 결상특성 계측방법, 결상특성 조정방법, 노광방법 및노광장치, 프로그램 및 기록매체, 그리고 디바이스 제조방법
AU2002243903A1 (en) 2001-02-08 2002-08-19 Sciperio, Inc. Genetically configured antenna and/or frequency selection surface
DE10120446C2 (de) * 2001-04-26 2003-04-17 Zeiss Carl Projektionsbelichtungsanlage sowie Verfahren zur Kompensation von Abbildungsfehlern in einer Projektionsbelichtungsanlage, insbesondere für die Mikro-Lithographie
DE10143385C2 (de) * 2001-09-05 2003-07-17 Zeiss Carl Projektionsbelichtungsanlage
JP4352458B2 (ja) * 2002-03-01 2009-10-28 株式会社ニコン 投影光学系の調整方法、予測方法、評価方法、調整方法、露光方法及び露光装置、露光装置の製造方法、プログラム並びにデバイス製造方法
DE10210899A1 (de) 2002-03-08 2003-09-18 Zeiss Carl Smt Ag Refraktives Projektionsobjektiv für Immersions-Lithographie
US20030234918A1 (en) * 2002-06-20 2003-12-25 Nikon Corporation Adjustable soft mounts in kinematic lens mounting system
US7362508B2 (en) 2002-08-23 2008-04-22 Nikon Corporation Projection optical system and method for photolithography and exposure apparatus and method using same
JP2004317534A (ja) 2003-04-11 2004-11-11 Nikon Corp 反射屈折型の結像光学系、露光装置、および露光方法
US7436484B2 (en) * 2004-12-28 2008-10-14 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
TWI454731B (zh) 2005-05-27 2014-10-01 Zeiss Carl Smt Gmbh 用於改進投影物鏡的成像性質之方法以及該投影物鏡

Also Published As

Publication number Publication date
US7777963B2 (en) 2010-08-17
US20080310029A1 (en) 2008-12-18
WO2006125617A2 (en) 2006-11-30
EP1883861B1 (en) 2013-04-17
US9069263B2 (en) 2015-06-30
US9581813B2 (en) 2017-02-28
KR20080038087A (ko) 2008-05-02
US20100290024A1 (en) 2010-11-18
TW200710428A (en) 2007-03-16
KR101346402B1 (ko) 2014-01-02
JP2008546007A (ja) 2008-12-18
TWI454731B (zh) 2014-10-01
WO2006125617A3 (en) 2007-04-26
EP1883861A2 (en) 2008-02-06
US20150293352A1 (en) 2015-10-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5527970B2 (ja) 投影対物系の結像特性を改良する方法
JP2008546007A5 (ja)
JP6963642B2 (ja) 投影リソグラフィのための照明光学ユニット
JP6407193B2 (ja) 投影露光方法、投影露光システム、及び投影対物系
US7403262B2 (en) Projection optical system and exposure apparatus having the same
JP5876516B2 (ja) マイクロリソグラフィのための投影対物系、投影露光装置、投影露光方法、及び光学補正プレート
US7301707B2 (en) Projection optical system and method
TWI714278B (zh) 投影透鏡、投影曝光裝置、與euv微影的投影曝光方法
US20130120728A1 (en) Catadioptric projection objective with mirror group
CN104914561A (zh) 成像光学系统、投射曝光设备、制造组件的方法和组件
JP2013524497A (ja) マスクによって生じる結像収差の補正を用いて投影露光装置を作動させる方法
JP2016510142A (ja) 波面マニピュレータを有する投影レンズ
TW200839455A (en) Method for improving the imaging properties of an optical system, and such an optical system
JP5476591B2 (ja) マイクロリソグラフィ用投影対物レンズ
JP2009258461A (ja) 結像光学系、露光装置、およびデバイス製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20080918

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20080918

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090512

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090512

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20111205

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20111212

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20120312

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20120319

A524 Written submission of copy of amendment under article 19 pct

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A524

Effective date: 20120612

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20130204

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130604

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20130612

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130930

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20131225

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20140108

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140131

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140324

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140415

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5527970

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250