JP5476591B2 - マイクロリソグラフィ用投影対物レンズ - Google Patents

Description

本発明は、物体平面に配置されるパターンを、画像平面に配置される基板上に撮像するためのマイクロリソグラフィ用投影対物レンズに関する。
上で述べた種類の投影対物レンズは、レティクルとも呼ばれるパターンが設けられる物体を、ウエハと呼ばれる基板上に該投影対物レンズを用いて撮像する、半導体のマイクロリソグラフィ製造の一部として用いられる。レティクルは、投影対物レンズの物体平面に配置され、かつウエハは、投影対物レンズの画像平面に配置される。ウエハには感光層が設けられ、その露光中、光を用いて、レティクルのパターンが投影対物レンズを通して感光層上に転写される。感光層の現像の後、所望のパターンがウエハ上に作成され、露光工程は、必要に応じて、数回繰り返される。

投影対物レンズのさまざまな設計が公知である。投影対物レンズは３種に分けることができる。第１種は、投影対物レンズのみが屈折素子を有するジオプトリック（dioptric：光屈折）設計に関する。そのようなジオプトリック投影対物レンズは、例えば下記特許文献１から公知である。
投影対物レンズの第２種は、例えば下記特許文献２に示されるような、屈折素子からのみ構成されるカトプトリック（catoptric：光反射）投影対物レンズである。

投影対物レンズの第３種は、カタジオプトリック（catadioptric：反射屈折）投影対物レンズであり、その光学素子の光学的構成は、屈折素子および反射素子の両方を有する。そのようなカタジオプトリック投影対物レンズは、例えば、下記特許文献３に記載されている。
本発明は、特に、ジオプトリック投影対物レンズおよびカタジオプトリック投影対物レンズに関する。

一般に、投影対物レンズには、その撮像品質に関して高い要求が課される。投影対物レンズを通して撮像されるパターンが小さければ小さいほど、この要求は高くなる。
現在の投影対物レンズにおいては、その瞳孔平面に特別な重要性が与えられている。定常場撮像誤差を、瞳孔平面内での、またはその近くでの補正対策によって、例えば補正非球面を持つ補正素子を挿入することによって、補正することができることが一般に公知である。

瞳孔平面の少なくとも一つには、開口絞りも配置されており、その絞り開口部は、可能ならば、メリジオナル平面およびサジタル平面での撮像のテレセントリック投影および相対画像開口部に関して、明細書から逸脱することなく、本手段によって投影対物レンズの開口数を選択的に調整することができるようにするために可変である。
用途の必要よっては、ある回折次数を画像光線から除去するために用いられる瞳孔フィルターを瞳孔平面に配置するのも望ましい。例えば、ゼロ次回折を、画像光線の経路からフェードアウトすることができる。

最後に述べた２つの要件、すなわち可変サイズの開口絞りおよび瞳孔平面または絞り平面での瞳孔フィルターの配置は、下記特許文献１から公知である投影対物レンズにおける場合のように、開口絞りがウエハに近い瞳孔平面に配置されるなら困難であることが分かる。
さらに高屈折材料の最後のウエハ側レンズを有する、開口数が非常に大きい投影対物レンズの場合、対物レンズの一部の開口絞りをウエハの近くに配置することは困難である。特に、その最後のレンズ素子が、ＬｕＡＧまたはセラミックスピネルからなり、かつ１９３ｎｍの波長で十分な透過性を有することができる設計が考えられる。２４８ｎｍの波長では、最後のレンズが、合成的に製造されるダイヤモンドから作られることがさらに考えられる。概して、最後のレンズは、高屈折力を有し、かつ光入射側のその前部は、本質的にウエハの周りで同心状に湾曲される。これによって、強い絞り曲率がもたらされ、絞り領域は、ウエハに向かって凹んでいる。結果として、開口絞りは、非常に大きく湾曲されなければならない。開口絞りが十分開いた状態で、絞り抜き勾配が、光学ビーム経路外に移動されると、下方に配置されるレンズの取り着けとの構成空間での衝突が生じる。開口絞りの配置がウエハ側の瞳孔平面にある状態での強い絞り曲率は、ペッツヴァルの和がそこで大きく過補正されることが原因である。この文脈において、開口絞り曲率は、対称が原因で瞳孔撮像において非点収差がないので、本質的に最後のレンズ素子のペッツヴァルの和によって与えられる。

瞳孔撮像の接線殻を水平化するために、最後のレンズとウエハ側瞳孔平面との間にレンズがある状態で瞳孔撮像に強い非点収差を導入することによって、強い絞り曲率を補正しようと試みることが可能であるだろう。しかしながら、経験上、この実現には困難が伴い、概してうまくいかないことが分かっている。
下記特許文献３から、開口絞りが、投影対物レンズのレティクルに近い対物レンズ部に配置されるカタジオプトリック投影対物レンズが公知である。この構成では、開口絞りは、凹面鏡のすぐ前に配置され、よって光が２度通過する。開口絞りは、投影対物レンズを通過する光の横断面を限定するために、可変絞り開口部を有する。瞳孔フィルターを開口絞りのキャビティに導入することは、開口絞りが凹面鏡のすぐ近傍にあるため、設置空間の理由でなお重大である。

下記特許文献４から、このカタジオプトリック投影対物レンズのレティクル側の部分に配置される開口絞りを有する投影対物レンズが公知である。
国際公開第２０００／３３１３８号パンフレット 欧州特許出願公開第１４３４０９３号明細書 国際公開第２００４／０１０１６４号パンフレット 国際公開第２００５／０６９０５５号パンフレット 米国特許第６，９９５，８３３号明細書 特開２００４−３１７５３４号公報 米国特許出願第２００６／００５６０６４号明細書

本発明は、その撮像特性に関して改良されたマイクロリソグラフィ用投影対物レンズを詳述する目的に基づいている。

本発明によれば、この目的は、物体平面に配置されるレティクルを、画像平面に配置されるウエハ上に撮像するためのマイクロリソグラフィ用投影対物レンズによって達成され、物体平面と画像平面との間に光学素子の構成を備え、該構成は、レティクル側に配置される第１瞳孔平面および少なくとも第２瞳孔平面、およびその絞り開口部が可変でありかつ撮像光が一度だけ通過する少なくとも一つの開口絞りを有し、少なくとも一つの開口絞りは、レティクル側に配置される第１瞳孔平面に少なくとも光学的に近い光学素子の構成内に配置され、かつ瞳孔フィルターは、開口絞りのすぐ近傍に位置する。

本発明による投影対物レンズでは、開口絞りは、レティクル側の対物レンズの一部に、より正確には投影対物レンズのリレーシステムにある。上記特許文献３から公知の投影対物レンズの開口絞りは、投影対物レンズのレティクル側の対物レンズの一部にも配置されるが、該開口絞りは、上記特許文献３では、光が２度開口絞りを通過するように、凹面鏡のすぐ近傍に配置される。対照的に、本発明による投影対物レンズでは、絞り位置は、撮像光が一度だけ開口絞りの絞り開口部を通過するように選択される。光が一度だけ開口絞りを通過する開口絞りのための絞り位置には、開口絞りが二重光経路による口径食の影響を及ぼさないという利点がある。対物レンズの一部の開口絞りがレティクルに近い構成のさらなる利点は、開口絞りの曲率の値を、上述したようなウエハに近い対物レンズの一部の場合と異なり、比較的大きい範囲内で変化させることができるということにある。

「瞳孔平面に少なくとも光学的に近い」という用語は、本明細書では、光学面での周辺光線の高さに対する主光線の高さの比の絶対値が０．２より小さいことと理解すべきである。
本発明の意味では、「少なくとも光学的に近い」はまた、瞳孔平面で直接に絞り位置を選択することを含む。瞳孔平面内にまたはその近くに開口絞りを配置することには、瞳孔フィルターを、画像光線の経路からゼロ次回折を除去するために、中央瞳孔を最大開口数で遮る絞り位置に、またはそのすぐ近傍に、配置することができるという利点がある。さらに、瞳孔平面内またはその近くに絞り位置を選択することは、例えば実用寿命効果（レンズ加熱、小型化）によって生じることがあり、かつ典型的に一定視野変動を有する収差を、例えば非球面化によって補正することができるさらなる補正素子を瞳孔のすぐ近傍に取り付ける可能性を開く。

好ましい実施形態では、ペッツヴァルの和が、対物平面と開口絞り平面との間で不足補正される。
さらに、絞り開口部が、好ましくは物体平面の方に凹んでいる湾曲面上で可変であるのが好ましい。
このことは、絞り関数の補正が、レティクルと開口絞りとの間の第１光学素子群を通る入射瞳孔の自然に生じるペッツヴァル曲率を満たすので、容易にされるという利点がある。

さらなる好ましい実施形態では、開口絞りは、光学素子の２つの屈折素子のすぐ間に位置決めされる。
開口絞りのそのような配置により、隣接する鏡についてよりむしろ、隣接する屈折光学素子の構成に関する設計の点でより大きい自由度があるので、該絞りを、有利なことに、少ない費用で投影対物レンズの光学設計において考えることができる。

絞り位置は、レティクル側に最も近い瞳孔平面に少なくとも光学的に近いことが好ましい。
本実施形態の利点は、瞳孔平面内にまたはそれに近い絞り位置の利点とともに、本発明による投影対物レンズの利点から得られる。
そのような瞳孔フィルターは、すべての用途で必要とされるわけではないので、瞳孔フィルターは、さらなる好ましい実施形態によれば取り外し可能である。

特に、瞳孔フィルターは、一般に、開口絞りより小さい直径を有する。絞り平面が湾曲している場合、絞り平面および瞳孔フィルターが可能な限り有効である平面は、軸方向に互いに間隔をあけられている。このことにより、対物レンズにおいて両方の素子を同時に用いることができる。
したがって、瞳孔フィルターは、好ましくは、湾曲面が延びているキャビティ内に配置される。

瞳孔フィルターが設けられると、それに沿って開口絞りの絞り開口部が可変である表面の曲率を、開口絞りと瞳孔フィルターとの間の機械的分離が可能であるように選択することができ、一方、表面の曲率は、開口絞りの取り着けとそれを取り囲む光学素子との間に設置空間衝突が生じるほど大きくするべきでない。
好ましくは、０．５＜|ｈ／ｒ|＜０．１という関係が、湾曲面に当てはまり、ｈは、全開口数を持つ開口絞りの直径の半分であり、ｒは、湾曲面の半径である。上方限界が破られる場合には、絞り面は、瞳孔フィルターおよび開口絞りを十分機械的な距離で取り着けるにはあまりにも弱く湾曲される。下方限界が破られる場合には、絞り曲率が強すぎて、大きさが可変である開口絞りの使用に悪い影響を与える。

本発明による投影対物レンズの実施形態は、カタジオプトリック投影対物レンズに特に好適であり、その光学素子の構成は、少なくとも一つの凹面鏡を有する。
しかしながら、本発明による投影対物レンズはまた、投影対物レンズの本発明による実施形態の利点を利用することもできるジオプトリック投影対物レンズであってもよい。
本発明による投影対物レンズが、少なくとも一つの中間画像を有することが有利である。

さらなる利点および特徴は、以下の説明および添付の図面から得られる。
当然ながら、上述の特徴および以下の本文でなお説明すべき特徴を、個々の場合に特定される組合せでのみならず、本発明の文脈から逸脱することなく他の組合せでまたは単独で用いることができる。

本発明の例示的な実施形態を、図面に示し、かつ図面を参照して以下でより詳細に説明する。
図１は、全体を参照符号１０で表すマイクロリソグラフィ用の投影対物レンズを示す。投影対物レンズ１０は、物体平面Ｏに配置されるレティクルＲを、画像平面Ｂに配置されるウエハ上に撮像するために用いられる。

投影対物レンズ１０は、複数の光学素子からなる構成１２を有する。これらの光学素子は、物体平面Ｏから始まり、投影対物レンズ１０の光学リレーシステムを形成するレンズＬ_１〜Ｌ_１２を備える。レンズＬ_１〜Ｌ_１２は、例えば、補正非球面が取り着けられる平面平行板の形で配置することができる補正素子Ｌ_８も含む。瞳孔平面Ｐ_１は、光学素子Ｌ_７と光学素子Ｌ_８との間に配置される。

構成１２はまた、第１凹面鏡Ｍ_１および第２凹面鏡Ｍ_２を有する。
光学経路の方向に見ると、凹面鏡Ｍ_２の後に、さらなるレンズ群Ｌ_１３〜Ｌ_２３が続く。
全体として、投影対物レンズ１０は、屈折光学素子（特にレンズ）および反射光学素子（この場合鏡Ｍ_１およびＭ_２）の両方を有するという事実によってカタジオプトリックである。

本説明では、光学素子群Ｌ_１〜Ｌ_２は、投影対物レンズ１０のレティクル側の対物レンズ部とも呼ばれ、一方光学素子群Ｌ_１３〜Ｌ_２３は、ウエハ側の対物レンズ部と呼ばれる。
ウエハ側の対物レンズ部では、さらなる瞳孔平面Ｐ_２が、素子Ｌ_１９と素子Ｌ_２０との間に配置される。

以下の本文では、構成１２内のどの位置が、開口絞りの配置に好適であり、かつ好適でないかを説明する。すなわち、どの絞り位置が構成１２内で最適であるかを説明する。
最初に、図２は、開口絞りＡＰが瞳孔平面Ｐ_２のすぐ近傍に配置される場合を示す。開口絞りＡＰについてのそのような絞り位置は、次の理由で不利であることが分かる。
投影対物レンズ１０は、非常に高い開口数を有し、さらに、最後の光学素子Ｌ_２３は、非常に高い屈折力を有する。最後の光学素子Ｌ_２３は、凸平面レンズであり、その凸前面は、本質的には、画像平面Ｂに配置されるウエハの周りで同心状に湾曲される。しかしながら、これによって、開口絞りＡＰの強い絞り曲率がもたらされ、それぞれ画像平面Ｂに向かう、またはウエハに向かう絞り面は、図２から分かるように中空である。

図２は、投影対物レンズ１０の開口絞りＡＰが、撮像のテレセントリック性に関して明細書から逸脱することなく開口数を選択的に設定することができるように、可変寸法の絞り開口部を有するために配置されなければならない様子を示す。開口絞りＡＰが、その必要とされる強い曲率のため、隣接する光学素子Ｌ_１９およびＬ_２０と設置空間衝突していることを、図２からすでに見ることができる。開口絞りＡＰが十分に開口されると、すなわち、その絞り抜き勾配が光学経路外に移動されると、隣接する光学素子Ｌ_１９およびＬ_２０の取り着けとの設置空間衝突は克服できない。このことは、その抜き勾配が球面セグメントとして形作られる従来の絞り開口部に当てはまる。

図３は、開口絞りＡＰの強い曲率が実現される様子を示す。図３では、最後の光学素子Ｌ_２３を、半球として簡略化して示す。軸点の光線が、光学軸ＯＡ上に集束されるのが分かる。しかしながら、対称が原因で、出口瞳孔の端縁を、ウエハＷの周りの同心円上に撮像しなければならない。最後の光学素子Ｌ_２３と開口絞りＡＰとの間にさらなる光学素子、特にレンズ素子がない場合、理想的な開口絞りＡＰは、必然的にウエハＢの周りで同心となるであろう。その上で開口絞りＡＰの絞り開口部を変化させることができる表面の曲率は、対称が原因で瞳孔画像に非点収差がないので、本質的には最後の光学素子Ｌ_２３のペッツヴァルの和によって与えられる。しかしながら、図２による開口絞りＡＰの絞り位置でのペッツヴァルの和は、大きく過補正される。

次に、最後の光学素子Ｌ_２３と開口絞りＡＰの絞り平面との間に光学素子がある状態で瞳孔画像に強い非点収差を導入することによってこの効果を補正しようとすること、すなわち瞳孔画像の接線殻を水平にしようとすることが可能になるだろう。しかしながら、経験上、この実現には困難が伴い、かつ概してうまくいかないことが分かっている。
図４は、次に、開口絞りＡＰがウエハ側の対物レンズ部に配置されないで、光学素子Ｌ_７と光学素子Ｌ_８との間の瞳孔平面Ｐ_１内の、またはそのすぐ近傍のレティクル側の対物レンズ部に配置される投影対物レンズ１０の本発明による実施形態を示す。図４は、投影対物レンズ１０のレティクル側の対物レンズ部において、開口絞りＡＰと隣接する光学素子との間で設置空間衝突がないことをすでに示している。

本発明によれば、開口絞りＡＰは、光学素子Ｌ_１〜Ｌ_７のペッツヴァルの和が、レティクルＲから見ると補正不足である絞り位置に配置される。特に、開口絞りＡＰは、２つの屈折素子、この場合光学素子Ｌ_７およびＬ_８間に配置され、かつ一度だけ光が通過する。開口絞りの絞り開口部は、レティクルＲの方に向かって中空である湾曲面に沿って可変である。

瞳孔平面Ｐ_１の領域内の開口絞りＡＰを、投影対物レンズ１０のレティクル側の対物レンズ部に配置することによって、行われる撮像工程にとって望ましい場合に画像光線の経路からゼロ次回折を除去するために、最大開口数で、すなわち開口絞りＡＰが十分開いた状態で、中央瞳孔を遮る開口位置に瞳孔フィルターＰＦを設けることも可能になる。
開口絞りＡＰは、明瞭な曲げを持つ球面絞りとして設計される。開口絞りＡＰが十分開いていると、瞳孔フィルターＰＦを、開口絞りＡＰの絞り抜き匂配から十分な距離で押し込むことができる。図４は、投影対物レンズの全開口数の約７０％での瞳孔フィルターＰＦについての例示的な平面を示す。原則として、瞳孔フィルターの他の開口数を、瞳孔フィルターＰＦの位置を、光学軸ＯＡの方向にずらすことによって、かつ瞳孔フィルターの大きさを変化させることによって、実現することもできる。

瞳孔直径が十分大きくなるように選択される場合、この場合光学素子Ｌ_８のような補正素子を、例えば、投影対物レンズ１０の動作中の実用寿命効果（コンパクト化）またはレンズ材料の加熱の効果から生じる収差を非球面化によって補正することができる瞳孔の十分近くに設置することもできる。
図４から分かるように、開口絞りＡＰは、物体平面Ｏおよびレティクルの方に凹んでいる。このことは、絞り関数の補正が、第１レンズ群Ｌ_１〜Ｌ_７による入射瞳孔の自然に生じるペッツヴァル曲率を受容するので、該補正を容易にする。開口絞りＡＰの曲率の大きさを、投影対物レンズ１０のレティクル側の対物レンズ部内の比較的大きい範囲内で変化させることができる。より大きな曲率が、開口絞りＡＰと瞳孔フィルターＰＦとの機械的分離に対して好ましい影響を及ぼす一方、より大きな曲率は、球面絞りの設計に対する要求を増加させ、かつ開口絞りＡＰの取り着けとそれを取り囲む光学素子との間に、より迅速に設置空間衝突を生じる。

曲率は、０．５＜|ｈ／ｒ|＜０．１という関係が、開口絞りＡＰの湾曲面に当てはまることが好ましく、ｈは、全開口数を持つ開口絞りＡＰの直径の半分であり、ｒは、開口絞りＡＰの湾曲面の半径であるように選択される。
図示した例示的な実施形態では、開口絞りＡＰの曲率は、１／ｒ＝１／２５０ｍｍの値に設定された。開口絞りＡＰの直径ｈの半分は、７８．１ｍｍであろう。瞳孔フィルターＰＦが、１．１の開口数で開口部全体をちょうど埋めると仮定すると、瞳孔フィルターＰＦを、十分開いた開口絞りＡＰの光制限端縁Ｋより７．２ｍｍの軸距離後ろに水平面として挿入することができる。このことにより、ビーム経路に両方の素子を機械的に取り着けることができる。

投影対物レンズ１０が最大開口数からより少ない開口数まで絞られるなら、球面開口絞りＡＰは、良好な近似では球面であるコースをたどらなければならない。絞り関数の球殻への理想的な補正の場合には、開口範囲全体にわたってウエハＷにはテレセントリック誤差がないであろう。しかしながら、より小さくかつ許容できる残余誤差のため、ウエハでの主光線角は、レンズを絞ることで、テレセントリック方向からわずかに外れる。

後掲の表２および表３には、図４の実施形態の投影対物レンズ１０のシステムデータが示されている。
図５は、主光線角が開口数に関連している図面を示す。図５は、理想的な球面絞り関数によってレンズを絞ることで生じる主光線角を示す。図５は、ずれはほんのわずかであり、かつ本例では０．９０と１．５５との間の開口数の範囲内では１ｍｒａｄ未満であることを示す。この状況を、次の表１にも示す。

図６〜図９は、少なくとも一つの中間画像平面も有し、すなわち、レティクル側に瞳孔平面Ｐ_１も有し、かつ本発明を用いることができる投影対物レンズのさらなる例示的な実施形態を示す。
図６は、上記特許文献５に開示されかつ記載されているような、カタジオプトリック投影対物レンズを示す。投影対物レンズ２０を完全に説明するために、上記特許文献５を参照する。

投影対物レンズ２０は、図４を参照して説明したように、開口絞りＡＰの配置に好適である物体側またはレティクル側に第１瞳孔平面Ｐ_１を有する。
図７は、上記特許文献６に開示されかつ記載されているような、投影対物レンズ３０を示す。
図４を参照して説明したように、開口絞りＡＰについての絞り位置として、第１瞳孔平面Ｐ_１を有するレティクル側の対物レンズ部を、本明細書で用いることもできる。

図８は、本発明を用いることができるさらなる投影対物レンズ４０を示す。投影対物レンズ４０はまた、上記特許文献５に開示されかつ記載されており、それをさらなる説明のために参照する。本投影対物レンズ４０もまた、レティクル側の対物レンズ部に瞳孔平面Ｐ_１を有し、その内にまたはそのすぐ近傍に、図４を参照して説明したように、開口絞りＡＰを配置することができる。

これまで説明してきた投影対物レンズ１０〜４０は、カタジオプトリック投影対物レンズであるが、本発明はまた、図９の投影対物レンズ５０について示すように、ジオプトリック投影対物レンズに用いることもできる。この場合、瞳孔平面Ｐ_１内のまたはそのすぐ近傍の位置を、絞り位置として考えることができるが、光学の設計を、隣接する屈折素子間での設置空間衝突を避けるために、そこでわずかに変化させなければならない。

上記特許文献７に開示されかつ記載されているさらなるジオプトリック投影対物レンズ６０を、図１０に示す。本投影対物レンズの場合には、図４を参照して説明してきたような開口絞りを、レティクル側の瞳孔平面Ｐ_１の領域内に配置することができる。

本発明による投影対物レンズの例示的な実施形態の全体図である。 本発明の根拠となる問題を示す、図１の投影対物レンズのウエハ側のレンズの一部の拡大図である。 図１の投影対物レンズの最後のレンズ素子を、図示する。 本発明による絞り構成および瞳孔フィルターを持つ、図１の投影対物レンズのレティクル側の部分の拡大図である。 理想的な球面絞り関数によってレンズを絞る場合の、主光線角と開口数との間の関係を示す。 本発明による絞り構成を用いることができる、投影対物レンズのさらなる例示的な実施形態を示す。 本発明による絞り構成を用いることができる、投影対物レンズのさらなる例示的な実施形態を示す。 本発明による絞り構成を用いることができる、投影対物レンズのさらなる例示的な実施形態を示す。 本発明による絞り構成を用いることができる、投影対物レンズのさらなる例示的な実施形態を示す。 本発明による絞り構成を用いることができる、投影対物レンズのさらなる例示的な実施形態を示す。

Claims (9)

1. 物体平面（Ｏ）に配置されるパターンを、画像平面（Ｂ）に配置される基板上に撮像するためのマイクロリソグラフィ用投影対物レンズであって、
   前記物体平面（Ｏ）と前記画像平面（Ｂ）との間に光学素子の構成（１２）を備え、前記構成（１２）は、レティクル側に配置される第１瞳孔平面（Ｐ₁）および少なくとも第２瞳孔平面（Ｐ₂）、ならびにその絞り開口部が可変であり、かつ撮像光が一度だけ通過する少なくとも一つの開口絞り（ＡＰ）を有し、前記少なくとも一つの開口絞り（ＡＰ）は、前記レティクル側に配置される前記第１瞳孔平面に少なくとも光学的に近い前記光学素子の構成（１２）内に配置され、瞳孔フィルターは、前記開口絞りのすぐ近傍に位置し、
   前記絞り開口部は、湾曲面上で可変であり、
   前記湾曲面は、前記物体平面（Ｏ）に向かって凹んでいる、投影対物レンズ。
2. 前記物体平面と開口絞り平面との間のペッツヴァルの和が、不足補正される、請求項１に記載の投影対物レンズ。
3. 前記開口絞り（ＡＰ）は、前記光学素子のうち２つの屈折素子のすぐ間に配置される、請求項１又は２に記載の投影対物レンズ。
4. 前記レティクル側の前記瞳孔平面（Ｐ₁）は、レティクルに最も近い前記瞳孔平面である、請求項１ないし３のいずれか１項に記載の投影対物レンズ。
5. 前記瞳孔フィルター（ＰＦ）を、取り外すことができる、請求項１ないし４のいずれか１項に記載の投影対物レンズ。
6. 前記瞳孔フィルター（ＰＦ）は、前記湾曲面が延びているキャビティ内に配置される、請求項１ないし５のいずれか１項に記載の投影対物レンズ。
7. ０．５＜|ｈ／ｒ|＜０．１という関係が、前記湾曲面に当てはまり、ｈは、全開口数を持つ前記開口絞りの直径の半分であり、ｒは前記湾曲面の半径である、請求項１ないし６のいずれか１項に記載の投影対物レンズ。
8. 前記光学素子の構成は、カタジオプトリックであり、かつ少なくとも一つの凹面鏡（Ｍ₁，Ｍ₂）を有する、請求項１ないし７のいずれか１項に記載の投影対物レンズ。
9. 前記光学素子の構成は、ジオプトリックである、請求項１ないし７のいずれか１項に記載の投影対物レンズ。

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