JP4159936B2 - リソグラフィシステムの照明システムで使用されるリレーレンズ - Google Patents

リソグラフィシステムの照明システムで使用されるリレーレンズ Download PDF

Info

Publication number
JP4159936B2
JP4159936B2 JP2003194430A JP2003194430A JP4159936B2 JP 4159936 B2 JP4159936 B2 JP 4159936B2 JP 2003194430 A JP2003194430 A JP 2003194430A JP 2003194430 A JP2003194430 A JP 2003194430A JP 4159936 B2 JP4159936 B2 JP 4159936B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lens
lens group
relay
reticle
systems
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2003194430A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2004046189A (ja
JP2004046189A5 (ja
Inventor
リュツィコフ レフ
スミルノフ スタニスラフ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
ASML Holding NV
Original Assignee
ASML Holding NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ASML Holding NV filed Critical ASML Holding NV
Publication of JP2004046189A publication Critical patent/JP2004046189A/ja
Publication of JP2004046189A5 publication Critical patent/JP2004046189A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4159936B2 publication Critical patent/JP4159936B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B9/00Optical objectives characterised both by the number of the components and their arrangements according to their sign, i.e. + or -
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems
    • G03F7/70066Size and form of the illuminated area in the mask plane, e.g. reticle masking blades or blinds
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B13/00Optical objectives specially designed for the purposes specified below
    • G02B13/14Optical objectives specially designed for the purposes specified below for use with infrared or ultraviolet radiation
    • G02B13/143Optical objectives specially designed for the purposes specified below for use with infrared or ultraviolet radiation for use with ultraviolet radiation
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B13/00Optical objectives specially designed for the purposes specified below
    • G02B13/22Telecentric objectives or lens systems
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B13/00Optical objectives specially designed for the purposes specified below
    • G02B13/24Optical objectives specially designed for the purposes specified below for reproducing or copying at short object distances

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、露光中にレチクルの所定の領域をシャープに照明するシステムおよび方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
リレー対物レンズ(例えばレンズ)またはレチクルエッジマスキングアセンブリ(REMA)対物レンズ(例えばレンズ)は、中間面をレチクルの面上に結像する対物レンズである。レチクルはリソグラフィ用のマスクをサポートする。リレーレンズを用いることで、レチクル上の被照明領域はシャープに定められる。通例、レチクルマスキング装置は調整可能なエッジ(edges)とともに構成される。従来ではリレーレンズはマイクロリソグラフィ露光システム、ステッパーまたはスキャナー内で使用される。しかしリレーレンズは他の光学システム内でも使用可能である。リレーレンズの対象面内に位置する絞りエッジは、レチクル面上に正確に結像されなければならない。露光されて補正された瞳中間像(pupillary intermediate image)がしばしば望まれる。なぜなら中間像の位置でさらに絞り等を、例えばアライメントシステムの部分をマスキングするために取り付けることができるからである。
【0003】
典型的にリレーレンズシステムは非常に複雑な構造(例えば約7〜10のレンズエレメント)を有する。このような光学系は高い開口数(NA)(例えば約0. 6〜0. 7)を有している。基本的にこのようなシステムは3つの部分を有する。すなわち前面部分(この部分はNAを低減させる)と、中間部分(瞳収差および瞳形状補正)と、視野(field)部分(レチクル上の本質的な視野サイズを形成する)である。リソグラフィツール内でリレーレンズシステムに続くのは投影対物レンズである。これは通常は縮小させるように作用し、非テレセントリックな入力に対する内部の瞳面を有する。ウェハが像面内で続く。リレーレンズシステムの付加的なタスクは、レチクル上のテレセントリック性を補正することである。
【0004】
従来のシステムは上述した各前面部分、中間部分および視野部分内で複数の光学エレメントを有する。前面部分は3〜4つのレンズを有し、中間部分は2〜4つのレンズを有し、視野部分は2〜4つのレンズを有する。従来、リレーレンズシステムは各部分における複数の光学エレメントが原因で幾つかの欠点を有する。すなわち(1)157nmリソグラフィシステムに対して大量のCaFが必要とされること。これは非常にコストがかかる。(2)ガラス吸収だけではなく、各レンズ表面上の反射率が原因で透過度が低いこと。(3)アライメントさせる必要のあるレンズが多すぎてアライメントが難しいこと。(4)必要とされる大量のCaFに部分的に支払うべき高いコストが生じる。このような高いコストはこのシステムの購入者に回り、付加的なまたは新たなシステムを購入する値段を非常に高くしてしまう。
【0005】
より単純で、設計がより複雑でない、製造に含まれるコストひいては顧客のコストを低減させるリレーレンズが所望されている。これら全てはリレーレンズ内の光学エレメントを減らすことによって実現される。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
より単純で、設計がより複雑でない、製造に含まれるコストひいては顧客のコストを低減させるリレーレンズを提供すること。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上述の課題は、複数のレンズを有する第1のレンズ群と、アパーチャストップと、1つのレンズを有する第2のレンズ群と、フォールドミラーと、1つのレンズを有する第3のレンズ群とを有する、ことを特徴とするリレーレンズによって解決される。
【0008】
【発明の実施の形態】
リソグラフィ内で使用される場合、リレーレンズは照明システム内に設けられる。リレーレンズは、様々なアパーチャサイズを有するテレセントリックな光ビームによってレチクルでの視野を均一に照明するために使用される。リレーレンズは第1のレンズ群と、第2のレンズ群と、第3のレンズ群を有する。第2のレンズ群と第3のレンズ群のうちの少なくとも1つは単レンズを含む。従来のシステムと比較して少ない光学エレメントが使用されているので必要とされるCaFが少ないことによって、これはコストを削減させ透過度を上昇させる。
【0009】
従来のシステムに勝る本発明の実施形態のある利点は、設計および製造の単純さと、必要とされるCaFの量を低減させる光学材料量の減少(例えば少ない光学エレメント、従ってより少ない光学的表面)に基づく、低減された製造コストである。これは照明システムまたはリレーレンズの光学的なアウトプットに影響を与えず行われる。従来のシステムよりも(例えば約30〜50%少ない)少ない量のCaFが使用される。従来のシステムよりも(例えば約30%高い)高い透過度が得られる。アライメントの困難さはほぼ除去される。なぜなら特定の部分でレンズが1つしか使用されないからである。このリレーレンズシステムは同じ質の像を生じさせるが、従来のシステムより高価でない。
【0010】
本発明の実施形態のさらなる他の利点は、従来のシステムより単純な構造を有していることである。なぜなら中間群および視野群が、複数のレンズエレメントの代わりに単レンズエレメントを有することができるからである。
【0011】
本発明のさらなる実施形態、特徴および利点を本発明の様々な実施形態の構造および作動と並んで、添付した図面を参照に以下で詳細に説明する。
【0012】
【実施例】
本願に組み込まれて明細書の一部を成す添付の図面は、本発明を図示しており、明細書とともに本発明の基本を説明し、関連技術の技術者が本発明を作製および使用することを可能にする。
【0013】
ここで添付した図面を参照にして本発明を説明する。図では同じ参照番号は同一または機能的に類似した素子を指す。さらに参照番号の最も左の数字は、この参照番号がはじめてあらわれた図を示している。
【0014】
図1には本発明の実施例に相応する、サブストレート116(例えばウェハ)の露光中に光102と相互作用するシステム100が示されている。光源104(例えばレーザ)は例えばエキシマレーザまたは深UVエキシマレーザである。ある実施形態ではビーム調節器108内のマルチプレクサ106は光102を受光する。ビーム調節器108は照明光学系110に光を出力する。この照明光学系によって順に光はマスクまたはレチクル112を通って、投影光学系114を介してサブストレート(例えばウェハ)116上に透過される。このシステムに対する一つの実施形態は、リソグラフィシステムまたはそれと同様のものである。他の実施形態はホログラフィシステムである。
【0015】
図2には本発明の実施形態に相応する、照明光学系110内のリレーレンズ200が示されている。リレーレンズ200は境界面202と、第1のレンズ群204(例えば前面部分)と、アパーチャストップ(例えば可変アパーチャストップ)206と、第2のレンズ群208(例えば中間部分)と、フォールドミラー(fold mirror)210と、第3のレンズ群212(例えば視野部分)と、レチクル面216を有するレチクル214とを有する。第1のレンズ群204はメニスカスレンズと、非球面を備えるレンズとを有することができる。図2に示された実施形態では、第2のレンズ群208および第3のレンズ群212のそれぞれが単レンズエレメントのみを有している。第2のレンズ群208は、1つの非球面(これは凸面でもよい)を備える単レンズを有する。第3のレンズ群212は球面を備える単レンズを有する。
【0016】
さらに図2を参照すると、第1のレンズ群204(例えばリレーレンズ200の前面部分)は3つのレンズを有する。すなわちペッツバルの和の補正に使用される、対象軸点と同軸の第1の面を有する前面の厚いメニスカスレンズと、NAの低減に使用される他の2つのレンズである。第2のレンズ群208(例えばリレーレンズ200の中間部分)は非球面を有する1つのレンズ(または以下で扱う図3〜4に示された実施形態における2〜3つのレンズ)を有する。第2のレンズ群208内のこの1つのレンズは、アパーチャストップ206の後に配置されており、以下の機能のうちの1つまたはそれ以上を実行することができる。すなわち瞳収差補正、瞳形状補正(楕円性)およびレチクルスペースにおけるテレセントリック性の補正である。第3のレンズ群212(例えばリレーレンズ200の視野部分)は1つのレンズを有することができる。第3のレンズ群212のこの1つのレンズは、以下の機能のうちの1つまたはそれ以上を実行することができる。すなわちレチクル面での本質的な視野サイズの形成および、このレンズが非球面を有しているのならばテレセントリック性の補正である。
【0017】
再び図2を参照すると運転中に光ビームは境界面202によって受光され、第1のレンズ群204によって拡大されてかつ視準される。拡大されて視準されたビームのサイズはアパーチャストップ206によってコントロールされる。拡大されて視準されたビームの、レチクル214上のフォーカスポジションは第2のレンズ群208、第3のレンズ群212によって、または第2のレンズ群208および第3のレンズ群212の両方によってコントロールされる。
【0018】
リレーレンズ200をよりコンパクトにかつ経済的な方法で製造するために、フォールディングミラー210を使用することができる。ある実施形態ではこれはオプショナルである。リレーレンズ200は、境界面202をレチクル面216上に所定の倍率で結像する。境界面202からのテレセントリックビームは、レチクル214上のテレセントリックビームに変換される。リレーレンズ200は、レチクル面の照明の均一性および瞳形状の非楕円性を提供する。
【0019】
一つの実施例では、リレーレンズ200は以下のデータに従って構成される。
【0020】
【表3】
Figure 0004159936
【0021】
システム100の特徴に応じて、本発明の選択的な実施形態で第2のレンズ群208’または208’’および第3のレンズ群212のうちの1つだけが、レンズを1つだけ有してもよい。しかし有利には第2のレンズ群208も第3のレンズ群212もそれぞれレンズを1つだけ有する。設計書が第2のレンズ群208または第3のレンズ群212どちらかが1つより多いレンズを有することを指図する場合、有利には第3のレンズ群212がレンズを1つだけ持ち続ける。図3および図4には、択一的な2つの可能な構成が例として示されている。
【0022】
図3では第2のレンズ群208’が2つのレンズを有する。これらのレンズは少なくとも1つの非球面を各レンズ上に有している。
【0023】
図4では第2のレンズ群208’’が3つのレンズを有する。第2のレンズ群208’’内の3つのレンズのうちの少なくとも2つは、少なくとも1つの非球面を有する。
【0024】
システム100の所望の特徴によって指図されたこのような択一的な実施形態においても、リレーレンズ200は従来のシステムに比べて少数の光学エレメントを持ち続ける。これによってコストダウンが維持される。他の所望の特徴に基づいたさらなる他の構成が可能であり、それら全ては本発明の範囲内で考えられることを理解されたい。
【0025】
本発明の様々な実施形態を上で示したが、これらの実施形態は例として示しただけであって、これに制限されないことを理解されたい。上述した実施形態の形態および詳細における様々な変化が、本発明の概念及び範囲を逸脱せずに行われるであろうことは関連技術の当業者に理解されるであろう。従って本発明の幅および範囲は、上述のいかなる実施形態にも制限されるものではなく、特許請求の範囲およびそれらと等価なものに従ってのみ規定されるべきである。
【0026】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態に従ったリソグラフィシステムの例をあらわす概略図である。
【図2】図1のリソグラフィシステム内のリレーレンズシステムまたはREMA対物レンズシステムの例をあらわす概略図である。
【図3】図1のリソグラフィシステム内のリレーレンズシステムまたはREMA対物レンズシステムの例をあらわす概略図である。
【図4】図1のリソグラフィシステム内のリレーレンズシステムまたはREMA対物レンズシステムの例をあらわす概略図である。
【符号の説明】
102 光
104 レーザ
106 マルチプレクサ
108 ビーム調節器
110 照明光学系
112 レチクル
114 投影光学系
116 ウェハ
200 リレーレンズ
202 境界面
204 第1のレンズ群
206 アパーチャストップ
208 第2のレンズ群
210 フォールドミラー
212 第3のレンズ群
214 レチクル
216 レチクル面

Claims (1)

  1. リソグラフィシステムの境界面とレチクル面との間に配置されたリレーレンズシステムであって、
    3つのレンズを有し、受光した放射ビームのNAを低減させる第1のレンズ群と、
    少なくとも1つのレンズを有し、前記第1のレンズ群からの放射ビームを受光し、瞳面における放射ビームの特性を制御する第2レンズ群と、
    単レンズからなり、前記第2のレンズ群からの放射ビームを受光し、前記レチクル面における放射ビームの視野特性を制御する第3のレンズ群と、
    前記第1のレンズ群と前記第2のレンズ群との間に配置されたアパーチャストップと、
    前記第2のレンズ群と前記第3のレンズ群との間に配置されたフォールドミラーと、
    を有し、
    以下のデータ
    Figure 0004159936
    に従って構成されている、リレーレンズシステム。
JP2003194430A 2002-07-09 2003-07-09 リソグラフィシステムの照明システムで使用されるリレーレンズ Expired - Fee Related JP4159936B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US39424402P 2002-07-09 2002-07-09
US10/607,193 US7289277B2 (en) 2002-07-09 2003-06-27 Relay lens used in an illumination system of a lithography system

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2004046189A JP2004046189A (ja) 2004-02-12
JP2004046189A5 JP2004046189A5 (ja) 2005-06-16
JP4159936B2 true JP4159936B2 (ja) 2008-10-01

Family

ID=29740281

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003194430A Expired - Fee Related JP4159936B2 (ja) 2002-07-09 2003-07-09 リソグラフィシステムの照明システムで使用されるリレーレンズ

Country Status (8)

Country Link
US (1) US7289277B2 (ja)
EP (1) EP1380871B1 (ja)
JP (1) JP4159936B2 (ja)
KR (2) KR20040005677A (ja)
CN (1) CN1328608C (ja)
DE (1) DE60306042T2 (ja)
SG (1) SG105008A1 (ja)
TW (1) TWI301564B (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100426462C (zh) * 2005-02-03 2008-10-15 日立笠户机械股份有限公司 图案形成方法
CN100388014C (zh) * 2005-05-16 2008-05-14 中强光电股份有限公司 侧向照明式透镜组
GB0800677D0 (en) * 2008-01-16 2008-02-20 Zeiss Carl Smt Ag Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
CN103293863B (zh) * 2012-02-24 2015-11-18 上海微电子装备有限公司 一种光刻照明系统
CN104777609B (zh) * 2015-04-03 2018-07-13 中国科学院上海光学精密机械研究所 光刻机照明光瞳偏振态测量用光学系统
US11442254B2 (en) 2019-04-05 2022-09-13 Inner Ray, Inc. Augmented reality projection device

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US36832A (en) * 1862-11-04 Improvement in friction-couplings
JPH03230112A (ja) * 1990-02-05 1991-10-14 Minolta Camera Co Ltd 投影レンズ系
US5402267A (en) * 1991-02-08 1995-03-28 Carl-Zeiss-Stiftung Catadioptric reduction objective
USRE38438E1 (en) * 1994-08-23 2004-02-24 Nikon Corporation Catadioptric reduction projection optical system and exposure apparatus having the same
US6680803B2 (en) * 1996-12-21 2004-01-20 Carl-Zeiss Smt Ag Partial objective in an illuminating systems
DE19653983A1 (de) * 1996-12-21 1998-06-25 Zeiss Carl Fa REMA-Objektiv für Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlagen
US5969882A (en) 1997-04-01 1999-10-19 Nikon Corporation Catadioptric optical system
EP1037267A4 (en) * 1997-11-07 2005-05-18 Nikon Corp PROJECTION EXPOSURE DEVICE, PROJECTION EXPOSURE METHOD AND METHOD FOR PRODUCING A PROJECTION EXPOSURE DEVICE
JP2000143278A (ja) 1998-11-10 2000-05-23 Nikon Corp 耐久性の向上された投影露光装置及び結像光学系の製造方法
JP4432153B2 (ja) * 1999-08-03 2010-03-17 株式会社ニコン ズームレンズ
EP1115019A3 (en) 1999-12-29 2004-07-28 Carl Zeiss Projection exposure lens with aspheric elements
JP2002055277A (ja) * 2000-08-11 2002-02-20 Nikon Corp リレー結像光学系、および該光学系を備えた照明光学装置並びに露光装置
DE10113612A1 (de) 2001-02-23 2002-09-05 Zeiss Carl Teilobjektiv in einem Beleuchtungssystem
JP3985937B2 (ja) * 2001-07-10 2007-10-03 オリンパス株式会社 蛍光用顕微鏡対物レンズ

Also Published As

Publication number Publication date
SG105008A1 (en) 2004-07-30
EP1380871B1 (en) 2006-06-14
JP2004046189A (ja) 2004-02-12
KR20040005677A (ko) 2004-01-16
KR20070093380A (ko) 2007-09-18
EP1380871A2 (en) 2004-01-14
TW200500819A (en) 2005-01-01
CN1328608C (zh) 2007-07-25
US20040008408A1 (en) 2004-01-15
CN1495461A (zh) 2004-05-12
US7289277B2 (en) 2007-10-30
KR100888011B1 (ko) 2009-03-09
EP1380871A3 (en) 2004-03-03
DE60306042T2 (de) 2006-11-02
TWI301564B (en) 2008-10-01
DE60306042D1 (de) 2006-07-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4070257B2 (ja) 高開口数リングフィールド光学縮小系
US7446952B2 (en) Catadioptric projection objective
USRE38421E1 (en) Exposure apparatus having catadioptric projection optical system
US7006304B2 (en) Catadioptric reduction lens
US6366410B1 (en) Reticular objective for microlithography-projection exposure installations
KR101500784B1 (ko) 색 보정된 반사굴절 대물부 및 이를 포함하는 투영 노광 장치
JP2005233979A (ja) 反射屈折光学系
US20060126048A1 (en) Projection optical system and exposure apparatus having the same
KR20000011933A (ko) 카타다이옵트릭광학시스템및그를구비한노광장치
JP2001185480A (ja) 投影光学系及び該光学系を備える投影露光装置
JPH09197270A (ja) マイクロリソグラフィ用投影露光装置のrema対物レンズ
US7965453B2 (en) Projection objective and projection exposure apparatus including the same
US7203010B2 (en) Catadioptric projection objective
JPH1197344A (ja) 投影光学系、該光学系を備えた露光装置、及び該装置を用いたデバイスの製造方法
KR100888011B1 (ko) 리소그래피 시스템의 조명 시스템에서 사용되는 릴레이렌즈
TWI572904B (zh) 對紫外線損傷具低感受性之Wynne-Dyson投射透鏡
EP1522893B1 (en) Illumination optical system and exposure apparatus having the same
JP5476591B2 (ja) マイクロリソグラフィ用投影対物レンズ
JPH1010429A (ja) 2回結像光学系
US11003086B2 (en) Illumination optical device for projection lithography
TW202333001A (zh) 投影透鏡、投影曝光裝置及投影曝光方法
TW202334759A (zh) 投影透鏡、投影曝光裝置及投影曝光方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040922

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040922

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20060914

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20060915

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20060904

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20071015

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20071228

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20080128

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080424

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20080603

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080630

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080716

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4159936

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110725

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120725

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130725

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees