JP5511199B2 - 投影光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、投影光学系、露光装置、およびデバイス製造方法に関する。

解像力を向上させるために、ダブルパターニング技術が提案されている。ダブルパターニング技術とは、一回の露光では解像不可能な微細パターンを解像可能になるように分割し、その分割したパターンを別々に露光する技術のことである。

所望のパターンを得るために複数回の露光が必要であるため、ダブルパターニング技術を使用するとデバイスの生産性が低下してしまう。このため、ダブルパターニング技術を使用する露光装置には生産性の向上が求められている。露光装置の生産性を向上させるためには、露光光源のパワーを増やせば良い。しかし、露光光源のパワーを増やすと、露光装置にかかる露光負荷も増えてしまう。特に、投影光学系へ露光負荷がかかると、投影光学系を構成する光学素子の屈折率変化や光学素子の表面形状変形が露光熱によって生じる。その結果、投影光学系の収差が変化してしまい、投影光学系の結像性能が劣化してしまう。

そこで、投影光学系を構成する光学素子の光軸方向への駆動や、光軸に対する傾けにより露光負荷起因の投影光学系の収差（露光収差）を補正することが提案されている。特許文献１には、投影光学系を構成する光学素子を変形させることで、露光収差を補正することが記載されている。レンズの周囲に複数の圧電素子を配置し、圧電素子でレンズを変形することにより露光収差を補正している。特許文献２には、投影光学系の開口絞り近傍のレンズまたは物体面近傍のレンズを変形させることで、製造時の誤差起因の収差を補正することが記載されている。特許文献３には、投影光学系のレンズを変形させることで、高次収差を補正することが記載されている。

特表２００２−５１９８４３号公報 特開平１０−０３９２０８号公報 特表２００８−５４６００７号公報

近年は、露光収差のうち視野における位置に依存する（像高に依存する）高次の瞳内非対称収差を無視できなくなってきている。高次の瞳内非対称収差が大きい場合、重ね合わせの精度が劣化してしまう。高次の瞳内非対称収差とは、投影光学系の瞳内で（２ｍ−１）回回転対称(ｍ≧４)の収差のことである。

従来技術のように、レンズを光軸方向へ駆動したり、傾けたりすることでは、低次の収差しか補正できない。特許文献１や特許文献２のように、開口絞り近傍のレンズを変形することで、高次の収差を補正できる。しかし、像高に依存しない収差成分に限定されてしまう。また、レンズに与えた変形成分と同じ収差成分しか補正ができない。特許文献２のように、物体面近傍のレンズを変形することでは、歪曲収差や像面湾曲しか主に補正できない。特許文献３では、高次の収差を補正しているが、補正する対象の収差の比率を制御するために複数のレンズを変形させている。複数のレンズを変形させると、変形必要精度が厳しくなったり、投影光学系の鏡筒構造が複雑になってしまう。

そこで、本発明は、像高に依存する高次の瞳内非対称収差を効率良く補正することが可能な投影光学系を提供することを例示的な目的とする。

本発明の一側面としての投影光学系は、第１物体の像を第２物体に投影する投影光学系において、複数の光学素子と、前記複数の光学素子のうち、０．７５＜ＥＡ／ＥＡ０＜０．９５を満たす光学素子に力を加えることで、その光学素子を変形する変形手段と（ただし、ＥＡ０は当該光学素子の有効径を、ＥＡは当該光学素子の軸上光束径を示す）、前記変形手段を制御する制御部と、を有し、前記光学素子の外周部のｎ箇所（ｎ≧４）は、固定されており、前記変形手段は、ｎ個のアクチュエータを含み、そのｎ個のアクチュエータは、前記固定されているｎ箇所とは異なる前記外周部の他のｎ箇所に力を加え、前記制御部は、そのｎ個のアクチュエータのそれぞれを独立に制御し、前記変形手段で前記光学素子を変形することで、前記投影光学系の像高に依存する収差および前記投影光学系の像高に依存しない収差を同時に低減することを特徴とする投影光学系。

本発明の一側面としての投影光学系によれば、像高に依存する高次の瞳内非対称収差を効率良く補正することが可能となる。

本発明の実施形態の露光装置の図である。 本発明の実施形態の変形光学素子の図である。 本発明の実施例の投影光学系の図である。 ４個のアクチュエータで同じ力を加えて変形光学素子ＬＥ１６１を変形させたときに変化する投影光学系の収差を示した図である。 ４個のアクチュエータで異なる力を加えて変形光学素子ＬＥ１６１を変形させたときに変化する投影光学系の収差を示した図である。 ４個のアクチュエータで異なる力を加えて変形光学素子ＬＥ１６１を変形させたときに変化する投影光学系の収差を示した図である。 ４個のアクチュエータで同じ力を加えて変形光学素子ＬＥ１６２を変形させたときに変化する投影光学系の収差を示した図である。 ４個のアクチュエータで同じ力を加えて変形光学素子ＬＥ１６３を変形させたときに変化する投影光学系の収差を示した図である。 ６個のアクチュエータで同じ力を加えて変形光学素子ＬＥ１６１を変形させたときに変化する投影光学系の収差を示した図である。

以下に、本発明の実施形態を添付の図面に基づいて詳細に説明する。

図１は、本発明の一実施形態の露光装置１００の図である。

露光装置１００は、露光光源１、照明光学系、投影光学系１６およびウエハステージ１７を有する。照明光学系は露光光源１からの露光光でレチクル１５を照明する。投影光学系１６は、原版としてのレチクル（第１物体）１５のパターン像をウエハ（第２物体、基板）１７に投影する。ウエハステージ１９は、ウエハ１７を保持し、移動する。感光基板としてのウエハ１７には、レジストが塗布されている。

照明光学系は、平行平面板２、減光フィルタ３、マイクロレンズアレイ４、オプティカルロッド５、計算機ホログラム６１，６２、コンデンサレンズ７、変倍リレー光学系８、位相板９、ハエノ目レンズ１０、コンデンサレンズ１１およびリレー光学系１４を有する。また、照明光学系は、ハーフミラー１２、照度計１３を有する。露光量制御部２０は、ウエハステージ１９上に配置された照度計１８の出力と照度計１３の出力との比に基づいて、照度計１３をモニタして、露光量を制御する。

投影光学系１６は、複数の光学素子（レンズ）および投影光学系制御部１１１を有する。

投影光学系１６を構成する複数の光学素子のうち下記の条件式（１）を満たす光学素子を変形光学素子ＬＥとする。
０．７５＜ＥＡ／ＥＡ０＜０．９５・・・（１）

ＥＡ０は複数の光学素子のそれぞれの有効径を示す。ＥＡは複数の光学素子のそれぞれの軸上光束径を示す。軸上光束径とは、物体面の有効領域の中心（例えば、光軸上）から射出した光束が透過する光学素子上の径のことである。変形光学素子ＬＥの外周部には、変形光学素子ＬＥを変形する変形手段としてのアクチュエータが、周方向に３６０／ｎ度の等しいピッチでｎ個配置されている。ｎ個のアクチュエータは、変形光学素子ＬＥの外周部に力を加えることで、変形光学素子ＬＥをｎ回回転対称に変形することが可能に構成されている。変形光学素子ＬＥの外周部に力を加えたときに、変形光学素子ＬＥ全体が移動しないように、変形光学素子ＬＥの外周部の他のｎ箇所は固定されている。その固定されているｎ箇所のそれぞれは、隣りあうアクチュエータ間の中心に位置し、３６０／ｎ度の等しいピッチで配置されている。

投影光学系制御部１１１は、アクチュエータを制御して変形光学素子ＬＥを変形することで、投影光学系の収差を低減する。露光装置制御部１１０は、露光量制御部２０および投影光学系制御部１１１を制御する。

次に、条件式（１）について説明する。まず、ＥＡ／ＥＡ０が０．７５以下となる位置に配置した光学素子を変形した場合を考える。この場合、その光学素子を透過する光束が小さいため、所望の瞳内の高次収差を補正しづらくなってしまう。また、物体面上の複数像高から射出した光束の主光線は、その光学素子を透過する際に過度にバラつくため、その光学素子を変形させると所望としない高次のディストーションが大きく発生してしまう。

ＥＡ／ＥＡ０が０．９５以上となる位置に配置した光学素子をｎ回回転対称に変形した場合を考える。この場合、瞳内の変形と同じｎ回回転対称の収差であって、像高に依存しない収差しか補正できない。したがって、投影光学系への露光負荷によって生じる像高に依存する高次の瞳内非対称収差を補正できない。

条件式（１）を満たす位置に配置された光学素子をｎ回回転対称に変形させた場合を考える。物体面上の各像高から射出し、その光学素子を通過する光束は、その光学素子の有効径に対してある程度の大きさを持っているので高次の収差を効率良く補正できる。また、物体面上の複数像高から射出した光束の主光線のばらつきがあまり大きくないため、所望としない高次のディストーションの発生は小さい。一方、物体面上の複数像高から射出した光束が適度にばらついているため、像高に依存する収差を発生させることが可能となる。具体的には、その光学素子をｎ回回転対称に変形させた場合、瞳内でｎ回回転対称であり、像高に依存しない収差を補正できる。同時に、瞳内で（ｎ−１）回回転対称であり像高に依存する収差、および瞳内で（ｎ＋１）回回転対称であり像高に依存する収差も補正することも可能となる。

ここで、ｎ＝４の場合を例として考える。ｎ＝４の場合には、瞳内の４回回転対称収差（４θ成分）の像高に依存しない成分と同時に、瞳内の３回回転対称収差（３θ成分）の像高に依存する成分および５回回転対称収差（５θ成分）の像高に依存する成分を補正することが可能となる。このように変形光学素子の変形箇所（アクチュエータを配置する箇所）を偶数にすることで、３つの収差成分を補正することが可能となる。その３つの収差成分とは、瞳に対してｎ回回転対称の収差の像高に依存しない成分と、瞳に対して（ｎ−１）回回転対称の収差の像高に依存する高次非対称成分と、瞳に対しての（ｎ＋１）回回転対称の収差の像高に依存する高次非対称成分のことである。

また、変形光学素子ＬＥに外力を加えるｎ個のアクチュエータは、互いに異なる変形量だけ変形光学素子ＬＥを変形させることができるように、独立に制御できるように構成されている。ｎ個のアクチュエータによる変形量がそれぞれ同じ場合、瞳に対する各収差成分（ｎ回回転対称収差、（ｎ−１）回回転対称収差、（ｎ＋１）回回転対称収差）の発生量の比率は常に等しくなる。しかし、変形光学素子ＬＥに外力を加えるｎ個のアクチュエータを独立に制御して、互いに異なる変形量だけ変形光学素子ＬＥを変形させるようにすることで、各収差成分の発生量の比率を変更することが可能となる。

図２は、本発明の一実施形態の変形光学素子ＬＥの図である。変形光学素子ＬＥの外周部の４箇所に、駆動部としてのアクチュエータ２０３Ａ〜Ｄが９０度ピッチで配置されている。内側保持部材２０２は、外側保持部材２０５の内側に保持され、４箇所の固定部２０１で変形光学素子ＬＥを固定して保持するものである。弾性部材２０４は、外側保持部材２０５と内側保持部材２０２との間の複数箇所に配置されている。弾性部材２０４は、変形光学素子の半径方向に変形を吸収し、光軸方向および接線方向には高剛性を持つ。弾性部材２０４としては、ばねを使用することができる。アクチュエータ２０３Ａ〜Ｄは、内側保持部材２０２の周方向に９０度ピッチで４箇所に配置されており、変形光学素子２０１に所望の変位または所望の荷重を与えるように構成されている。
以下に、本実施形態の実施例について説明する。

図３に実施例１の投影光学系１６を示す。本実施例の投影光学系１６の諸元を表１に示し、投影光学系１６が有する非球面の形状を表２、表３に示す。なお、非球面の形状は、下記の式（２）で表されるものとする。
Ｘ＝（Ｌ^２／４）／（１＋（（１−（１＋ｋ）・（Ｌ／ｒ）^２））^１／２）＋ＡＬ^４＋ＢＬ^６＋ＣＬ^８＋ＤＬ^１０＋ＥＬ^１２＋ＦＬ^１４＋ＧＬ^１６＋ＨＬ^２０・・・（２）

ここで、Ｘはレンズ頂点から光軸方向への変位量、Ｌは光軸からの距離、ｋは円錐定数、Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅ，Ｆ，ＧおよびＨは非球面係数である。投影光学系１６のＮＡ（開口数）は０．９３、倍率は１／４、最大像高は５２ｍｍである。実際には像面側の寸法で１２ｍｍ×８ｍｍのスリット状の有効領域（スリット領域）を使用する。また、光学素子の材料としてはすべて石英を使用している。ここでは、石英のヤング率は７０ＧＰａ、剛性率３０ＧＰａ、ポアソン比０．１８としている。

図３のＬＥ１６１は変形光学素子である。変形光学素子ＬＥ１６１には、図２のように外周部の４方位にアクチュエータが配置されており外力を加えレンズを４回回転対称に変形させることが可能となっている。投影光学系１６のスリット領域の長手方向と図２の２０３Ａと２０３Ｃとを結ぶ線が同じ方向になるように設定されている。

まず、変形光学素子ＬＥ１６１を考える。変形光学素子ＬＥ１６１は、ＥＡ／ＥＡ０が０．９４の位置に配置されており、式（１）を満たす。４箇所のアクチュエータ２０３Ａ〜Ｄによって各点に２．１Ｎの力を加え、変形光学素子ＬＥ１６１を４回回転対称に変形させたときの収差変化量を図４に示す。ここで、アクチュエータ２０３Ａ〜Ｄの力は、投影光学系の像面ｉｍｇから物体ｏｂｊ方向への力をプラス、物体面ｏｂｊから像面ｉｍｇ方向への力をマイナスとしている。また、アクチュエータ２０３Ａ〜Ｄは、ＬＥ１６１の有効径よりも２．５ｍｍ外側の位置に力を加えている。図４の各グラフは、横軸が像高位置、縦軸がＺｅｒｎｉｋｅ収差を表している。ここで、Ｚｅｒｎｉｋｅ収差とは、瞳面内での収差変動量をＺｅｒｎｉｋｅ多項式でフィッティングした各係数のことである。なお、Ｚｅｒｎｉｋｅ多項式は、座標系として極座標（Ｒ、θ）を用い、直行関数系としてフリンジＺｅｒｎｉｋｅ円筒関数を用いたものである。また、収差変動量Ｗ（Ｒ、θ）は、下記の式（３）で表される。
Ｗ（Ｒ，θ）＝ΣＣｉ・Ｚｉ・・・（３）

ここで、Ｃｉは、Ｚｅｒｎｉｋｅ多項式の各項の係数である。また、Ｚｉは、Ｚｅｒｎｉｋｅ円筒関数である。３つのグラフはそれぞれ、Ｚｅｒｎｉｋｅ収差の瞳に対して３回回転対称の３θ成分、瞳に対して４回回転対称の４θ成分、および瞳に対して５回回転対称の５θ成分を表している。

変形光学素子ＬＥ１６１を４回回転対称に変形させた場合、瞳に対して４回回転対称成分の収差Ｃ１７，Ｃ２８の像高一律の高次対称収差成分が変化している。また、瞳に対して３回回転対称成分の収差Ｃ１０，Ｃ１９の像高一次成分の高次非対称収差が変化している。更に、瞳に対して５回回転対称成分のＣ２６の像高一次成分の高次非対称収差が変化している。このように、変形光学素子ＬＥ１６１を４回回転対称変形することで、瞳に対しての４θ成分の像高一律成分と、瞳に対しての３θ成分の像高一次成分、及び瞳に対して５θ成分の像高一次成分の補正が可能となる。

更に、４箇所のアクチュエータ２０３Ａ〜Ｄで異なる力を加えて、変形光学素子ＬＥ１６１を変形させたときの収差変化を図５に示す。このとき、アクチュエータ２０３Ａは３．６Ｎ、アクチュエータ２０３Ｂは０．５４Ｎ、アクチュエータ２０３Ｃは３．６Ｎ、アクチュエータ２０３Ｄは３．６Ｎの力を変形光学素子ＬＥ１６１に加えている。４箇所のアクチュエータによって同じ力を加えて変形光学素子ＬＥ１６１を変形させたときの収差変化を示す図４と比較して、瞳に対して４回回転対称の収差成分と３回回転対称の収差成分と５回回転対称の収差成分の発生比率が異なっていることがわかる。

更に、アクチュエータ２０３Ａは４．７Ｎ、アクチュエータ２０３Ｂは２．４Ｎ、アクチュエータ２０３Ｃは４．７Ｎ、アクチュエータ２０３Ｄは−３．５Ｎの力を、変形光学素子ＬＥ１６１に加えたときの収差変化を図６に示す。図４および図５と比較して、瞳に対して４回回転対称の収差成分と３回回転対称の収差成分と５回回転対称の収差成分の発生比率が異なっていることがわかる。このように、補正対象の収差の各成分の比率に応じて、駆動２０３Ａ〜Ｄそれぞれのレンズ変形量を決定すれば良い。

次に、図３のＬＥ１６１の代わりにＬＥ１６２が変形光学素子であった場合を考える。変形光学素子ＬＥ１６２は、ＥＡ／ＥＡ０が０．９８となり、式（１）を満たさない光学素子である。図２のように、外周部の４箇所に配置されたアクチュエータ２０３Ａ〜Ｄで変形光学素子ＬＥ１６２に外力を加え、変形光学素子ＬＥ１６２を４回回転対称に変形させた場合の収差変化量を図７に示す。この場合、瞳に対して４回回転対称の収差成分Ｃ１７，Ｃ２８の像高一律の高次対称収差成分は変化している。一方、瞳に対して３回回転対称の収差成分Ｃ１０，Ｃ１９の高次非対称収差はほとんど変化していない。また、瞳に対して５回回転対称の収差成分Ｃ２６の高次非対称収差もほとんど変化していない。このように、式（１）を満たさない光学素子を変形させても像高に依存する瞳内非対称収差を補正することはできない。

次に、図３のＬＥ１６１の代わりにＬＥ１６３が変形光学素子であった場合を考える。変形光学素子ＬＥ１６３は、ＥＡ／ＥＡ０が０．７２であり、式（１）を満たさない光学素子である。アクチュエータ２０３Ａ〜Ｄによって、各点に変形光学素子ＬＥ１６１の時と同じ２．１Ｎの力を加え、変形光学素子ＬＥ１６３を４回回転対称に変形させたときの収差変化量を図８に示す。ＬＥ１６１を４回回転対称に変形させた時の収差変化を示す図４と比較すると、瞳に対して４回回転対称の収差成分、３回回転対称の収差成分、および５回回転対称の収差成分の発生量がともに小さい。これは変形光学素子ＬＥ１６３を通過する光束が小さく、高次の収差成分が発生しずらいためである。このため、投影光学系１６の収差を補正しようとすると、アクチュエータ２０３Ａ〜Ｄで非常に大きな力を変形光学素子ＬＥ１６３に加える必要が生じる。この場合、変形光学素子ＬＥ１６３内に大きな応力歪が生じ、変形光学素子ＬＥ１６３の内部に複屈折が発生し、投影光学系１６の結像性能が低下してしまう。

本実施例では、図３の投影光学系１６の変形光学素子ＬＥ１６１の外周部の６箇所にアクチュエータを配置している。６箇所のアクチュエータで外力を加えることにより、変形光学素子ＬＥ１６１を６回回転対称に変形させている。

６個のアクチュエータは、変形光学素子ＬＥ１６１の周方向に６０度の等しいピッチで配置されている。また、各アクチュエータの中間には、固定端が６箇所、等ピッチで配置されている。それ以外の構成は、図２の機構と同じで良い。

６個のアクチュエータで９．３Ｎの力を加え、変形光学素子ＬＥ１６１を６回回転対称に変形させたときの収差変化量を図９に示す。この場合、瞳に対して６回回転対称の収差成分Ｃ３７の像高一律の高次対称収差成分が変化している。また、５回回転対称成分Ｃ２６，Ｃ３９の像高一次成分の高次非対称収差が変化している。更に、７回回転対称成分Ｃ５０の像高一次成分の高次非対称収差が変化している。このように、変形光学素子ＬＥ１６１を６回回転対称に変形することで、瞳に対しての６θ成分の像高一律成分、瞳に対しての５θ成分の像高一次成分および瞳に対して７θ成分の像高一次成分の補正が可能となる。

なお、以上の実施例では、複数のアクチュエータで変形光学素子に異なる力を加える際に、その複数の全てのアクチュエータを使い変形光学素子に力を加えていたが、一部のアクチュエータを使わないことも可能である。

つぎに、本発明の一実施形態のデバイス（半導体デバイス、液晶表示デバイス等）の製造方法について説明する。ここでは、半導体デバイスの製造方法を例に説明する。

半導体デバイスは、ウエハに集積回路を作る前工程と、前工程で作られたウエハ上の集積回路チップを製品として完成させる後工程を経ることにより製造される。前工程は、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたウエハを露光する工程と、ウエハを現像する工程を含む。後工程は、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）と、パッケージング工程（封入）を含む。なお、液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板に感光剤を塗布する工程と、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたガラス基板を露光する工程と、ガラス基板を現像する工程を含む。

本実施形態のデバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。

以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。

例えば、以上の実施形態では光学素子を変形させて収差を補正していたが、その代わりに、レジストを感光しない光（例えば、赤外線）を光学素子に照射して、光学素子に熱分布を加えても良い。光学素子に熱分布を加えることで光学素子に屈折率分布が発生し、投影光学系の収差を変えることができる。条件式（１）を満たす光学素子にｎ回回転対称の屈折率分布が生じるように赤外線を照射することで、光学素子をｎ回回転対称に変形させたときと同じ効果を得ることが可能となる。

１００ 露光装置
１６ 投影光学系
ＬＥ 変形光学素子
２０１ 固定部
２０３ 駆動部

Claims (10)

1. 第１物体の像を第２物体に投影する投影光学系において、
   複数の光学素子と、
   前記複数の光学素子のうち、０．７５＜ＥＡ／ＥＡ０＜０．９５を満たす光学素子に力を加えることで、その光学素子を変形する変形手段と（ただし、ＥＡ０は当該光学素子の有効径を、ＥＡは当該光学素子の軸上光束径を示す）、
   前記変形手段を制御する制御部と、を有し、
   前記光学素子の外周部のｎ箇所（ｎ≧４）は、固定されており、
   前記変形手段は、ｎ個のアクチュエータを含み、
   そのｎ個のアクチュエータは、前記固定されているｎ箇所とは異なる前記外周部の他のｎ箇所に力を加え、
   前記制御部は、そのｎ個のアクチュエータのそれぞれを独立に制御し、前記変形手段で前記光学素子を変形することで、前記投影光学系の像高に依存する収差および前記投影光学系の像高に依存しない収差を同時に低減する
   ことを特徴とする投影光学系。
2. 第１物体の像を第２物体に投影する投影光学系において、
   複数の光学素子と、
   前記複数の光学素子のうち、０．７５＜ＥＡ／ＥＡ０＜０．９５を満たす光学素子に力を加えることで、その光学素子を変形する変形手段と（ただし、ＥＡ０は当該光学素子の有効径を、ＥＡは当該光学素子の軸上光束径を示す）、
   前記変形手段を制御する制御部と、を有し、
   前記光学素子の外周部のｎ箇所（ｎ≧４）は、固定されており、
   前記変形手段は、ｎ個のアクチュエータを含み、
   そのｎ個のアクチュエータは、前記固定されているｎ箇所とは異なる前記外周部の他のｎ箇所に力を加え、
   前記制御部は、そのｎ個のアクチュエータのそれぞれを独立に制御し、前記変形手段で前記光学素子の前記他のｎ箇所に力を加えて変形させることで、前記投影光学系の瞳に対して（ｎ−１）回回転対称、ｎ回回転対称、および（ｎ＋１）回回転対称の収差成分を低減する
   ことを特徴とする投影光学系。
3. 前記制御部は、前記光学素子の前記他のｎ箇所に前記ｎ個のアクチュエータで異なる力を加える
   ことを特徴とする請求項１または２に記載の投影光学系。
4. ｎが偶数である
   ことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の投影光学系。
5. 前記他のｎ箇所は、３６０／ｎ度の等しいピッチで配置されている
   ことを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の投影光学系。
6. 前記固定されているｎ箇所は、３６０／ｎ度の等しいピッチで配置されている
   ことを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載の投影光学系。
7. 第１物体の像を第２物体に投影する投影光学系において、
   複数の光学素子と、
   前記複数の光学素子のうち、０．７５＜ＥＡ／ＥＡ０＜０．９５を満たす光学素子に熱分布を加えることで、その光学素子に屈折率分布を与える手段と（ただし、ＥＡ０は当該光学素子の有効径を、ＥＡは当該光学素子の軸上光束径を示す）、
   前記屈折率分布を与える手段で前記光学素子に屈折率分布を与えることで、前記投影光学系の像高に依存する収差および前記投影光学系の像高に依存しない収差を同時に低減する制御部と、を有する
   ことを特徴とする投影光学系。
8. 第１物体の像を第２物体に投影する投影光学系において、
   複数の光学素子と、
   前記複数の光学素子のうち、０．７５＜ＥＡ／ＥＡ０＜０．９５を満たす光学素子に熱分布を加えることで、その光学素子に屈折率分布を与える手段と（ただし、ＥＡ０は当該光学素子の有効径を、ＥＡは当該光学素子の軸上光束径を示す）、
   前記屈折率分布を与える手段で前記光学素子に屈折率分布を与えることで、前記投影光学系の瞳に対して（ｎ−１）回回転対称、ｎ回回転対称、および（ｎ＋１）回回転対称の収差成分を低減する制御部と、を有する
   ことを特徴とする投影光学系。
9. 光源からの光で原版を照明する照明光学系と、
   前記原版のパターンの像を基板に投影する請求項１ないし８のいずれか１項に記載の投影光学系と、を備える
   ことを特徴とする露光装置。
10. 請求項９に記載の露光装置を使用して基板を露光する工程と、
    その露光した基板を現像する工程と、を有する
    ことを特徴とするデバイス製造方法。