DE102022116698B3

DE102022116698B3 - Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie

Info

Publication number: DE102022116698B3
Application number: DE102022116698.8A
Authority: DE
Inventors: Markus Raab; Andreas Raba; Matthias Manger; Mirko Buechsenschuetz
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2022-07-05
Filing date: 2022-07-05
Publication date: 2023-09-21
Anticipated expiration: 2042-07-06
Also published as: US20240012334A1

Abstract

Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage (101) mit mindestens einem optischen Element (117), wobei das optische Element (117) einen Grundkörper (30) und mindestens einen Aktuator (33) zur Deformation einer auf dem Grundkörper ausgebildeten optischen Wirkfläche (31) umfasst, wobei der mindestens eine Aktuator (33) in einer Ausnehmung in der Rückseite des Grundkörpers angeordnet ist und derart mit dem Grundkörper (30) in mechanischer Verbindung steht, dass er die von ihm ausgeübte Kraft über seitliche Begrenzungsflächen der Ausnehmung (34) ausübt.

Description

Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1.
In derartigen Projektionsbelichtungsanlagen werden mikroskopisch kleine Strukturen mittels fotolithographischer Verfahren ausgehend von einer Maske als Vorlage stark verkleinernd auf einen mit Fotolack beschichteten Wafer abgebildet. In nachfolgenden Entwicklungs- und weiteren Bearbeitungsschritten werden die gewünschten Strukturen wie beispielsweise Speicher-oder Logikelemente auf dem Wafer erzeugt, welcher danach in einzelne Chips zum Einsatz in elektronischen Geräten aufgeteilt wird.
Aufgrund der ausgesprochen kleinen zu schaffenden Strukturen bis in den Nanometerbereich stellen sich extreme Anforderungen an die Optiken der Projektionsbelichtungsanlagen und damit an die verwendeten optischen Elemente. Darüber hinaus treten im Betrieb einer entsprechenden Anlage regelmäßig Abbildungsfehler auf, welche oftmals von sich ändernden Umgebungsbedingungen wie beispielsweise Temperaturänderungen in der Optik herrühren.
Typischerweise wird dieser Problematik dadurch begegnet, dass die verwendeten optischen Elemente wie beispielsweise Linsen oder Spiegel bewegbar oder auch deformierbar ausgebildet sind, um die angesprochenen Abbildungsfehler während des Betriebes der Anlage korrigieren zu können. Hierzu werden in der Regel mechanische Aktuatoren verwendet, welche beispielsweise geeignet sein können, die Oberfläche eines optischen Elementes, welche zur Abbildung verwendet wird, also die sogenannte optische Wirkfläche, gezielt zu deformieren. Diese Deformation kann von der Rückseite eines Grundkörpers des entsprechenden optischen Elementes her vorgenommen werden. Jedoch entstehen durch das Erfordernis, die notwendigen Aktuatoren im Bereich der Rückseite des Grundkörpers anzubringen, weitere Herausforderungen insbesondere im Hinblick auf Bauraum oder auch im Hinblick auf Umgebungseinflüsse, welchen die Aktuatoren ausgesetzt sind. Die mechanische Einwirkung der Aktuatoren wird nach dem Stand der Technik typischerweise dadurch ermöglicht, dass sich die Aktuatoren auf einer Rückplatte im rückwärtigen Bereich des Grundkörpers mechanisch abstützen. Durch die Rückplatte selbst entstehen jedoch ebenfalls weitere Nebeneffekte, die sich auf den Konstruktions- und Fertigungsaufwand der entsprechenden Projektionsbelichtungsanlage nachteilig auswirken.
Eine aus dem Stand der Technik bekannte Möglichkeit zur Anordnung von Aktuatoren an der Rückseite optischer Elemente ist in der US-Patentveröffentlichung US 2004/0202898 A1 gezeigt. In der genannten Schrift ist eine Projektionsbelichtungsanlage beschrieben, bei welcher Aktuatoren in Ausnehmungen in einer Rückseite eines Grundkörpers eines optischen Elementes angeordnet sind, wobei die Aktuatoren auf die seitlichen Flächen dieser Ausnehmungen wirken.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie anzugeben, bei welcher eine vereinfachte Anordnung von Aktuatoren zur mechanischen Manipulation optischer Elemente realisiert ist.
Diese Aufgabe wird gelöst durch die Vorrichtungen mit den Merkmalen des unabhängigen Anspruchs 1 und des nebengeordneten Anspruchs 9. Die Unteransprüche betreffen vorteilhafte Weiterbildungen und Varianten der Erfindung.
Eine erfindungsgemäße Projektionsbelichtungsanlage umfasst mindestens ein optisches Element, wobei das optische Element einen Grundkörper und mindestens einen Aktuator zur Deformation einer auf dem Grundkörper ausgebildeten optischen Wirkfläche umfasst. Dabei ist der mindestens eine Aktuator in einer Ausnehmung in der Rückseite des Grundkörpers angeordnet.
Erfindungsgemäß ist die Wirkrichtung des Aktuators zur optischen Wirkfläche zumindest bereichsweise in Normalenrichtung zur optischen Wirkfläche ausgebildet.
In einer Variante der Erfindung kann der Aktuator auch - unabhängig von seiner Wirkrichtung - als Scheraktuator ausgebildet sein.
Unter der Rückseite des Grundkörpers ist dabei diejenige Seite zu verstehen, welche der optischen Wirkfläche abgewandt ist. Der Aktuator ist also entsprechend der Lehre der Erfindung in den Grundkörper integriert, anstatt durch eine Abstützung auf einer etwaigen Rückplatte auf diesen einzuwirken. Der Aktuator stützt sich also am Material des Grundkörpers ab und übt auf diese Weise Kräfte und Momente auf ihn aus. Insbesondere ermöglicht der durch diese Maßnahme erreichte Verzicht auf eine Rückplatte, wegen des dadurch freiwerdenden Bauraums, die Aktuatoren im Vergleich zu einer Lösung mit Rückplatte weiter beanstandet von der optischen Wirkfläche anzuordnen. Dadurch kann erreicht werden, dass die Aktuatoren der Wärmelast des optischen Elements im Betrieb nicht in dem Ausmaß ausgesetzt sind, wie es bei einer Lösung mit Rückplatte der Fall wäre.
Durch die Gestaltung der Rückseite des Grundkörpers eröffnet sich darüber hinaus die Möglichkeit, insbesondere Standardaktuatoren zu verwenden. Darüber hinaus beinhaltet die erfindungsgemäße Lösung den Vorteil, dass dadurch, dass zunächst Ausnehmungen geschaffen werden, welche nachfolgend mit den Aktuatoren ausgefüllt werden, sich die Dynamik des optischen Elementes, also insbesondere eines Spiegels, nicht übermäßig ändert.
Weiterhin besteht die Möglichkeit, den Aktuator bidirektional zu nutzen, so kann der Aktuator beispielsweise mit einer Vorspannung versehen werden, so dass bei Beibehaltung der Polarität allein durch die Wahl der Spannung eine Ausdehnung oder ein Zusammenziehen erreicht werden kann. Die Aktuatoren können als Scheibe oder Ring bzw. als Rahmen oder als vollflächiger Körper ausgebildet sein. Es können beispielsweise piezoelektrische, elektrostriktive, magnetostriktive oder auch photostriktive Aktuatoren zur Anwendung kommen. Die erfindungsgemäße Lösung ohne Rückplatte ermöglicht dabei insbesondere den einfachen Austausch einzelner, gegebenenfalls defekter Aktuatoren.
Auch im Hinblick auf Montagetoleranzen ergeben sich durch die erfindungsgemäße Lösung Vorteile. Die Montagetoleranz hängt nur von der Fertigungsgüte der einzelnen Ausnehmung und von der Fertigungstoleranz (im Besonderen Längentoleranz) des einzelnen Aktuators, der in der jeweiligen Ausnehmung eingesetzt werden soll, ab. Es ist also möglich, die Ausnehmungen und Aktuatoren vor der Montage zu vermessen und die bestmögliche Kombination aus Aktuator und Ausnehmung zu ermitteln.
Der Aktuator steht dabei derart mit dem Grundkörper in mechanischer Verbindung, dass er die von ihm ausgeübte Kraft über seitliche Begrenzungsflächen der Ausnehmung ausübt. Unter den seitlichen Begrenzungsflächen der Ausnehmung sind dabei insbesondere diejenigen Flächen zu verstehen, welche im Wesentlichen normal zur optischen Wirkfläche des optischen Elements verlaufen. In diesem Fall können sowohl Biegemomente als auch Kräfte in Normalenrichtung zu der optischen Wirkfläche in den Grundkörper eingeleitet werden.
Biegemomente können insbesondere dadurch eingeleitet werden, dass die Wirkrichtung des Aktuators zumindest bereichsweise parallel zur optischen Wirkfläche ausgebildet ist. Kräfte in Normalenrichtung zur optischen Wirkfläche können eingeleitet werden, wenn die Wirkrichtung des Aktuators zur optischen Wirkfläche zumindest bereichsweise in Normalenrichtung zur optischen Wirkfläche ausgebildet ist.
Da in diesem Fall die von dem Aktuator ausgeübten Kräfte entlang der Kontaktfläche zwischen Aktuator und seitlicher Begrenzungsfläche wirken, ist dafür Sorge zu tragen, dass entlang der Kontaktfläche eine befriedigende Kraftübertragung ohne Schlupf sichergestellt ist. Dies kann beispielsweise durch eine stoffschlüssige Verbindung, also insbesondere die Verwendung eines Klebstoffs erreicht werden. Hierbei können beispielsweise einkomponentige oder mehrkomponentige Klebstoffe zur Anwendung kommen, deren Aktivierung beim Anmischen geschehen kann oder durch UV-Licht initiiert wird oder auch durch erhöhte Temperaturen eingeleitet wird. Der Klebstoff kann manuell aufgetragen werden, über separate Kanäle der Fügestelle zugeführt werden, automatisiert aufgebracht oder eindosiert werden. Besonders vorteilhaft ist die Füllung des Klebespalts im gefügten Zustand unter Zuhilfenahme der Kapillareffekte, die den Klebstoff in den Spalt „saugen“. Der Klebstoff kann je nach Erfordernis als gefüllter Klebstoff ausgeführt sein oder über weitere Funktionalitäten wie elektrische Leitfähigkeit verfügen.
Grundsätzlich kann es für beide Wirkrichtungen der Aktuatoren sinnvoll sein, eine möglichst stabile Verbindung herzustellen. Neben dem bereits erwähnten Kleben können die Aktuatoren in den Ausnehmungen beispielsweise auch mittels mechanischer Vorspannung (Einpressen), stoffschlüssigen Fügeverfahren wie Adhesive/Reactive Bonding, Löten, Schweißen oder auch Ansprengen fixiert werden. Es ist aber auch denkbar, die Kraftübertragung durch eine geeignete, gegebenenfalls formschlüssige Gestaltung der beteiligten Flächen zu erreichen.
Die zuletzt genannte Variante der Wirkrichtung des Aktuators normal zur optischen Wirkfläche kann beispielsweise dadurch realisiert werden, dass der Aktuator als Scheraktuator ausgebildet ist. In diesem Fall erfahren einander gegenüberliegende seitliche Begrenzungsflächen der Ausnehmung einander entgegen gerichtete Kräfte, so dass eine lokale Biegung der optischen Wirkfläche erreicht werden kann.
Durch eine geeignete Gestaltung der Ausnehmung und insbesondere deren Begrenzung, kann eine Situation geschaffen werden, bei welcher der mindestens eine Aktuator über eine auf der Rückseite des Grundkörpers angeordnete Kinematik mit dem Grundkörper verbunden ist. Insbesondere kann die Kinematik einstückig mit dem Grundkörper ausgebildet sein. Die angesprochene Kinematik kann dabei unter Verwendung des der Ausnehmung benachbarten Materials hergestellt werden. Die Ausnehmung muss nicht zwingend eine einfache Form wie beispielsweise eine zylindrische oder eine rechteckförmige Form aufweisen. Sie kann ebenso in der Art eines Gitters beispielsweise durch Fräsen hergestellt werden, so dass eine im wesentlichen gitterförmige Struktur ausgefräst wird und einzelne säulenartige Bereiche des Grundkörpermaterials stehen gelassen werden. In die ausgefrästen Bereiche können dann beispielsweise Standardaktuatoren eingesetzt werden, welche Biegemomente auf die säulenartigen Bereiche ausüben. Die säulenartigen Bereiche stellen damit einzelne Hebel einer Kinematik dar.
In einer vorteilhaften Ausführungsform der Erfindung sind mindestens zwei Aktuatoren vorhanden, welche von verschiedenen Seiten auf den Hebel einwirken; es können beispielsweise vier Aktuatoren vorhanden sein, welche von vier verschiedenen Seiten jeweils um 90° versetzt auf den Hebel einwirken.
Dadurch, dass der Hebel zwischen einem Kraftangriffspunkt des Aktuators und dem Grundkörper eine Aussparung aufweist, kann über die Dimensionierung der genannten Aussparung in Verbindung mit der Steifigkeit des verwendeten Materials eingestellt werden, in welchem Ausmaß eine von dem Aktuator aufgebrachte Kraft insbesondere als Biegemoment in den Grundkörper eingebracht wird.
Die beschriebene Lösung eignet sich besonders auch für eine monolithische Fertigung des Grundkörpers mit Ausnehmungen.
Durch mechanische Adaptionen der Fügestellen zwischen Aktuatoren und Grundkörper kann ein Design gefunden werden kann, durch welches parasitäre Effekte der Fügestelle bestmöglich unterdrückt werden bzw. dass die Form der parasitären Deformation so beeinflusst werden kann, dass sie gut korrigierbar ist. NCEs (Non Correctable Errors) aufgrund von Volumenänderungen des Klebstoffs oder Änderungen des mechanischen Spannungszustandes der Fügestelle können somit effizient unterdrückt werden.
Zeigt der Klebstoff feuchte- und/oder temperaturbedingt eine Ausdehnung oder einen Schrumpf, so hat dies im Falle einer Wirkrichtung des Aktuators senkrecht zur Klebstoffschicht dieselbe Deformationswirkung wie eine Ausdehnung des Aktuators in Wirkrichtung und ist somit gut kompensierbar.
Treten über den Klebstoff in Längsrichtung des Hebels - also in einer Richtung normal zur optischen Wirkfläche - Dehnungsgradienten auf, die auf eine Änderung globaler Randbedingungen zurückzuführen sind (Änderung der Umgebungsfeuchte, Temperaturoffset der beteiligten Komponenten bzw. benachbarter Aktuatoren) so kann insbesondere im Falle einer symmetrischen Anbindung mehrerer Aktuatoren an einen Hebel von einer mindestens teilweisen Kompensation ausgegangen werden.
Querdeformationen der Aktuatoren, also Deformationen in Längsrichtung des Hebels werden durch die Steifigkeit des Hebels (Schersteifigkeit und Steifigkeit in Längsrichtung) wirksam unterdrückt. Um parasitäre Effekte aus einer Deformation in Längsrichtung des Hebels weiter zu minimieren, können ebenso Entkopplungen oder andere mechanische Designanpassungen vorgesehen sein.
Ein weiterer Vorteil der beschriebenen Lösung besteht darin, dass sie gut mit einem direkt gekühlten optischen Element kombinierbar ist. Gleiches gilt für die Kombination mit weiteren Temperierungseinrichtungen. Die Temperierungseinrichtungen können strahlungsbasiert, beispielsweise unter Verwendung von Infrarotstrahlung, auf Basis einer Widerstandsheizung oder auf andere Weise realisiert sein.
Nachfolgend werden Ausführungsbeispiele und Varianten der Erfindung anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigen

1 schematisch im Meridionalschnitt eine Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Projektionslithografie,
2 schematisch im Meridionalschnitt eine Projektionsbelichtungsanlage für die DUV-Projektionslithografie,
3a,b eine erste Ausführungsform der Erfindung,
4a,b eine weitere Ausführungsform der Erfindung,
5a eine Variante zur Kompensation von Querkontraktionen von Scheraktuatoren,
5b die in 5a gezeigte Variante in ausgelenktem Zustand,
6a eine leicht fertigbare Variante der Erfindung,
6b eine Abwandlung der in 6a gezeigten Lösung,
6c eine weitere Abwandlung der in 6a gezeigten Lösung, und
6d eine Ausführungsform der Erfindung mit Entkopplung im Bereich einer Klebstoffschicht.

Im Folgenden werden zunächst unter Bezugnahme auf die 1 exemplarisch die wesentlichen Bestandteile einer Projektionsbelichtungsanlage 1 für die Mikrolithografie beschrieben. Die Beschreibung des grundsätzlichen Aufbaus der Projektionsbelichtungsanlage 1 sowie deren Bestandteile sind hierbei nicht einschränkend verstanden.
Eine Ausführung eines Beleuchtungssystems 2 der Projektionsbelichtungsanlage 1 hat neben einer Strahlungsquelle 3 eine Beleuchtungsoptik 4 zur Beleuchtung eines Objektfeldes 5 in einer Objektebene 6. Bei einer alternativen Ausführung kann die Lichtquelle 3 auch als ein zum sonstigen Beleuchtungssystem separates Modul bereitgestellt sein. In diesem Fall umfasst das Beleuchtungssystem die Lichtquelle 3 nicht.
Beleuchtet wird ein im Objektfeld 5 angeordnetes Retikel 7. Das Retikel 7 ist von einem Retikelhalter 8 gehalten. Der Retikelhalter 8 ist über einen Retikelverlagerungsantrieb 9 insbesondere in einer Scanrichtung verlagerbar.
In der 1 ist zur Erläuterung ein kartesisches xyz-Koordinatensystem eingezeichnet. Die x-Richtung verläuft senkrecht zur Zeichenebene hinein. Die y-Richtung verläuft horizontal und die z-Richtung verläuft vertikal. Die Scanrichtung verläuft in der 1 längs der y-Richtung. Die z-Richtung verläuft senkrecht zur Objektebene 6.
Die Projektionsbelichtungsanlage 1 umfasst eine Projektionsoptik 10. Die Projektionsoptik 10 dient zur Abbildung des Objektfeldes 5 in ein Bildfeld 11 in einer Bildebene 12. Die Bildebene 12 verläuft parallel zur Objektebene 6. Alternativ ist auch ein von 0° verschiedener Winkel zwischen der Objektebene 6 und der Bildebene 12 möglich.
Abgebildet wird eine Struktur auf dem Retikel 7 auf eine lichtempfindliche Schicht eines im Bereich des Bildfeldes 11 in der Bildebene 12 angeordneten Wafers 13.
Der Wafer 13 wird von einem Waferhalter 14 gehalten. Der Waferhalter 14 ist über einen Waferverlagerungsantrieb 15 insbesondere längs der y-Richtung verlagerbar. Die Verlagerung einerseits des Retikels 7 über den Retikelverlagerungsantrieb 9 und andererseits des Wafers 13 über den Waferverlagerungsantrieb 15 kann synchronisiert zueinander erfolgen.
Bei der Strahlungsquelle 3 handelt es sich um eine EUV-Strahlungsquelle. Die Strahlungsquelle 3 emittiert insbesondere EUV-Strahlung 16, welche im Folgenden auch als Nutzstrahlung, Beleuchtungsstrahlung oder Beleuchtungslicht bezeichnet wird. Die Nutzstrahlung hat insbesondere eine Wellenlänge im Bereich zwischen 5 nm und 30 nm. Bei der Strahlungsquelle 3 kann es sich um eine Plasmaquelle handeln, zum Beispiel um eine LPP-Quelle (Laser Produced Plasma, mithilfe eines Lasers erzeugtes Plasma) oder um eine DPP-Quelle (Gas Discharged Produced Plasma, mittels Gasentladung erzeugtes Plasma). Es kann sich auch um eine synchrotronbasierte Strahlungsquelle handeln. Bei der Strahlungsquelle 3 kann es sich um einen Freie-Elektronen-Laser (Free-Electron-Laser, FEL) handeln.
Die Beleuchtungsstrahlung 16, die von der Strahlungsquelle 3 ausgeht, wird von einem Kollektor 17 gebündelt. Bei dem Kollektor 17 kann es sich um einen Kollektor mit einer oder mit mehreren ellipsoidalen und/oder hyperboloiden Reflexionsflächen handeln. Die mindestens eine Reflexionsfläche des Kollektors 17 kann im streifenden Einfall (Grazing Incidence, GI), also mit Einfallswinkeln größer als 45° gegenüber der Normalenrichtung der Spiegeloberfläche, oder im normalen Einfall (Normal Incidence, NI), also mit Einfallwinkeln kleiner als 45°, mit der Beleuchtungsstrahlung 16 beaufschlagt werden. Der Kollektor 17 kann einerseits zur Optimierung seiner Reflektivität für die Nutzstrahlung und andererseits zur Unterdrückung von Falschlicht strukturiert und/oder beschichtet sein.
Nach dem Kollektor 17 propagiert die Beleuchtungsstrahlung 16 durch einen Zwischenfokus in einer Zwischenfokusebene 18. Die Zwischenfokusebene 18 kann eine Trennung zwischen einem Strahlungsquellenmodul, aufweisend die Strahlungsquelle 3 und den Kollektor 17, und der Beleuchtungsoptik 4 darstellen.
Die Beleuchtungsoptik 4 umfasst einen Umlenkspiegel 19 und diesem im Strahlengang nachgeordnet einen ersten Facettenspiegel 20. Bei dem Umlenkspiegel 19 kann es sich um einen planen Umlenkspiegel oder alternativ um einen Spiegel mit einer über die reine Umlenkungswirkung hinaus bündelbeeinflussenden Wirkung handeln. Alternativ oder zusätzlich kann der Umlenkspiegel 19 als Spektralfilter ausgeführt sein, der eine Nutzlichtwellenlänge der Beleuchtungsstrahlung 16 von Falschlicht einer hiervon abweichenden Wellenlänge trennt. Sofern der erste Facettenspiegel 20 in einer Ebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet ist, die zur Objektebene 6 als Feldebene optisch konjugiert ist, wird dieser auch als Feldfacettenspiegel bezeichnet. Der erste Facettenspiegel 20 umfasst eine Vielzahl von einzelnen ersten Facetten 21, welche im Folgenden auch als Feldfacetten bezeichnet werden. Von diesen Facetten 21 sind in der 1 nur beispielhaft einige dargestellt.
Die ersten Facetten 21 können als makroskopische Facetten ausgeführt sein, insbesondere als rechteckige Facetten oder als Facetten mit bogenförmiger oder teilkreisförmiger Randkontur. Die ersten Facetten 21 können als plane Facetten oder alternativ als konvex oder konkav gekrümmte Facetten ausgeführt sein.
Wie beispielsweise aus der DE 10 2008 009 600 A1 bekannt ist, können die ersten Facetten 21 selbst jeweils auch aus einer Vielzahl von Einzelspiegeln, insbesondere einer Vielzahl von Mikrospiegeln, zusammengesetzt sein. Der erste Facettenspiegel 20 kann insbesondere als mikroelektromechanisches System (MEMS-System) ausgebildet sein. Für Details wird auf die DE 10 2008 009 600 A1 verwiesen.
Zwischen dem Kollektor 17 und dem Umlenkspiegel 19 verläuft die Beleuchtungsstrahlung 16 horizontal, also längs der y-Richtung.
Im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 4 ist dem ersten Facettenspiegel 20 nachgeordnet ein zweiter Facettenspiegel 22. Sofern der zweite Facettenspiegel 22 in einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet ist, wird dieser auch als Pupillenfacettenspiegel bezeichnet. Der zweite Facettenspiegel 22 kann auch beabstandet zu einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet sein. In diesem Fall wird die Kombination aus dem ersten Facettenspiegel 20 und dem zweiten Facettenspiegel 22 auch als spekularer Reflektor bezeichnet. Spekulare Reflektoren sind bekannt aus der US 2006/0132747 A1 , der EP 1 614 008 B1 und der US 6,573,978 B1 .
Der zweite Facettenspiegel 22 umfasst eine Mehrzahl von zweiten Facetten 23. Die zweiten Facetten 23 werden im Falle eines Pupillenfacettenspiegels auch als Pupillenfacetten bezeichnet.
Bei den zweiten Facetten 23 kann es sich ebenfalls um makroskopische Facetten, die beispielsweise rund, rechteckig oder auch hexagonal berandet sein können, oder alternativ um aus Mikrospiegeln zusammengesetzte Facetten handeln. Diesbezüglich wird ebenfalls auf die DE 10 2008 009 600 A1 verwiesen.
Die zweiten Facetten 23 können plane oder alternativ konvex oder konkav gekrümmte Reflexionsflächen aufweisen.
Die Beleuchtungsoptik 4 bildet somit ein doppelt facettiertes System. Dieses grundlegende Prinzip wird auch als Wabenkondensor (Fly`s Eye Integrator) bezeichnet.
Es kann vorteilhaft sein, den zweiten Facettenspiegel 22 nicht exakt in einer Ebene, welche zu einer Pupillenebene der Projektionsoptik 10 optisch konjugiert ist, anzuordnen. Insbesondere kann der Pupillenfacettenspiegel 22 gegenüber einer Pupillenebene der Projektionsoptik 10 verkippt angeordnet sein, wie es zum Beispiel in der DE 10 2017 220 586 A1 beschrieben ist.
Mit Hilfe des zweiten Facettenspiegels 22 werden die einzelnen ersten Facetten 21 in das Objektfeld 5 abgebildet. Der zweite Facettenspiegel 22 ist der letzte bündelformende oder auch tatsächlich der letzte Spiegel für die Beleuchtungsstrahlung 16 im Strahlengang vor dem Objektfeld 5.
Bei einer weiteren, nicht dargestellten Ausführung der Beleuchtungsoptik 4 kann im Strahlengang zwischen dem zweiten Facettenspiegel 22 und dem Objektfeld 5 eine Übertragungsoptik angeordnet sein, die insbesondere zur Abbildung der ersten Facetten 21 in das Objektfeld 5 beiträgt. Die Übertragungsoptik kann genau einen Spiegel, alternativ aber auch zwei oder mehr Spiegel aufweisen, welche hintereinander im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet sind. Die Übertragungsoptik kann insbesondere einen oder zwei Spiegel für senkrechten Einfall (NI-Spiegel, Normal Incidence Spiegel) und/oder einen oder zwei Spiegel für streifenden Einfall (GI-Spiegel, Gracing Incidence Spiegel) umfassen.
Die Beleuchtungsoptik 4 hat bei der Ausführung, die in der 1 gezeigt ist, nach dem Kollektor 17 genau drei Spiegel, nämlich den Umlenkspiegel 19, den Feldfacettenspiegel 20 und den Pupillenfacettenspiegel 22.
Bei einer weiteren Ausführung der Beleuchtungsoptik 4 kann der Umlenkspiegel 19 auch entfallen, so dass die Beleuchtungsoptik 4 nach dem Kollektor 17 dann genau zwei Spiegel aufweisen kann, nämlich den ersten Facettenspiegel 20 und den zweiten Facettenspiegel 22.
Die Abbildung der ersten Facetten 21 mittels der zweiten Facetten 23 beziehungsweise mit den zweiten Facetten 23 und einer Übertragungsoptik in die Objektebene 6 ist regelmäßig nur eine näherungsweise Abbildung.
Die Projektionsoptik 10 umfasst eine Mehrzahl von Spiegeln Mi, welche gemäß ihrer Anordnung im Strahlengang der Projektionsbelichtungsanlage 1 durchnummeriert sind.
Bei dem in der 1 dargestellten Beispiel umfasst die Projektionsoptik 10 sechs Spiegel M1 bis M6. Alternativen mit vier, acht, zehn, zwölf oder einer anderen Anzahl an Spiegeln Mi sind ebenso möglich. Der vorletzte Spiegel M5 und der letzte Spiegel M6 haben jeweils eine Durchtrittsöffnung für die Beleuchtungsstrahlung 16. Bei der Projektionsoptik 10 handelt es sich um eine doppelt obskurierte Optik. Die Projektionsoptik 10 hat eine bildseitige numerische Apertur, die größer ist als 0,5 und die auch größer sein kann als 0,6 und die beispielsweise 0,7 oder 0,75 betragen kann.
Reflexionsflächen der Spiegel Mi können als Freiformflächen ohne Rotationssymmetrieachse ausgeführt sein. Alternativ können die Reflexionsflächen der Spiegel Mi als asphärische Flächen mit genau einer Rotationssymmetrieachse der Reflexionsflächenform gestaltet sein. Die Spiegel Mi können, genauso wie die Spiegel der Beleuchtungsoptik 4, hoch reflektierende Beschichtungen für die Beleuchtungsstrahlung 16 aufweisen. Diese Beschichtungen können als Multilayer-Beschichtungen, insbesondere mit alternierenden Lagen aus Molybdän und Silizium, gestaltet sein.
Die Projektionsoptik 10 hat einen großen Objekt-Bildversatz in der y-Richtung zwischen einer y-Koordinate eines Zentrums des Objektfeldes 5 und einer y-Koordinate des Zentrums des Bildfeldes 11. Dieser Objekt-Bild-Versatz in der y-Richtung kann in etwa so groß sein wie ein z-Abstand zwischen der Objektebene 6 und der Bildebene 12.
Die Projektionsoptik 10 kann insbesondere anamorphotisch ausgebildet sein. Sie weist insbesondere unterschiedliche Abbildungsmaßstäbe βx, βy in x- und y-Richtung auf. Die beiden Abbildungsmaßstäbe βx, βy der Projektionsoptik 10 liegen bevorzugt bei (βx, βy) = (+/- 0,25, +/- 0,125). Ein positiver Abbildungsmaßstab β bedeutet eine Abbildung ohne Bildumkehr. Ein negatives Vorzeichen für den Abbildungsmaßstab β bedeutet eine Abbildung mit Bildumkehr.
Die Projektionsoptik 10 führt somit in x-Richtung, das heißt in Richtung senkrecht zur Scanrichtung, zu einer Verkleinerung im Verhältnis 4:1.
Die Projektionsoptik 10 führt in y-Richtung, das heißt in Scanrichtung, zu einer Verkleinerung von 8:1.
Andere Abbildungsmaßstäbe sind ebenso möglich. Auch vorzeichengleiche und absolut gleiche Abbildungsmaßstäbe in x- und y-Richtung, zum Beispiel mit Absolutwerten von 0,125 oder von 0,25, sind möglich.
Die Anzahl von Zwischenbildebenen in der x- und in der y-Richtung im Strahlengang zwischen dem Objektfeld 5 und dem Bildfeld 11 kann gleich sein oder kann, je nach Ausführung der Projektionsoptik 10, unterschiedlich sein. Beispiele für Projektionsoptiken mit unterschiedlichen Anzahlen derartiger Zwischenbilder in x- und y-Richtung sind bekannt aus der US 2018/0074303 A1 .
Jeweils eine der Pupillenfacetten 23 ist genau einer der Feldfacetten 21 zur Ausbildung jeweils eines Beleuchtungskanals zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 zugeordnet. Es kann sich hierdurch insbesondere eine Beleuchtung nach dem Köhlerschen Prinzip ergeben. Das Fernfeld wird mit Hilfe der Feldfacetten 21 in eine Vielzahl an Objektfeldern 5 zerlegt. Die Feldfacetten 21 erzeugen eine Mehrzahl von Bildern des Zwischenfokus auf den diesen jeweils zugeordneten Pupillenfacetten 23.
Die Feldfacetten 21 werden jeweils von einer zugeordneten Pupillenfacette 23 einander überlagernd zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 auf das Retikel 7 abgebildet. Die Ausleuchtung des Objektfeldes 5 ist insbesondere möglichst homogen. Sie weist vorzugsweise einen Uniformitätsfehler von weniger als 2 % auf. Die Felduniformität kann über die Überlagerung unterschiedlicher Beleuchtungskanäle erreicht werden.
Durch eine Anordnung der Pupillenfacetten kann geometrisch die Ausleuchtung der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 definiert werden. Durch Auswahl der Beleuchtungskanäle, insbesondere der Teilmenge der Pupillenfacetten, die Licht führen, kann die Intensitätsverteilung in der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 eingestellt werden. Diese Intensitätsverteilung wird auch als Beleuchtungssetting bezeichnet.
Eine ebenfalls bevorzugte Pupillenuniformität im Bereich definiert ausgeleuchteter Abschnitte einer Beleuchtungspupille der Beleuchtungsoptik 4 kann durch eine Umverteilung der Beleuchtungskanäle erreicht werden.
Im Folgenden werden weitere Aspekte und Details der Ausleuchtung des Objektfeldes 5 sowie insbesondere der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 beschrieben.
Die Projektionsoptik 10 kann insbesondere eine homozentrische Eintrittspupille aufweisen. Diese kann zugänglich sein. Sie kann auch unzugänglich sein.
Die Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 lässt sich regelmäßig mit dem Pupillenfacettenspiegel 22 nicht exakt ausleuchten. Bei einer Abbildung der Projektionsoptik 10, welche das Zentrum des Pupillenfacettenspiegels 22 telezentrisch auf den Wafer 13 abbildet, schneiden sich die Aperturstrahlen oftmals nicht in einem einzigen Punkt. Es lässt sich jedoch eine Fläche finden, in welcher der paarweise bestimmte Abstand der Aperturstrahlen minimal wird. Diese Fläche stellt die Eintrittspupille oder eine zu ihr konjugierte Fläche im Ortsraum dar. Insbesondere zeigt diese Fläche eine endliche Krümmung.
Es kann sein, dass die Projektionsoptik 10 unterschiedliche Lagen der Eintrittspupille für den tangentialen und für den sagittalen Strahlengang aufweist. In diesem Fall sollte ein abbildendes Element, insbesondere ein optisches Bauelement der Übertragungsoptik, zwischen dem zweiten Facettenspiegel 22 und dem Retikel 7 bereitgestellt werden. Mit Hilfe dieses optischen Elements kann die unterschiedliche Lage der tangentialen Eintrittspupille und der sagittalen Eintrittspupille berücksichtigt werden.
Bei der in der 1 dargestellten Anordnung der Komponenten der Beleuchtungsoptik 4 ist der Pupillenfacettenspiegel 22 in einer zur Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 konjugierten Fläche angeordnet. Der Feldfacettenspiegel 20 ist verkippt zur Objektebene 6 angeordnet. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zu einer Anordnungsebene angeordnet, die vom Umlenkspiegel 19 definiert ist.
Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zu einer Anordnungsebene angeordnet, die vom zweiten Facettenspiegel 22 definiert ist.
2 zeigt schematisch im Meridionalschnitt eine weitere Projektionsbelichtungsanlage 101 für die DUV-Projektionslithografie, in welcher die Erfindung eben-falls zur Anwendung kommen kann.
Der Aufbau der Projektionsbelichtungsanlage 101 und das Prinzip der Abbildung ist vergleichbar mit dem in 1 beschriebenen Aufbau und Vorgehen. Gleiche Bauteile sind mit einem um 100 gegenüber 1 erhöhten Bezugszeichen bezeichnet, die Bezugszeichen in 2 beginnen also mit 101.
Im Unterschied zu einer wie in 1 beschriebenen EUV-Projektionsbelichtungsanlage 1 können auf Grund der größeren Wellenlänge der als Nutzlicht verwendeten DUV-Strahlung 116 im Bereich von 100 nm bis 300 nm, insbesondere von 193 nm, in der DUV-Projektionsbelichtungsanlage 101 zur Abbildung beziehungsweise zur Beleuchtung refraktive, diffraktive und/oder reflexive optische Elementen 117, wie beispielsweise Linsen, Spiegeln, Prismen, Abschlussplatten und dergleichen verwendet werden. Die Projektionsbelichtungsanlage 101 umfasst dabei im Wesentlichen ein Beleuchtungssystem 102, einen Retikelhalter 108 zur Aufnahme und exakten Positionierung eines mit einer Struktur versehenen Retikels 107, durch welches die späteren Strukturen auf einem Wafer 113 bestimmt werden, einen Waferhalter 114 zur Halterung, Bewegung und exakten Positionierung eben dieses Wafers 113 und einem Projektionsobjektiv 110, mit mehreren optischen Elementen 117, die über Fassungen 118 in einem Objektivgehäuse 119 des Projektionsobjektives 110 gehalten sind.
Das Beleuchtungssystem 102 stellt eine für die Abbildung des Retikels 107 auf dem Wafer 113 benötigte DUV-Strahlung 116 bereit. Als Quelle für diese Strahlung 116 kann ein Laser, eine Plasmaquelle oder dergleichen Verwendung finden. Die Strahlung 116 wird in dem Beleuchtungssystem 102 über optische Elemente derart geformt, dass die DUV-Strahlung 116 beim Auftreffen auf das Retikel 107 die gewünschten Eigenschaften hinsichtlich Durchmesser, Polarisation, Form der Wellenfront und dergleichen aufweist.
Der Aufbau der nachfolgenden Projektionsoptik 110 mit dem Objektivgehäuse 119 unterscheidet sich außer durch den zusätzlichen Einsatz von refraktiven optischen Elementen 117 wie Linsen, Prismen, Abschlussplatten prinzipiell nicht von dem in 1 beschriebenen Aufbau und wird daher nicht weiter beschrieben.
3a zeigt eine erste Ausführungsform der Erfindung, in welcher ein als Spiegel Mx dargestelltes optisches Element, wie er in einer der anhand der 1 und der 2 erläuterten Projektionsbelichtungsanlagen Verwendung finden kann, dargestellt ist. Der Spiegel Mx umfasst einen Grundkörper 30 mit einer optischen Wirkfläche 31, wobei der Grundkörper 30 auf einer Lagerung 32 gelagert ist. Weiterhin umfasst der Grundkörper 30 eine Kinematik, welche im gezeigten Beispiel als durch Ausnehmungen 34 im Grundkörper 30 ausgebildete Hebel 36 verwirklicht ist.
Zwischen zwei derart ausgebildeten Hebeln 36 ist jeweils ein Aktuator 33 parallel zu der optischen Wirkfläche 31 angeordnet, wobei die Wirkrichtung des Aktuators 33 ebenfalls parallel zur optischen Wirkfläche 31 ausgebildet ist. Der Aktuator 33 kann als Festkörperaktuator, beispielsweise als piezoelektrischer oder elektrorestriktiver Aktuator ausgebildet sein. Die Aktuatoren 33 werden über eine nicht dargestellte Ansteuerung angesteuert und lenken die Hebel 36 aus, wodurch über das vom Hebel 36 erzeugte Moment eine Deformation in der optischen Wirkfläche 31 erzeugt wird. Alternativ können die Hebel 36 separat gefertigt und nachfolgend mit dem Grundkörper 30 verbunden werden.
Die 3b zeigt eine Detailansicht einer Variante der in der 3a erläuterten Ausführungsform der Erfindung, in welcher die Hebel 36 eine Aussparung 37 umfassen. Die Aussparung 37 reduziert die Steifigkeit der Anbindung des Hebels 36 an den Grundkörper 30, wodurch das übertragene Moment und die daraus resultierende Deformation der optischen Wirkfläche 31 eingestellt werden kann. Der Aktuator 33 ist in der in der 3b dargestellten Ausführungsform mit den Hebeln 36 über einen Klebstoff 38 verbunden. Alternativ kann der Aktuator 33 auch durch eine Vorspannung zwischen den Hebeln 36 eingeschrumpft werden. Der Hebel kann weiterhin verschiedenste Geometrien zur Entkopplung der von dem Aktuator und/oder der Fügestelle auf die optische Wirkfläche übertragenen Kräfte umfassen.
4a und 4b zeigen eine weitere Ausführungsform der Erfindung in zwei unterschiedlichen Betriebszuständen, in welchen jeweils ein als Spiegel Mx dargestelltes optisches Element, wie er in einer der in der 1 und der 2 erläuterten Projektionsbelichtungsanlagen Verwendung finden kann, dargestellt ist. Der Spiegel Mx umfasst einen Grundkörper 30 mit einer optischen Wirkfläche 31 und ebenfalls eine Kinematik mit einem durch Ausnehmungen 34 im Grundkörper 30 erzeugten Hebeln 36 und Scheraktuatoren 39. Die Scheraktuatoren 39 sind in ihrer Längsausrichtung parallel zur optischen Wirkfläche 31 ausgerichtet, führen aber auf Grund der Verschaltung der Elektroden bzw. aufgrund des inneren Aufbaus des Aktuators und dem verwendeten Aktuatorwerkstoff beim Anlegen einer Spannung eine Scherbewegung aus, welche senkrecht zur optischen Wirkfläche 31 gerichtet ist. Die Hebel wirken also flächennormal zur optischen Wirkfläche 31 auf den Grundkörper 30 und deformieren diese.
4a zeigt dabei einen sogenannten Nullzustand, in welchem die optische Wirkfläche 31 des Grundkörpers 30 keine Deformationen aufweist, also ihrer Solloberflächenform entspricht. Die Scheraktuatoren 39 werden aus einer spannungslosen Nullposition ausgelenkt, wodurch der Grundkörper 30 aus seiner Nullposition je nach angelegter Spannung in eine Richtung deformiert wird. Dies hat den Vorteil, dass die optische Wirkfläche 31 vor der Montage der Aktuatoren 39 fertig bearbeitet werden kann. Ebenso ist für bestimmte Aktuatoren die Nutzung einer elektrischen Mittelspannung (BIAS-Spannung) vorteilhaft bzw. unter Umständen sogar nötig.
4b zeigt einen ausgelenkten Betriebszustand, in dem ein Hebel 36 durch die Auslenkung von zwei mit dem Hebel 36 verbundenen Scheraktuatoren 39 dargestellt ist. Die Auslenkung des Hebels 36 führt zu einer Deformation der optischen Wirkfläche 31. Dieselben Aktuatoren würden bei einer Ansteuerung mit einer entgegengesetzten Spannung anstelle der in der 4b dargestellten konvexen Deformation eine konkave Deformation in der optischen Wirkfläche 31 bewirken.
Grundsätzlich besteht auch die Möglichkeit, die in der Figur gezeigten Scheraktuatoren 39 mit konventionellen Aktuatoren zu ergänzen, die insbesondere dazu verwendet werden könnten, eine Dimensionsänderung senkrecht zur Scherung auszugleichen. Darüber hinaus ergibt sich hierdurch die Möglichkeit, die durch die unterschiedlichen Aktuationsprinzipien hervorgerufenen Deformationen (langreichweitig und kurzreichweitig) vorteilhaft zur Korrektur von Abbildungsfehlern einer Projektionsbelichtungsanlage zu kombinieren.
Eine entsprechende Variante der Erfindung ist in den 5a und 5b gezeigt. Im Unterschied zu der in der 4a gezeigten Variante sind in der Ausführungsform der 5a und 5b in den Ausnehmungen 34 jeweils zwei miteinander mechanisch verbundene Aktuatoren 39.1 und 39.2 gezeigt. Dabei handelt es sich bei den Aktuatoren 39.1 um Scheraktuatoren, wohingegen es sich bei den Aktuatoren 39.2 um konventionelle Aktuatoren handelt. Werden nun die Scheraktuatoren 39.1 in y-Richtung angesteuert und damit ausgelenkt, kommt es zu einer Kontraktion der Scheraktuatoren 39.1 in x-Richtung. Diese Kontraktion, die in der 5b zur Verdeutlichung etwas überzeichnet dargestellt ist, wird dann durch eine entsprechend gewählte Auslenkung der konventionellen Aktuatoren 39.2 derart kompensiert, dass es nicht zu parallel zur optischen Wirkfläche 31 wirkenden Kräften auf die Hebel 36 kommt.
6a zeigt eine Variante der Erfindung, bei welcher die Ausnehmungen durch ein in die Rückseite eines Grundkörpers eingefrästes Gitter geschaffen werden. Die Gitterstruktur wird dabei dadurch hergestellt, dass kreuzförmig verlaufende Nuten in die Rückseite des Grundkörpers 30 gefräst werden. Auf diese Weise bleiben Teile des Materials des Grundkörpers in der Art von Hebeln stehen. Zwischen diese Hebel können nun Standardaktuatoren 33 eingesetzt werden, wie in der 5a gezeigt. Diese Variante zeichnet sich durch ihre einfache Herstellbarkeit aus.
Ebenso denkbar ist es, wie anhand der 6b verdeutlicht eine einzelne, rahmenförmige Ausnehmung in eine Rückseite eines Grundkörpers 30 einzubringen, sodass im Zentrum der Ausnehmung wiederum ein einzelner Hebel 36 stehen bleibt, welcher im gezeigten Beispiel von vier Standardaktuatoren 33 umgeben ist.
6c zeigt eine weitere Variante der Erfindung, bei welcher die Ausnehmungen 34' derart gestaltet sind, dass in ihnen ein Aktuator 33 mit einem rechteckigen, im gezeigten Beispiel mit einem quadratischen Querschnitt besonders vorteilhaft eingesetzt werden kann. Dazu sind die Ausnehmungen 34' im Hinblick auf ihren Querschnitt an die Form eines Aktuators 33 mit einem rechteckigen Querschnitt angepasst, so dass die Seitenflächen des Aktuators 33 teilweise an den Wandungen der Ausnehmungen 34' anliegen; insbesondere können die Seitenflächen des Aktuator 33 in diesen Bereichen mit den Wandlungen verklebt sein. Im Bereich der Längskanten des Aktuators 33, also im Bereich der Ecken des Querschnitts des Aktuators 33 sind die Ausnehmungen 34' jedoch mit weiteren Freischnitten versehen, so dass die Aktuatoren 33 nur mit den zentralen Bereichen ihrer Außenflächen mit dem Material des Grundkörpers 30 in Verbindung stehen. In Verbindung mit der regelmäßigen Anordnung mehrerer Aktuatoren 33 wie in der 6c gezeigt, können dann im Bereich zwischen den Aktuatoren 33 ebenfalls hebelartige Kinematiken 36 realisiert werden. Im gezeigten Beispiel sind die Aktuatoren, wie durch die in der Figur nicht gesondert bezeichneten Pfeile angedeutet, in zwei zueinander senkrechten Richtungen aktuierbar. Es ist ebenso denkbar, Aktuatoren mit davon abweichenden Querschnitten, beispielsweise mit sechs- oder achteckigen Querschnitten und entsprechend weiteren Freiheitsgraden der Aktuierung, zu verwenden.
6d zeigt eine Variante der Erfindung, bei welcher die Hebel 36 derart gestaltet sind, dass unerwünschte Effekte, beispielsweise aus einer Volumenänderung einer Fügestelle, unterdrückt werden. Im gezeigten Beispiel ist eine Ausschnittsvergrößerung eines Schnittes im Bereich eines Aktuators 33 gezeigt. Dabei sind Hebel 36 mittels eines Klebstoffs 38 mit Aktuatoren 33 verbunden. Die Hebel 36 sind im Bereich des Klebstoffs 38 mit Entkopplungsschnitten 40 versehen. Die Entkopplungsschnitte 40 bewirken, dass Volumenänderungen des Klebstoffs 38 sich nicht oder zumindest nur vermindert in Längsrichtung des Hebels 36, also in Richtung der optischen Wirkfläche des zugehörigen optischen Elementes, fortpflanzen.
Bezugszeichenliste

1: Projektionsbelichtungsanlage
2: Beleuchtungssystem
3: Strahlungsquelle
4: Beleuchtungsoptik
5: Objektfeld
6: Objektebene
7: Retikel
8: Retikelhalter
9: Retikelverlagerungsantrieb
10: Projektionsoptik
11: Bildfeld
12: Bildebene
13: Wafer
14: Waferhalter
15: Waferverlagerungsantrieb
16: EUV-Strahlung
17: Kollektor
18: Zwischenfokusebene
19: Umlenkspiegel
20: Facettenspiegel
21: Facetten
22: Facettenspiegel
23: Facetten
30: Grundkörper
31: optische Wirkfläche
32: Lagerung
33: Aktuator
34,34`: Ausnehmung
36: Kinematik, Hebel
37: Aussparung
38: Klebstoff
39: Scheraktuator
40: Entkopplungsschnitt
101: Projektionsbelichtungsanlage
102: Beleuchtungssystem
107: Retikel
108: Retikelhalter
110: Projektionsoptik
113: Wafer
114: Waferhalter
116: DUV-Strahlung
117: optisches Element
118: Fassungen
119: Objektivgehäuse
M1-M6: Spiegel

Claims

Projektionsbelichtungsanlage (1, 101) mit mindestens einem optischen Element (Mx, 117), wobei das optische Element (Mx, 117) einen Grundkörper (30) und mindestens einen Aktuator (33) zur Deformation einer auf dem Grundkörper (30) ausgebildeten optischen Wirkfläche (31) umfasst, wobei der mindestens eine Aktuator (33) in einer Ausnehmung (34) in der Rückseite des Grundkörpers (30) angeordnet ist und derart mit dem Grundkörper (30) in mechanischer Verbindung steht, dass er die von ihm ausgeübte Kraft über seitliche Begrenzungsflächen der Ausnehmung (34) ausübt, dadurch gekennzeichnet, dass die Wirkrichtung des Aktuators (33) zur optischen Wirkfläche (31) zumindest bereichsweise in Normalenrichtung zur optischen Wirkfläche (31) ausgebildet ist.
Projektionsbelichtungsanlage (1,101) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Aktuator (33) als Scheraktuator (39) ausgebildet ist.
Projektionsbelichtungsanlage (1,101) nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass der mindestens eine Aktuator (33) über eine auf der Rückseite des Grundkörpers (30) angeordnete Kinematik (36) mit dem Grundkörper (30) verbunden ist.
Projektionsbelichtungsanlage (1,101) nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Kinematik (36) einstückig mit dem Grundkörper (30) ausgebildet ist.
Projektionsbelichtungsanlage (1,101) nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Kinematik (36) einen Hebel (36) umfasst.
Projektionsbelichtungsanlage (1,101) nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens zwei Aktuatoren (33) vorhanden sind, welche von verschiedenen Seiten auf den Hebel (36) einwirken.
Projektionsbelichtungsanlage (1,101) nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass vier Aktuatoren (33) vorhanden sind, welche von vier verschiedenen Seiten jeweils um 90° versetzt auf den Hebel (36) einwirken.
Projektionsbelichtungsanlage (1,101) nach einem der Ansprüche 5-7, dadurch gekennzeichnet, dass der Hebel (36) zwischen einem Kraftangriffspunkt des Aktuators (33) und dem Grundkörper (30) eine Aussparung (37) aufweist.
Projektionsbelichtungsanlage (1, 101) mit mindestens einem optischen Element (Mx, 117), wobei das optische Element (Mx, 117) einen Grundkörper (30) und mindestens einen Aktuator (33) zur Deformation einer auf dem Grundkörper (30) ausgebildeten optischen Wirkfläche (31) umfasst, wobei der mindestens eine Aktuator (33) in einer Ausnehmung (34) in der Rückseite des Grundkörpers (30) angeordnet ist und derart mit dem Grundkörper (30) in mechanischer Verbindung steht, dass er die von ihm ausgeübte Kraft über seitliche Begrenzungsflächen der Ausnehmung (34) ausübt, dadurch gekennzeichnet, dass der Aktuator (33) als Scheraktuator (39) ausgebildet ist.
Projektionsbelichtungsanlage (1,101) nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Wirkrichtung des Aktuators (33) zumindest bereichsweise parallel zur optischen Wirkfläche (31) ausgebildet ist.
Projektionsbelichtungsanlage (1,101) nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Wirkrichtung des Aktuators (33) zur optischen Wirkfläche (31) zumindest bereichsweise in Normalenrichtung zur optischen Wirkfläche (31) ausgebildet ist.
Projektionsbelichtungsanlage (1,101) nach einem der Ansprüche 9-11, dadurch gekennzeichnet, dass der mindestens eine Aktuator (33) über eine auf der Rückseite des Grundkörpers (30) angeordnete Kinematik (36) mit dem Grundkörper (30) verbunden ist.
Projektionsbelichtungsanlage (1,101) nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Kinematik (36) einstückig mit dem Grundkörper (30) ausgebildet ist.
Projektionsbelichtungsanlage (1,101) nach Anspruch 12 oder 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Kinematik (36) einen Hebel (36) umfasst.
Projektionsbelichtungsanlage (1,101) nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens zwei Aktuatoren (33) vorhanden sind, welche von verschiedenen Seiten auf den Hebel (36) einwirken.
Projektionsbelichtungsanlage (1,101) nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass vier Aktuatoren (33) vorhanden sind, welche von vier verschiedenen Seiten jeweils um 90° versetzt auf den Hebel (36) einwirken.
Projektionsbelichtungsanlage (1,101) nach einem der Ansprüche 14-16, dadurch gekennzeichnet, dass der Hebel (36) zwischen einem Kraftangriffspunkt des Aktuators (33) und dem Grundkörper (30) eine Aussparung (37) aufweist.