TW201525524A - 光學設備、投影光學系統、曝光設備、及製造物品的方法 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種使反射鏡的反射表面變形的光學設備，該光學設備包含：底板；固定構件，其被組態為將反射鏡的包括反射鏡的中心的部分固定到底板；以及複數個致動器，每個致動器具有連接到反射鏡的第一端及連接到底板的第二端，且被組態為向反射鏡的背面施加力，其中，複數個致動器包括複數個第一致動器及複數個第二致動器，且複數個第一致動器被配置為使得每個第一致動器與反射鏡的中心之間的距離比反射鏡的中心與反射鏡的外周之間的距離的一半長。

Description

光學設備、投影光學系統、曝光設備、及製造物品的方法
本發明關於一種使反射鏡的反射表面變形的光學設備、使用該光學設備的投影光學系統及曝光設備、以及製造物品的方法。
為了改進用於製造半導體裝置等的曝光設備的解析度，需要校正曝光設備中的投影光學系統中的光學像差。日本專利早期公開第2005-4146號提出了藉由使投影光學系統中所包括的反射鏡的反射表面變形來校正投影光學系統中的光學像差的光學設備。
在日本專利早期公開第2005-4146號中所描述的光學設備中，反射鏡在其外周部分由支撐構件支撐，且提供了向反射鏡的背面(在反射表面的相反側的面)施加力的複數個主動致動器及複數個被動致動器。被動致動器用於校正其中形狀波動相對於時間的流逝小的反射鏡形 狀誤差，諸如由反射鏡的組裝或過程引起的誤差。另一方面，主動致動器用於校正其中形狀波動相對於時間的流逝大的反射鏡形狀誤差，諸如在使單個基板曝光的時間段期間引起的誤差。
因為要求曝光設備即時地精確地校正投影光學系統中的光學像差，所以光學設備需要快速地精確地使投影光學系統中所使用的反射鏡的反射表面變形。為了實現此者，反射鏡的反射表面相對於致動器的驅動的變形量(反射鏡的靈敏度)可以小，且可以易於執行驅動控制。本案發明人發現，在反射鏡的中心部分藉由固定構件固定到底板的光學設備中，可以藉由在遠離反射鏡的中心的位置處配置在接收到單位量的外力時其變形量小(即，具有高剛性)的致動器來降低反射鏡的靈敏度。日本專利早期公開第2005-4146號中沒有描述因而降低反射鏡的靈敏度的構思。
本發明提供一種例如有利於快速地精確地使反射鏡的反射表面變形的光學設備。
根據本發明的一方面，提供一種使反射鏡的反射表面變形的光學設備，該光學設備包括：底板；固定構件，其被組態為將反射鏡的包括反射鏡的中心的部分固定到底板；以及複數個致動器，每個致動器具有連接到反射鏡的第一端及連接到底板的第二端，且被組態為向在反 射表面的相反側的背面施加力，其中，複數個致動器包括複數個第一致動器及複數個第二致動器，當接收到單位量的外力時，第二致動器的第一端與第二端之間的距離的改變大於第一致動器的第一端與第二端之間的距離的改變，且複數個第一致動器被配置為使得每個第一致動器與反射鏡的中心之間的距離比反射鏡的中心與反射鏡的外周之間的距離的一半長。
從以下參照所附圖式對示例性實施例的描述，本發明的進一步的特徵將變得清楚。
1‧‧‧反射鏡
1a‧‧‧反射表面
1b‧‧‧背面
2‧‧‧第一致動器
2a‧‧‧第一端
2b‧‧‧第二端
2a、2b、2c、2d‧‧‧第一致動器
3‧‧‧位移感測器
4‧‧‧第二致動器
4a‧‧‧可移動元件
4b‧‧‧定子
5‧‧‧構件
6‧‧‧底板
7‧‧‧固定構件
8‧‧‧鉸鏈構件
10‧‧‧控制單元
20‧‧‧致動器
20a‧‧‧可移動元件
20b‧‧‧定子
30‧‧‧測量單元
50‧‧‧曝光設備
51‧‧‧控制單元
52‧‧‧平面鏡
52a‧‧‧第一面
52b‧‧‧第二面
53‧‧‧凹面鏡
53a‧‧‧第一面
53b‧‧‧第二面
54‧‧‧凸面鏡
55‧‧‧遮罩
56‧‧‧基板
100‧‧‧光學設備
d、D1、D2、D3、D4、D5‧‧‧直徑
t1、t2、t3、t4‧‧‧厚度
IL‧‧‧照射光學系統
PO‧‧‧投影光學系統
MS‧‧‧遮罩台
WS‧‧‧基板台
圖1A是顯示第一實施例中的光學設備的示例性組態的示意圖。
圖1B是顯示第一實施例中的光學設備中的複數個致動器的示例性配置的圖示。
圖2是顯示第一致動器經由鉸鏈構件連接到反射鏡及底板的組態的示意圖。
圖3是顯示第一實施例中的光學設備的示例性組態的示意圖。
圖4A是顯示與第一致動器及第二致動器的配置相關的分析模型1的圖示。
圖4B是顯示與第一致動器及第二致動器的配置相關的分析模型1的圖示。
圖5A是顯示與第一致動器及第二致動器的配 置相關的分析模型2的圖示。
圖5B是顯示與第一致動器及第二致動器的配置相關的分析模型2的圖示。
圖6A是顯示與第一致動器及第二致動器的配置相關的分析模型3的圖示。
圖6B是顯示與第一致動器及第二致動器的配置相關的分析模型3的圖示。
圖7A是顯示分析模型1中的反射鏡的靈敏度的分析結果的圖示。
圖7B是顯示分析模型2中的反射鏡的靈敏度的分析結果的圖示。
圖7C是顯示分析模型3中的反射鏡的靈敏度的分析結果的圖示。
圖7D是顯示分析模型1至3與反射表面的變形量之間的關係的圖示。
圖8是顯示第一實施例中的光學設備的示例性組態的示意圖。
圖9是顯示曝光設備的示例性組態的示意圖。
將根據隨附圖式詳細描述本發明的示例性實施例。注意，相同的元件符號在整個圖式中都表示相同的構件，且將不作其重複描述。
第一實施例
將參照圖1描述第一實施例中的光學設備100。圖1A是顯示第一實施例中的光學設備100的截面圖。例如，第一實施例中的光學設備100藉由使曝光設備中的投影光學系統中所包括的反射鏡1的反射表面1a變形來校正投影光學系統中的光學像差。第一實施例中的光學設備100可以包括底板6、固定構件7、複數個致動器、複數個位移感測器3以及控制單元10。
反射鏡1具有反射表面1a及背面1b，反射表面1a反射光，背面1b是在反射表面1a的相反側的面，反射鏡1的包括反射鏡1的中心的部分(在下文中，中心部分)藉由固定構件7固定到底板6。反射鏡1的中心部分因而固定到底板6，因為曝光設備中的投影光學系統中所使用的反射鏡1的中心部分通常不被光照射，且大可不必使反射鏡1的中心部分變形。
每個致動器具有連接到反射鏡1的第一端及連接到底板6的第二端，且向反射鏡1的背面1b施加力。致動器包括複數個第一致動器2及複數個第二致動器4，且當接收到單位量的外力時，每個第二致動器4的第一端與第二端之間的距離的改變大於每個第一致動器1的第一端與第二端之間的距離的改變。當接收到單位量的外力時第一端與第二端之間的距離的改變在下文中將被稱為“剛性”。
第一致動器2配置在反射鏡1與底板6之間，且向反射鏡1的中心與反射鏡1的外周之間的中間位置向外的區域(在下文中，外側區域)施加力。每個第一致動器2具有連接到反射鏡1的背面1b的第一端2a及連接到底板6的第二端2b，且變形以便改變第一端2a與第二端2b之間的距離。力從而可以施加於背面1b的連接第一端2a的部分。例如，第一致動器2可以是具有高剛性的致動器，諸如壓電致動器、磁致伸縮致動器或電動螺桿構件。在此，儘管在圖1中，每個第一致動器2的第一端2a及反射鏡1的背面1b彼此直接連接，且第二端2b及底板6彼此直接連接，但是本發明不限於此。每個第一致動器2的第一端2a及反射鏡1的背面1b可以經由彈性體、剛性體等連接，第二端2b及底板6可以經由彈性體、剛性體等連接。例如，如圖2中所示，每個第一致動器2的第一端2a及反射鏡1的背面1b可以經由鉸鏈構件8連接。每個第一致動器2的第二端2b及底板6也可以經由鉸鏈構件8連接。作為因而使用鉸鏈構件8的結果，第一致動器2的驅動力可以被高效率地傳送到反射鏡1的背面1b，幾乎不產生引起反射鏡1的形狀誤差的其他分量。
每個位移感測器3設置在相應的第一致動器2的附近，且偵測第一致動器2的第一端2a與第二端2b之間的位移。每個第一致動器2的第一端2a與第二端2b之間的位移在下文中將被稱為“驅動位移”。作為因而設置位 移感測器3的結果，可以基於各個位移感測器3所偵測的第一致動器2的驅動位移來執行第一致動器2的回饋控制。例如，在使用壓電致動器作為第一致動器2的情況下，遲滯現象隨壓電致動器而發生，因此，存在不能用壓電致動器獲得與命令值(電壓)相應的驅動位移的情況。由於此原因，光學設備100可以設有用於偵測指示每個第一致動器2的驅動狀態的資訊的感測器。在第一實施例中，位移感測器3用作前述感測器，且第一致動器2的驅動位移被偵測作為指示驅動狀態的資訊。在使用壓電致動器作為第一致動器2的情況下，每個壓電致動器使用基於位移感測器3所偵測的驅動位移(即，位移感測器3的輸出)與目標位移之間的差值的命令值來經受回饋控制。
在此，儘管第一實施例中的光學設備100設有位移感測器3作為用於偵測指示第一致動器2的驅動狀態的資訊的感測器，但是本發明不限於此。例如，可以提供用於偵測第一致動器2的驅動力的力感測器來代替位移感測器3。力感測器可以配置在每個第一致動器2的第一端2a與反射鏡1的背面1b之間，或者第二端2b與底板6之間。力感測器偵測第一致動器2施加於反射鏡1的背面1b的力(即，第一致動器2的驅動力)，作為指示第一致動器2的驅動狀態的資訊。在因而提供力感測器的情況下，第一致動器2基於力感測器所偵測的驅動力來經受回饋控制。
以這種方式，第一致動器2需要設有用於偵 測指示它們的驅動狀態的資訊的感測器，且第一致動器2基於這些感測器的輸出而被控制。由於此原因，就致動器在使反射鏡1的反射表面1a變形時的控制的成本及複雜度而言，可以盡可能多地減少第一致動器2的數量。在第一實施例中的光學設備100中，除了第一致動器2之外，還使用複數個第二致動器4，這些第二致動器4的剛性低於第一致動器2的剛性，且其數量多於第一致動器2的數量。
第二致動器4配置在反射鏡1與底板6之間，且向反射鏡1的背面1b施加力。具有比第一致動器2的剛性低的剛性的致動器用作第二致動器4。例如，各包括彼此不接觸的可移動元件4a及定子4b的非接觸致動器(線性馬達、靜電致動器、電磁鐵等)可以用作第二致動器4。可移動元件4a及定子4b中的一個(其包括第一端)固定到底板6，另一個(其包括第二端)固定到反射鏡1的背面1b。在第一實施例中，可移動元件4a固定到反射鏡1的背面1b，定子4b經由構件5固定到底板6。第二致動器4從而可以向反射鏡1的背面1b施加力，且改變反射鏡1與底板6之間的距離。在此，與第一致動器2不同，第二致動器4無需設有用於偵測指示第二致動器4的驅動狀態的資訊的感測器(例如，位移感測器)。這是因為，遲滯現象不太可能隨用作第二致動器4的非接觸致動器而發生，且可以獲得用於第二致動器4的命令值(電流或電壓)所對應的驅動位移。也就是說，這是因為 無需使用位移感測器的偵測結果來對第二致動器4執行回饋控制。第二致動器4還可以被組態為包括具有高剛性的致動器(諸如用作第一致動器2的致動器)以及串聯連接到該致動器的彈性體(螺旋彈簧、板片彈簧等)。
控制單元10具有CPU、記憶體等，且基於反射鏡1的反射表面1a的形狀與目標形狀之間的偏差來對第一致動器2的驅動及第二致動器4的驅動執行回饋控制。例如，可以基於為各個第一致動器2提供的位移感測器3的偵測結果來計算反射鏡1的反射表面1a的形狀，或者可以如圖3中所示那樣使用用於測量反射鏡1的反射表面1a的形狀的測量單元30，且可以從其測量結果獲取反射鏡1的反射表面1a的形狀。測量單元30可以例如為干涉儀、Shack-Hartmann感測器等。在使用測量單元30的情況下，不必提供位移感測器3。目標形狀可以被確定為使得包括光學設備100的投影光學系統中的光學像差在容許範圍內。
接著，將參照圖1B給出第一實施例中的光學設備100中的第一致動器2及第二致動器4的配置的描述。圖1B是顯示第一實施例中的光學設備100中的致動器的示例性配置的圖示。在圖1B中，黑色圓圈表示第一致動器2，白色圓圈表示第二致動器4。
在曝光設備中，因為要求即時地精確地校正投影光學系統中的光學像差，所以可以快速地精確地使光學設備中的反射鏡1的反射表面1a變形。在第一實施例 中的光學設備100中，具有相對高的回應速度的致動器(諸如壓電致動器或磁致伸縮致動器)用作第一致動器2。此外，具有相對高的回應速度的致動器(諸如線性馬達、靜電致動器或電磁鐵)用作第二致動器4。第一致動器2及第二致動器4由控制單元10控制，以使得反射鏡1的反射表面1a的形狀接近目標形狀。從而可以實現反射鏡1的反射表面1a的快速變形。
同時，為了精確地使反射鏡1的反射表面1a變形，可以降低反射鏡1的反射表面1a相對於致動器(第一致動器2或第二致動器4)的驅動的靈敏度(在下文中，反射鏡1的靈敏度)。反射鏡1的靈敏度例如是當致動器被驅動預定量時反射鏡1的反射表面1b所經受的變形量，且在使用具有大的孔徑的薄反射鏡作為反射鏡1的情況下，反射鏡1的靈敏度可以隨著孔徑更大、厚度更小而更大。由於此原因，為了精確地使反射鏡1變形，需要非常高的驅動解析度，這導致驅動控制的困難。此外，需要致動器的驅動範圍與驅動解析度之間的比值(常被稱為動態範圍)非常大的致動器，且還可以認為，具有這樣的大的動態範圍的致動器不能被製造。因此，特別是在使用具有大的孔徑的薄反射鏡作為反射鏡1的情況下，希望降低反射鏡1的靈敏度。藉由因而降低反射鏡1的靈敏度，例如，當使反射鏡1的反射表面1a略微變形時，可以容易地控制第一致動器2及第二致動器4。此外，藉由降低反射鏡1的靈敏度，即使致動器的驅動力發生誤差， 也可以減小反射鏡1的反射表面1a相對於驅動力的此誤差的變形。由於此原因，在第一實施例中的光學設備100中，第一致動器2及第二致動器4被配置為降低反射鏡1的靈敏度。在此，將參照圖4A至圖7D給出相對於第一致動器2及第二致動器4的配置的反射鏡1的靈敏度的分析結果的描述。
以下將使用具有第一致動器2及第二致動器4的不同配置的三個分析模型1至3來描述分析反射鏡1的靈敏度的結果。在反射鏡1的靈敏度的分析中使用的光學設備100的反射鏡1及各部分的規範如表1中所示。在表1中，壓電致動器用作第一致動器2，線性馬達各由可移動元件4a的磁鐵及被配置為經由間隙面對該磁鐵的定子4b的線圈構成，且用作第二致動器4。在反射鏡1的靈敏度的分析中，配置致動器(第一致動器2或第二致動器4)的位置在三個分析模型1至3中是相同的。在分析模型1至3中，如表2中所示，八個致動器配置在與反射鏡1的中心相隔距離D3/2的第一位置處，16個致動器配置在與反射鏡1的中心相隔距離D4/2的第二位置處，16個致動器配置在與反射鏡1的中心相隔距離D5/2的第三位置處。
首先，將參照圖4A至圖6B描述三個分析模型1至3。圖4A及4B是顯示分析模型1的圖示，在分析模型1中，不使用第一致動器2，僅配置了第二致動器4。圖4A是顯示從側面(在y方向上)看到的分析模型1的圖示，圖4B是顯示分析模型1中的第二致動器4的配置的圖示。圖5A及5B是顯示分析模型2的圖示，在分析模型2中，八個第一致動器2按相等間隔配置在第二位置處。圖5A是顯示從側面(在y方向上)看到的分析模型2的圖示，圖5B是顯示分析模型2中的第一致動器2及第二致動器4的配置的圖示。圖6A及6B是顯示分析模型3的圖示，在分析模型3中，八個第一致動器2按相等間隔配置在第三位置處。圖6A是顯示從側面(在y方向上)看到的分析模型3的圖示，圖6B是顯示分析模型3中的第一致動器2及第二致動器4的配置的圖示。
接著，將參照圖7A至7D描述分析模型1至3中的反射鏡1的靈敏度的分析結果。圖7A至7D是顯示分析在致動器(第一致動器2或第二致動器4)的驅動力發生1mN誤差的情況下反射鏡1的反射表面1a的變形量作為反射鏡1的靈敏度的結果的圖示。圖7A是顯示分析模型1中的反射表面1a的變形量的圖示，圖7B是顯示分析模型2中的反射表面1a的變形量的圖示，圖7C是顯示分析模型3中的反射表面1a的變形量的圖示。圖7D是顯示分析模型1至3與反射表面1a的變形量之間的關係的圖示。如圖7A至7D中所示，分析模型1中的反射表面1a的變形量為0.84nmRMS，而分析模型2中的反射表面1a的變形量降至0.19nmRMS，分析模型3中的反射表面1a的變形量進一步降至0.03nmRMS。也就是說，在分析模型3中，反射表面1a的變形量可以降至分析模型1中的變形量的3.6%。這意味著，在反射鏡1的中心部分藉由固定構件7固定到底板6的光學設備100中，反射鏡1的剛性在較靠近反射鏡1的外周的部分中較小，且反射鏡1可以回應於致動器的驅動力的小誤差靈敏地變形。
根據以上分析結果，在反射鏡1的中心部分被固定的第一實施例中的光學設備100中，具有高剛性的第一致動器2可以被配置為向反射鏡1的背面1b中的外側區域施加力。也就是說，第一致動器2可以被配置為每個第一致動器2與反射鏡1的中心之間的距離比反射鏡1的中心與反射鏡1的外周之間的距離的一半長。此時，第 一致動器2可以靠近反射鏡1的外周配置，在反射鏡1的外周，對致動器的驅動力的靈敏度最大。例如，第一致動器2可以被配置為使得每個第一致動器2與反射鏡1的中心之間的距離及反射鏡1的中心與反射鏡1的外周之間的距離的比值為90%或更大。此外，第一致動器2可以被配置為使得每個第一致動器2與反射鏡1的中心之間的距離大於或等於各個第二致動器4與反射鏡1的中心之間的距離之中的最大值。例如，第二致動器4可以配置在第一致動器2向內(在反射鏡1的中心一側)，以使得反射鏡1的反射表面1a的被用於使基板曝光的光照射的部分由於第二致動器4而變形。
在此，為了校正包括在反射鏡1的反射表面1b中可能頻繁發生的2θ分量的誤差，如圖1B中所示，可以相對於反射鏡1的中心，按相等的角間隔配置第一致動器2之中的四個第一致動器2a至2d。也就是說，四個第一致動器2a至2d可以被配置為使得由兩個鄰接的第一致動器2及反射鏡1的中心形成的角度(角間隔)為90度。此外，第一致動器2可以被配置為使得各個第一致動器2與反射鏡1的中心之間的距離彼此相等。因為從而可以使得各個第一致動器2所保持的反射鏡1的品質幾乎彼此相等，所以更易於控制第一致動器2的驅動及第二致動器4的驅動，以使得反射鏡1的反射表面1b的形狀接近目標形狀。另一方面，第一致動器2還可以被配置為使得各個第一致動器2與反射鏡1的中心之間的距離及反射鏡 1的中心與反射鏡1的外周之間的距離的比值彼此相等。當反射鏡1的形狀不是圓形時，例如，如正方形形狀的情況下那樣，這是有效的。
如上所述，第一實施例中的光學設備100包括複數個第一致動器2及複數個第二致動器4，以便向其中心部分藉由固定構件7固定到底板6的反射鏡1的背面1b施加力。第一致動器2具有比第二致動器4的剛性高的剛性，且被配置為使得每個第一致動器2與反射鏡1的中心之間的距離大於或等於各個第二致動器4與反射鏡1的中心之間的距離之中的最大值。此外，第一致動器2可以被配置為向反射鏡1的背面1b的外側區域施加力。控制單元10基於反射鏡1的反射表面1a的形狀與目標形狀之間的偏差來控制第一致動器2及第二致動器4。光學設備100從而可以快速地精確地使反射鏡1的反射表面1a的形狀變形。
在此，儘管具有比第二致動器4的剛性大的剛性的致動器(諸如壓電致動器或磁致伸縮致動器)用作第一實施例中的光學設備100中的第一致動器2，但是本發明不限於此。例如，如圖8中所示，第一致動器2可以是與第二致動器4相同類型的致動器20，即，各具有彼此不接觸的可移動元件20a及定子20b的致動器，諸如線性馬達、靜電致動器或電磁鐵。在這種情況下，基於設置在用作第一致動器2的致動器20附近的位移感測器3的輸出，對每個致動器20的位移量執行伺服控制。伺服剛 性從而添加到第一致動器2，且第一致動器2顯示出如同它們的機械剛性增大的特性。因而可以使得第一致動器2的剛性高於第二致動器4的剛性，且可以獲得與使用壓電致動器、磁致伸縮致動器等作為第一致動器2的情況下的效果類似的效果。
曝光設備的實施例
將參照圖9描述本實施例中的曝光設備。本實施例中的曝光設備50可以包括照射光學系統IL、投影光學系統PO、能夠保持且移動遮罩55的遮罩台MS、以及能夠保持且移動基板56的基板台WS。曝光設備50還可以包括控制用於使基板56曝光的處理的控制單元51。
從照射光學系統IL中所包括的光源(未顯示)發射的光可以使用照射光學系統IL中所包括的狹縫(未顯示)來在遮罩55上形成例如在y方向上伸長的弧形照射區域。遮罩55及基板56分別由遮罩台MS及基板台WS保持，且經由投影光學系統PO配置在幾乎光學共軛的位置(投影光學系統PO的物面及像面的位置)處。投影光學系統PO具有預定投影倍率(例如，1/2倍)，且將形成在遮罩55上的圖案投影到基板56上。在與投影光學系統PO的物面平行的方向(例如，x方向)上，以與投影光學系統PO的投影倍率相應的速度比，掃描遮罩台MS及基板台WS。形成在遮罩55上的圖案從而可以被轉印到基板56。
例如，如圖9中所示，投影光學系統PO可以被組態為包括平面鏡52、凹面鏡53及凸面鏡54。從照射光學系統IL發射且傳過遮罩55的曝光光線的光路被平面鏡52的第一面52a弄彎，且進入凹面鏡53的第一面53a。在凹面鏡53的第一面53a處反射的曝光光線在凸面鏡54處反射，且進入凹面鏡53的第二面53b。在凹面鏡53的第二面53b處反射的曝光光線的光路被平面鏡52的第二面52b弄彎，且在基板上形成圖像。在如上所述那樣組態的投影光學系統PO中，凸面鏡54的表面是光瞳。
在曝光設備50的上述組態中，第一實施例中的光學設備100可以例如用作用於使用作反射鏡1的凹面鏡53的反射表面變形的設備。作為在曝光設備50中使用第一實施例中的光學設備100的結果，可以快速地精確地使凹面鏡53的反射表面(第一面53a及第二面53b)變形，且即時地精確地校正投影光學系統PO中的光學像差。在此，曝光設備50中的控制單元51可以被組態為包括用於控制光學設備100中的致動器的控制單元10。
製造物品的方法的實施例
根據本發明的實施例的製造物品的方法適合於製造諸如微裝置的物品，該物品可以例如是半導體裝置，或者例如是具有微結構的元件。本實施例中的製造物品的方法包括：使用上述曝光設備在施加在基板上的感光材料上形成潛像圖案的處理(即，使基板曝光的處理)；以及使在上 述處理中在其上形成潛像圖案的基板顯影的處理。此外，該製造方法包括其他已知的處理(氧化、沉積、蒸發、摻雜、拋光、蝕刻、光阻剝離、切片、黏合、封裝等)。與傳統方法相比，本實施例中的製造物品的方法在物品的性能、品質、生產率及生產成本中的至少一個上是有利的。
雖然已經參照示例性實施例描述了本發明，但是要理解本發明不限於所公開的示例性實施例。申請專利範圍的範圍應遵循最寬泛的解釋，以便包含所有這樣的修改以及均等的結構及功能。
1‧‧‧反射鏡
1a‧‧‧反射表面
1b‧‧‧背面
2‧‧‧第一致動器
2a‧‧‧第一端
2b‧‧‧第二端
2a、2b‧‧‧第一致動器
3‧‧‧位移感測器
4‧‧‧第二致動器
4a‧‧‧可移動元件
4b‧‧‧定子
5‧‧‧構件
6‧‧‧底板
7‧‧‧固定構件
10‧‧‧控制單元
100‧‧‧光學設備

Claims (16)

  1. 一種使反射鏡的反射表面變形的光學設備，包含：底板；固定構件，該固定構件被組態為將該反射鏡的包括該反射鏡的中心的部分固定到該底板；及複數個致動器，每個致動器具有連接到該反射鏡的第一端及連接到該底板的第二端，且被組態為向在該反射表面的相反側的背面施加力，其中，複數個致動器包括複數個第一致動器及複數個第二致動器，當接收到單位量的外力時，該第二致動器的第一端與第二端之間的距離的改變大於該第一致動器的第一端與第二端之間的距離的改變，且複數個第一致動器被配置為使得每個第一致動器與該反射鏡的中心之間的距離比該反射鏡的中心與該反射鏡的外周之間的距離的一半長。
  2. 根據申請專利範圍第1項所述的光學設備，其中，複數個第一致動器及複數個第二致動器被配置為使得每個第一致動器與該反射鏡的中心之間的距離大於或等於各個第二致動器與該反射鏡的中心之間的距離之中的最大值。
  3. 根據申請專利範圍第1項所述的光學設備，其中，複數個第一致動器被配置為使得各個第一致動器與該反射鏡的中心之間的距離彼此相等。
  4. 根據申請專利範圍第1項所述的光學設備，其中，複數個第一致動器被配置為使得各個第一致動器與該反射鏡的中心之間的距離與該反射鏡的中心與該反射鏡的外周之間的距離的比值彼此相等。
  5. 根據申請專利範圍第1項所述的光學設備，其中，該第一致動器的數量小於該第二致動器的數量。
  6. 根據申請專利範圍第1項所述的光學設備，其中，複數個第一致動器包括相對於該反射鏡的中心按相等的角間隔配置的四個第一致動器。
  7. 根據申請專利範圍第1項所述的光學設備，另包含：測量單元，該測量單元被組態為測量該反射表面的形狀；及控制單元，該控制單元被組態為基於該測量單元所測量的該反射表面的形狀與目標形狀之間的偏差來控制該第一致動器及該第二致動器的驅動。
  8. 根據申請專利範圍第1項所述的光學設備，另包含：感測器，該感測器被組態為偵測指示複數個第一致動器中的每個的驅動狀態的資訊；及控制單元，該控制單元被組態為基於來自該感測器的輸出來控制該第一致動器及該第二致動器的驅動。
  9. 根據申請專利範圍第1項所述的光學設備， 其中，每個第一致動器藉由變形以改變其第一端與第二端之間的距離來向該背面施加力。
  10. 根據申請專利範圍第9項所述的光學設備，其中，每個第一致動器包括壓電致動器、磁致伸縮致動器及螺桿構件中的至少一個。
  11. 根據申請專利範圍第1項所述的光學設備，其中，每個第二致動器具有彼此不接觸的定子及可移動元件，且該定子及該可移動元件中的一個連接到該背面，另一個連接到該底板。
  12. 根據申請專利範圍第11項所述的光學設備，其中，每個第二致動器包括線性馬達、靜電致動器及電磁鐵中的至少一個。
  13. 一種使反射鏡的反射表面變形的光學設備，包含：底板；固定構件，該固定構件被組態為將該反射鏡的包括該反射鏡的中心的部分固定到該底板；及複數個致動器，每個致動器具有連接到該反射鏡的第一端及連接到該底板的第二端，且被組態為向在該反射表面的相反側的背面施加力，其中，複數個致動器包括複數個第一致動器及複數個第二致動器，當接收到單位量的外力時，該第二致動器的第一端與 第二端之間的距離的改變大於該第一致動器的第一端與第二端之間的距離的改變，且複數個第一致動器及複數個第二致動器被配置為使得每個第一致動器與該反射鏡的中心之間的距離大於或等於各個第二致動器與該反射鏡的中心之間的距離之中的最大值。
  14. 一種使遮罩圖案投影到基板上的投影光學系統，包括根據申請專利範圍第1至13項中的任一者所述的光學設備。
  15. 一種使基板曝光的曝光設備，包括根據申請專利範圍第14項所述的投影光學系統。
  16. 一種製造物品的方法，該製造物品的方法包含：使用曝光設備在基板上形成圖案；及對其上已經形成該圖案的該基板進行處理，以製造該物品，其中，該曝光設備使該基板曝光，且包括包含光學設備的投影光學系統，其中，該光學設備使反射鏡的反射表面變形，且包括：底板；固定構件，該固定構件被組態為將該反射鏡的包括該反射鏡的中心的部分固定到該底板；及複數個致動器，每個致動器具有連接到該反射鏡的第一端及連接到該底板的第二端，且被組態為向在該反射表 面的相反側的背面施加力，其中，複數個致動器包括複數個第一致動器及複數個第二致動器，當接收到單位量的外力時，該第二致動器的第一端與第二端之間的距離的改變大於該第一致動器的第一端與第二端之間的距離的改變，且複數個第一致動器被配置為使得每個第一致動器與該反射鏡的中心之間的距離比該反射鏡的中心與該反射鏡的外周之間的距離的一半長。
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