JP6808381B2 - 保持装置、投影光学系、露光装置、および物品製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の第1実施形態に係る保持装置を含む露光装置の構成を示す概略図である。露光装置100は、例えば、液晶表示デバイスや有機ELデバイスなどのフラットパネルの製造工程におけるリソグラフィー工程にて使用されうる。特に本実施形態では、露光装置100は、ステップ・アンド・スキャン方式にて、不図示のレチクル(マスク)に形成されているパターン像を不図示の基板上に転写(露光)する走査型投影露光装置とする。
図4は、本発明の第2実施形態に係る露光装置200の構成を示す概略図である。第1実施形態と同じ機能を持つ部材に関しては、同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。本実施形態では、凹面ミラーMが投影光学系を構成する鏡筒230に接合された固定部材210により保持される。第1実施形態と同様に凹面ミラーMは自重変形した状態で反射面の光軸(図中1点鎖線で示す)が水平になるように、固定部材210の支持方向(図中実線で示す)を傾けている。自重変形後の凹面ミラーM´の形状は、図中2点鎖線で示されている。実線は自重変形前の凹面ミラーMの形状を示す。第1実施形態と同様に凹面ミラーMの中心部には、局所的な凹凸が発生する。より高精度なパターン転写性能を実現するために、局所的な変形は事前に加工により補正してもよい。本実施形態の構成によれば、アクチュエータが不要となるため、より低コストでパターン転写性能が良好な走査型露光装置を実現できる。
本実施形態にかかる物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程(基板を露光する工程)と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像(処理)する工程とを含む。さらに、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は、これらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
110 保持装置
112 支持部材
113 アクチュエータ
M ミラー(光学素子)
Claims (10)
- 曲面を有し、自重で変形する光学素子を保持する保持装置であって、
前記光学素子の所定の位置を固定支持する支持部材であり、前記支持部材により前記光学素子を固定支持する際に、前記光学素子の光軸を水平方向に対して傾けた状態で前記光学素子を支持することによって、前記光学素子を固定支持した状態において、前記光学素子が自重で変形して前記光学素子の光軸が水平方向を向くように固定支持する支持部材と、
前記支持部材によって前記光学素子を固定支持した状態で、前記光学素子に力を加えて前記曲面を変形させるアクチュエータと、
を有することを特徴とする保持装置。 - 前記アクチュエータは、前記光学素子の裏面の複数箇所にそれぞれ力を加えて前記曲面を変形させる複数のアクチュエータを含むことを特徴とする請求項1に記載の保持装置。
- 前記曲面は、凹面であり、前記支持部材は、前記光学素子を固定支持する際に、前記光学素子の光軸を水平方向に対して上向きに傾けた状態で前記光学素子を支持することを特徴とする請求項1または2に記載の保持装置。
- 前記曲面は、凸面であり、前記支持部材は、前記光学素子を固定支持する際に、前記光学素子の光軸を水平方向に対して下向きに傾けた状態で前記光学素子を支持することを特徴とする請求項1または2に記載の保持装置。
- 曲面を有する光学素子を保持する保持装置であって、
前記光学素子を支持する支持部材を有し、
前記光学素子の光軸の方向と重力の方向とを含む平面内において、前記支持部材は、前記光軸の方向に対して傾けて前記光学素子を支持しており、
前記支持部材は、前記光学素子に形成された孔に固定されていることを特徴とする保持装置。 - 前記曲面は、反射面を含み、前記支持部材は、前記曲面とは反対側の前記光学素子の裏面側から前記光学素子を支持することを特徴とする請求項1乃至5のうちいずれか1項に記載の保持装置。
- 前記支持部材が前記光学素子を支持する前記裏面の部分は、前記曲面のうち有効領域外の部分の反対側の部分であることを特徴とする請求項6に記載の保持装置。
- 原版のパターンを基板に投影する投影光学系であって、
曲面を有する光学素子と、
前記光学素子を保持する請求項1乃至7のうちいずれか1項に記載の保持装置と、
を含むことを特徴とする投影光学系。 - 基板を露光する露光装置であって、
請求項8に記載の投影光学系を含み、
前記投影光学系を介して前記基板を露光する、
ことを特徴とする露光装置。 - 請求項9に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された前記基板を現像する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
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