JP2011164295A - 光学装置、光学素子交換装置、及び露光装置 - Google Patents

光学装置、光学素子交換装置、及び露光装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2011164295A
JP2011164295A JP2010025850A JP2010025850A JP2011164295A JP 2011164295 A JP2011164295 A JP 2011164295A JP 2010025850 A JP2010025850 A JP 2010025850A JP 2010025850 A JP2010025850 A JP 2010025850A JP 2011164295 A JP2011164295 A JP 2011164295A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lens barrel
optical element
optical
lens
holding member
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2010025850A
Other languages
English (en)
Inventor
Hisaya Okada
尚也 岡田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP2010025850A priority Critical patent/JP2011164295A/ja
Publication of JP2011164295A publication Critical patent/JP2011164295A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Lens Barrels (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

【課題】交換可能な光学素子を収納する鏡筒機構の大型化を抑制し、かつ必要に応じて交換後の光学素子の位置の再現性又は位置決め精度を高める。
【解決手段】複数のレンズを備える光学装置であって、その複数のレンズのうちのレンズL1を収容するとともに、レンズL1が通過可能な開口23aが側面に形成された鏡筒モジュール23と、開口23aが形成された鏡筒モジュール23の剛性を強化するスペーサ31と、鏡筒モジュール23の開口23aの近傍に固定された歪みゲージ32A〜32E,33A〜33Eとを備える。
【選択図】図2

Description

本発明は、複数の光学素子を備える光学装置、鏡筒内に配置された少なくとも1つの光学素子の交換装置、及びこの交換装置を備える光学装置に関する。さらに、本発明は、その光学装置を備える露光装置、及びこの露光装置を用いるデバイス製造方法に関する。
半導体素子等の各種電子デバイス(マイクロデバイス)の製造工程中で、レチクルのパターンを投影光学系を介して感光基板上に転写露光するために、ステッパーやスキャニングステッパー等の露光装置が使用されている。その投影光学系を構成する複数のレンズ等の光学素子は、それぞれホルダを介して鏡筒内に所定の位置関係で保持されている。最近では、露光光の照射熱による結像特性の変動を補正するために、所定の光学素子の位置及び傾斜角を調整する結像特性補正機構が備えられている。
また、経年変化による光学素子の特性の変化、及び/又は露光光の照射熱による光学素子のコーティング膜の特性劣化等を補正するために、例えば投影光学系の耐用期間中に数回、別の光学素子との取り替え又は同じ光学素子の特性補正後の再設置を含む光学素子の交換が要求されることがある。従来は、投影光学系の光学素子のうちで、正又は負の屈折力を持ち、高い位置決め精度が求められる光学素子よりも低い位置決め精度で保持される平板ガラス等のシンプルな形状の光学素子の交換を行う交換装置として、投影光学系の鏡筒の側面に設けられた開口に固定された枠状の案内部材と、交換対象の光学素子を保持するとともに、その案内部材内に常時一部が収納された状態で、かつその案内部材に沿って移動可能な保持部材とを備える交換装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。
特開2007−208257号公報
従来の光学素子の交換装置は、光学素子の保持部材と案内部材とが鏡筒に常時支持された状態であるため、投影光学系の鏡筒機構が大型化するという問題があった。さらに、従来の交換装置は、交換後の光学素子は保持部材から取り外す必要があり、例えばコーティング処理等を施した光学素子を再び保持部材に取り付ける際に、保持部材と光学素子との位置関係が大きくずれて、その光学素子を鏡筒内に設置したときの位置の再現性が低いという問題があった。
なお、従来の交換対象は平板ガラス等に限られていたため、交換後の位置の再現性が低くとも、使用可能であった。しかしながら、今後は、レンズ又は凹面若しくは凸面のミラーのように、鏡筒内に設置したときに高い位置の再現性が要求される光学素子も交換対象とすることが望まれている。
本発明はこのような課題に鑑み、交換(特性補正後の再設置を含む)が可能な光学素子を収納する鏡筒機構の大型化を抑制することを目的とする。また、本発明は、必要に応じて交換後の光学素子の位置の再現性又は位置決め精度を高めることを目的とする。
本発明の第1の態様によれば、複数の光学素子を備える光学装置であって、その複数の光学素子のうち第1の光学素子を収容するとともに、その第1の光学素子が通過可能な開口が側面に形成された第1鏡筒モジュールと、その開口が形成されたその第1鏡筒モジュールの剛性を強化する剛性強化機構と、を備える光学装置が提供される。
また、本発明の第2の態様によれば、鏡筒部材内に交換可能に配置された少なくとも1つの光学素子の交換装置が提供される。この光学素子交換装置は、その光学素子を保持し、その鏡筒部材の側面に形成された開口を介して、その鏡筒部材の内部に移動可能な保持部材と、その鏡筒部材内に設けられて、その保持部材を着脱可能に支持する支持部材と、その支持部材を介して、その光学素子の位置を調整する調整機構と、その鏡筒部材内に設けられて、その鏡筒部材のその開口の位置とその支持部材との間でその保持部材の移動経路を規定する案内部材と、を備えるものである。
また、本発明の第3の態様によれば、鏡筒部材内に交換可能に配置された少なくとも1つの光学素子の交換装置が提供される。この光学素子交換装置は、その光学素子の位置を調整可能な調整機構と、その調整機構を介してその光学素子を保持するととともに、その鏡筒部材の側面に形成された開口を介して、その鏡筒部材の内部に移動可能な保持部材と、その鏡筒部材内に設けられて、その鏡筒部材のその開口の位置とその鏡筒部材の内部の設置位置との間でその保持部材の移動経路を規定する案内部材と、その鏡筒部材のその設置位置にその保持部材を固定する固定機構と、を備えるものである。
また、本発明の第4の態様によれば、複数の光学素子を有する光学装置において、その複数の光学素子のうち、少なくとも1つの光学素子を交換するために、本発明の光学素子交換装置を備える光学装置が提供される。
また、本発明の第5の態様によれば、露光光でパターンを照明し、その露光光でそのパターン及び投影光学系を介して基板を露光する露光装置において、本発明の光学装置を備える露光装置が提供される。
また、本発明の第6の態様によれば、本発明の露光装置を用いて基板上に感光層のパターンを形成することと、そのパターンが形成された基板を処理することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
本発明の光学装置又は光学素子交換装置によれば、鏡筒部材の開口に直接に案内部材を設ける必要がないため、交換可能な光学素子が収納される鏡筒部材(鏡筒機構)の大型化が抑制できる。
また、本発明の光学素子交換装置によれば、交換対象の光学素子は保持部材と一体的に交換されるため、交換後には、保持部材と鏡筒部材との位置関係をほぼ元の位置関係に戻すだけで、光学素子の位置の再現性又は位置決め精度を向上できる。
第1の実施形態の露光装置を示す一部を切り欠いた図である。 (A)は図1中の鏡筒モジュール23及び交換装置17を示す斜視図、(B)は図2(A)の鏡筒モジュール23等を示す平面図である。 (A)は図2(A)からレンズホルダ25及びスペーサ31を取り外した状態を示す斜視図、(B)は図3(A)の鏡筒モジュール23等を示す平面図である。 (A)は図3(B)のAA線に沿う断面図、(B)は図3(B)のBB線に沿う断面図、(C)は図2(A)のスペーサ31を示す拡大斜視図、(D)はスペーサ31を示す拡大断面図である。 鏡筒モジュール23の開口を通してレンズホルダ25を移動する状態を示す斜視図である。 第2の実施形態の交換装置17Aを示す斜視図である。 半導体デバイスの製造工程の一例を示すフローチャートである。
[第1の実施形態]
以下、本発明の第1の実施形態につき図1〜図5を参照して説明する。本実施形態は、スキャニングステッパー(スキャナー)よりなる走査露光型の露光装置(投影露光装置)の投影光学系内のレンズを交換するために本発明を適用したものである。
図1は、本実施形態の露光装置100の概略構成を示す。図1において、露光装置100は、露光光源(不図示)、この露光光源からの露光用の照明光(露光光)ILでレチクルR(マスク)を照明する照明光学系4、レチクルRを保持して移動するレチクルステージRST、レチクルRのパターンの像をレジスト(感光材料)が塗布されたウエハW(感光基板)上に投影する投影光学系PLを含む投影光学装置18、及びウエハWを保持して移動するウエハステージWSTを備えている。さらに露光装置100は、ステージの駆動系、投影光学系PLの結像特性を所定の状態に維持するための制御を行う結像特性制御系16、この結像特性制御系16によって制御される結像特性補正機構(不図示)、及び装置全体の動作を統括的に制御するコンピュータを含む主制御系14等を備えている。
露光光源としては、一例としてArFエキシマレーザ(波長193nm)が用いられている。なお、露光光源としては、KrFエキシマレーザ(波長248nm)のような発振段階で紫外域のレーザ光を放射するもの、固体レーザ光源(YAG又は半導体レーザ等)からの近赤外域のレーザ光を波長変換して真空紫外域の高調波レーザ光を放射するもの、又は水銀放電ランプ等も使用できる。
照明光学系4は、例えば米国特許出願公開第2003/0025890号明細書などに開示されるように、回折光学素子等を含み瞳面5における光量分布を円形、輪帯状、又は複数極の領域等に設定する光量分布設定光学系、オプティカルインテグレータ(フライアイレンズ、ロッドインテグレータなど)を含む照度均一化光学系、レチクルブラインド(可変視野絞り)、及びコンデンサ光学系等を含んでいる。照明光学系4は、レチクルブラインドで規定されたレチクルRのパターン面のスリット状の照明領域を照明光ILによりほぼ均一な照度で照明する。
レチクルRに形成された回路パターン領域のうち、照明光ILによって照射される部分(パターン)の像は、両側テレセントリック(又はウエハ側に片側テレセントリック)で投影倍率βが縮小倍率の投影光学系PLを介してウエハWの一つのショット領域に結像投影される。一例として、投影光学系PLの投影倍率βは1/4、視野直径は27〜30mm程度である。投影光学系PLは屈折系であるが、その他に反射屈折系等も使用できる。以下、投影光学系PLの光軸AXと平行な方向に沿ってZ軸を取り、Z軸に垂直な平面(本実施形態ではほぼ水平面)内で図1の紙面に平行な方向にX軸を、図1の紙面に垂直な方向にY軸を取って説明する。走査露光時におけるレチクルR及びウエハWの走査方向はY軸に平行な方向(Y方向)である。また、X軸、Y軸、及びZ軸の回りの回転方向をそれぞれθx、θy、及びθz方向とも呼ぶこととする。
まず、投影光学系PLの物体面(第1面)側において、レチクルRを保持するレチクルステージRSTは、走査露光時にレチクルベース(不図示)の上面をエアベアリングを介して少なくともY方向に定速移動する。レチクルステージRSTの座標位置(X方向、Y方向の位置、及びθz方向の回転角)は、移動鏡Mrとこれに対向して配置されたレーザ干渉計システム10とで逐次計測され、その移動はリニアモータ等で構成される駆動系11によって行われる。レーザ干渉計システム10の計測情報はステージ制御ユニット15に供給され、ステージ制御ユニット15はその計測情報及び主制御系14からの制御情報に基づいて、駆動系11の動作を制御する。
一方、投影光学系PLの像面(第2面)側において、ウエハWをウエハホルダ(不図示)を介して保持するウエハステージWSTは、走査露光時に少なくともY方向に定速移動できるとともに、X方向及びY方向にステップ移動できるように、エアベアリングを介して不図示のウエハベースの上面に載置されている。また、ウエハステージWSTの座標位置(X方向、Y方向の位置、及びθz方向、θx方向、θy方向の回転角)は、投影光学系PL下部の基準鏡Mfと、ウエハステージWSTの移動鏡Mw(鏡面加工された側面でもよい)と、これに対向して配置されたレーザ干渉計システム12とで逐次計測され、その移動はリニアモータ等で構成される駆動系13によって行われる。レーザ干渉計システム12の計測情報はステージ制御ユニット15に供給され、ステージ制御ユニット15はその計測情報及び主制御系14からの制御情報に基づいて、駆動系13の動作を制御する。
また、ウエハステージWSTには、ウエハWのZ方向の位置(フォーカス位置)と、θx方向及びθy方向の傾斜角とを制御するZレベリング機構も備えられている。そして、例えば斜入射方式の多点のオートフォーカスセンサ(不図示)で計測されるウエハW表面の像面からのデフォーカス量が許容範囲内に収まるように、オートフォーカス方式でそのZレベリング機構が駆動される。
さらに、ウエハWの露光前に予めレチクルRとウエハWとのアライメントを行っておくために、レチクルRの位置を計測するためのレチクルアライメント系(不図示)と、ウエハWのアライメントマークを検出するためのオフアクシス方式のアライメント系ALGとが設けられている。
そして、露光装置100によるウエハWの露光時には、レチクルRへの照明光ILの照射を開始して、レチクルRのパターンの一部の投影光学系PLを介した像をウエハWの一つのショット領域に投影しつつ、レチクルステージRSTとウエハステージWSTとを投影光学系PLの投影倍率βを速度比としてY方向に同期して移動する走査露光動作によって、そのショット領域にレチクルRのパターン像が転写される。その後、照明光ILの照射を停止して、ウエハステージWSTを介してウエハWをX方向、Y方向にステップ移動する動作と、上記の走査露光動作とを繰り返すことによって、ステップ・アンド・スキャン方式でウエハWの全部のショット領域にレチクルRのパターン像が転写される。
さて、このように露光を継続していると、経年変化及び/又は照明光ILの照射熱等の影響によって、投影光学系PL中のレンズ等の光学素子の特性(面精度等)及び/又は反射防止膜の特性等が次第に劣化することがある。そこで、本実施形態の投影光学装置18は、投影光学系PL中の所定の光学素子の交換を容易に行うための交換装置17を備えている。以下、投影光学系PLを含む投影光学装置18の構成につき詳細に説明する。
図1において、投影光学系PLは、複数の光学素子としてのレンズL1,L2,L3、他のレンズ(不図示)、及び平板ガラス状の収差補正板(不図示)と、これらの光学素子を収納する鏡筒機構20とを有する。鏡筒機構20は、それぞれ光学素子が収納される線膨張係数が比較的小さい金属製の複数の円筒状の鏡筒モジュール(分割鏡筒)を順次、フランジ部を複数のボルト(不図示)で固定することによって連結して構成されている。すなわち、鏡筒機構20は、複数の鏡筒モジュールを含む円筒状の下部鏡筒21Aと、下部鏡筒21の上端に連結された鏡筒モジュールを兼用するフランジ部材22と、フランジ部材22の上端に固定された鏡筒モジュール23と、鏡筒モジュール23の上端に固定された鏡筒モジュール24と、鏡筒モジュール24の上端に固定された複数の鏡筒モジュールを含む上部鏡筒21Bとを有する。フランジ部材22が、コラム機構19に設けられた開口を覆うようにコラム機構19に固定されている。
また、フランジ部材22(第2鏡筒モジュール)内にレンズホルダ26Aを介して負の屈折力を持つレンズL3が保持され、鏡筒モジュール23(第1鏡筒モジュール)内にレンズホルダ25等を介して正の屈折力を持つレンズL1が保持され、鏡筒モジュール24(第3鏡筒モジュール)内にレンズホルダ26Bを介して正の屈折力を持つレンズL2が保持されている。レンズホルダ25,26A,26Bも線膨張係数が比較的小さい金属製である。さらに、鏡筒モジュール23の側面(本実施形態では、鏡筒モジュール23の+X方向の側面)にレンズL1を保持した状態のレンズホルダ25が通過可能な細長い開口23aが形成され、鏡筒モジュール23のレンズL1(レンズホルダ25)を交換するための交換装置17が装着されている。
また、一例として、上部鏡筒21B内の所定の複数のレンズ(不図示)のZ方向の位置及びθx方向、θy方向の傾斜角を補正する機械的な補正機構(不図示)が設けられている。このような機械的な補正機構は、例えば米国特許出願公開2006/244940号明細書に開示されている。結像特性制御系16は、露光中に、例えばディストーション等の回転対称な収差の変動量が許容範囲内に収まるようにその機械的な補正機構を駆動する。
次に、図2(A)は図1中の鏡筒モジュール23及び交換装置17を示す斜視図、図2(B)は図2(A)の鏡筒モジュール23等を示す平面図である。図2(A)において、鏡筒モジュール23は、輪帯状の底板部23bと輪帯状の上板部23dとを円筒部23cで連結した形状であり、底板部23b及び上板部23dの外周のフランジ部にはほぼ等角度間隔でそれぞれ連結用のボルトを通すための複数の開口23e及び23fが形成されている。また、円筒部23c(鏡筒モジュール23の側面)の一部に円弧状の細長い開口23aが形成されている。また、開口23a内に、ほぼ等角度間隔で複数(本実施形態では5個)の高さが調整可能なスペーサ31が着脱可能に設置されている。スペーサ31は、鏡筒モジュール23の開口23aが形成された部分の剛性を強化する剛性強化機構である。スペーサ31の高さは、それぞれ開口23aのZ方向の間隔を広げるように調整されている。スペーサ31によって、開口23aの間隔が狭くなって鏡筒モジュール23が歪むことが防止されている。
図4(D)の拡大断面図で示すように、スペーサ31は、内側にネジ部31dが形成された円筒状の固定部31aと、ネジ部31dに螺合するネジ部31eが下端部に形成された棒状の可動部31bとから構成され、可動部31bの先端の外周面に回転用の小型のレンチを差し込むための複数の穴部31cが形成されている。図4(C)に示すように、可動部31bのいずれかの穴部31cにレンチ(不図示)を差し込んで可動部31bの回転角を調整することで、スペーサ31の高さを調整できる。そして、鏡筒モジュール23の開口23a中に設置されているスペーサ31の高さを低くすることで、スペーサ31を開口23aから容易に取り外すことができる。
図2(A)に戻り、円筒部23cの外面の開口23aの近傍の位置、ここでは複数のスペーサ31に近接した底板部23b側の位置及び上板部23d側の位置(対向する2つの辺の近傍)に、それぞれ歪みゲージ32A,32B,32C,32D,32E及び歪みゲージ33A,33B,33C,33D,33Eが対向するように固定されている。
また、リング状のレンズホルダ25には、中央に保持されたレンズL1を固定するための押さえ部35がほぼ等角度間隔で3箇所に設けられている。
図2(B)に示すように、レンズホルダ25の−X方向の側面に、ほぼ対称にX軸にほぼ平行に2箇所の切り欠き部25d,25eが形成され、レンズホルダ25の+X方向の側面の中央部にX軸にほぼ平行に切り欠き部25fが形成されている。さらに、レンズホルダ25のY方向の両方の側面はほぼX軸に平行な平坦部25b,25cに形成され、平坦部25b,25cのY方向の間隔は開口23aのY方向の幅よりも狭く設定されている。従って、鏡筒モジュール23の開口23aから全部のスペーサ31を取り外すことによって、レンズホルダ25は、開口23aを通して鏡筒モジュール23の外に取り出すことができる。
また、交換装置17は、レンズホルダ25と、鏡筒モジュール23の底板部23bの上面に投影光学系PLの光軸AXを囲むようにほぼ等角度間隔で固定された3つのレバー式駆動部40A,40B,40Cと、レバー式駆動部40A〜40Cとレンズホルダ25とを着脱可能に連結する連結部39(図4(A)参照)と、底板部23bの上面にX軸にほぼ平行に配置されて、開口23aの位置と連結部39(レンズホルダ25の設置位置)との間でレンズホルダ25の移動経路を規定する2本のレール状のガイド部材41A,41Bとを有する。レンズホルダ25はレバー式駆動部40A〜40Cの上部の連結部39の上端に、レンズホルダ25の切り欠き部25f,25d,25e中に配置されるボルト38によって、着脱可能に固定されている。レンズホルダ25の切り欠き部25d,25eの近傍の鏡筒モジュール23の円筒部23cには、不図示の工具を差し込んでボルト38の締結又は解除を行うための作業用開口23g,23hが形成されている。切り欠き部25f内のボルト38の締結等は開口23aを通して行うことができる。
レンズホルダ25のレンズL1が保持されている部分とボルト38によって連結部39に固定される部分との間には、それぞれスリット25g,25h,25iが形成されている。これによって、ボルト38でレンズホルダ25を連結部39(レバー式駆動部40A〜40C)に固定したときに、レンズホルダ25に保持されているレンズL1に加わる応力を低減できる。
また、レバー式駆動部40A〜40Cは、それぞれ連結部39を介してレンズホルダ25の光軸AXの回りの円周方向の位置及びZ方向の位置(2自由度の位置)を調整可能である(詳細後述)。これによって、鏡筒モジュール23に対してレンズホルダ25(レンズL1)の6自由度の相対位置(X方向、Y方向、Z方向の位置、及びθx方向、θy方向、θz方向の回転角)を調整可能である。
また、ガイド部材41A,41Bの上面にはほぼX軸に平行にV溝41Aa,41Baが形成され(図3(B)参照)、レンズホルダ25の底面にV溝41Aa,41Baに係合する球体45A,45Bが埋め込まれている。この構成によって、レンズホルダ25はガイド部材41A,41Bに沿ってX方向に容易に移動できる。なお、レンズホルダ25の位置が目標位置に設置された状態では、ガイド部材41A,41Bは、レンズホルダ25から離れる方向に降下しており(詳細後述)、レンズホルダ25とガイド部材41A,41Bとは離れている。ガイド部材41A,41Bの近傍の円筒部23cには、ガイド部材41A,41Bの上昇又は降下を行うための工具を差し込むための作業用開口23i,23jが形成されている。
また、図2(B)において、鏡筒モジュール23の内面に、レンズホルダ25の−X方向の端部25aとのX方向の間隔を非接触に計測するギャップセンサ36Aと、レンズホルダ25の一方の平坦部25bのX方向に離れた2箇所の位置で、平坦部25bとのY方向の間隔を非接触に計測するギャップセンサ36B,36Cとが不図示の連結部材を介して固定されている。ギャップセンサ36A〜36Cとしては、静電容量型又は渦電流型等のセンサを使用可能である。ギャップセンサ36A〜36Cによって、鏡筒モジュール23に対するレンズホルダ25のX方向、Y方向の位置、及びθz方向の回転角を計測できる。なお、さらにレンズホルダ25の上面の外周部の3箇所でZ方向の位置を計測する3つのギャップセンサ(不図示)を設けてもよい。これらの6個のギャップセンサによって、鏡筒モジュール23に対するレンズホルダ25の6自由度の相対位置を計測できる。
次に、図3(A)は、図2(A)の鏡筒モジュール23からレンズホルダ25を取り出した状態を示す斜視図、図3(B)は図3(A)の鏡筒モジュール23等を示す平面図である。図3(A)に示すように、円筒部23cの作業用開口23i,23jを通してガイド部材41A,41BをZ方向に移動するための工具43A,43Bが差し込まれている。図3(B)に示すように、レバー式駆動部40A〜40Cは、鏡筒モジュール23の底板部23bの開口23kを囲むようにほぼ等角度間隔で固定され、ガイド部材41A,41Bはそれぞれレバー式駆動部40B,40Cと円筒部23cの開口23aとの間に配置されている。レバー式駆動部40B及び40Cはそれぞれレバー式駆動部40Aを時計回り及び反時計回りにほぼ120°回転した構成であるあるため、図3(B)のAA線に沿う断面図である図4(A)を参照して、レバー式駆動部40Aの構成につき説明する。
なお、鏡筒モジュール23の円筒部23cには、外部から後述のレバー式駆動部40A〜40CのZ位置調整用のワッシャ部材48A,48Bの交換、追加、又は削減を行うための交換用開口23k,23l,23m等も形成されている。
図4(A)において、レバー式駆動部40Aは、鏡筒モジュール23の底板部23bの上面に2箇所のボルト47によって固定された基部46cと、基部46cから−Y方向に延在するY駆動レバー部46aと、基部46cから+Y方向に延在するZ駆動レバー部46bと、Y駆動レバー部46aのZ方向の変位をY方向の変位に変換する変換部46dと、Z駆動レバー部46bの+Z方向(又は−Z方向)の変位を−Z方向(又は+Z方向)の変位に変換する変換部46eと、変換部46d及び46eにそれぞれY方向及びZ方向で連結された変位部46fとを有する。変位部46fの上面に連結部39が一体的に固定され、連結部39の上面にレンズホルダ25を固定するためのボルト38が係合するネジ穴42が形成されている。レバー式駆動部40A及び連結部39は、例えば一体的に形成され、変換部46d,46eの境界部にスリット46g,46hが形成されている。スリット46g,46hは例えばワイヤーカット等によって形成可能である。
レバー式駆動部40Aにおいては、基部46cとY駆動レバー部46aとの間に実質的にヒンジ部haが形成されるため、Y駆動レバー部46aの先端部のZ位置を調整することで、その移動量の数分の1の量で連結部39(ひいてはレンズホルダ25)のY方向の位置を調整できる。さらに、基部46cとZ駆動レバー部46bとの間に実質的にヒンジ部hbが形成されるため、Z駆動レバー部46bの先端部のZ位置を調整することで、その移動量の数分の1の量で連結部39(ひいてはレンズホルダ25)のZ位置を調整できる。この場合、Y(Z)駆動レバー部46a,46bのZ位置は、例えばY(Z)駆動レバー部46a,46bと底板部23bとの間に厚さが可変のワッシャ部材48A,48Bを設置することで調整可能である。なお、レバー式駆動部40A〜40Cのより詳細な構成は、例えば米国特許第7,154,684号明細書に開示されている。また、ワッシャ部材48A,48Bの代わりに、アクチュエータ(例えば、ピエゾ素子等)を用いて、レバー式駆動部40A〜40Cを電動駆動してもよい。
鏡筒モジュール23の円筒部23cには、外部からレバー式駆動部40A〜40CのY駆動レバー部及びZ駆動レバー部のZ位置を調整するための調整工具を差し込むための作業用開口(不図示)も形成されている。なお、Y(Z)駆動レバー部46a,46bの先端部に高さ調整用のボルト等を設けてもよい。
次に、図3(B)のガイド部材41A,41B及び工具43A,43Bは同じ構成であるため、図3(B)のBB線に沿う断面図である図4(B)を参照して、ガイド部材41A及び工具43Aの構成につき説明する。
図4(B)において、ガイド部材41Aの底面の中央に凹部41Abが形成され、凹部41Abに工具43Aの先端の楕円部43Aaが差し込まれている。また、ガイド部材41Aの底面に凹部41AbをX方向に挟むようにロッド状のガイドピン44A,44Bが固定され、ガイドピン44A,44Bは鏡筒モジュール23の底板部23bに設けられたガイド穴23b1,23b2に緩く嵌合している。この構成によって、ガイド部材41Aは底板部23bの上面に載置された位置PA1と、V溝41Aaがレンズホルダ25の球体45Aに接触する2点鎖線で示す位置PA2との間でZ方向に移動可能である。また、ガイド部材41Aが位置PA1にあるときには、工具43Aの楕円部43Aaは短辺方向が凹部41Abの高さ方向に設定されている。そして、ガイド部材41Aを位置PA2に移動するには、位置PA3で示すように、工具43Aを回転して工具43Aの楕円部43Aaの長辺方向を凹部41Abの高さ方向に合わせればよい。
次に、投影光学装置18において、投影光学系PLのレンズL1を保持するレンズホルダ25を交換する動作の一例につき説明する。ここでは、レンズホルダ25及びレンズL1を取り外した後、レンズホルダ25とレンズL1とを一体的に保持した状態でレンズL1の形状補正及び/又はコーティング膜の再形成等を行ってから、補正後のレンズL1を保持するレンズホルダ25を再び投影光学系PLの鏡筒モジュール23内に戻す場合につき説明する。
この場合、露光装置100の露光動作を停止した状態で、まず図2(B)において、ギャップセンサ36A〜36Cを外部の計測部37に接続し、ギャップセンサ36A〜36Cとレンズホルダ25との間隔Lg1,Lg2,Lg3を計測し、計測結果を例えば主制御系14の記憶装置に記憶する。この動作と並行して、図2(A)の歪みゲージ32A〜32E,33A〜33Eを外部の計測部34に接続し、鏡筒モジュール23の開口23aの近傍における歪み量d1A〜d1E及びd2A〜d2Eを計測し、計測結果を例えば主制御系14の記憶装置に記憶する。その後、スペーサ31の高さを下げて、開口23aから全部のスペーサ31を取り外し、レンズホルダ25を固定しているボルト38を取り外す。
次に、円筒部23cの作業用開口23i,23jに図3(A)の工具43A,43Bを差し込み、ガイド部材41A,41BのV溝41Aa,41Baがレンズホルダ25の底面の球体45A,45Bに接触するように、ガイド部材41A,41Bを上昇させる(図4(B)参照)。この状態で、レンズホルダ25を開口23a側に移動し、図5に矢印A1で示すように、レンズホルダ25を開口23aを通して鏡筒モジュール23の外部に取り出す。その後、ガイド部材41A,41Bは底板部23bの上面に載置される。また、レンズホルダ25にレンズL1を保持した状態で、レンズL1に対して形状の補正及び/又はコーティング膜の再形成等の補正処理が行われる。
次に、補正後のレンズL1を保持したレンズホルダ25を鏡筒モジュール23に戻すために、円筒部23cの作業用開口23i,23jに図3(A)の工具43A,43Bを差し込み、ガイド部材41A,41Bを+Z方向に上昇させる。この状態で、図5に矢印A2で示すように、開口23aにレンズホルダ25を差し込み、レンズホルダ25の球体45A,45Bをガイド部材41A,41BのV溝41Aa,41Baに載置し、ガイド部材41A,41Bに沿ってレンズホルダ25を−X方向に移動して、レンズホルダ25の切り欠き部25f,25d,25eをレバー式駆動部40A〜40Cの上部の連結部39の上端に移動する。その後、ガイド部材41A,41Bは底板部23bの上面に戻される。
次に、図2(B)に示すように、ギャップセンサ36A〜36Cを外部の計測部37に接続し、ギャップセンサ36A〜36Cとレンズホルダ25との間隔Lg1A,Lg2A,Lg3Aを計測し、計測結果をレンズホルダ25の交換前に計測されて主制御系14の記憶装置に記憶されている計測値Lg1,Lg2,Lg3と比較する。そして、計測される間隔Lg1A〜Lg3Aと記憶してある間隔Lg1〜Lg3との差の絶対値が所定の許容範囲(例えば数μm)内になるまで、レンズホルダ25のX方向、Y方向の位置、及びθz方向の回転角を調整する。この後、レンズホルダ25は3箇所のボルト38によってレバー式駆動部40A〜40C上の連結部39に固定される。
この後、間隔の計測値Lg1A〜Lg3Aと記憶してある間隔Lg1〜Lg3との差をさらに小さくするために、レバー式駆動部40A〜40Cによってレンズホルダ25のX方向、Y方向の位置、及びθz方向の回転角を調整してもよい。また、レンズホルダ25の交換前にレンズホルダ25の3箇所のZ方向の位置も計測して記憶してある場合には、交換後のZ方向の位置の計測値と記憶してある計測値との差が小さくなるように、レバー式駆動部40A〜40Cを駆動してもよい。
その後、図2(A)に示すように、鏡筒モジュール23の開口23aに複数のスペーサ31を装着する。この場合、歪みゲージ32A〜32E,33A〜33Eを外部の図2(B)の計測部34に接続し、それぞれ歪み量d3A〜d3E及びd4A〜d4Eを計測し、計測結果をレンズホルダ25の交換前の計測値d1A〜d1E及びd2A〜d2Eと比較する。この際に、通常、開口23aの下方の歪みゲージ32A〜32Eの計測値には大きな変化はないため、主に開口23aの上方の歪みゲージ33A〜33Eで計測される歪み量d4A〜d4Eと交換前の計測値d2A〜d2Eとの差の絶対値が所定の第1の許容範囲内に入るように、対応するスペーサ31の高さを調整する。
また、開口23aの下方の歪みゲージ32A〜32Eで計測される歪み量d3A〜d3Eが交換前の計測値から所定の第2の許容範囲を超えて変化している場合には、例えばスペーサ31の開口23a内の円周方向の位置を調整してもよい。このように開口23a内に複数のスペーサ31を設置して、歪みゲージ32A〜32E,33A〜33Eで計測される鏡筒モジュール23の歪み量をレンズホルダ25の交換前の歪み量とほぼ同じ値に戻すことによって、鏡筒モジュール23の歪みが低減されて、レンズホルダ25の交換が完了する。
なお、鏡筒モジュール23からレンズホルダ25を取り出した後、レンズホルダ25のレンズL1を別の同じ仕様の新しいレンズと交換し、新しいレンズが装着されたレンズホルダ25を開口23aを通して鏡筒モジュール23内に戻す動作も、上記の交換動作と同様に行うことができる。
本実施形態の効果等は以下の通りである。
(1)本実施形態の投影光学装置18は、複数のレンズL1〜L3(光学素子)を備える光学装置であって、複数のレンズL1〜L3のうち正の屈折力を持つレンズL1を収容するとともに、レンズL1が通過可能な開口23aが側面に形成された鏡筒モジュール23と、鏡筒モジュール23の剛性を強化するスペーサ31(剛性強化機構)とを備えている。
投影光学装置18によれば、鏡筒モジュール23の開口23aに直接に案内部材を設ける必要がないため、交換可能なレンズL1が収納される鏡筒モジュール23を含む鏡筒機構20の大型化が抑制できる。また、レンズL1の交換の前後で、スペーサ31によって鏡筒モジュール23の剛性を高めることができるため、鏡筒モジュール23の変形によるレンズL1の位置変動、ひいては投影光学系PLの結像特性の劣化を抑制できる。
(2)なお、鏡筒モジュール23の開口23aに設置する着脱可能で、高さが可変のスペーサ31の個数は任意であり、開口23aには一つのスペーサ31を設置するのみでもよい。
(3)また、鏡筒モジュール23の変形量を検出するために開口23aの対向する2辺の周囲にそれぞれ歪みゲージ32A〜32E及び33A〜33E(変形量検出センサ)が設けられているため、これらの計測値に基づいてスペーサ31の高さを正確に調整できる。なお、歪みゲージ32A〜32E,33A〜33Eの個数は任意であり、例えば開口23aの中央部の近傍にのみ1対の歪みゲージ32C,33Cを設けておいてもよい。さらに、鏡筒モジュール23の開口23aの周囲において、例えば上辺の近傍にのみ歪みゲージ33A〜33E(又は33Cのみ)を設けてもよい。
また、例えばスペーサ31にそれぞれロードセル(荷重センサ)を組み込んでおく場合には、鏡筒モジュール23には歪みゲージ32A〜32E,33A〜33Eを設ける必要はない。
(4)また、鏡筒モジュール23の上下のフランジ部材22(第2鏡筒モジュール)及び/又は鏡筒モジュール24(第3鏡筒モジュール)にもそれぞれ内部のレンズL3及び/又はL2を交換するための開口を形成しておき、これらの開口にもスペーサ31と同様のスペーサを設置してもよい。さらに、フランジ部材22及び鏡筒モジュール24にもそれぞれ交換装置17と同様のレンズL3,L2を交換する機構を設けてもよい。
(5)また、本実施形態の交換装置17は、鏡筒モジュール23を含む鏡筒機構20内に交換可能に配置された少なくとも1つのレンズL1の交換装置である。そして、交換装置17は、レンズL1を保持し、鏡筒モジュール23の側面に形成された開口23aを介して、鏡筒モジュール23の内部に移動可能なレンズホルダ25(保持部材)と、鏡筒モジュール23内に設けられて、レンズホルダ25を着脱可能に支持する3箇所の連結部39(支持部材)と、連結部39を介して、レンズL1(レンズホルダ25)の位置を調整する調整機構としてのレバー式駆動部40A〜40Cと、鏡筒モジュール23内に設けられて、開口23aの位置と連結部39との間でレンズホルダ25の移動経路を規定するガイド部材41A,41Bと、を備えている。
交換装置17によれば、鏡筒モジュール23の開口23aに直接に案内部材を設ける必要がないため、交換可能なレンズL1が収納される鏡筒機構20の大型化が抑制できる。また、交換対象のレンズL1はレンズホルダ25と一体的に交換されるため、交換後には、レンズホルダ25と鏡筒モジュール23との位置関係をほぼ元の位置関係に戻すだけで、レンズL1の位置の再現性、又は位置決め精度を向上できる。
(6)また、ガイド部材41A,41Bは、互いに平行に配置された2本のレール状部材であり、交換装置17は、ガイド部材41A,41Bをレンズホルダ25の球体45A,45Bに接触可能な位置PA2と、レンズホルダ25に接触しない底板部23bの上面の位置PA1との間で移動するガイドピン44A,44Bを含む移動機構を備えている。従って、レンズホルダ25を目標とする位置に設置した後は、ガイド部材41A,41Bがレンズホルダ25に影響を与えることがない。
(7)また、レバー式駆動部40A〜40Cは、鏡筒モジュール23に対するレンズホルダ25の6自由度の位置を調整できるため、レンズホルダ25の目標とする位置に対する任意の位置ずれ量を補正可能である。
なお、レバー式駆動部40A〜40Cの代わりに、例えば全体としてレンズホルダ25の3自由度の位置(例えばX方向、Y方向の位置、及びθz方向の回転角)を補正する調整機構を設けてもよい。
(8)また、本実施形態の露光装置100は、投影光学系PL及び交換装置17を含む投影光学装置18を備えている。従って、投影光学系PLの鏡筒機構20を大型化することなく、投影光学系PL中のレンズの交換を容易に行うことができるとともに、交換後のレンズの位置決めを迅速に行うことができ、メンテナンスを効率的に行うことができる。
[第2の実施形態]
次に、本発明の第2の実施形態につき図6を参照して説明する。本実施形態は、図1の投影光学系PLの鏡筒モジュール23内のレンズL1を交換する交換装置17の代わりに設置できる交換装置に本発明を適用したものである。以下、図6において図2(A)及び図2(B)に対応する部分には同一符号を付してその詳細な説明を省略する。
図6は、本実施形態のレンズL1を収納する鏡筒モジュール23、及びレンズL1を交換する交換装置17Aを示す斜視図である。図6において、リング状のレンズホルダ25AにレンズL1が保持され、レンズホルダ25Aは、金属製の平板状の取り付け板50の外周部に等角度間隔でレバー式駆動部40A〜40Cが固定され、レバー式駆動部40A〜40Cの上部にボルト38を介してレンズホルダ25Aが固定されている。図6における取り付け板50の回転角は、鏡筒モジュール23内に設置されている状態での回転角と同じである。レンズL1の下方の取り付け板50の部分には照明光を通すための開口50aが形成され、取り付け板50の−X方向及び+Y方向の側面が互いに直交する平坦部50b及び50cに加工されている。また、取り付け板50の±Y方向の端部にそれぞれ2箇所及び1箇所のボルト用の開口50dが形成されている。本実施形態では、取り付け板50、レバー式駆動部40A〜40C、及びレンズホルダ25A(レンズL1)を含む可動部が一体的に鏡筒モジュール23から取り外される。
また、鏡筒モジュール23の円筒部23cには、レンズホルダ25A及び取り付け板50を含む可動部を通す開口23aが形成され、底板部23bの上面の−X方向の端部及び+Y方向の端部にそれぞれY軸及びX軸に平行なロッド状のガイド部材51及び52が固定されている。さらに、底板部23bにおいて取り付け板50の3箇所の開口50dが位置決めされる位置に、それぞれボルト53に係合するネジ穴55が形成されている。そして、それらのネジ穴55に近い円筒部23cの領域にそれぞれボルト53の締結及び解除を行う工具を差し込むための作業用開口54a,54b,54cが形成されている。
本実施形態では、交換後のレンズL1を保持するレンズホルダ25A及び取り付け板50を開口23aを通して鏡筒モジュール23内に配置した後、取り付け板50の平坦部50cをガイド部材52に接触させながら取り付け板50を−X方向に移動する。そして、取り付け板50の平坦部50bがガイド部材51に接触するまで取り付け板50を移動する。その後、取り付け板50の平坦部50b,50cがそれぞれガイド部材51,52に接触している状態で、3箇所のボルト53によって取り付け板50を鏡筒モジュール23の底板部23bに固定する。
この実施形態においても、鏡筒モジュール23には、鏡筒モジュール23とレンズホルダ25AとのX方向、Y方向、θz方向の相対位置を計測するギャップセンサ(不図示)が設けられている。そして、これらのギャップセンサで計測される位置と、交換前の計測値との差が所定の許容範囲内に収まるように、レバー式駆動部40A〜40Cが駆動される。このため、図6において、鏡筒モジュール23の円筒部23cには、外部からレバー式駆動部40A〜40CのZ位置調整用のワッシャ部材48A,48B(図4(A)参照)の交換、追加、又は削減を行うための交換用開口23k,23l,23m等も形成されている。
上述のように、本実施形態の交換装置17Aは、図1の鏡筒機構20の鏡筒モジュール23内に交換可能に配置されたレンズL1(光学素子)の交換装置である。交換装置17Aは、レンズL1の位置を調整可能なレバー式駆動部40A〜40C(調整機構)と、レバー式駆動部40A〜40Cを介してレンズL1を保持するととともに、鏡筒モジュール23の側面に形成された開口23aを介して、鏡筒モジュール23の内部に移動可能な取り付け板50(保持部材)と、鏡筒モジュール23内に設けられて、開口23aの位置と鏡筒モジュール23の内部の設置位置との間で取り付け板50の移動経路を規定するガイド部材51,52と、鏡筒モジュール23のその設置位置に取り付け板50を固定するボルト53(固定機構)とを備えている。
交換装置17Aによれば、交換装置17と同様に鏡筒機構20の大型化が抑制できる。また、交換対象のレンズL1は取り付け板50と一体的に交換されるため、交換後には、取り付け板50と鏡筒モジュール23との位置関係をほぼ元の位置関係に戻すだけで、レンズL1の位置の再現性又は位置決め精度を向上できる。
なお、交換装置17Aにおいても、ガイド部材51,52の代わりに、図2(B)のガイド部材41A,41Bと同様のV溝が形成されたレール状のガイド部材を設けても良い。ただし、この2つのガイド部材は、取り付け板50のY方向の側面に接するように配置され、取り付け板50が目標位置に設置された状態で、これらのガイド部材を例えば外側に退避するための移動機構が設けられる。
本実施形態においても、6自由度のレバー式駆動部40A〜40Cの代わりに、例えば全体として3自由度でレンズホルダ25Aの位置を調整する調整機構を設けてもよい。
また、図1の露光装置100の投影光学装置18において、レンズL1を交換するために交換装置17Aを備えてもよい。この場合にも、投影光学装置18のメンテナンスを効率的に行うことができる。
なお、上記の各実施形態においては以下のような変形が可能である。
(1)交換装置17,17Aは正の屈折力(又は負の屈折力でもよい)を持つレンズL1を保持するために設けられているが、屈折力のない平板状の光学素子の交換を行うために交換装置17,17Aを使用してもよい。
(2)投影光学系PLが反射屈折系であるような場合には、その中のミラーの交換を行うために交換装置17,17Aを使用してもよい。
(3)交換装置17,17Aは、照明光学系4中のレンズを交換する場合にも使用できる。
次に、上記の実施形態の露光装置100を用いて半導体デバイス(電子デバイス)を製造する場合、この半導体デバイスは、図7に示すように、デバイスの機能・性能設計を行うステップ221、この設計ステップに基づいてマスク(レチクル)を製作するステップ222、デバイスの基材である基板(ウエハ)を製造するステップ223、露光装置100によりレチクルのパターンをレジストが塗布された基板(感光基板)に露光する工程、露光した基板を現像してレジストパターンを形成する工程、現像した基板の加熱(キュア)及びエッチング工程などを含む基板処理ステップ224、デバイス組み立てステップ(ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む)225、並びに検査ステップ226等を経て製造される。
言い換えると、このデバイスの製造方法は、上記の実施形態の露光装置を用いて基板(ウエハ)上に感光層のパターンを形成することと、そのパターンが形成された基板を処理することとを含んでいる。このとき、その露光装置では投影光学系PL中の所定の光学素子を容易に交換できるとともに、メンテナンスを効率的に行うことができるため、微細パターンを有するデバイスを高精度に、かつ安価に製造できる。
なお、本発明は、例えば米国特許出願公開第2007/242247号明細書等に開示される液浸型露光装置の投影光学系中のレンズを交換する場合にも適用することができる。また、本発明は、走査型の露光装置のみならず、一括露光型の露光装置(ステッパー等)等にも適用することができる。また、本発明は、波長数nm〜100nm程度の極端紫外光(EUV光)を露光光として用いる投影露光装置の投影光学系のミラーを交換する場合にも適用できる。これらの場合に、投影光学系の投影倍率は縮小のみならず、等倍でも拡大でもよい。
また、本発明は、半導体デバイス製造用の露光装置への適用に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに形成される液晶表示素子、若しくはプラズマディスプレイ等のディスプレイ装置用の露光装置や、撮像素子(CCD等)、マイクロマシーン、薄膜磁気ヘッド、及びDNAチップ等の各種デバイスを製造するための露光装置にも広く適用できる。更に、本発明は、各種デバイスのマスクパターンが形成されたマスク(フォトマスク、レチクル等)をフォトリソグフィ工程を用いて製造する際の、露光装置にも適用することができる。
なお、本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得ることは勿論である。
R…レチクル、W…ウエハ、PL…投影光学系、17,17A…レンズの交換装置17、18…投影光学装置、20…鏡筒機構、23…鏡筒モジュール、25,25A…レンズホルダ、31…スペーサ、32A〜32E,33A〜33E…歪みゲージ、36A〜36C…ギャップセンサ、40A〜40C…レバー式駆動部、50…取り付け板、100…露光装置

Claims (22)

  1. 複数の光学素子を備える光学装置であって、
    前記複数の光学素子のうち第1の光学素子を収容するとともに、前記第1の光学素子が通過可能な開口が側面に形成された第1鏡筒モジュールと、
    前記開口が形成された前記第1鏡筒モジュールの剛性を強化する剛性強化機構と、
    を備えることを特徴とする光学装置。
  2. 前記剛性強化機構は、前記第1鏡筒モジュールの前記開口内に着脱可能に設置され、高さが可変のスペーサを含むことを特徴とする請求項1に記載の光学装置。
  3. 前記剛性強化機構は、前記第1鏡筒モジュールの前記開口の周囲に設けられて、前記鏡筒モジュールの変形量を検出する変形量検出センサを含むことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の光学装置。
  4. 前記変形量検出センサは、前記第1鏡筒モジュールの前記開口の対向する2つの辺の周囲にそれぞれ設けられることを特徴とする請求項3に記載の光学装置。
  5. 前記複数の光学素子のうち第2の光学素子を保持する第2鏡筒モジュールと、
    前記複数の光学素子のうち第3の光学素子を保持する第3鏡筒モジュールとを有し、
    前記第1鏡筒モジュールは、前記第2鏡筒モジュールと前記第3鏡筒モジュールとの間に配置されることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の光学装置。
  6. 鏡筒部材内に交換可能に配置された少なくとも1つの光学素子の交換装置であって、
    前記光学素子を保持し、前記鏡筒部材の側面に形成された開口を介して、前記鏡筒部材の内部に移動可能な保持部材と、
    前記鏡筒部材内に設けられて、前記保持部材を着脱可能に支持する支持部材と、
    前記支持部材を介して、前記光学素子の位置を調整する調整機構と、
    前記鏡筒部材内に設けられて、前記鏡筒部材の前記開口の位置と前記支持部材との間で前記保持部材の移動経路を規定する案内部材と、
    を備えることを特徴とする光学素子交換装置。
  7. 前記案内部材は、互いに平行に配置された2本のレール状部材を含むことを特徴とする請求項6に記載の光学素子交換装置。
  8. 前記案内部材を、前記保持部材に接触可能な第1の位置と、前記保持部材に接触しない第2の位置との間で移動する移動機構を備えることを特徴とする請求項6又は請求項7に記載の光学素子交換装置。
  9. 前記鏡筒部材と前記保持部材との相対位置情報を計測する位置センサを備えることを特徴とする請求項6から請求項8のいずれか一項に記載の光学素子交換装置。
  10. 前記保持部材を前記支持部材に固定するクランプ機構を有することを特徴とする請求項6から請求項9のいずれか一項に記載の光学素子交換装置。
  11. 前記保持部材は、前記クランプ機構と前記光学素子との間に形成されたスリット部を有することを特徴とする請求項6から請求項10のいずれか一項に記載の光学素子交換装置。
  12. 前記調整機構は、前記保持部材の6自由度の位置を調整することを特徴とする請求項6から請求項11のいずれか一項に記載の光学素子交換装置。
  13. 鏡筒部材内に交換可能に配置された少なくとも1つの光学素子の交換装置であって、
    前記光学素子の位置を調整可能な調整機構と、
    前記調整機構を介して前記光学素子を保持するととともに、前記鏡筒部材の側面に形成された開口を介して、前記鏡筒部材の内部に移動可能な保持部材と、
    前記鏡筒部材内に設けられて、前記鏡筒部材の前記開口の位置と前記鏡筒部材の内部の設置位置との間で前記保持部材の移動経路を規定する案内部材と、
    前記鏡筒部材の前記設置位置に前記保持部材を固定する固定機構と、
    を備えることを特徴とする光学素子交換装置。
  14. 前記案内部材は、互いに平行に配置された2本のレール状部材を含むことを特徴とする請求項13に記載の光学素子交換装置。
  15. 前記案内部材を、前記保持部材に接触可能な第1の位置と、前記保持部材に接触しない第2の位置との間で移動する移動機構を備えることを特徴とする請求項13又は請求項14に記載の光学素子交換装置。
  16. 前記鏡筒部材と前記保持部材で保持される前記光学素子との相対位置情報を計測する位置センサを備えることを特徴とする請求項13から請求項15のいずれか一項に記載の光学素子交換装置。
  17. 前記調整機構は、前記保持部材の6自由度の位置を調整することを特徴とする請求項13から請求項16のいずれか一項に記載の光学素子交換装置。
  18. 前記保持部材に保持されて移動可能な前記光学素子は、正若しくは負の屈折力を持つ光学素子、又は平板状の光学素子であることを特徴とする請求項6から請求項17のいずれか一項に記載の光学素子交換装置。
  19. 複数の光学素子を有する光学装置において、
    前記複数の光学素子のうち、少なくとも1つの光学素子を交換するために、請求項6から請求項18のいずれか一項に記載の光学素子交換装置を備えることを特徴とする光学装置。
  20. 前記複数の光学素子は、第1面のパターンの像を第2面に形成する投影光学系を構成することを特徴とする請求項1から請求項5及び請求項19のいずれか一項に記載の光学装置。
  21. 露光光でパターンを照明し、前記露光光で前記パターン及び投影光学系を介して基板を露光する露光装置において、
    請求項1から請求項5、請求項19、及び請求項20のいずれか一項に記載の光学装置を備えることを特徴とする露光装置。
  22. 請求項21に記載の露光装置を用いて、基板に感光層のパターンを形成することと、
    前記パターンが形成された前記基板を処理することと、を含むデバイス製造方法。
JP2010025850A 2010-02-08 2010-02-08 光学装置、光学素子交換装置、及び露光装置 Withdrawn JP2011164295A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010025850A JP2011164295A (ja) 2010-02-08 2010-02-08 光学装置、光学素子交換装置、及び露光装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010025850A JP2011164295A (ja) 2010-02-08 2010-02-08 光学装置、光学素子交換装置、及び露光装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2011164295A true JP2011164295A (ja) 2011-08-25

Family

ID=44595056

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010025850A Withdrawn JP2011164295A (ja) 2010-02-08 2010-02-08 光学装置、光学素子交換装置、及び露光装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2011164295A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014526794A (ja) * 2011-09-12 2014-10-06 マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ. 二つ以上のモジュールの整列スタックを提供するためのアッセンブリーおよびそのようなアッセンブリーを備えているリソグラフィシステムまたは顕微鏡法システム
JP2016170388A (ja) * 2015-03-12 2016-09-23 パナソニックIpマネジメント株式会社 光学系駆動装置、レンズ鏡筒及び光学装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9362084B2 (en) 2011-04-28 2016-06-07 Mapper Lithography Ip B.V. Electro-optical element for multiple beam alignment
JP2014526794A (ja) * 2011-09-12 2014-10-06 マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ. 二つ以上のモジュールの整列スタックを提供するためのアッセンブリーおよびそのようなアッセンブリーを備えているリソグラフィシステムまたは顕微鏡法システム
JP2016170388A (ja) * 2015-03-12 2016-09-23 パナソニックIpマネジメント株式会社 光学系駆動装置、レンズ鏡筒及び光学装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5154564B2 (ja) 像収差を低減するための交換可能で操作可能な補正構成を有する光学システム
JP4384181B2 (ja) リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
KR100791161B1 (ko) 광학장치 및 그것을 구비한 노광장치
TWI424186B (zh) 物鏡,特別是半導體微影術用之投影物鏡
US20090021847A1 (en) Optical element positioning apparatus, projection optical system and exposure apparatus
US20100290020A1 (en) Optical apparatus, exposure apparatus, exposure method, and method for producing device
US8343693B2 (en) Focus test mask, focus measurement method, exposure method and exposure apparatus
JP2005311020A (ja) 露光方法及びデバイス製造方法
JP2013161992A (ja) 変形可能な反射光学素子、光学系、及び露光装置
US7859643B2 (en) Apparatus for moving curved-surface mirror, exposure apparatus and device manufacturing method
JP2006261607A (ja) 液浸露光装置、液浸露光方法及びデバイス製造方法。
JP2002324752A (ja) 投影光学系の製造方法及び調整方法、露光装置及びその製造方法、デバイス製造方法、並びにコンピュータシステム
JP2006279029A (ja) 露光方法及び装置
US20140218703A1 (en) Illumination method, illumination optical device, and exposure device
EP1981066A1 (en) Optical member holding apparatus, method for adjusting position of optical member, and exposure apparatus
JP2003337272A (ja) 光学系の保持装置、光学素子の位置調整方法、鏡筒及び露光装置並びにデバイスの製造方法
JP6808381B2 (ja) 保持装置、投影光学系、露光装置、および物品製造方法
JP2001250760A (ja) 収差計測方法、該方法を使用するマーク検出方法、及び露光方法
JP2011164295A (ja) 光学装置、光学素子交換装置、及び露光装置
TWI617893B (zh) 微影裝置及器件製造方法
WO2002050506A1 (fr) Appareil de mesure de surface d'onde et son utilisation, procede et appareil pour determiner des caracteristiques de mise au point, procede et appareil pour corriger des caracteristiques de mise au point, procede pour gerer des caracteristiques de mise au point, et procede et appareil d'exposition
JP2013106017A (ja) 光学素子保持装置、光学装置、及び露光装置
KR20190092275A (ko) 투영 광학계, 노광 장치, 및 물품의 제조 방법
JP2002319539A (ja) 仕様決定方法及びコンピュータシステム
JPH11251409A (ja) 位置決め装置、及び露光装置

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20130507