JP2003337272A - 光学系の保持装置、光学素子の位置調整方法、鏡筒及び露光装置並びにデバイスの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光学素子の位置決めを容易にかつ精度よく行
えるとともに一部の光学素子を稼動中に位置調整可能な
光学系の保持装置及び鏡筒と、露光精度の向上可能な光
学素子の位置調整方法、露光装置及びデバイスの製造方
法とを提供する。 【解決手段】 鏡筒３８におけるフランジ部３８ａより
下部に配置される像面側レンズ３９ａを、装着時には位
置調整可能で、常には所定の設定位置を保つ固定光学素
子保持装置を介して像面側鏡筒モジュール３７ａに保持
する。鏡筒３８におけるフランジ部３８ａより上部に配
置される可動レンズ３９ｂｍと静止レンズとを、露光装
置３１の稼動中にも外部からの信号に基づいて可動レン
ズ３９ｂｍの位置調整可能な可動光学素子保持装置４０
を介して物体面側鏡筒モジュール３７ｂに保持する。こ
れら像面側鏡筒モジュール３７ａと物体面側鏡筒モジュ
ール３７ｂとを複数積み重ねて、投影光学系３５の鏡筒
３８を構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体素
子、液晶表示素子、撮像素子、薄膜磁気ヘッド、マイク
ロマシン等のデバイス、あるいはレチクル、フォトマス
ク等のマスクなどの製造プロセスにおけるリソグラフィ
工程で使用される露光装置において、複数の光学素子か
らなる光学系を保持する光学系の保持装置に関するもの
である。また、その光学系の保持装置の調整方法に関す
るものである。さらに、その光学系の保持装置を備えた
鏡筒、及びその鏡筒を備えた露光装置に関するものであ
る。加えて、その露光装置を用いたデバイスの製造方法
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】この種の光学系の保持装置としては、例
えば次のような構成のものが知られている。すなわち、
光学系の一部をなすレンズ等の光学素子を収容するため
の枠体が円環状に形成され、その枠体の内周面に光学素
子を支持するための３つの座面が等角度間隔おきに形成
されている。それらの座面と対応するように、３つのク
ランプ部材がボルトにより等角度間隔おきに枠体に取り
付けられている。このように、光学素子の外周フランジ
部を各クランプ部材と座面との間で挟み込むことで、光
学素子を枠体に保持するようになっている。そして、こ
の光学素子を所定位置に保持した枠体を積み重ねて鏡筒
が構成される。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、半導体素子
等の高度集積化に伴って、露光されるパターンが微細化
されてきている。このため、半導体装置製造用の露光装
置では、波面収差やディストーションの少ない投影光学
系が要求されるようになってきている。このような要求
に対応するため、投影光学系内にレンズ等の光学素子の
位置を、正確に位置決めされた状態で装着する必要が生
じてきている。

【０００４】このような正確な光学素子の位置決めを行
うために、レンズ等の光学素子を保持した枠体を積み重
ねる際に、枠体の位置を調整することによって、光学素
子の光軸の位置決めが行われている。このため、枠体の
位置調整に、細心の注意を払う必要があり大変手間がか
かって煩わしいという問題があった。

【０００５】特に、最近では、半導体素子における更な
る高度集積化の要求が日増しに高まっている。このよう
な背景の中、露光されるパターンは一段と微細化されて
おり、この極めて微細なパターンの露光に対応すべく、
露光装置で使用される露光光も、紫外光から遠紫外光、
さらには真空紫外光へと短波長化が著しい。このような
極めて波長の短い露光光を使用した場合には、投影光学
系の各光学素子が、露光光の透過により温度状態等が変
化しやすくなる。そして、各光学素子の温度状態の変化
は、投影光学系における結像特性の変動を招くことにな
る。

【０００６】このような露光動作中における投影光学系
の結像特性の変動を修正するために、投影光学系の少な
くとも一部の光学素子を露光装置の稼働中に移動させ
て、各光学素子の相対位置を調整するようにした露光装
置も開発されてきている。この露光装置においては、各
光学素子を露光装置の稼働中に移動させる駆動部材が装
着されるが、厳密な露光を実現するためには、各駆動部
材の駆動範囲の基準位置を厳密に設定しておく必要があ
る。すなわち、枠体の位置調整を厳密に行うことが不可
欠となる。

【０００７】本発明は、光学系の一部の光学素子の位置
決めを、容易かつ精度よく行うことができるとともに、
他の一部の光学素子の稼働状態での位置調整を可能にす
る光学系の保持装置を提供することにある。また、本発
明のその他の目的としては、前記光学素子の位置をより
正確に調整することのできる光学素子の位置調整方法を
提供することにある。さらに、本発明のその上の目的と
しては、より正確な位置決めされた光学素子と稼働状態
で位置調整可能な光学素子とを収容する鏡筒、及びその
ような鏡筒を有し露光精度の向上可能な露光装置を提供
することにある。加えて、本発明のその上の目的として
は、露光精度の向上可能なデバイスの製造方法を提供す
ることにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本願請求項１に記載の発明は、複数の光学素子から
なる光学系を保持する光学系の保持装置において、前記
複数の光学素子の少なくとも一部の光学素子の位置を調
整する第１位置調整機構と、その第１位置調整機構とは
異なる機構を有し、前記複数の光学素子のうち、前記少
なくとも一部の光学素子とは異なる光学素子の位置を調
整する第２位置調整機構とを備えたことを特徴とするも
のである。

【０００９】この本願請求項１に記載の発明では、光学
系の一部の光学素子の位置を第１位置調整機構により調
整することにより、光学素子の位置決めを、容易かつ精
度よく行うことが可能となる。また、前記一部の光学素
子とは異なる光学素子を第２位置調整機構により、稼働
状態で位置調整することが可能になる。

【００１０】また、本願請求項２に記載の発明は、前記
請求項１に記載の発明において、前記第１位置調整機構
は、前記光学素子の周縁部を保持する保持部と、前記保
持部を支持する複数のフレクシャ部材と、前記複数のフ
レクシャ部材のうち、少なくとも１つのフレクシャ部材
に接続される２つの操作部とを備え、前記光学素子は、
一方の前記操作部の操作によって、前記複数のフレクシ
ャ部材を介して前記光学素子を第１の方向へ移動し、他
方の前記操作部の操作によって、前記複数のフレクシャ
部材を介して前記光学素子を前記第１の方向とは異なる
第２の方向に移動することを特徴とするものである。

【００１１】この本願請求項２に記載の発明では、前記
請求項１に記載の発明の作用に加えて、各操作部を操作
することで、互いに異なる２つの方向において、前記少
なくとも一部の光学素子の位置決めを容易かつより正確
に行うことが可能となる。

【００１２】また、本願請求項３に記載の発明は、前記
請求項１または請求項２に記載の発明において、前記第
２位置調整機構は、前記光学素子の周縁部を保持するイ
ンナリング部と、前記インナリング部と一体に形成され
たアウタリング部と、前記アウタリング部に設けられ、
所定の方向に変位する駆動部材と、前記駆動部材の変位
量を前記インナリング部に伝達するリンク機構とを有す
ることを特徴とするものである。

【００１３】この本願請求項３に記載の発明では、前記
請求項１または請求項２に記載の発明の作用に加えて、
第２位置調整機構により、前記少なくとも一部の光学素
子とは異なる光学素子を、露光装置の稼働状態で駆動部
材を変位させることにより、位置調整することが可能に
なる。このため、例えば短波長の露光光を照射するよう
な場合のように、露光装置の稼動状態で前記光学素子の
温度状態の変化したとしても、その変化に伴う結像特性
の変動を容易に補正することができる。

【００１４】また、本願請求項４に記載の発明は、前記
請求項３に記載の発明において、前記少なくとも一部の
光学素子の位置を前記第１位置調整機構により所定位置
に調整した状態で、前記第２位置調整機構における変位
の基準位置を設定する基準位置調整機構を設けたことを
特徴とするものである。

【００１５】この本願請求項４に記載の発明では、前記
請求項３に記載の発明の作用に加えて、第２位置調整機
構における変位の基準位置は、一部の光学素子の位置調
整が行われ、光学系が所定状態に調整された上で設定さ
れる。このため、第２位置調整機構の基準位置の設定を
より正確に行うことが可能となる。

【００１６】また、本願請求項５に記載の発明は、前記
請求項１〜請求項４のうちいずれか一項に記載の発明に
おいて、前記光学系は、該光学系を載置する架台上で支
持されるためのフランジ部を備え、前記少なくとも一部
の光学素子は、前記フランジ部に対し、前記光学系の像
面側に配置され、前記少なくとも一部の光学素子と異な
る光学素子は、前記フランジ部に対し、前記光学系の物
体面側に配置されることを特徴とするものである。

【００１７】この本願請求項５に記載の発明では、前記
請求項１〜請求項４のうちいずれか一項に記載の発明の
作用に加えて、像面側に配置された少なくとも一部の光
学素子の位置決めを第１位置調整機構により行うこと
で、光学系全体の結像特性の調整を容易にかつより正確
に行うことが可能となる。この上で、第２位置調整機構
により、物体面側に配置された少なくとも一部の光学素
子とは異なる光学素子の位置を調整することで、稼動状
態における光学系の結像特性の変動を容易かつより正確
に補正することが可能となる。

【００１８】また、本願請求項６に記載の発明は、光学
系を構成する複数の光学素子の位置を調整する光学素子
の位置調整方法において、前記複数の光学素子の位置を
互いの光軸方向に沿って配列し、前記複数の光学素子を
配列した後、前記複数の光学素子のうち、少なくとも一
部の光学素子の位置を第１位置調整機構により調整し、
前記少なくとも一部の光学素子の位置を調整した後、前
記少なくとも一部の光学素子とは異なる光学素子の位置
を調整する第２位置調整機構の駆動部材における変位の
基準位置を設定することを特徴とするものである。

【００１９】また、本願請求項７に記載の発明は、前記
請求項６に記載の発明において、前記第２位置調整機構
により、前記少なくとも一部の光学素子とは異なる光学
素子の位置を調整した後、前記基準位置を設定すること
を特徴とするものである。

【００２０】これら本願請求項６及び請求項７に記載の
発明では、請求項４に記載の発明とほぼ同様の作用が実
現される。また、本願請求項８に記載の発明は、複数の
光学素子からなる光学系を収容する鏡筒において、前記
光学系の各光学素子を請求項１〜請求項５のうちいずれ
か一項に記載の光学系の保持装置を介して保持するよう
にしたことを特徴とするものである。

【００２１】この本願請求項８に記載の発明では、複数
の光学素子からなる光学系を収容する鏡筒において、請
求項１〜請求項５のうちいずれか一項に記載の発明とほ
ぼ同様の作用が実現される。

【００２２】また、本願請求項９に記載の発明は、前記
請求項８に記載の発明において、前記光学系がマスク上
に形成された所定のパターンの像を基板上に投影する投
影光学系であることを特徴とするものである。

【００２３】この本願請求項９に記載の発明では、前記
請求項８に記載の発明の作用に加えて、投影光学系の結
像特性をより正確に補正することが可能となり、マスク
上のパターンの像を基板上に、より正確に投影すること
が可能となる。

【００２４】また、本願請求項１０に記載の発明は、マ
スク上に形成されたパターンの像を基板上に露光する露
光装置において、請求項８または請求項９に記載の鏡筒
を有することを特徴とするものである。

【００２５】この本願請求項１０に記載の発明では、投
影光学系の結像性能が向上されて、露光精度の向上を図
ることができる。また、本願請求項１１に記載の発明
は、リソグラフィ工程を含むデバイスの製造方法におい
て、請求項１０に記載の露光装置を用いて露光を行うこ
とを特徴とすることを特徴とするものである。

【００２６】この本願請求項１１に記載の発明では、露
光精度を向上することができて、高集積度のデバイスを
歩留まりよく製造することが可能となる。

【００２７】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の露光装置、鏡筒
及び光学系の保持装置を、半導体素子製造用の露光装
置、その露光装置の投影光学系、及びその投影光学系を
なすレンズ等の光学素子を保持する保持装置に具体化し
た一実施形態について図１〜図２６に基づいて説明す
る。

【００２８】図１は、本実施形態の露光装置３１の概略
構成を示すものである。図１に示すように、露光装置３
１は、光源３２と、照明光学系３３と、マスクとしての
レチクルＲを保持するレチクルステージ３４と、投影光
学系３５と、基板としてのウエハＷを保持するウエハス
テージ３６とから構成されている。

【００２９】前記光源３２は、例えば波長１９３ｎｍの
ＡｒＦエキシマレーザを発振する。照明光学系３３は、
図示しないフライアイレンズやロッドレンズ等のオプテ
ィカルインテグレータ、リレーレンズ、コンデンサレン
ズ等の各種レンズ系及び開口絞り等を含んで構成されて
いる。そして、光源３２から出射される露光光ＥＬが、
この照明光学系３３を通過することにより、レチクルＲ
上のパターンを均一に照明するように調整される。

【００３０】前記レチクルステージ３４は、照明光学系
３３の射出側、すなわち、後述する投影光学系３５の物
体面側（露光光ＥＬの入射側）において、そのレチクル
Ｒの載置面が投影光学系３５の光軸方向とほぼ直交する
ように配置されている。投影光学系３５は、保持部材を
なす複数の鏡筒モジュール３７が積層された鏡筒３８で
構成されている。各鏡筒モジュール３７には、複数の光
学素子としてのレンズ３９が、第２位置調整機構として
の可動光学素子保持装置４０（図２参照）または第１位
置調整機構としての固定光学素子保持装置４１（図１３
参照）を介して保持されている。

【００３１】前記鏡筒３８は、フランジ部３８ａにおい
て、露光装置３１のベース盤３１ａに立設された架台と
してのフレーム４２上に載置される。これにより、鏡筒
３８が、露光装置３１のベース盤３１ａ上に固定されて
いる。ここで、鏡筒３８は、フランジ部３８ａより像面
側に配置される像面側鏡筒モジュール３７ａと、フラン
ジ部３８ａより物体面側に配置される物体面側鏡筒モジ
ュール３７ｂとを有する。鏡筒３８内において、像面側
鏡筒モジュール３７ａに配置される少なくとも一部の光
学素子としての像面側レンズ３９ａは、前記固定光学素
子保持装置４１（図１３参照）を介して保持されてい
る。一方、物体面側鏡筒モジュール３７ｂに配置される
物体面側のレンズ３９ｂｍ，３９ｂｓは、前記可動光学
素子保持装置４０を介して保持されている。

【００３２】ウエハステージ３６は、投影光学系３５の
像面側（露光光ＥＬの射出側）において、ウエハＷの載
置面が投影光学系３５の光軸方向と交差するように配置
されている。そして、前記露光光ＥＬにて照明されたレ
チクルＲ上のパターンの像が、投影光学系３５を通して
所定の縮小倍率に縮小された状態で、ウエハステージ３
６上のウエハＷに投影転写されるようになっている。

【００３３】次に、前記物体面側鏡筒モジュール３７ｂ
の構成について詳細に説明する。図２は、物体面側鏡筒
モジュール３７ｂを、一部を切り欠いて示した図であ
る。図３は、その物体面側鏡筒モジュール３７ｂの平面
図である。また、図４は、その物体面側鏡筒モジュール
３７ｂの断面図である。

【００３４】図２〜図４に示すように、この物体面側鏡
筒モジュール３７ｂには、可動光学素子保持装置４０と
少なくとも一部の光学素子とは異なる光学素子としての
可動レンズ３９ｂｍ及び静止レンズ３９ｂｓとを備え
る。可動レンズ３９ｂｍは、可動光学素子保持装置４０
に装備される第２位置調整機構としてのレンズ駆動機構
４３の駆動により、光軸方向に移動可能で、かつチルト
可能に保持されたレンズである。一方、静止レンズ３９
ｂｓは、前記レンズ駆動機構４３の駆動に関係なく所定
の位置に保持されるレンズである。

【００３５】前記物体面側鏡筒モジュール３７ｂの鏡筒
本体４４は、インナリング部４４ａと、アウタリング部
４４ｂとを有する。アウタリング部４４ｂは、露光光Ｅ
Ｌの光軸方向に沿って配置される他の物体面側鏡筒モジ
ュール３７ｂに対する取付面４８を備えており、他の物
体面側鏡筒モジュール３７ｂに対する連結部として機能
する。

【００３６】このアウタリング部４４ｂとインナリング
部４４ａとは一体に形成されている。もしくは、アウタ
リング部４４ｂとインナリング部４４ａとは同一部材で
形成されている。アウタリング部４４ｂは円筒状に形成
され、その下端にはベースリング４５が固定されてい
る。インナリング部４４ａはその外径がアウタリング部
４４ｂの内径よりも僅かに小さくなるように円筒状に形
成され、ベースリング４５の内側において光軸方向へ移
動可能及びチルト可能に配置されている。

【００３７】前記インナリング部４４ａには、光軸方向
にインナリング部４４ａを介して移動される可動レンズ
３９ｂｍが第１レンズセル４６を介して取り付けられて
いる。可動レンズ３９ｂｍは、第１レンズセル４６に対
してその周縁部が、例えば第１レンズセル４６の内周面
上に複数突設された受け座（図示略）に載置された状態
で、レンズ押さえ部材等により固定されている。詳しく
は、可動レンズ３９ｂｍの周縁部は、互いに平行な面を
有するフランジが形成されている。このフランジの下面
は、第１レンズセル４６の内方に突出する複数の受け座
（図示略）に載置され、フランジの上面には、受け座と
ともにフランジを挟むためのレンズ押さえ部材が取付け
られる。

【００３８】アウタリング部４４ｂには、可動レンズ３
９ｂｍの上方に互いの光軸が一致または光学特性が最適
化されるように、常に静止状態に保たれる光学素子とし
ての静止レンズ３９ｂｓが第２レンズセル４７を介して
取り付けられている。この静止レンズ３９ｂｓは、鏡筒
本体４４に常に静止している状態となる。第１レンズセ
ル４６により保持された可動レンズ３９ｂｍ及び第２レ
ンズセル４７により保持された静止レンズ３９ｂｓの間
に、レンズ室が区画される。

【００３９】前述したように、鏡筒３８のフランジ部３
８ａより上の部分は、光軸方向に積層された複数の物体
面側鏡筒モジュール３７ｂにより形成されている。最も
レチクルステージ３４側に配置される物体面側鏡筒モジ
ュール３７ｂは、アウタリング部４４ｂにおける一方の
端面に取付面４８を一つ備える。その物体面側鏡筒モジ
ュール３７ｂよりフランジ部３８ａ側に配置される各物
体面側鏡筒モジュール３７ｂは、アウタリング部４４ｂ
における両方の端面に取付面４８を備える。

【００４０】詳述すると、前記アウタリング部４４ｂの
上端面及びベースリング４５の下端面には、平面状の取
付面４８がそれぞれ形成されている。そして、複数の物
体面側鏡筒モジュール３７ｂ間において、上下の取付面
４８が互いに接触して重合されることによって、各鏡筒
モジュール３７ｂの鏡筒本体４４がインナリング部４４
ａに荷重をかけることなく、光軸方向へ安定状態で積層
配置されるようになっている。

【００４１】なお、複数の物体面側鏡筒モジュール３７
ｂの間、すなわち、各鏡筒モジュール３７ｂの取付面４
８の間には、各鏡筒モジュール３７ｂ間の間隔を調整す
るための間隔調整部材を配置してもよい。この問隔調整
部材は、アウタリング部４４ｂの径と略同径を有するリ
ング状のワッシャ、または取付面４８の径方向の長さよ
り小さい径を有するワッシャで形成される。なお、後者
のワッシャは、アウタリング部４４ｂの取付面４８内
に、等間隔おきに複数個配置される。このようにワッシ
ャを用いた場合は、複数の物体面側鏡筒モジュール３７
ｂを積層する際に、各鏡筒モジュール３７ｂの取付面４
８は直接接触することがない。

【００４２】図５は物体面側鏡筒モジュール３７ｂのレ
ンズ駆動機構４３の周辺を示す拡大図であり、図６はそ
の断面図である。前記アウタリング部４４ｂの周壁（側
壁）には、３つの切欠部４９（図２参照）が等角度間隔
をおいて形成されている。図３及び図５に示すように、
各切欠部４９内には、駆動部材及び第２位置調整機構の
駆動源をなすアクチュエータ５０が収容されている。

【００４３】各アクチュエータ５０は、その長手軸がア
ウタリング部４４ｂの接線方向に沿うように配置されて
いる。また、各アクチュエータ５０は、アウタリング部
４４ｂの周面に露出している。各アクチュエータ５０
は、好ましくは、高精度、低発熱、高剛性、高クリーン
度の特性を有するピエゾ素子から構成される。

【００４４】制御装置５１（図１参照）は、露光装置３
１全体の動作を制御する主制御系（図示略）等からの外
部の制御信号に基づいて、アクチュエータ５０にその制
御信号に従う制御電圧を印加し、アクチュエータ５０の
伸縮を制御する。このアクチュエータ５０の伸縮方向
は、アウタリング部４４ｂの接線方向に対して、略平行
な方向である。

【００４５】図２及び図５に示すように、前記各アクチ
ュエータ５０の一端に対応して、そのアクチュエータ５
０と同方向へ延びるように、アウタリング部４４ｂの周
壁には保持ボルト５２が螺合されている。各アクチュエ
ータ５０の他端と対応するように、アウタリング部４４
ｂに形成された後述する変位拡大機構６０の第１リンク
６２ａ上には結合具５３が固定されている。そして、各
アクチュエータ５０の両端が、保持ボルト５２の先端及
び結合具５３に対して、円錐溝とボールとからなる回転
ピボット機構５４を介して相対回転可能に結合されてい
る。

【００４６】図９は、物体面側鏡筒モジュール３７ｂの
鏡筒本体４４を示す斜視図である。図１０は、物体面側
鏡筒モジュール３７ｂの鏡筒本体４４における切欠部４
９周辺の拡大図である。また、図１１は、アクチュエー
タ５０の周辺の拡大図である。図９〜図１１に示すよう
に、前記各アクチュエータ５０に対応して、インナリン
グ部４４ａの上端面には３つの連結アーム部５９が形成
されている。アウタリング部４４ｂには、各連結アーム
部５９の両側縁に連結配置されるようにフレクシャ部材
の一部及びリンク機構をなす変位拡大機構６０及び同じ
くフレクシャ部材の一部をなす案内機構６１がそれぞれ
配設されている。そして、インナリング部４４ａがアウ
タリング部４４ｂに対し、３箇所のアクチュエータ５
０、変位拡大機構６０、案内機構６１及び連結アーム部
５９を介して、光軸方向へ相対移動可能に連結されてい
る。

【００４７】インナリング部４４ａは、３箇所のアクチ
ュエータ５０の伸縮量がそれぞれ異なった場合に、アウ
タリング部４４ｂに対してチルトする。また、インナリ
ング部４４ａは、３箇所のアクチュエータ５０の伸縮量
が略等しい場合に、アウタリング部４４ｂに対して略平
行に移動する。前述したように、可動レンズ３９ｂｍ
は、第１レンズセル４６を介してインナリング部４４ａ
に固定されるために、このインナリング部４４ａの移動
に伴って、可動レンズ３９ｂｍが、光軸方向への移動及
びチルトする。

【００４８】前記各変位拡大機構６０は、アクチュエー
タ５０の伸縮量（変位）を拡大するとともに、アクチュ
エータ５０の変位の方向を可動レンズ３９ｂｍの光軸方
向への移動方向に変換する役割を担っている。また、各
変位拡大機構６０は、複数のスリット６３と複数の貫通
孔６４とからなる弾性ヒンジリンク機構６２で構成され
ている。

【００４９】ここで、弾性ヒンジリンク機構６２につい
て説明する。図１１に示すように、各連結アーム部５９
の紙面右側においてアウタリング部４４ｂには、光学素
子の光軸方向に対して交差して延びる複数の貫通孔６４
と、複数の貫通孔６４に接続された複数のスリット６３
がワイヤカット加工等により形成されている。すなわ
ち、複数の貫通孔６４は、アウタリング部４４ｂの軸心
に向かって延びるように形成されている。また、複数の
スリット６３は、アウタリング部４４ｂの外面からその
内面に向かって貫通孔６４に沿って形成されている。こ
れにより、近接する一対の貫通孔６４間に弾性ヒンジ部
６５ａ〜６５ｃが形成される。そして、複数のスリット
６３及び貫通孔６４によって、弾性ヒンジリンク機構６
２の第１リンク６２ａ及び第２リンク６２ｂが区画され
る。

【００５０】図１２は、物体面側鏡筒モジュール３７ｂ
におけるアクチュエータ５０、変位拡大機構６０及び案
内機構６１の動作を模式的に示したものである。図１１
及び図１２に示すように、前記第１リンク６２ａは、図
面において右端（アクチュエータ５０の他端部を右端と
する）の弾性ヒンジ部６５ａを支点Ｐ１として、アウタ
リング部４４ｂの周壁に回動可能に連結される。そし
て、第１リンク６２ａは、連結点Ｐ２をなす前記回転ピ
ボット機構５４を介してアクチュエータ５０の右端に連
結されている。また、第２リンク６２ｂは、右端の弾性
ヒンジ部６５ｂを連結点Ｐ３として、第１リンク６２ａ
の下端に連結されるとともに、左端の弾性ヒンジ部６５
ｃを連結点Ｐ４として、連結アーム部５９の右側縁に連
結されている。ここで、アクチュエータ５０の一端部
（図面において左端）の回転ピボット機構５４は、支点
Ｐ０に相当する。

【００５１】そして、アクチュエータ５０が左端の回転
ピボット機構５４を支点Ｐ０として回転されながら伸長
変位されたとき、第１リンク６２ａが支点Ｐ１を中心に
して図１２の時計方向に回転されるとともに、第２リン
ク６２ｂが上方に移動されて、連結アーム部５９が上方
に移動変位される。この場合、第１リンク６２ａ及び第
２リンク６２ｂの作動により、アクチュエータ５０の変
位が拡大されるとともに、その変位方向がアクチュエー
タ５０の伸張方向に対して交差する方向への変位に変換
されて連結アーム部５９に伝達される。これにより、イ
ンナリング部４４ａに保持された可動レンズ３９ｂｍ
が、光軸方向へ移動されるようになっている。

【００５２】一方、前記各案内機構６１は、図９〜図１
１に示すように、各連結アーム部５９の紙面左側に形成
されており、アウタリング部４４ｂに対するインナリン
グ部４４ａの相対移動を所定の方向、すなわち可動レン
ズ３９ｂｍの光軸とほぼ平行な方向に案内する。そし
て、各案内機構６１は、可動レンズ３９ｂｍの光学的ピ
ボタル位置、すなわち可動レンズ３９ｂｍがチルト動作
された場合に生じる像シフトがゼロとなる光軸上の位置
とほぼ一致するように配置されている。また、各案内機
構６１は、前記弾性ヒンジリンク機構６２とほぼ同様の
複数のスリット６３と複数の貫通孔６４とからなる平行
リンク機構６６で構成される。

【００５３】詳述すると、複数のスリット６３と複数の
貫通孔６４とは、光学系（例えば、可動レンズ３９ｂ
ｍ）の光軸に対して交差する方向に、すなわちアウタリ
ング部４４ｂの軸線に向かって延びるように形成されて
いる。また、複数のスリット６３は、複数の貫通孔６４
に連続して形成されている。従って、複数のスリット６
３は、アウタリング部４４ｂの外面からその内面に向か
って貫通孔６４に沿って形成されている。つまり、変位
拡大機構６０及び案内機構６１を構成する複数の貫通孔
６４及び複数のスリット６３は、アウタリング部４４ｂ
のリング中心を含む中心軸を含む仮想面上において、ア
ウタリング部４４ｂの外面から内面、もしくは内面から
外面に向かって形成されている。なお、各鏡筒モジュー
ル３７ｂが光学素子を保持している場合には、前記リン
グ中心を含む中心軸は、光学素子の光軸を示す。

【００５４】ここで、近接対向する一対の貫通孔６４間
が弾性ヒンジ部６５ｄ〜６５ｇとなっている。そして、
これらのスリット６３及び貫通孔６４によって、平行リ
ンク機構６６の一対の平行レバー６６ａ，６６ｂが形成
されている。各平行レバー６６ａ，６６ｂは、その長手
方向が可動レンズ３９ｂｍの接線に沿うように、すなわ
ち、アウタリング部４４ｂの周壁に沿って、アウタリン
グ部４４ｂに形成される。

【００５５】図１１及び図１２に示すように、前記一対
の平行レバー６６ａ，６６ｂは、左端の弾性ヒンジ部６
５ｄ，６５ｅを支点Ｐ５，Ｐ６として、アウタリング部
４４ｂの周壁に回動可能に連結されるとともに、右端の
弾性ヒンジ部６５ｆ，６５ｇを連結点Ｐ７，Ｐ８とし
て、連結アーム部５９の左側縁に連結されている。そし
て、アクチュエータ５０の伸長変位に伴い、変位拡大機
構６０及び連結アーム部５９を介してインナリング部４
４ａが光軸方向に移動されるとき、一対の平行レバー６
６ａ，６６ｂが支点Ｐ５，Ｐ６を中心にして図１２の反
時計方向に回転される。これにより、可動レンズ３９ｂ
ｍを支持したインナリング部４４ａの移動が、可動レン
ズ３９ｂｍの径方向及び接線方向に規制されながら、光
軸方向のみに許容されるようになっている。

【００５６】図５及び図６に示すように、連結アーム部
５９の外面のそれぞれにはばね受け６７が取り付けら
れ、それらのばね受け６７と対応するように、ベースリ
ング４５の外周面にばね受け６８が取り付けられてい
る。ばね受け６７，６８間には、一対の引張りばね６９
がそれぞれ掛装されている。そして、これらの引張りば
ね６９の付勢力により、前記アクチュエータ５０の非作
動状態において、可動レンズ３９ｂｍを支持するインナ
リング部４４ａが、その可動範囲の原位置に復帰移動さ
れるようになっている。

【００５７】図７は物体面側鏡筒モジュール３７ｂにお
ける基準位置調整機構をなすセンサ７２の周辺を示すも
のであり、図８は図７の８−８線に沿った断面図であ
る。図２及び図３に示すように、前記アウタリング部４
４ｂの外側部において、その外周方向に隣接するアクチ
ュエータ５０の中間位置には、アウタリング部４４ｂの
周壁（側壁）に切り欠いて形成された開口部４４ｄが形
成されている。そして、この開口部４４ｄには、アウタ
リング部４４ｂに対するインナリング部４４ａの位置を
計測するためのセンサ７２が配設されている。

【００５８】図７及び図８に示すように、各センサ７２
は、非接触式エンコーダ、例えば光学式エンコーダから
構成され、スケール７４と検出ヘッド７６とを備えてい
る。スケール７４は、スケールホルダ７３を介してイン
ナリング部４４ａ上のスケール台４４ｃに取り付けられ
ている。各スケール７４は、アウタリング部４４ｂの開
口部４４ｄ内に収容された状態で配置されている。検出
ヘッド７６は、そのスケール７４に近接対応するよう
に、ヘッドホルダ７５を介してアウタリング部４４ｂ上
に取り付けられ、アウタリング部４４ｂの開口部４４ｄ
に臨むように配置される。

【００５９】ここで、各センサ７２のスケール７４及び
検出ヘッド７６は、アウタリング部４４ｂの外表面から
露出している。そして、検出ヘッド７６は、前記開口部
４４ｄからインナリング部４４ａに取付けられたスケー
ル７４の目盛７４ａを読み取る。この読取結果に基づい
て、インナリング部４４ａの移動量が計測されるように
なっている。

【００６０】次に、前記のように構成された可動光学素
子保持装置４０により、可動レンズ３９ｂｍが光軸方向
に移動される場合の動作について説明する。図１１及び
図１２に示すように、アクチュエータ５０が電圧の印加
に伴い、図面左端の回転ピボット機構５４を支点Ｐ０と
して回転されながら変位量ｄＬだけ伸長変位されると、
変位拡大機構６０を構成する弾性ヒンジリンク機構６２
の第１リンク６２ａが支点Ｐ１を中心にして時計方向に
回転される。これにより、第２リンク６２ｂに対する第
１リンク６２ａの下端の連結点Ｐ３が、左方へ変位量ｄ
ｘだけ変位されるとともに、上方へ変位量ｄｙだけ変位
される。

【００６１】このとき、インナリング部４４ａ上の連結
アーム部５９は、平行リンク機構６６で構成された案内
機構６１によって、光軸方向のみに移動できるように案
内保持されている。このため、第２リンク６２ｂの右端
の連結点Ｐ３に前記のような変位が加わると、その第２
リンク６２ｂは上方に突き上げられ、これによって連結
アーム部５９は上方へ変位量ｄＹだけ移動変位される。
従って、案内機構６１と弾性ヒンジリンク機構６２と
は、アクチュエータ５０の変位を互いに協働し合って、
連結アーム部５９を上方へ移動させる。

【００６２】この場合、前記アクチュエータ５０の変位
は、弾性ヒンジリンク機構６２の第１リンク６２ａ及び
第２リンク６２ｂにて、変位の方向を変換されながら２
段階で拡大されて連結アーム部５９に伝達される。よっ
て、アクチュエータ５０の僅かな変位に基づいて、イン
ナリング部４４ａに支持された可動レンズ３９ｂｍが光
軸方向へ大きな変位量で移動変位されることになる。

【００６３】次に、前記像面側鏡筒モジュール３７ａに
ついて詳細に説明する。図１３は前記像面側鏡筒モジュ
ール３７ａを示す斜視図であり、図１４はその像面側鏡
筒モジュール３７ａの平面図であり、図１５はその像面
側鏡筒モジュール３７ａの側面図であり、図１６は図１
４の１６−１６線における断面図である。

【００６４】図１３〜図１６に示すように、像面側鏡筒
モジュール３７ａは、前記固定光学素子保持装置４１と
像面側レンズ３９ａとを備える。固定光学素子保持装置
４１は、枠体８０と、３つのフレクシャ部材８１と、保
持部をなすレンズ枠体８２と、支持部材８３とからなっ
ている。その枠体８０上には、等角度間隔をおいて３つ
のフレクシャ部材８１が固定されている。そのフレクシ
ャ部材８１の上面にはレンズ枠体８２が固定され、その
レンズ枠体８２上には等角度間隔をおいて３つの支持部
材８３が配設されている。

【００６５】図１７は、前記レンズ枠体８２における像
面側レンズ３９ａを保持する支持部材８３の部分を中心
に示す部分斜視図であり、図１８はその支持部材８３を
中心に示す拡大部分分解斜視図である。図１７及び図１
８に示すように、支持部材８３は、大きく分けて基台部
材８５とクランプ部材８６とを備える。そして、前記レ
ンズ枠体８２は、円環状をなす鉄、アルミニウム等の金
属材料からなり、その一方の表面には前記クランプ部材
８６が取り付付けられる取付溝８４が等角度間隔おきに
形成されている。さらに、レンズ枠体８２の内周面に
は、後述する基台部材８５における座面ブロック９０ａ
を含む上半部を収容するための保持部収容凹部１００が
取付溝８４と対応する位置に形成されている。この保持
部収容凹部１００によって、レンズ枠体８２の大口径化
を防止している。

【００６６】このように、レンズ枠体８２の一方の表面
に取付溝８４を形成することにより、クランプ部材８６
が一対のボルト１０８でレンズ枠体８２上に取り付けら
れた際に、一対のボルト１０８の頭がレンズ枠体８２の
一方の表面から突出しない。従って、一方の面を、他の
レンズ枠体８２及び枠体８０に対して重ね合わせた際
に、他のレンズ枠体８２及び枠体８０に対するボルト１
０８の干渉を防ぐことができる。

【００６７】なお、１つのレンズ枠体８２の表面と、他
のレンズ枠体８２及び枠体８０の裏面との間には、各レ
ンズ枠体８２が保持する像面側レンズ３９ａの光軸方向
における位置を決定するために、レンズ枠体８２間の間
隔を調整するスペーサが配置される。従って、レンズ枠
体８２表面から像面側レンズ３９ａが若干突出したとし
ても、スペーサの厚さ以内であれば、像面側レンズ３９
ａは他のレンズ枠体８２の裏面と接触しない。そして、
基台部材８５は、レンズ枠体８２に形成された取付溝８
４とは反対側の表面、すなわち、レンズ枠体８２の他方
の面に対して、図示しない一対のボルトにより固定され
ている。

【００６８】次に、支持部材８３の具体的構成を説明す
る。図１７及び図１８に示すように、基台部材８５は、
座面ブロック９０ａと保持部支持ブロック９０ｂとを備
えている。前記座面ブロック９０ａは、前記像面側レン
ズ３９ａの周縁部をなすフランジ部３９ａｆの一方のフ
ランジ面に係合する座面８９を有する。前記保持部支持
ブロック９０ｂには、前記座面ブロック９０ａの姿勢を
調整可能に支持する座面ブロック支持機構９１が形成さ
れている。

【００６９】前記座面ブロック９０ａは、その長手方向
が前記像面側レンズ３９ａの接線方向に沿って配置さ
れ、前記座面８９はその座面ブロック９０ａの長手方向
の両端部に形成されている。すなわち、座面８９は、座
面ブロック９０ａに対して、像面側レンズ３９ａのフラ
ンジ部３９ａｆに向かって突出して形成されている。こ
の座面８９は、所定の面積を有する平面状をなすととも
に、その周縁が所定の曲率をもった曲面状に形成されて
いる。これは、その座面８９のフランジ部３９ａｆに対
する角当たりによる像面側レンズ３９ａの損傷を回避す
るためである。

【００７０】座面ブロック９０ａと保持部支持ブロック
９０ｂとの間、及び保持部支持ブロック９０ｂには、像
面側レンズ３９ａの径方向（図１８のＸ軸方向）に貫通
する複数のスリット９３が形成されている。この複数の
スリット９３を形成する際、全部のスリット９３が互い
に連続しないように、スリット９３の間に加工を施さな
い部分を残す。そして、この加工を施さない部分に対し
て、彫り込み部９４が、像面側レンズ３９ａの径方向の
中心側から彫り込む加工と、同方向の外側から彫り込む
加工とにより形成されている。

【００７１】ここで、この彫り込み部９４における像面
側レンズ３９ａの径方向の外側には、大きな穴が形成さ
れている。この両方向からの加工によって、座面ブロッ
ク９０ａと保持部支持ブロック９０ｂとの間、及び保持
部支持ブロック９０ｂには、複数の保持部首部９５ａ〜
９５ｄ（屈曲部）が形成される。

【００７２】この保持部首部９５ａ〜９５ｄに予測不能
な歪みが残存するのを回避するために、各掘り込み部９
４の深さ方向における首部９５ａ〜９５ｄの近傍は、そ
の保持部首部９５ａ〜９５ｄの両側が同じ加工方法によ
り切削加工が施されている。この加工方法としては、例
えば型彫放電加工、機械的切削加工等が有効である。

【００７３】前記保持部支持ブロック９０ｂは、前記複
数のスリット９３により、大きく３つの部分に分割され
ている。すなわち、保持部支持ブロック９０ｂは、前記
レンズ枠体８２に固着される保持部固定部９６と、第１
保持ブロック９７ａ、第２保持ブロック９８ａとに分割
されている。

【００７４】ここで、保持部固定部９６と第１保持ブロ
ック９７ａとは、第１保持部首部９５ａにより連結され
ている。保持部固定部９６と第２保持ブロック９８ａと
は、第２保持部首部９５ｂにより連結されている。第１
保持ブロック９７ａと第２保持ブロック９８ａとは、第
３保持部首部９５ｃにより連結されている。第２保持ブ
ロック９８ａと座面ブロック９０ａとは、連結する第４
保持部首部９５ｄにより連結されている。これらの複数
の保持部首部９５ａ〜９５ｄは、彫り込み加工により形
成されて、断面正方形をなし、第１保持ブロック９７
ａ、第２保持ブロック９８ａ、保持部固定部９６、座面
ブロック９０ａの断面積に比べて著しく小さな断面積を
有する。

【００７５】これにより、第１保持ブロック９７ａは、
第１保持部首部９５ａ及び第３保持部首部９５ｃによっ
て、第２保持ブロック９８ａと保持部固定部９６とに固
定される。第１保持ブロック９７ａは、第１保持部首部
９５ａ及び第３保持部首部９５ｃの協働により、像面側
レンズ３９ａの接線方向周りに回転可能に保持される
が、同接線方向への変位は拘束される。従って、第１保
持ブロック９７ａ、第１保持部首部９５ａ及び第３保持
部首部９５ｃにより、像面側レンズ３９ａの接線方向へ
の変位を拘束する接線方向拘束リンク９７が形成され
る。

【００７６】また、第２保持ブロック９８ａは、第２保
持部首部９５ｂ及び第４保持部首部９５ｄによって、座
面ブロック９０ａと保持部固定部９６とに固定される。
第２保持ブロック９８ａは、第２保持部首部９５ｂ及び
第４保持部首部９５ｄの協働により、像面側レンズ３９
ａの光軸と平行な方向周りに回転可能に保持されるが、
同光軸と平行な方向への変位は拘束される。従って、第
２保持ブロック９８ａ、第２保持部首部９５ｂ及び第４
保持部首部９５ｄにより、像面側レンズ３９ａの光軸と
平行な方向への変位を拘束する光軸方向拘束リンク９８
が形成される。この接線方向拘束リンク９７の拘束方向
と、光軸方向拘束リンク９８の拘束方向とは、互いにほ
ぼ直交する。言い換えれば、接線方向拘束リンク９７の
回転軸と、光軸方向拘束リンク９８の回転軸とが、互い
にほぼ直交する。

【００７７】そして、座面ブロック９０ａは、第４保持
部首部９５ｄによって、保持部支持ブロック９０ｂに連
結されている。すなわち、座面ブロック９０ａは、保持
部固定部９６に対して、接線方向拘束リンク９７と光軸
方向拘束リンク９８とを備える一対のリンク機構によっ
て支持される。

【００７８】また、これらの保持部首部９５ａ〜９５ｄ
のうち、第２及び第４保持部首部９５ｂ，９５ｄは、像
面側レンズ３９ａの光軸に平行で前記座面ブロック９０
ａの両座面８９の中間位置を通る線上に配置されてい
る。この線は、一対の座面８９を結ぶ線に直交する。一
方、第１及び第３保持部首部９５ａ，９５ｃは、一対の
座面８９を結ぶ線と平行な線上に配置されている。さら
に、第３保持部首部９５ｃは、第４保持部首部９５ｄの
近傍に配置されている。

【００７９】この基台部材８５では、座面ブロック９０
ａが、接線方向及び光軸方向拘束リンク９７，９８によ
り、保持部固定部９６に対して、像面側レンズ３９ａの
径方向（Ｘ方向）、接線方向（Ｙ方向）及び光軸と平行
な方向（Ｚ方向）の各方向周りに回転可能に、かつＹ方
向、Ｚ方向への変位が抑制されて支持されている。さら
に、座面ブロック９０ａは、第４保持部首部９５ｄによ
り、Ｘ方向に変位可能に支持されている。

【００８０】前記座面ブロック９０ａには、座面８９の
前記像面側レンズ３９ａの径方向外側において、座面８
９に対してＺ方向（すなわち、像面側レンズ３９ａのフ
ランジ部３９ａｆの厚さ方向）に延びて形成される座面
側取付部９９を備える。

【００８１】前記クランプ部材８６は、前記座面ブロッ
ク９０ａの上方に対応して配置され、クランプ本体１０
２とパッド部材８７とからなっている。クランプ本体１
０２は、押さえ面ブロック１０３と、その押さえ面ブロ
ック１０３を支持するための押さえ面ブロック支持機構
１０４とが装備されている。押さえ面ブロック１０３の
下面の両端には、前記座面ブロック９０ａの座面８９に
対向するように押さえ面１０５が形成されている。この
押さえ面１０５は、像面側レンズ３９ａの接線方向にほ
ぼ沿った稜線を有する断面三角形状に形成されている。
この両押さえ面１０５の稜線は、その２つの稜線を結ぶ
直線の中点が、前記座面ブロック９０ａと光軸方向拘束
リンク９８とを連結する第４保持部首部９５ｄの上方に
位置するように形成されている。

【００８２】前記押さえ面ブロック支持機構１０４は、
腕部１０６と押さえ面側取付部１０７とからなってお
り、その押さえ面側取付部１０７と前記押さえ面ブロッ
ク１０３とは所定の間隔をおいて離間されている。そし
て、この押さえ面側取付部１０７と前記座面側取付部９
９とを前記パッド部材８７を介して接合させた状態でボ
ルト１０８により締結することにより、クランプ部材８
６が前記座面ブロック９０ａに対して固定されるように
なっている。

【００８３】また、前記腕部１０６は、前記押さえ面ブ
ロック１０３と押さえ面側取付部１０７との両端を接続
するように一対設けられている。各腕部１０６は、平面
コ字状をなし、押さえ面側取付部１０７と前記座面側取
付部９９とを前記パッド部材８７を介して接合させた状
態で弾性変形可能なだけの長さをもって形成されてい
る。さらに、この腕部１０６は、レンズ枠体８２に装着
した状態で、そのレンズ枠体８２の取付溝８４内にその
内周面とは離間した状態で収容されるようになってい
る。

【００８４】前記パッド部材８７は、前記両取付部９
９，１０７の間に挟持される挟持部１１１と、前記押さ
え面１０５と像面側レンズ３９ａのフランジ部３９ａｆ
との間に介装される作用部１１２と、それら挟持部１１
１と作用部１１２とを連結するとともに弾性変形可能な
薄板状の薄板部１１３とからなっている。前記作用部１
１２の下面には、像面側レンズ３９ａのフランジ部３９
ａｆに係合する作用面１１４が、前記座面８９に対応す
るように平面状に形成されている。この作用面１１４の
周縁は、そのフランジ部３９ａｆに対する角当たりによ
る損傷を回避するため、所定の曲率をもった曲面状に形
成されている。

【００８５】そして、このように構成されたクランプ部
材８６は、前記ボルト１０８を締め込むことにより、前
記腕部１０６が弾性変形されて、押さえ面ブロック１０
３の押さえ面１０５に座面ブロック９０ａ側への押圧力
を付与する。この押圧力は、パッド部材８７の作用面１
１４を介して、像面側レンズ３９ａのフランジ部３９ａ
ｆに作用する。これにより、像面側レンズ３９ａのフラ
ンジ部３９ａｆが、座面ブロック９０ａの座面８９と、
押さえ面ブロック１０３の押さえ面１０５との間に挟持
される。

【００８６】さらに、図１３〜図１５及び図１７に示す
ように、レンズ枠体８２の前記各取付溝８４近傍の外周
面上には、後述するレンズ枠体位置検出機構１２２に対
向するように、四角柱状の位置検出用突部１１６が突設
されている。また、レンズ枠体８２の上面における各支
持部材８３の中間には、前記フレクシャ部材８１に接合
する平板状のフレクシャ接合部１１７が外方に延出する
ように形成されている。

【００８７】次に、枠体８０の具体的構成を主に図１３
及び図１９〜図２１に基づいて説明する。図１９は枠体
８０全体を示す斜視図であり、図２０はその枠体８０の
フレクシャ部材８１の取付部分を拡大して示す部分平面
図であり、図２１はその取付部分を中心とした部分側面
図である。図１９〜図２１に示すように、前記枠体８０
は、鉄、アルミニウム等の金属材料からなり、円環状を
なしている。その枠体８０の上面の内周面側には、前記
フレクシャ部材８１を取り付けるための３つのフレクシ
ャ取付部１２０が等角度間隔おきに形成されている。

【００８８】そして、枠体８０の内周面及び下面には、
枠体８０同士を積み重ねた際に、他の枠体８０のフレク
シャ部材８１を収容するためのフレクシャ収容凹部１２
１が、前記各フレクシャ取付部１２０の中間位置に対応
するように３つ凹設されている。このフレクシャ収容凹
部１２１は、後述のフレクシャ本体１２４を収容する本
体収容部１２１ａが中心に形成され、その両側端に連続
するように後述の各駆動レバー１２５ａ，１２５ｂを収
容するレバー収容部１２１ｂが形成されている。ここ
で、フレクシャ取付部１２０とフレクシャ収容凹部１２
１とは、枠体８０の周方向において交互に、しかも１８
０°位相がずれた状態で形成されている。

【００８９】また、図１３及び図１９に示すように、枠
体８０における前記フレクシャ収容凹部１２１の近傍の
外周面上には、レンズ枠体位置検出機構１２２を取着す
るための検出機構取付座１２３が形成されている。この
検出機構取付座１２３には、例えば静電容量検出形の断
面Ｌ字状をなすレンズ枠体位置検出機構１２２が、枠体
８０の外方に突出するように取着される。この枠体８０
上に前記レンズ枠体８２が前記フレクシャ部材８１を介
して取着されたとき、そのレンズ枠体位置検出機構１２
２と、前記レンズ枠体８２の位置検出用突部１１６とが
所定の隙間をおいて対向配置されるようになっている。
そして、レンズ枠体８２が枠体８０に対して相対移動さ
れると、前記位置検出用突部１１６がレンズ枠体位置検
出機構１２２に対して変位して、その変位量がレンズ枠
体位置検出機構１２２により検出されるようになってい
る。

【００９０】次に、前記フレクシャ部材８１の詳細構成
について、図１３及び図１９〜図２４に基づいて説明す
る。図２２は、前記枠体８０におけるフレクシャ本体１
２４の取付部分を拡大して示す部分側面図である。

【００９１】図１３に示すように、前記フレクシャ部材
８１は、フレクシャ本体１２４と、一対の操作部として
の垂直方向駆動レバー１２５ａ及び水平方向駆動レバー
１２５ｂとを有している。前記フレクシャ本体１２４
は、前記レンズ枠体８２のフレクシャ接合部１１７と、
前記枠体８０のフレクシャ取付部１２０とに挟持される
ように取り付けられている。このフレクシャ本体１２４
には、前記レンズ枠体８２のフレクシャ接合部１１７が
ボルト１３８を介して接合固定される接続ブロック１２
４ａとその接続ブロック１２４ａの姿勢を調整可能に支
持する接続ブロック支持機構１３２（図２２参照）が形
成されるフレクシャ支持ブロック１２４ｂとを備えてい
る。

【００９２】ここで、図２３はフレクシャ部材８１及び
枠体８０を両駆動レバー１２５ａ，１２５ｂに沿って破
断した部分断面図である。また、図２４は、フレクシャ
部材８１及び枠体８０をフレクシャ本体１２４のほぼ中
央において像面側レンズ３９ａの径方向に沿って破断し
た拡大部分断面図である。

【００９３】図２２〜図２４に示すように、このフレク
シャ本体１２４は、略直方体状をなしており、接続ブロ
ック１２４ａとフレクシャ支持ブロック１２４ｂとの
間、及びフレクシャ支持ブロック１２４ｂには、図２２
のＸ軸方向に貫通する複数の第１スリット１２６及び第
２スリット１２７が形成されている。この第１スリット
１２６は、フレクシャ本体１２４に各スリット１２６，
１２７を加工する際の基準孔１２４ｃより上部側に形成
されており、前記第２スリット１２７は、同基準孔１２
４ｃの下部側に形成されている。

【００９４】この第１及び第２スリット１２６，１２７
を形成する際、全部のスリット１２６，１２７が互いに
連続しないように、スリット１２６，１２７の間に加工
を施さない部分を残す。この第１スリット１２６に対応
して加工を施さない部分に対して、彫り込み部１２６ａ
がＸ方向の＋方向（図２２の紙面の手前側）から彫り込
む加工と、Ｘ方向の−方向（図２２の紙面の向こう側）
から彫り込む加工とにより形成される。

【００９５】ここで、この彫り込み部１２６ａは、像面
側レンズ３９ａの径方向に沿うように形成される。そし
て、この彫り込み部１２６ａの両端側には、大きな穴が
形成されている。このＸ方向の＋方向からの加工と−方
向からの加工とによって、接続ブロック１２４ａとフレ
クシャ支持ブロック１２４ｂとの間、及びフレクシャ支
持ブロック１２４ｂには、回転ピボット及び切欠ばねを
なす複数のフレクシャ首部１２９ａ〜１２９ｄが形成さ
れる。そして、各フレクシャ首部１２９ａ〜１２９ｄの
両側には、像面側レンズ３９ａの径方向に貫通する矩形
貫通孔１２８ａが形成される。

【００９６】このフレクシャ首部１２９ａ〜１２９ｄに
予測不能な歪みが残存するのを回避するために、各矩形
貫通孔１２８ａの深さ方向におけるフレクシャ首部１２
９ａ〜１２９ｄの近傍は、そのフレクシャ首部１２９ａ
〜１２９ｄの両側が同じ加工方法により切削加工が施さ
れている。この加工方法としては、例えば型彫放電加
工、機械的切削加工等が有効である。

【００９７】また、前記第２スリット１２７に対応して
加工を施さない部分（２ヶ所）の両側には、断面略円形
状をなし、像面側レンズ３９ａの径方向に貫通する円形
貫通孔１２８ｂが形成されている。この対向する一対の
円形貫通孔１２８ｂの間には、切欠ばねをなす第１及び
第２薄肉部１３０ａ，１３０ｂが形成されている。

【００９８】ここで、フレクシャ支持ブロック１２４ｂ
は、前記第１及び第２スリット１２６，１２７により、
大きく６つの部分に分割されている。すなわち、フレク
シャ支持ブロック１２４ｂは、フレクシャ固定部１３１
と、第１拘束ブロック１３３ａと、第２拘束ブロック１
３４ａと、第１駆動ブロック１３５ａと、第２駆動ブロ
ック１３６ａとに分割されている。前記フレクシャ固定
部１３１は、前記枠体８０のフレクシャ取付部１２０に
ボルト１３７を介して固定されている（図１９及び図２
２参照）。

【００９９】前記複数のフレクシャ首部１２９ａ〜１２
９ｄは、フレクシャ本体１２４に対する彫り込み加工に
より形成され、本実施形態では第１〜第４フレクシャ首
部１２９ａ〜１２９ｄの４つからなっている。第１フレ
クシャ首部１２９ａは、前記第１駆動ブロック１３５ａ
と第１拘束ブロック１３３ａとを連結するものである。
第２フレクシャ首部１２９ｂは、前記第２駆動ブロック
１３６ａと第２拘束ブロック１３４ａとを連結するもの
である。第３フレクシャ首部１２９ｃは、第１拘束ブロ
ック１３３ａと第２拘束ブロック１３４ａとを連結する
ものである。第４フレクシャ首部１２９ｄは、第１拘束
ブロック１３３ａと接続ブロック１２４ａとを連結する
ものである。これら複数のフレクシャ首部１２９ａ〜１
２９ｄは断面略正方形をなし、各拘束ブロック１３３
ａ，１３４ａ、各駆動ブロック１３５ａ，１３６ａ、接
続ブロック１２４ａの断面積に比べて著しく小さな断面
積を有する。

【０１００】そして、第１拘束ブロック１３３ａは、第
１フレクシャ首部１２９ａ及び第４フレクシャ首部１２
９ｄによって、第１駆動ブロック１３５ａと接続ブロッ
ク１２４ａとに固定される。この第１拘束ブロック１３
３ａは、第１フレクシャ首部１２９ａ及び第４フレクシ
ャ首部１２９ｄの協働により、Ｚ方向（像面側レンズ３
９ａの光軸方向）周りに回転可能に保持されるが、Ｚ方
向への変位は拘束される。従って、第１拘束ブロック１
３３ａ、第１フレクシャ首部１２９ａ及び第４フレクシ
ャ首部１２９ｄにより像面側レンズ３９ａの垂直方向
（光軸方向）への変位を拘束する垂直方向拘束リンク１
３３が形成される。

【０１０１】また、第２拘束ブロック１３４ａは、第２
フレクシャ首部１２９ｂ及び第３フレクシャ首部１２９
ｃによって、第２駆動ブロック１３６ａと第１拘束ブロ
ック１３３ａとに固定される。この第２拘束ブロック１
３４ａは、第２フレクシャ首部１２９ｂ及び第３フレク
シャ首部１２９ｃの協働により、Ｙ方向（像面側レンズ
３９ａの接線方向）周りに回転可能に保持されるが、Ｙ
方向への変位は拘束される。従って、第２拘束ブロック
１３４ａ、第２フレクシャ首部１２９ｂ及び第３フレク
シャ首部１２９ｃにより像面側レンズ３９ａの水平方向
（接線方向）への変位を拘束する水平方向拘束リンク１
３４が形成される。

【０１０２】この垂直方向拘束リンク１３３の拘束方向
と、水平方向拘束リンク１３４の拘束方向とは、互いに
ほぼ直交する。言い換えれば、垂直方向拘束リンク１３
３の回転軸と、水平方向拘束リンク１３４の回転軸と
が、互いにほぼ直交する。

【０１０３】そして、前記接続ブロック１２４ａは、第
４フレクシャ首部１２９ｄによって、フレクシャ支持ブ
ロック１２４ｂに連結されている。すなわち、接続ブロ
ック１２４ａは、垂直方向拘束リンク１３３と水平方向
拘束リンク１３４とを備える一対のリンクリンク機構に
よって支持されている。

【０１０４】また、図２２〜図２４に示すように、前記
フレクシャ首部１２９ａ〜１２９ｄのうち、第１及び第
４フレクシャ首部１２９ａ，１２９ｄは、前記接続ブロ
ック１２４ａのほぼ中心を通り前記Ｚ軸に平行な線上に
配置されている。一方、第２及び第３フレクシャ首部１
２９ｂ，１２９ｃは、前記接続ブロック１２４ａの表面
にほぼ平行な線上に配置されている。さらに、第３フレ
クシャ首部１２９ｃは、第４フレクシャ首部１２９ｄの
近傍に配置されている。

【０１０５】このフレクシャ本体１２４において、接続
ブロック１２４ａは、垂直方向拘束リンク１３３及び水
平方向拘束リンク１３４により、第１及び第２駆動ブロ
ック１３５ａ，１３６ａに対して、Ｘ方向、Ｙ方向、Ｚ
方向周りに回転可能に、かつＹ方向、Ｚ方向への変位が
抑制されるよう支持されている。さらに、接続ブロック
１２４ａは、第４フレクシャ首部１２９ｄによりＸ方向
に変位可能に支持されている。

【０１０６】ところで、第１駆動ブロック１３５ａは、
第１フレクシャ首部１２９ａにより第１拘束ブロック１
３３ａに連結され、第１薄肉部１３０ａによりフレクシ
ャ固定部１３１に連結されている。そして、その第１駆
動ブロック１３５ａの外端には、長尺状をなす前記垂直
方向駆動レバー１２５ａが前記像面側レンズ３９ａの接
線方向に沿って延びるように一体形成されている。この
第１駆動ブロック１３５ａは、前記垂直方向駆動レバー
１２５ａに像面側レンズ３９ａの光軸と平行な方向（上
下方向）に付与された駆動力を、接続ブロック１２４ａ
側の第１フレクシャ首部１２９ａに対して第１の方向を
なす上下方向の駆動力に変換して伝達する。この駆動力
の変換は、切り欠きばねをなす第１薄肉部１３０ａの作
用によりもたらされる。従って、第１駆動ブロック１３
５ａ、第１フレクシャ首部１２９ａ及び第１薄肉部１３
０ａにより、垂直方向駆動レバー１２５ａに付与された
上下方向の駆動力を前記垂直方向拘束リンク１３３に上
下方向の駆動力として伝達する垂直方向駆動リンク１３
５が形成される。

【０１０７】一方、第２駆動ブロック１３６ａは、第２
フレクシャ首部１２９ｂにより第２拘束ブロック１３４
ａに連結され、第２薄肉部１３０ｂによりフレクシャ固
定部１３１に連結されている。そして、その第２駆動ブ
ロック１３６ａの外端には、長尺状をなす前記水平方向
駆動レバー１２５ｂが前記像面側レンズ３９ａの接線方
向に沿って延びるように一体形成されている。この第２
駆動ブロック１３６ａは、前記水平方向駆動レバー１２
５ｂに像面側レンズ３９ａの光軸と平行な方向（上下方
向）に付与された駆動力を、接続ブロック１２４ａ側の
第２フレクシャ首部１２９ｂに対して像面側レンズ３９
ａの第２の方向をなす接線方向（水平方向）の駆動力に
変換して伝達する。この駆動力の変換は、切り欠きばね
をなす第２薄肉部１３０ｂの作用によりもたらされる。
従って、第２駆動ブロック１３６ａ、第２フレクシャ首
部１２９ｂ及び第２薄肉部１３０ｂにより、水平方向駆
動レバー１２５ｂに付与された上下方向の駆動力を前記
水平方向拘束リンク１３４に水平方向の駆動力として伝
達する水平方向駆動リンク１３６が形成される。

【０１０８】ここで、前記第１フレクシャ首部１２９ａ
は、前記第１薄肉部１３０ａの中央を通り前記像面側レ
ンズ３９ａの接線方向に沿う直線上に配置されている。
一方、前記第２フレクシャ首部１２９ｂは、前記第２薄
肉部１３０ｂの中央を通り前記像面側レンズ３９ａの光
軸方向に沿う直線上に配置されている。

【０１０９】図１９〜図２１及び図２３に示すように、
前記枠体８０における前記両駆動レバー１２５ａ，１２
５ｂの先端の上面には、位置調整部材としての調整ワッ
シャ１３９、及び同じく位置調整部材としての調整ボタ
ン１４０が交換部材（例えば、ボルト、プラグ等）１４
１（図２３参照）により交換可能に固定されている。こ
の調整ワッシャ１３９はその厚さが例えば１μｍおき
で、調整ボタン１４０はその厚さが例えば１０μｍおき
で、予めそれぞれ複数用意されている。すなわち、調整
ワッシャ１３９が微調整用に、また調整ボタン１４０が
祖調整用に使われる。そして、これらの調整ワッシャ１
３９及び調整ボタン１４０を選択的に嵌合することで、
前記両駆動レバー１２５ａ，１２５ｂと枠体８０との間
の間隔が調整され、これにより前記両駆動レバー１２５
ａ，１２５ｂに付与される駆動力が設定されるようにな
っている。

【０１１０】しかも、前記両駆動レバー１２５ａ，１２
５ｂは、前記像面側レンズ３９ａの接線方向に沿って所
定の長さを有するように形成されている。このため、前
記調整ワッシャ１３９及び調整ボタン１４０で設定さ
れ、両駆動レバー１２５ａ，１２５ｂに付与される駆動
力は、その長さに応じた割合で低減されて前記フレクシ
ャ本体１２４に伝達されるようになっている。

【０１１１】また、これら調整ワッシャ１３９及び調整
ボタン１４０の近傍で、かつフレクシャ本体１２４側の
枠体８０の上面には、リフトレバー１４２が上下移動可
能かつ前記両駆動レバー１２５ａ，１２５ｂに接離可能
に設けられている。さらに、両駆動レバー１２５ａ，１
２５ｂには、そのリフトレバー１４２の近傍で、かつフ
レクシャ本体１２４側の部分において、一端が枠体８０
に固定された引っ張りばねからなる復帰ばね１４３の他
端が取着されている。これにより、両駆動レバー１２５
ａ，１２５ｂは枠体８０側に付勢され、前記リフトレバ
ー１４２が当接していない状態では、両駆動レバー１２
５ａ，１２５ｂの先端が前記調整ボタン１４０の上面に
当接するようになっている。

【０１１２】このリフトレバー１４２を駆動レバー１２
５ａ，１２５ｂに当接させたまま、枠体８０から離れる
方向、すなわち上方向に移動させることによって、各駆
動レバー１２５ａ，１２５ｂが復帰ばね１４３の付勢力
に抗して枠体８０から離れるように移動する。このよう
に、各駆動レバー１２５ａ，１２５ｂが、調整ボタン１
４０から離れた状態で、調整ボタン１４０及び調整ワッ
シャ１３９の交換が行われる。調整ボタン１４０及び調
整ワッシャ１３９の交換が完了した後、リフトレバー１
４２を元の位置に戻すことによって、各駆動レバー１２
５ａ，１２５ｂが復帰ばね１４３の付勢力によって調整
ボタン１４０の上面に当接する。

【０１１３】図１３及び図２５に示すように、前記枠体
８０の上面及び下面の外周側部分には、枠体８０同士が
積み重ねられた際に、他の枠体８０との重合面８０ａが
形成されている。そして、以上のように構成された複数
の固定光学素子保持装置４１が、それぞれその位相を１
８０°ずつずらした状態で、その枠体８０の重合面８０
ａにおいて間隔調整用スペーサを介して互いに積層され
るようになっている。このように、複数の固定光学素子
保持装置４１が重合配置された状態では、下方に配置さ
れる固定光学素子保持装置４１のレンズ枠体８２は、上
方に配置される固定光学素子保持装置４１の枠体８０内
に収容される。また、このとき、下方側の固定光学素子
保持装置４１のフレクシャ部材８１は、上方側の枠体８
０のフレクシャ収容凹部１２１内に収容される。

【０１１４】次に、この固定光学素子保持装置４１のフ
レクシャ本体１２４の動作について、さらに詳細に説明
する。図２６は、３つのフレクシャ本体１２４のうち、
１つのフレクシャ本体１２４の一部を模式的に描いたも
のである。

【０１１５】ここで、前記垂直方向駆動レバー１２５ａ
の先端部に所定の駆動力Ｆ１を作用させる場合を考え
る。図２６において、垂直方向駆動レバー１２５ａ側の
第１薄肉部１３０ａではその両側の円形貫通孔１２８ｂ
が上下に対向するように配列されている。このため、前
記駆動力Ｆ１により、垂直方向駆動レバー１２５ａの先
端部を垂直方向に変位されると、その第１薄肉部１３０
ａでは像面側レンズ３９ａの径方向を軸線とする回動力
Ｍ１が生じる。

【０１１６】ここで、第１フレクシャ首部１２９ａは、
前記第１薄肉部１３０ａの中心を通るとともに像面側レ
ンズ３９ａの接線方向に沿う直線Ｌ１上に形成されてい
る。このため、前記第１薄肉部１３０ａにおける回動力
Ｍ１が、第１駆動ブロック１３５ａを介して、第１フレ
クシャ首部１２９ａにおける垂直方向への直線駆動に変
換される。この直線駆動が第１拘束ブロック１３３ａ及
び第４フレクシャ首部１２９ｄを介して接続ブロック１
２４ａに伝達され、レンズ枠体８２内の像面側レンズ３
９ａにおける光軸方向に沿った変位が実現される。

【０１１７】次に、水平方向駆動レバー１２５ｂの先端
部に所定の駆動力Ｆ２を作用させる場合を考える。この
水平方向駆動レバー１２５ｂ側の第２薄肉部１３０ｂで
はその両側の円形貫通孔１２８ｂが水平に対向するよう
に配列されている。このため、所定の駆動力Ｆ２が作用
されて水平方向駆動レバー１２５ｂの先端部を垂直方向
に変位されると、その第２薄肉部１３０ｂでは像面側レ
ンズ３９ａの径方向を軸線とする回動力Ｍ２が生じる。

【０１１８】ここで、第２フレクシャ首部１２９ｂは、
前記第２薄肉部１３０ｂの中心を通るとともに像面側レ
ンズ３９ａの光軸方向に沿う直線Ｌ２上に形成されてい
る。このため、前記第２薄肉部１３０ｂにおける回動力
Ｍ２が、第２駆動ブロック１３６ａを介して、第２フレ
クシャ首部１２９ｂにおける水平方向への直線駆動に変
換される。この直線駆動が第２拘束ブロック１３４ａ、
第３フレクシャ首部１２９ｃ及び第４フレクシャ首部１
２９ｄを介して接続ブロック１２４ａに伝達され、レン
ズ枠体８２内の像面側レンズ３９ａにおける接線方向に
沿った変位が実現される。

【０１１９】さらに、所定の駆動力Ｆ１，Ｆ２を作用さ
せて両駆動レバー１２５ａ，１２５ｂの先端部をそれぞ
れ垂直方向に変位させると、前記第１拘束ブロック１３
３ａ、第２拘束ブロック１３４ａ及び第３フレクシャ首
部１２９ｃを介して、前記２つの方向への駆動力が合成
される。つまり、像面側レンズ３９ａの光軸をＺ軸とす
る極座標Ｒ−θ−Ｚ系を考えた場合、第３フレクシャ首
部１２９ｃのθ座標、Ｚ座標が、両駆動レバー１２５
ａ，１２５ｂの動きに応じた位置に変化する。

【０１２０】一方、前記第１拘束ブロック１３３ａ及び
第２拘束ブロック１３４ａは、駆動力の伝達方向に沿っ
て拘束され（その長さが変化することなく）、かつ第３
フレクシャ首部１２９ｃは、前記第１フレクシャ首部１
２９ａと第２フレクシャ首部１２９ｂとを結ぶ直線Ｌ３
を中心軸として微少回転することが可能である。すなわ
ち、極座標でいうところのＲ方向（像面側レンズ３９ａ
の径方向）に変位する自由度を有している。

【０１２１】従って、レンズ枠体８２に対して不動な点
である第３フレクシャ首部１２９ｃは、極座標で言うと
ころのθ、Ｚ並進移動の自由度を、望むべく位置に拘束
され、かつＲ並進自由度を有している。また、第３フレ
クシャ首部１２９ｃは回転ピポットであるので、Ｒ、
θ、Ｚの各軸回りの回転自由度を有している。

【０１２２】以上の動き及び拘束状態は、枠体８０の３
ヶ所に設置されたフレクシャ本体１２４のそれぞれの中
で独立に生じる。従って、レンズ枠体８２に対して固定
された３つの点（第３フレクシャ首部１２９ｃ）のそれ
ぞれにおいてレンズ枠体８２の自由度がそれぞれ２ずつ
拘束され、レンズ枠体８２の姿勢（６自由度）は機構学
の教えるところにより過不足なく拘束される。かつ、そ
の姿勢は、両駆動レバー１２５ａ，１２５ｂの駆動量と
１：１で対応しているため、レンズ枠体８２及びそれに
保持される像面側レンズ３９ａの姿勢を、それらに無理
な力、歪みを与えることなく自在に調節することが可能
である。

【０１２３】このように、レンズ枠体８２は、各フレク
シャ部材８１を介して、前記枠体８０に対して、いわゆ
るキネマティックに支持されている。ここで、像面側レ
ンズ３９ａの中心を原点、その像面側レンズ３９ａの光
軸方向をＺ軸、像面側レンズ３９ａの径方向をＲ軸及び
像面側レンズ３９ａの周方向をθ軸とする極座標系Ｒ−
θ−Ｚ系を考える。このフレクシャ部材８１のリンク機
構１４４によれば、レンズ枠体８２とリンク機構１４４
との連結点をなす前記第３フレクシャ首部１２９ｃは、
所定の範囲内においてＲ、θ、Ｚの各軸方向に変位可能
となる。また、枠体各リンク機構１４４における、前記
第３フレクシャ首部１２９ｃの枠体８０からの高さ位置
を適宜変更して組み合わせることにより、レンズ枠体８
２を前記枠体８０に対して任意の方向に傾けることがで
きる。これにより、レンズ枠体８２が枠体８０に対し
て、いわゆるキネマティックに、つまりＲ、θ、Ｚの各
軸方向への移動とＲ軸、θ軸及びＺ軸の各軸周りの回転
とが可能なように保持される。

【０１２４】次に、鏡筒３８の組立てについて、説明す
る。まず、本実施形態における複数の像面側鏡筒モジュ
ール３７ａと、複数の物体面側鏡筒モジュール３７ｂと
を、各モジュール３７ａ，３７ｂが保持するレンズ３９
ａ，３９ｂｍ，３９ｂｓの光軸方向に沿って積み重ね
る。

【０１２５】そして、各モジュール３７ａ，３７ｂのそ
れぞれに関して、光軸方向と直交する方向の位置を相対
的に調整することによって、各モジュール３７ａ，３７
ｂ間の位置調整を行う。この位置調整は、像面側鏡筒モ
ジュール３７ａの枠体８０及び物体面側鏡筒モジュール
３７ｂの鏡筒本体４４を回転させた際の偏心量に基づい
て行われる。

【０１２６】なお、像面側鏡筒モジュール３７ａの枠体
８０及び物体面側鏡筒モジュール３７ｂの鏡筒本体４４
に対するレンズ３９ａ，３９ｂｍ，３９ｂｓの位置決め
は、芯出し装置上において、レンズ３９ａ，３９ｂｍ，
３９ｂｓを保持した枠体８０及び鏡筒本体４４を回転さ
せて行う。ここで、各レンズ３９ａ，３９ｂｍ，３９ｂ
ｓは、枠体８０及び鏡筒本体４４を回転させたときに、
それらレンズ３９ａ，３９ｂｍ，３９ｂｓの光軸の振れ
具合が小さくなるように、予め枠体８０及び鏡筒本体４
４に対して位置決めされている。また、上述したモジュ
ール３７ａ，３７ｂのそれぞれの位置調整は、これら枠
体８０及び鏡筒本体４４に対するレンズ３９ａ，３９ｂ
ｍ，３９ｂｓの位置決めが完了した後に行われるものと
する。

【０１２７】このように、各モジュール３７ａ，３７ｂ
間の位置調整を行うことによって、鏡筒３８が完成す
る。この完成した鏡筒３８がフレーム４２上に載置さ
れ、露光装置３１として組み上げられる。鏡筒３８をフ
レーム４２上に載置する際の衝撃や、鏡筒３８を搬送す
る際に生じる衝撃などによって、上述した位置調整に誤
差が生じる可能性がある。そこで、露光装置３１のフレ
ーム４２上に鏡筒３８を載置した状態で、投影光学系３
５の波面収差を波面収差測定器で測定する。そして、そ
の測定結果に基づいて、波面収差の収差量が小さくなる
ように、固定光学素子保持装置４１における駆動レバー
１２５ａ，１２５ｂの位置を調整して、像面側レンズ３
９ａの位置を変位させた後、調整ワッシャ１３９または
調整ボタン１４０を必要に応じて交換する。この調整ワ
ッシャ１３９及び調整ボタン１４０の交換によって、フ
レーム４２上に載置された鏡筒３８、すなわち、露光装
置３１に装備された状態の投影光学系３５の結像性能が
最適な状態に設定される。このように、投影光学系３５
の性能が最適な状態に設定された後、物体面側鏡筒モジ
ュール３７ｂ内の可動レンズ３９ｂｍを駆動する前記ア
クチュエータ５０の動作の基準位置を設定する。

【０１２８】まず、前記アクチュエータ５０が非作動状
態にあって、可動レンズ３９ｂｍを支持するインナリン
グ部４４ａが原位置に配置された状態で、検出ヘッド７
６にてスケール７４上の目盛７４ａを読み取る。このと
きの検出ヘッド７６の検出値をインナリング部４４ａの
移動量計測のための原点とし、このときのアクチュエー
タ５０の位置をアクチュエータ５０の変位の基準位置に
設定する。そして、また、アクチュエータ５０にてイン
ナリング部４４ａが光軸方向に移動された状態では、検
出ヘッド７６によりスケール７４上の目盛７４ａを読み
取らせることにより、前記原点に基づいてインナリング
部４４ａの移動量が計測される。

【０１２９】なお、前記鏡筒３８を露光装置３１のフレ
ーム４２上に載置する場合は、３点で、いわゆる「キネ
マティックに」支持されている。すなわち、鏡筒３８の
フランジ部３８ａ（図１参照）の下面と、フレーム４２
の上面との間には、キネマティックカップリング機構が
設置される。このキネマティックカップリング機構は、
フランジ部３８ａとフレーム４２との一方に取付けら
れ、Ｖ溝が形成された第１の係合部材と、フランジ部３
８ａとフレーム４２との他方に取付けられ、上記第１の
係合部材に係合する凸部（例えば、ボール）を有する第
２の係合部材とを備える。

【０１３０】さらに、フランジ部３８ａとフレーム４２
との間には、鏡筒３８の荷重をキャンセルするための荷
重キャンセル機構（例えば、弾性部材としてのばねを利
用したばね機構）が取付けられている。また、荷重キャ
ンセル機構の代わりに、エアパッド（ワッシャパッド）
を用いてもよい。

【０１３１】このように、フランジ部３８ａとフレーム
４２との間に、荷重キャンセル機構やエアパッドを設置
することによって、鏡筒３８をフランジ部３８ａ上に載
置するときに発生する応力の均一化を図ることができ、
鏡筒３８に対して不均一な応力がかからないようにする
ことができる。

【０１３２】従って、本実施形態によれば、以下のよう
な効果を得ることができる。 （イ） この露光装置３１では、まず像面側レンズ３９
ａの位置を固定光学素子保持装置４１により所定位置に
調整する。そして、この状態で、アクチュエータ５０の
駆動量を検出するセンサ７２の測定の原点を設定するこ
とで、可動レンズ３９ｂｍを駆動するアクチュエータ５
０における変位の基準位置を設定するようになってい
る。このため、アクチュエータ５０における変位の基準
位置が、像面側レンズ３９ａの光軸調整が行われた状
態、すなわち投影光学系３５が所定状態に調整された上
で設定されることになる。これにより、アクチュエータ
５０の基準位置の設定をより正確に行うことができて、
投影光学系３５の結像特性を補正する際の誤差を小さく
することができる。

【０１３３】（ロ） この露光装置３１では、投影光学
系３５の物体面側に配置された可動レンズ３９ｂｍの位
置を可動光学素子保持装置４０により調整するととも
に、像面側に配置された像面側レンズ３９ａの位置を固
定光学素子保持装置４１により調整するようになってい
る。このため、像面側に配置された各像面側レンズ３９
ａの位置決めを固定光学素子保持装置４１により、光軸
を厳密に調整した状態とすることで、投影光学系３５全
体の結像特性の調整を容易にかつより正確に行うことが
できる。この上で、可動光学素子保持装置４０により、
物体面側に配置された可動レンズ３９ｂｍの位置を調整
することで、稼動状態における投影光学系３５の結像特
性の変動を容易かつより正確に補正することができる。

【０１３４】（ハ） この露光装置３１では、レチクル
Ｒ上に形成された所定のパターンの像をウエハＷ上に投
影する投影光学系３５の各レンズ３９ａ，３９ｂｍの位
置を固定光学素子保持装置４１または可動光学素子保持
装置４０で調整するようになっている。このため、投影
光学系３５の結像特性をより正確に補正することがで
き、レチクルＲ上のパターンの像をウエハＷ上に、より
正確に投影することができる。そして、露光装置３１に
おける露光精度の向上を図ることができる。

【０１３５】（変形例）なお、本発明の実施形態は、以
下のように変形してもよい。 ・ 前記実施形態では、フランジ部３８ａより像面側に
可動光学素子保持装置４０を配置し、フランジ部３８ａ
より物体面側に固定光学素子保持装置４１を配置する構
成を説明したが、本発明は、この構成に限定されるもの
ではない。例えば、フランジ部３８ａより像面側、物体
面側に可動光学素子保持装置４０と固定光学素子保持装
置４１とを組み合わせて配置してもよい。また、フラン
ジ部３８ａより物体面側に可動光学素子保持装置４０を
配置し、フランジ部３８ａより物体面側に可動光学素子
保持装置４０を配置する構成であってもよい。

【０１３６】・ 前記実施形態では、各像面側レンズ３
９ａの位置を固定光学素子保持装置４１により所定位置
に調整する。そして、この状態で、アクチュエータ５０
の駆動量を検出するセンサ７２の測定の原点を設定する
ことで、可動レンズ３９ｂｍを駆動するアクチュエータ
５０における変位の基準位置を設定するようにした。こ
れに対して、予めそれぞればね定数の異なる複数の引っ
張りばね６９を用意する。そして、各像面側レンズ３９
ａの位置を所定の設定位置に調整した後に、アクチュエ
ータ５０が非作動状態で所定長さとなるような引っ張り
ばね６９を選択してインナリング部４４ａとアウタリン
グ部４４ｂとの間に装着して、アクチュエータ５０にお
ける変位の基準位置を設定するようにしてもよい。

【０１３７】・ 前記実施形態では、鏡筒３８をフレー
ム４２上に載置する際の衝撃や、鏡筒３８を搬送する際
に生じる衝撃などによって生じた位置調整の誤差を、固
定光学素子保持装置４１における駆動レバー１２５ａ，
１２５ｂの位置を調整して、像面側レンズ３９ａの位置
を変位させて調整する。そして、投影光学系３５の性能
が最適な状態に設定された後、物体面側鏡筒モジュール
３７ｂ内の可動レンズ３９ｂｍを駆動するアクチュエー
タ５０の動作の基準位置を設定するようにした。

【０１３８】これに対して、例えば次のような方法で、
前記誤差を補正するようにしてもよい。すなわち、固定
光学素子保持装置４１における駆動レバー１２５ａ，１
２５ｂの位置を調整して像面側レンズ３９ａの位置を変
位させるとともに、アクチュエータ５０を駆動させて可
動レンズ３９ｂｍの位置を変位させる。そして、投影光
学系３５の性能が最適な状態に設定された後、前記アク
チュエータ５０の動作の基準位置を設定するようにして
もよい。

【０１３９】・ 前記実施形態では、光学素子として各
レンズ３９ａ，３９ｂｍ，３９ｂｓが例示されている
が、この光学素子は平行平板、ミラー、ハーフミラー等
の他の光学素子であってもよい。

【０１４０】・ この発明の可動光学素子保持装置４０
及び固定光学素子保持装置４１は、前記実施形態の露光
装置３１の投影光学系３５における横置きタイプの各レ
ンズ３９ａ，３９ｂｍ，３９ｂｓの保持構成に限定され
るものではない。例えば露光装置３１の照明光学系３３
における光学素子の保持構成、縦置きタイプの光学素子
の保持構成に具体化してもよい。さらに、他の光学機
械、例えば顕微鏡、干渉計等の光学系における光学素子
の保持構成に具体化してもよい。

【０１４１】以上のようにした場合でも、前記実施形態
における効果とほぼ同様の効果が得られる。 ・ また、露光装置として、投影光学系を用いることな
く、マスクと基板とを密接させてマスクのパターンを露
光するコンタクト露光装置、マスクと基板とを近接させ
てマスクのパターンを露光するプロキシミティ露光装置
の光学系にも適用することができる。また、投影光学系
としては、全屈折タイプに限らず、反射屈折タイプであ
ってもよい。

【０１４２】さらに、本発明の露光装置は、縮小露光型
の露光装置に限定されるものではなく、例えば等倍露光
型、拡大露光型の露光装置であってもよい。また、半導
体素子などのデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ
露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使
用されるレチクルまたはマスクを製造するために、マザ
ーレチクルからガラス基板やシリコンウエハなどへ回路
パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。
ここで、ＤＵＶ（深紫外）やＶＵＶ（真空紫外）光など
を用いる露光装置では一般に透過型レチクルが用いら
れ、レチクル基板としては、石英ガラス、フッ素がドー
プされた石英ガラス、蛍石、フッ化マグネシウム、また
は水晶などが用いられる。また、プロキシミティ方式の
Ｘ線露光装置や電子線露光装置などでは、透過型マスク
（ステンシルマスク、メンバレンマスク）が用いられ、
マスク基板としてはシリコンウエハなどが用いられる。

【０１４３】もちろん、半導体素子の製造に用いられる
露光装置だけでなく、液晶表示素子（ＬＣＤ）などを含
むディスプレイの製造に用いられてデバイスパターンを
ガラスプレート上へ転写する露光装置にも、本発明を適
用することができる。また、薄膜磁気ヘッド等の製造に
用いられてデバイスパターンをセラミックウエハ等へ転
写する露光装置、及びＣＣＤ等の撮像素子の製造に用い
られる露光装置などにも本発明を適用することができ
る。

【０１４４】さらに、本発明は、マスクと基板とが相対
移動した状態でマスクのパターンを基板へ転写し、基板
を順次ステップ移動させるスキャニング・ステッパに適
用することができる。また、本発明は、マスクと基板と
が静止した状態でマスクのパターンを基板へ転写し、基
板を順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピー
ト方式のステッパにも適用することができる。

【０１４５】・ また、露光装置の光源としては、例え
ばｇ線（４３６ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）、ＫｒＦエ
キシマレーザ（２４８ｎｍ）、Ｆ２レーザ（１５７ｎ
ｍ）、Ｋｒ２レーザ（１４６ｎｍ）、Ａｒ２レーザ（１
２６ｎｍ）等を用いてもよい。また、ＤＦＢ半導体レー
ザまたはファイバレーザから発振される赤外域、または
可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（また
はエルビウムとイッテルビウムの双方）がドープされた
ファイバアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外
光に波長変換した高調波を用いてもよい。

【０１４６】なお、前記実施形態の露光装置３１は、例
えば次のように製造される。すなわち、まず、照明光学
系３３、投影光学系３５を構成する複数のレンズ３９
ａ，３９ｂｍ，３９ｂｓまたはミラー等の光学素子の少
なくとも一部を前記実施形態または前記各変形例の実施
形態の固定光学素子保持装置４１または可動光学素子保
持装置４０で保持する。この照明光学系３３及び投影光
学系３５を、露光装置３１の本体に組み込み、光学調整
を行う。次いで、多数の機械部品からなるウエハステー
ジ３６（スキャンタイプの露光装置の場合は、レチクル
ステージ３４も含む）を露光装置３１の本体に取り付け
て配線を接続する。そして、露光光ＥＬの光路内にガス
を供給するガス供給配管を接続した上で、さらに総合調
整（電気調整、動作確認など）を行う。

【０１４７】ここで、可動光学素子保持装置４０または
固定光学素子保持装置４１を構成する各部品は、超音波
洗浄などにより、加工油や、金属物質などの不純物を落
としたうえで、組み上げられる。なお、露光装置３１の
製造は、温度、湿度や気圧が制御され、かつクリーン度
が調整されたクリーンルーム内で行うことが望ましい。

【０１４８】前記実施形態における硝材として、蛍石、
石英などを例に説明したが、フッ化リチウム、フッ化マ
グネシウム、フッ化ストロンチウム、リチウム−カルシ
ウム−アルミニウム−フロオライド、及びリチウム−ス
トロンチウム−アルミニウム−フロオライド等の結晶
や、ジルコニウム−バリウム−ランタン−アルミニウム
からなるフッ化ガラスや、フッ素をドープした石英ガラ
ス、フッ素に加えて水素もドープされた石英ガラス、Ｏ
Ｈ基を含有させた石英ガラス、フッ素に加えてＯＨ基を
含有した石英ガラス等の改良石英を用いた場合にも、前
記実施形態の固定光学素子保持装置４１及び可動光学素
子保持装置４０を適用することができる。

【０１４９】次に、上述した露光装置３１をリソグラフ
ィ工程で使用したデバイスの製造方法の実施形態につい
て説明する。図２７は、デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半
導体素子、液晶表示素子、撮像素子（ＣＣＤ等）、薄膜
磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造例のフローチャ
ートを示す図である。図２７に示すように、まず、ステ
ップＳ１５１（設計ステップ）において、デバイス（マ
イクロデバイス）の機能・性能設計（例えば、半導体デ
バイスの回路設計等）を行い、その機能を実現するため
のパターン設計を行う。引き続き、ステップＳ１５２
（マスク製作ステップ）において、設計した回路パター
ンを形成したマスク（レクチルＲ等）を製作する。一
方、ステップＳ１５３（基板製造ステップ）において、
シリコン、ガラスプレート等の材料を用いて基板（シリ
コン材料を用いた場合にはウエハＷとなる。）を製造す
る。

【０１５０】次に、ステップＳ１５４（基板処理ステッ
プ）において、ステップＳ１５１〜Ｓ１５３で用意した
マスクと基板を使用して、後述するように、リソグラフ
ィ技術等によって基板上に実際の回路等を形成する。次
いで、ステップＳ１５５（デバイス組立ステップ）にお
いて、ステップＳ１５４で処理された基板を用いてデバ
イス組立を行う。このステップＳ１５５には、ダイシン
グ工程、ボンディング工程、及びパッケージング工程
（チップ封入等）等の工程が必要に応じて含まれる。

【０１５１】最後に、ステップＳ１５６（検査ステッ
プ）において、ステップＳ１５５で作製されたデバイス
の動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こう
した工程を経た後にデバイスが完成し、これが出荷され
る。

【０１５２】図２８は、半導体デバイスの場合におけ
る、図２７のステップＳ１５４の詳細なフローの一例を
示す図である。図２８において、ステップＳ１６１（酸
化ステップ）では、ウエハＷの表面を酸化させる。ステ
ップＳ１６２（ＣＶＤステップ）では、ウエハＷ表面に
絶縁膜を形成する。ステップＳ１６３（電極形成ステッ
プ）では、ウエハＷ上に電極を蒸着によって形成する。
ステップＳ１６４（イオン打込みステップ）では、ウエ
ハＷにイオンを打ち込む。以上のステップＳ１６１〜Ｓ
１６４のそれぞれは、ウエハ処理の各段階の前処理工程
を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選
択されて実行される。

【０１５３】ウエハプロセスの各段階において、上述の
前処理工程が終了すると、以下のようにして後処理工程
が実行される。この後処理工程では、まず、ステップＳ
１６５（レジスト形成ステップ）において、ウエハＷに
感光剤を塗布する。引き続き、ステップＳ１６６（露光
ステップ）において、先に説明したリソグラフィシステ
ム（露光装置３１）によってマスク（レチクルＲ）の回
路パターンをウエハＷ上に転写する。次に、ステップＳ
１６７（現像ステップ）では露光されたウエハＷを現像
し、ステップＳ１６８（エッチングステップ）におい
て、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材
をエッチングにより取り去る。そして、ステップＳ１６
９（レジスト除去ステップ）において、エッチングが済
んで不要となったレジストを取り除く。

【０１５４】これらの前処理工程と後処理工程とを繰り
返し行うことによって、ウエハＷ上に多重に回路パター
ンが形成される。以上説明した本実施形態のデバイス製
造方法を用いれば、露光工程（ステップＳ１６６）にお
いて上記の露光装置３１が用いられ、真空紫外域の露光
光ＥＬにより解像力の向上が可能となり、しかも露光量
制御を高精度に行うことができる。従って、結果的に最
小線幅が０．１μｍ程度の高集積度のデバイスを歩留ま
りよく生産することができる。

【０１５５】

【発明の効果】以上詳述したように、本願請求項１に記
載の発明によれば、光学素子をその光軸がより厳密に位
置決めした状態で装着することができるとともに、例え
ば光学素子の温度状態の変化に伴う結像特性の変動を露
光装置の可動状態で補正することができる。

【０１５６】また、本願請求項２に記載の発明によれ
ば、前記請求項１に記載の発明の効果に加えて、操作部
の操作により、少なくとも一部の光学素子の位置決めを
容易かつより正確に行うことができる。

【０１５７】また、本願請求項３に記載の発明によれ
ば、前記請求項１または請求項２に記載の発明の作用に
加えて、少なくとも一部の光学素子とは異なる光学素子
を、露光装置の稼働状態で駆動部材を変位させることに
より、位置調整することができる。

【０１５８】また、本願請求項４、請求項６及び請求項
７に記載の発明によれば、前記請求項３に記載の発明の
効果に加えて、光学素子の位置決めをより正確に行うこ
とができて、光学系の結像特性を補正する際の誤差を小
さくすることができる。

【０１５９】また、本願請求項５に記載の発明によれ
ば、前記請求項１〜請求項４のうちいずれか一項に記載
の発明の効果に加えて、像面側に配置された少なくとも
一部の光学素子の位置決めを第１位置調整機構により行
うことで、光学系全体の結像特性の調整を容易にかつよ
り正確に行うことできる。この上で、第２位置調整機構
により、物体面側に配置された前記少なくとも一部の光
学素子とは異なる光学素子の位置を調整することで、稼
動状態における光学系の結像特性の変動を容易かつより
正確に補正することができる。

【０１６０】また、本願請求項８に記載の発明によれ
ば、複数の光学素子からなる光学系を収容する鏡筒にお
いて、請求項１〜請求項５のうちいずれか一項に記載の
発明とほぼ同様の効果を実現することができる。

【０１６１】また、本願請求項９に記載の発明によれ
ば、前記請求項８に記載の発明の効果に加えて、マスク
上のパターンの像を基板上に、より正確に投影すること
ができる。

【０１６２】また、本願請求項１０に記載の発明によれ
ば、前記請求項８または請求項９に記載の発明の効果に
加えて、投影光学系の結像性能が向上されて、露光精度
の向上を図ることができる。

【０１６３】また、本願請求項１１に記載の発明によれ
ば、高集積度のデバイスを歩留まりよく製造することが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の露光装置の一実施形態を示す概略構
成図。

【図２】 図１の物体面側鏡筒モジュールの一部切欠斜
視図。

【図３】 図２の物体面側鏡筒モジュールの平面図。

【図４】 図３の４−４線における断面図。

【図５】 図２の物体面側鏡筒モジュールのアクチュエ
ータ周辺の拡大要部側面図。

【図６】 図５の６−６線における部分断面図。

【図７】 図２の物体面側鏡筒モジュールのセンサ周辺
の拡大要部側面図。

【図８】 図７の８−８線における部分断面図。

【図９】 図２の物体面側鏡筒モジュールの鏡筒本体を
示す斜視図。

【図１０】 図９の鏡筒本体の一部分を拡大して示す要
部斜視図。

【図１１】 図５の物体面側鏡筒モジュールにおけるア
クチュエータ、変位拡大機構及び案内機構の部分をさら
に拡大して示す要部側面図。

【図１２】 図１１の構成の動作を説明する説明図。

【図１３】 図１の像面側鏡筒モジュールを示す斜視
図。

【図１４】 図１３の像面側鏡筒モジュールの平面図。

【図１５】 図１３の像面側鏡筒モジュールの側面図。

【図１６】 図１４の１６−１６線断面図。

【図１７】 図１３のレンズ枠体を示す部分拡大斜視
図。

【図１８】 図１３の支持部材を示す部分拡大分解斜視
図。

【図１９】 図１３の枠体を示す斜視図。

【図２０】 図１３のフレクシャ本体の周辺構成を示す
部分拡大平面図。

【図２１】 図１３のフレクシャ本体の周辺構成を示す
部分拡大側面図。

【図２２】 図２１のフレクシャ本体を中心に示す部分
拡大側面図。

【図２３】 図２０の２３−２３線断面図。

【図２４】 図２０の２４−２４線断面図。

【図２５】 図１３の像面側鏡筒モジュールを積層状態
で示す斜視図。

【図２６】 図１３の固定光学素子保持装置を模式的に
示す説明図。

【図２７】 デバイスの製造例のフローチャート。

【図２８】 半導体デバイスの場合における図２７の基
板処理に関する詳細なフローチャート。

【符号の説明】

３１…露光装置、３５…投影光学系、３７ａ…像面側鏡
筒モジュール、３７ｂ…物体面側鏡筒モジュール、３８
…鏡筒、３８ａ…フランジ部、３９ａ…少なくとも一部
の光学素子としての像面側レンズ、３９ａｆ…周縁部と
してのフランジ部、３９ｂｍ…少なくとも一部の光学素
子とは異なる光学素子としての可動レンズ、３９ｂｓ…
少なくとも一部の光学素子とは異なる光学素子としての
静止レンズ、４０…第２位置調整機構をなす可動光学素
子保持装置、４１…第１位置調整機構をなす固定光学素
子保持装置、４２…架台としてのフレーム、４４ａ…イ
ンナリング部、４４ｂ…アウタリング部、５０…駆動部
材をなすアクチュエータ、６０…リンク機構をなす変位
拡大機構、７２…基準位置調整機構をなすセンサ、８１
…フレクシャ部材、８２…保持部をなすレンズ枠体、１
２５ａ…操作部としての垂直方向駆動レバー、１２５ｂ
…操作部としての水平方向駆動レバー、Ｒ…マスクとし
てのレチクル、Ｗ…基板としてのウエハ。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５１５Ｄ

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数の光学素子からなる光学系を保持す
   る光学系の保持装置において、 前記複数の光学素子の少なくとも一部の光学素子の位置
   を調整する第１位置調整機構と、その第１位置調整機構
   とは異なる機構を有し、前記複数の光学素子のうち、前
   記少なくとも一部の光学素子とは異なる光学素子の位置
   を調整する第２位置調整機構とを備えたことを特徴とす
   る光学系の保持装置。
2. 【請求項２】 前記第１位置調整機構は、前記光学素子
   の周縁部を保持する保持部と、前記保持部を支持する複
   数のフレクシャ部材と、前記複数のフレクシャ部材のう
   ち、少なくとも１つのフレクシャ部材に接続される２つ
   の操作部とを備え、前記光学素子は、一方の前記操作部
   の操作によって、前記複数のフレクシャ部材を介して前
   記光学素子を第１の方向へ移動し、他方の前記操作部の
   操作によって、前記複数のフレクシャ部材を介して前記
   光学素子を前記第１の方向とは異なる第２の方向に移動
   することを特徴とする請求項１に記載の光学系の保持装
   置。
3. 【請求項３】 前記第２位置調整機構は、前記光学素子
   の周縁部を保持するインナリング部と、前記インナリン
   グ部と一体に形成されたアウタリング部と、前記アウタ
   リング部に設けられ、所定の方向に変位する駆動部材
   と、前記駆動部材の変位量を前記インナリング部に伝達
   するリンク機構とを有することを特徴とする請求項１ま
   たは請求項２に記載の光学系の保持装置。
4. 【請求項４】 前記少なくとも一部の光学素子の位置を
   前記第１位置調整機構により所定位置に調整した状態
   で、前記第２位置調整機構における変位の基準位置を設
   定する基準位置調整機構を設けたことを特徴とする請求
   項３に記載の光学系の保持装置。
5. 【請求項５】 前記光学系は、該光学系を載置する架台
   上で支持されるためのフランジ部を備え、前記少なくと
   も一部の光学素子は、前記フランジ部に対し、前記光学
   系の像面側に配置され、前記少なくとも一部の光学素子
   と異なる光学素子は、前記フランジ部に対し、前記光学
   系の物体面側に配置されることを特徴とする請求項１〜
   請求項４のうちいずれか一項に記載の光学系の保持装
   置。
6. 【請求項６】 光学系を構成する複数の光学素子の位置
   を調整する光学素子の位置調整方法において、 前記複数の光学素子の位置を互いの光軸方向に沿って配
   列し、前記複数の光学素子を配列した後、前記複数の光
   学素子のうち、少なくとも一部の光学素子の位置を第１
   位置調整機構により調整し、前記少なくとも一部の光学
   素子の位置を調整した後、前記少なくとも一部の光学素
   子とは異なる光学素子の位置を調整する第２位置調整機
   構の駆動部材における変位の基準位置を設定することを
   特徴とする光学素子の位置調整方法。
7. 【請求項７】 前記第２位置調整機構により、前記少な
   くとも一部の光学素子とは異なる光学素子の位置を調整
   した後、前記基準位置を設定することを特徴とする請求
   項６に記載の光学素子の位置調整方法。
8. 【請求項８】 複数の光学素子からなる光学系を収容す
   る鏡筒において、 前記光学系の各光学素子を請求項１〜請求項５のうちい
   ずれか一項に記載の光学系の保持装置を介して保持する
   ようにしたことを特徴とする鏡筒。
9. 【請求項９】 前記光学系がマスク上に形成された所定
   のパターンの像を基板上に投影する投影光学系であるこ
   とを特徴とする請求項８に記載の鏡筒。
10. 【請求項１０】 マスク上に形成された所定のパターン
    の像を基板上に露光する露光装置において、 請求項８または請求項９に記載の鏡筒を備えたことを特
    徴とする露光装置。
11. 【請求項１１】 リソグラフィ工程を含むデバイスの製
    造方法において、 前記リソグラフィ工程で請求項１０に記載の露光装置を
    用いて露光を行うことを特徴とするデバイスの製造方
    法。