JP2012042967A - 投影光学系 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第1光学素子モジュール7は、第1筐体と、少なくとも第1光学素子とを有し、この第1光学素子は第1筐体内に収納され、第1光学軸10.13を規定し光学的に利用される第1光学的利用領域10.7を有し、少なくとも1つの第2光学素子モジュール8は、第1光学素子モジュール7に隣接して設けられ、少なくとも1つの第2光学素子を有し、この第2光学素子は投影光学ユニット2の第2光学軸10.14を規定する。第1筐体は、第1筐体軸3.2と、第1光学軸10.13に対して周方向に延びる外壁3.3を有し、第1光学軸10,13は、横方向にずれており、第1筐体軸3.2に関して傾斜している軸の少なくとも一つであり、さらに、第1筐体軸3.2は実質的に第2光学軸8.3と同一直線上にある。
【選択図】図1
Description
本出願は、参照により本願に組み込まれる2004年10月10日出願の米国仮出願番号60/617,415、及び2005年7月18日出願の米国仮出願番号60/700,220に基づいて優先権を主張する。
以下に、本発明の支持ユニット3を備えた、本発明の反射屈折投影光学系2を有する、本発明の露光装置1の好適な第1実施形態について図1を参照して説明する。
図2は、本発明による支持ユニット103を備えた本発明による反射屈折投影光学ユニット102 の第2の好適な実施形態を表す概略図であり、この支持ユニット103は、先と同様に本発明による第1光学素子モジュールを形成する。
図3は、本発明による支持ユニット203を備えた、本発明による反射屈折投影光学ユニット202の第3の好適な実施形態を表す概略図であり、支持ユニット203は先と同様に本発明による第1光学素子モジュールを形成している。
以下に、本発明の支持ユニット303を備えた、本発明の反射屈折投影光学系302を有する、本発明の露光装置301の第4の好適な実施形態について図4を参照して説明する。基本的な構造及び機能に関して、この第4実施形態は、図1を参照して上述した実施形態と変わらない。
図5は、本発明による支持ユニット403を備えた、本発明による反射屈折投影光学系402のさらに好適な実施形態の部分断面図である。
図6は、本発明による支持ユニット503を備えた、本発明による反射屈折投影光学系502のさらに好適な実施形態の部分断面図である。本実施形態は図5の実施形態と大部分で一致している。そのため、同じような構成部品は、同じ参照番号にダッシュを付けて指定し、ここでは主に相違点のみについて言及する。
図7は、本発明による支持ユニット603を備えた、本発明による反射屈折投影光学系602のさらに好適な実施形態の部分断面図である。本実施形態は図5の実施形態と大部分で一致している。そのため、同じような構成部品は、同じ参照番号にダッシュを2つ付けて指定し、ここでは主に相違点のみについて言及する。
図8は、本発明による支持ユニット703を備えた、本発明による反射屈折投影光学系702のさらに好適な実施形態の部分断面図である。
図9は、本発明による支持ユニット803を備えた、本発明による反射屈折投影光学系802のさらに好適な実施形態の部分断面図である。
図10は、本発明による支持ユニット903を備えた、本発明による反射屈折投影光学系902のさらに好適な実施形態の部分断面図である。
以下に、本発明の支持ユニット1003を備えた、本発明の反射屈折投影光学系1002を有する、本発明の露光装置1001のさらに好適な実施形態について図11を参照して説明する。基本的な構成、機能に関して、本実施形態は図1を参照して記述した実施形態と異ならない。そのため、同じような構成部品は、同じ参照番号に1000を加えて指定し、ここでは主に相違点のみについて言及する。
以下に、本発明の支持ユニット3を備えた、本発明の反射屈折投影光学系2を有する、本発明の露光装置1の第12の好適な実施形態について図12を参照して説明する。基本的な構成、機能に関して、本実施形態は図1を参照して記述した実施形態と異ならない。特に、露光装置1の構成部品の大部分は、図1の露光装置1の構成部品と同一である。そのため、図12において、図1の構成部品と同じ構成部品は、同じ参照番号で指定し、これら同一の構成部品に関しては、図1との関連で行った説明を参照するに留める。広範囲で同一設計となっているため、ここでは主に相違点のみについて言及する。
H = L1 -L3 + L2 (1)
ΔH(ΔT;α1;α2;α3) = ΔL1(ΔT;α1) - ΔL3(ΔT;α3) + ΔL2(ΔT;α2) (2)
ΔH(ΔT;α1;α2;αα2) = ΔL1(ΔT;α1) - ΔL3(ΔT;α3) + ΔL2(ΔT;α2) = 0 (3)
ΔH = LlR・α1 - L3R・α3 + L2R・α2 = 0 (3)
ΔH = LlR・α1 - y・L1R・α3 + x・L1R・α2 = 0 (4)
Claims (30)
- マイクロリソグラフィシステムのレンズユニットを支持するための支持ユニットであって、
光路を部分的に受ける筐体を有し、
前記筐体は、少なくとも第1接合部と第2接合部を有し、
前記第1接合部は、複数のレンズを有する長尺の第1レンズユニットを支持する第1支持接合部であり、
前記第2接合部は、複数のレンズを有する長尺の第2レンズユニットを支持する第2支持接合部であり、
前記筐体は、前記長尺の第1レンズユニットと前記長尺の第2レンズユニットの荷重をしっかりと支えるように構成され、且つ
前記筐体は、セラミック材料により作られていること特徴とする支持ユニット。 - 前記筐体は、前記マイクロリソグラフィシステムの補助光学系を収納することを特徴とする請求項1に記載の支持ユニット。
- 前記補助光学系は、反射素子を有することを特徴とする請求項2に記載の支持ユニット。
- 前記補助光学系は、前記筐体に搭載されていることを特徴とする請求項2に記載の支持ユニット。
- 前記筐体は、気密性と光密性のうち、少なくともいずれか一方を有し、
前記筐体は、筐体軸を規定する外壁を備え、該外壁は、前記第1筐体軸に関して実質的に対称であり、
前記筐体は、筐体軸を規定する外壁を備え、該外壁は、前記第1筐体軸に関して実質的に回転対称であることを特徴とする請求項1に記載の支持ユニット。 - 前記第1接合部は、平坦な第1接合面を有し、
前記第2接合部は、平坦な第2接合面を有し、前記第2接合面は、前記第1接合面と平行であることを特徴とする請求項1に記載の支持ユニット。 - 前記筐体は、第3接合部を有し、前記第3接合部は、前記マイクロリソグラフィシステムの第3レンズユニットを支持する第3支持接合部であることを特徴とする請求項1に記載の支持ユニット。
- 前記第1接合部は、平坦な第1接合面を有し、
前記第3接合部は、平坦な第3接合面を有し、前記第3接合面は、前記第1接合面に対して傾斜していることを特徴とする請求項7に記載の支持ユニット。 - 前記第1接合部は、平坦な第1接合面を有し、
前記筐体は、平坦な第4接合面を有する第4接合部を有し、前記第4接合面は、前記第1接合面と同一平面上にあることを特徴とする請求項1に記載の支持ユニット。 - 前記筐体は、第5接合部を有し、前記第5接合部は、少なくとも基準接合部と設置接合部のいずれか一方であることを特徴とする請求項1に記載の支持ユニット。
- 前記筐体は、モノリシック構造であることを特徴とする請求項1に記載の支持ユニット。
- 前記筐体は、複数の分離した筐体部品により構成されることを特徴とする請求項1に記載の支持ユニット。
- 前記筐体は、少なくとも高弾性係数、高熱伝導率、低熱膨張係数のうちのいずれか1つを有する材料により作られていることを特徴とする請求項1に記載の支持ユニット。
- 前記筐体は、SiCを含む材料により作られていることを特徴とする請求項1に記載の支持ユニット。
- 前記筐体は、セラミック結合部品により構成されていることを特徴とする請求項1に記載の支持ユニット。
- 前記筐体は、低収縮ニアネットシェイプ鋳造法と、低収縮ニアネットシェイプ反応侵入法のうちの少なくともいずれか一方を用いて形成されていることを特徴とする請求項1に記載の支持ユニット。
- 前記第1接合部は、空気軸受ユニットを有することを特徴とする請求項1に記載の支持ユニット。
- マイクロリソグラフィシステム用の投影光学系であって、
光路と、
前記光路の第1部分を受ける第1補助光学系と、
前記光路の第2部分を受ける第2補助光学系と、
前記第1補助光学系と前記第2補助光学系とを支持する支持ユニットとを有し、
前記支持ユニットは、前記光路の第3部分を受ける筐体を有し、
前記筐体は、少なくとも第1接合部と第2接合部のいずれか一方を有し、
前記第1接合部は、前記第1補助光学系を支持する第1支持接合部であり、
前記第2接合部は、前記第2補助光学系を支持する第2支持接合部であり、
前記第1補助光学系及び前記第2補助光学系は、複数の光学素子を有する長尺ユニットであり、
前記筐体は、セラミック材料により作られていることを特徴とする投影光学系。 - 少なくとも前記第1補助光学系と前記第2補助光学系の一方は、複数のレンズを有することを特徴とする請求項18に記載の投影光学系。
- 前記第1補助光学系は、第1光学軸を有し、
前記第2補助光学系は、第2光学軸を有し、
前記第2光学軸は、前記第1光学軸と平行であるか、前記第1光学軸と同一直線上にあるか、前記第1光学軸に対して傾斜しているか、のいずれかであることを特徴とする請求項18に記載の投影光学系。 - 第3補助光学系を有し、
前記筐体は、第3接合部を有し、
前記第3接合部は、前記第3補助光学系を支持する第3支持接合部であることを特徴とする請求項18に記載の投影光学系。 - 前記第1補助光学系は、第1光学軸を有し、
前記第3補助光学系は、第3光学軸を有し、
前記第3光学軸は、前記第1光学軸に対して傾斜していることを特徴とする請求項21に記載の投影光学系。 - 前記第1接合部は、平坦な第1接合面を有し、
前記筐体は、平坦な第4接合面を有する第4接合部を有し、
前記第4接合面は前記第1接合面と同一平面上にあることを特徴とする請求項18に記載の投影光学系。 - 前記筐体は、第5接合部を有し、前記第5接合部は、少なくとも基準接合部と設置接合部のいずれか一方であることを特徴とする請求項18に記載の投影光学系。
- 前記筐体は、前記マイクロリソグラフィシステムの第4補助光学系を収納していることを特徴とする請求項18に記載の投影光学系。
- 前記第4補助光学系は、前記筐体に搭載された反射素子を有することを特徴とする請求項25に記載の投影光学系。
- マスクに形成されたパターン像を基板に転写するための露光装置であって、請求項18に記載の投影光学系を有することを特徴とする露光装置。
- 光路と、
前記光路の第1部分を受ける第1補助光学系と、
前記光路の第2部分を受ける第2補助光学系と、
前記第1補助光学系と前記第2補助光学系とを支持する支持ユニットとを有し、
前記支持ユニットは、前記光路の第3部分を受ける筐体を有し、
前記筐体は、少なくとも第1接合部と第2接合部のいずれか一方を有し、
前記第1接合部は、前記第1補助光学系を支持する第1支持接合部であり、
前記第2接合部は、前記第2補助光学系を支持する第2支持接合部であり、
前記第1補助光学系及び前記第2補助光学系は、複数の光学素子を有する長尺ユニットであり、
前記筐体は2つの反射光学素子を受け、
前記光路に沿って、前記2つの反射光学素子の間に、他の光学素子が配置されていないことを特徴とするマイクロリソグラフィシステム用の投影光学系。 - 光路と、
前記光路の第1部分を受ける第1補助光学系と、
前記光路の第2部分を受ける第2補助光学系と、
前記第1補助光学系と前記第2補助光学系とを支持する支持ユニットとを有し、
前記支持ユニットは、前記光路の第3部分を受ける筐体を有し、
前記筐体は、少なくとも第1接合部と第2接合部のいずれか一方を有し、
前記第1接合部は、前記第1補助光学系を支持する第1支持接合部であり、
前記第2接合部は、前記第2補助光学系を支持する第2支持接合部であり、
前記第1補助光学系及び前記第2補助光学系は、複数の光学素子を有する長尺ユニットであり、
前記筐体は2つの反射光学素子を受け、
前記2つの反射光学素子のそれぞれは、前記光路のための通路を形成するための凹部を備えることを特徴とするマイクロリソグラフィシステム用の投影光学系。 - 光路と、
前記光路の第1部分を受ける第1補助光学系と、
前記光路の第2部分を受ける第2補助光学系と、
前記第1補助光学系と前記第2補助光学系とを支持する支持ユニットとを有し、
前記支持ユニットは、前記光路の第3部分を受ける筐体を有し、
前記筐体は、少なくとも第1接合部と第2接合部のいずれか一方を有し、
前記第1接合部は、前記第1補助光学系を支持する第1支持接合部であり、
前記第2接合部は、前記第2補助光学系を支持する第2支持接合部であり、
前記第1補助光学系及び前記第2補助光学系は、複数の光学素子を有する長尺ユニットであり、
前記第1接合部および前記第2接合部の少なくとも一方は、熱的に分離された結合要素により前記筐体に結合されていることを特徴とするマイクロリソグラフィ用の投影光学系。
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DE102009045223A1 (de) | 2009-09-30 | 2011-03-31 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optische Anordnung in einer Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Lithographie |
DE102019214242A1 (de) * | 2019-09-18 | 2021-03-18 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie |
CN113848675B (zh) * | 2021-09-28 | 2023-03-14 | 深圳市火乐科技发展有限公司 | 投影设备及其壳体 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002083766A (ja) * | 2000-06-19 | 2002-03-22 | Nikon Corp | 投影光学系、該光学系の製造方法、及び前記光学系を備えた投影露光装置 |
JP2003109892A (ja) * | 2001-10-02 | 2003-04-11 | Toto Ltd | 露光装置用部材 |
JP2003114387A (ja) * | 2001-10-04 | 2003-04-18 | Nikon Corp | 反射屈折光学系および該光学系を備える投影露光装置 |
JP2003195141A (ja) * | 2001-12-27 | 2003-07-09 | Sekinosu Kk | 投射レンズユニット |
JP2003337272A (ja) * | 2002-03-12 | 2003-11-28 | Nikon Corp | 光学系の保持装置、光学素子の位置調整方法、鏡筒及び露光装置並びにデバイスの製造方法 |
WO2004021419A1 (ja) * | 2002-08-29 | 2004-03-11 | Nikon Corporation | 投影光学系及び露光装置 |
Family Cites Families (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6036626A (ja) | 1983-08-06 | 1985-02-25 | Kawasaki Steel Corp | 連続焼鈍装置 |
US4935055A (en) * | 1988-01-07 | 1990-06-19 | Lanxide Technology Company, Lp | Method of making metal matrix composite with the use of a barrier |
WO1990001385A1 (en) | 1988-08-02 | 1990-02-22 | Uddeholm Tooling Aktiebolag | Process for making a consolidated body |
CN2209338Y (zh) * | 1993-03-18 | 1995-10-04 | 王威 | 光学门镜 |
JPH0786152A (ja) | 1993-09-14 | 1995-03-31 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
CN2282197Y (zh) * | 1996-12-26 | 1998-05-20 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 可变倍率的激光光刻投影物镜 |
JP3437406B2 (ja) * | 1997-04-22 | 2003-08-18 | キヤノン株式会社 | 投影露光装置 |
DE19830719A1 (de) | 1997-08-22 | 1999-02-25 | Zeiss Carl Fa | Tubus |
AU1260099A (en) * | 1997-11-25 | 1999-06-15 | Nikon Corporation | Projection exposure system |
TW538256B (en) | 2000-01-14 | 2003-06-21 | Zeiss Stiftung | Microlithographic reduction projection catadioptric objective |
WO2001075501A1 (fr) * | 2000-03-31 | 2001-10-11 | Nikon Corporation | Procede et dispositif de soutien d'un element optique, dispositif optique, appareil d'exposition, et procede de fabrication d'un dispositif |
KR20010113527A (ko) | 2000-06-19 | 2001-12-28 | 시마무라 테루오 | 투영 광학계, 그 제조 방법 및 투영 노광 장치 |
US6631038B1 (en) | 2000-08-10 | 2003-10-07 | Nikon Corporation | Catadioptric lens barrel structure having a plurality of connecting rods for positioning the lens barrel structure |
US6473245B1 (en) | 2000-08-10 | 2002-10-29 | Nikon Corporation | Catadioptric lens barrel structure having a plurality of support platforms and method of making the same |
US6449106B1 (en) | 2000-08-10 | 2002-09-10 | Nikon Corporation | Catadioptric lens barrel structure having a support structure to maintain alignment of a plurality of sub-barrels |
US6549347B1 (en) | 2000-08-10 | 2003-04-15 | Nikon Corporation | Catadioptric lens barrel structure |
US6639740B1 (en) | 2000-08-10 | 2003-10-28 | Nikon Corporation | Catadioptric lens barrel structure having a plurality of split lens barrels and a support structure supporting the split lens barrels |
JP3961311B2 (ja) * | 2001-01-19 | 2007-08-22 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置およびデバイスの製造方法 |
JP2002267940A (ja) * | 2001-03-09 | 2002-09-18 | Olympus Optical Co Ltd | 倒立型顕微鏡システム |
JP2002287023A (ja) * | 2001-03-27 | 2002-10-03 | Nikon Corp | 投影光学系、該投影光学系を備えた投影露光装置及び投影露光方法 |
CN1385727A (zh) * | 2001-05-16 | 2002-12-18 | 中国科学院光电技术研究所 | 工作波长193纳米投影光刻物镜 |
DE10136388A1 (de) | 2001-07-26 | 2003-02-13 | Zeiss Carl | System zum Vermessen eines optischen Systems, insbesondere eines Objektives |
JP3992268B2 (ja) | 2001-09-28 | 2007-10-17 | フジノン株式会社 | 投写型画像表示装置 |
JP4030789B2 (ja) * | 2002-04-17 | 2008-01-09 | ペンタックス株式会社 | 光学装置 |
JP2003309059A (ja) * | 2002-04-17 | 2003-10-31 | Nikon Corp | 投影光学系、その製造方法、露光装置および露光方法 |
TWI261120B (en) * | 2002-07-18 | 2006-09-01 | Konica Corp | Image pickup lens, image pickup unit and portable terminal |
WO2005006416A1 (ja) * | 2003-07-09 | 2005-01-20 | Nikon Corporation | 結合装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
DE10352820A1 (de) | 2003-11-12 | 2005-06-23 | Carl Zeiss Smt Ag | Flanschbaugruppe eines optischen Systems |
CN101061409B (zh) | 2004-10-08 | 2011-06-29 | 卡尔蔡司Smt有限责任公司 | 光学投影系统 |
WO2007086557A1 (ja) * | 2006-01-30 | 2007-08-02 | Nikon Corporation | 光学部材保持装置、光学部材の位置調整方法、及び露光装置 |
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002083766A (ja) * | 2000-06-19 | 2002-03-22 | Nikon Corp | 投影光学系、該光学系の製造方法、及び前記光学系を備えた投影露光装置 |
JP2003109892A (ja) * | 2001-10-02 | 2003-04-11 | Toto Ltd | 露光装置用部材 |
JP2003114387A (ja) * | 2001-10-04 | 2003-04-18 | Nikon Corp | 反射屈折光学系および該光学系を備える投影露光装置 |
JP2003195141A (ja) * | 2001-12-27 | 2003-07-09 | Sekinosu Kk | 投射レンズユニット |
JP2003337272A (ja) * | 2002-03-12 | 2003-11-28 | Nikon Corp | 光学系の保持装置、光学素子の位置調整方法、鏡筒及び露光装置並びにデバイスの製造方法 |
WO2004021419A1 (ja) * | 2002-08-29 | 2004-03-11 | Nikon Corporation | 投影光学系及び露光装置 |
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Publication number | Publication date |
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