JPH0786152A - 投影露光装置 - Google Patents

投影露光装置

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JPH0786152A
JPH0786152A JP5252387A JP25238793A JPH0786152A JP H0786152 A JPH0786152 A JP H0786152A JP 5252387 A JP5252387 A JP 5252387A JP 25238793 A JP25238793 A JP 25238793A JP H0786152 A JPH0786152 A JP H0786152A
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lens barrel
optical system
barrel unit
unit
projection
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Masatoshi Ikeda
正俊 池田
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Nikon Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 投影光学系の他の光学素子ユニットに影響を
及ぼすことなく、所望の光学素子ユニットのみを光学調
整することのできる投影露光装置を提供することを目的
とする。 【構成】 本発明の投影露光装置は、パターンが形成さ
れたマスクを所定波長域の照明光で照明して、前記パタ
ーンの像を投影光学系を介して被投影基板上に結像させ
る投影露光装置において、前記投影光学系は、それぞれ
１枚以上の光学素子を収容した複数の鏡筒ユニットを備
え、前記鏡筒ユニットの各々は、前記投影光学系に着脱
自在に取り付けられるように構成されていることを特徴
とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は投影露光装置に関し、さ
らに詳細には投影光学系の鏡筒構造に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】投影露光装置の従来の屈折式投影光学系
の鏡筒構造を図７に示す。図７に示すように、たとえば
レチクルのようなフォトマスク４に形成されたパターン
をウェハのような被投影基板５に転写するための従来の
屈折式投影光学系は、１つの鏡筒１を備えている。鏡筒
１の底部には開口部６が設けられ、内方に突出した突出
部７が形成されている。鏡筒１の上部にも開口部８が形
成され、この開口部８にリング状の押さえ部材３がねじ
嵌合されている。
【０００３】さらに鏡筒１内には、それぞれ光学素子
（レンズ）Ｌを収容するレンズ枠２が複数個設けられて
いる。レンズ枠２に収容されたレンズＬの各光軸は、屈
折式投影光学系の光軸ＡＸに一致するように位置決めさ
れている。このように、従来の屈折式投影光学系の鏡筒
構造では、１つの鏡筒内に全部のレンズ枠を収容する構
成を採っていた。
【０００４】上述のような構成を有する従来の屈折式投
影光学系を組み立てる場合、レンズＬを収容した各レン
ズ枠２を上部開口部８を介して順次鏡筒１内に落とし込
む。落とし込まれた各レンズ枠２は、鏡筒１の底部に形
成された突出部７によって支持され、鏡筒１内において
積層される。すべてのレンズ枠２を収容したところで、
押さえ部材３を開口部８に嵌合させて組立を完了する。
【０００５】一般に、屈折式投影光学系では、各レンズ
間距離の調整、各レンズの光軸ＡＸに対する傾き（以
下、「チルト」という）の調整、光軸ＡＸに対する各レ
ンズの光軸の偏心の調整等の光学調整が必要である。上
述のような構成を有する従来の屈折式投影光学系でこの
ような光学調整を行う場合には、鏡筒１から各レンズ枠
２を抜き出して行う必要があった。また、光学調整は全
系の結像結果を見ながら行う必要があるので、従来の屈
折式投影光学系ではすべてのレンズ枠２を組み込んで全
体を構成した状態でしか光学調整を行うことができなか
った。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来の屈
折式投影光学系では、１つの鏡筒内にすべての光学素子
が収容されて１つの部品を構成している。したがって、
ある特定の光学素子について光学調整が必要な場合に鏡
筒内からその特定の光学素子を抜き出すことは、１つの
部品を分解することに他ならなかった。さらに、上述の
ように、光学調整はすべてのレンズ枠を組み込んで全体
を再構成した状態でしか行うことができなかったので、
たとえ１つのレンズの光学調整のためであってもこの分
解および再構成（再組み立て）の作業を繰り返す必要が
あり、構成レンズの数が増えるほど光学調整の効率が著
しく悪いという不都合があった。
【０００７】また、反射屈折式投影光学系では鏡筒構造
も上述の従来の屈折式投影光学系よりもはるかに複雑に
なり、光学調整についても従来の屈折式投影光学系と同
様の不都合があった。本発明は、前述の課題に鑑みてな
されたものであり、投影光学系の他の光学素子ユニット
に影響を及ぼすことなく、所望の光学素子ユニットのみ
を光学調整することのできる投影露光装置を提供するこ
とを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明においては、パターンが形成されたマスクを
所定波長域の照明光で照明して、前記パターンの像を投
影光学系を介して被投影基板上に結像させる投影露光装
置において、前記投影光学系は、それぞれ１枚以上の光
学素子を収容した複数の鏡筒ユニットを備え、前記鏡筒
ユニットの各々は、前記投影光学系に着脱自在に取り付
けられるように構成されていることを特徴とする投影露
光装置を提供する。
【０００９】また、本発明の好ましい態様によれば、前
記鏡筒ユニットの各々は、前記投影光学系の所定位置に
各鏡筒ユニットを位置決めするための位置決め調整手段
を備えている。具体的には、前記投影光学系は屈折式の
投影光学系であって、各鏡筒ユニットの光軸に沿った移
動調整、各鏡筒ユニットの光軸に対する傾斜調整、およ
び前記光学素子の光軸に対する偏心調整のうち少なくと
も１つの調整を行うための調整手段を備えているのが好
ましい。また、前記投影光学系は反射屈折式の投影光学
系であって、各鏡筒ユニットの光軸に沿った移動調整、
各鏡筒ユニットの光軸に対する傾斜調整、および各鏡筒
ユニットの光軸と直交する方向の位置決め調整のうち少
なくとも１つの調整を行うための調整手段を備えている
のが好ましい。
【００１０】
【作用】上述のように、本発明の投影露光装置では投影
光学系の鏡筒が複数の鏡筒ユニットに分割され、各ユニ
ットが投影光学系に着脱自在に取り付けられるように構
成されている。
【００１１】このように、本発明では各鏡筒ユニットが
投影光学系に着脱自在に取り付けられるので、各鏡筒ユ
ニットを自在に交換することができる。この特徴を利用
して、たとえば光学調整がなされた標準機（マスター）
を予め用意しておき、各ユニットを対応する所定のマス
ターユニットと交換して光学調整および光学特性評価を
行うことができる。そして、所望の光学特性が保証され
た合格ユニットを組み合わせて投影光学系を完成させる
ことができる。
【００１２】さらに、各ユニットの光学特性評価を予め
行うことができ、各ユニットの光学性能の傾向が明らか
になっているので、各ユニットの光学性能の不足部分
（たとえばザイデルの５収差からより高次な収差、偏心
成分等）を補完または相殺するように組み合わせること
によって、投影光学系の全系の仕様（スペック）を総合
的に満たすことが可能になる。たとえば、収差特性につ
いて具体的にいえば、あるユニットのレンズディストー
ションがプラスであれば、これに連結する他のユニット
としてマイナスのレンズディストーションを有するユニ
ットを選択することになる。
【００１３】このように、本発明の投影露光装置の投影
光学系では、交換可能な複数の鏡筒ユニットに分割され
ているので、たとえば標準機を利用することによって分
割ユニット毎に光学調整を行うことが可能である。した
がって、投影光学系の全系または他のユニットに影響を
及ぼすことなく独立に且つ効率良く所望ユニットの光学
調整を行うことができる。また、ユニットの交換が可能
なので、あるユニットに不都合が生じたときにも、同じ
光学特性のユニットまたは必要に応じて異なる光学特性
のユニットで置換することができる。また、各ユニット
の光学性能評価を予め行うことができるので、各ユニッ
トの光学性能の不足部分をキャンセルするように組み合
わせることによって、全体的に優れた光学性能を有する
投影光学系を構成することができる。
【００１４】
【実施例】本発明の実施例を、添付図面に基づいて説明
する。図１は、本発明の第１の実施例にかかる屈折式投
影光学系の概略的な構成を示す図である。図１におい
て、たとえばレチクルのようなフォトマスク４に形成さ
れたパターンをウェハのような被投影基板５に転写する
ための屈折式投影光学系は、５つの鏡筒ユニット１１、
１２、１３、１４、１５を備えている。各鏡筒ユニット
の底部には開口部６が設けられ、内方に突出した突出部
７が形成されている。各鏡筒ユニットの上部にも開口部
８が形成され、この開口部８にリング状の押さえ部材３
が嵌合されている。さらに各鏡筒ユニット内には、それ
ぞれ光学素子（レンズ）Ｌを収容するレンズ枠２が複数
個設けられている。本実施例では、レンズ枠２に収容さ
れたレンズＬの各光軸は、屈折式投影光学系の光軸ＡＸ
に一致するように位置決めされている。
【００１５】図２は、第１の実施例の各鏡筒ユニット間
の連結構造を示す断面詳細図である。図２において、上
方鏡筒ユニット１３の底部から下方に向かって突出部３
１が形成されている。突出部３１は円筒状に形成され、
下方鏡筒ユニット１４の開口部８に緊密に嵌合するよう
に構成されている。これにより、通常、偏心量は抑制さ
れる。また、上方鏡筒ユニット１３の底部には環状の下
部フランジ３５が形成され、下方鏡筒ユニット１４の上
部には環状の上部フランジ３４が形成されている。上方
鏡筒ユニット１３の下部フランジ３５と下方鏡筒ユニッ
ト１４の上部フランジ３４とは、所定厚のワッシャ３２
（３２ａ、３２ｂ、３２ｃ：図２では３２ａのみ図示）
を介してボルト３３（３３ａ、３３ｂ、３３ｃ：図２で
は３３ａのみ図示）によって連結されている。各ユニッ
トはそれぞれ３ヵ所においてボルト連結されているのが
望ましく、さらに好ましくは３つのボルト３３ａから３
３ｃが光軸ＡＸを中心とする円をほぼ３等分する位置に
配設されている。
【００１６】図１に示すように、鏡筒ユニット１２から
１４の３つの中間鏡筒ユニットは、その上部および下部
において上述の連結がなされるように構成され、鏡筒ユ
ニット１１および１５ではそれぞれ下部および上部にお
いて上述の連結がなされるように構成されている。こう
して、ワッシャ３２ａから３２ｃは、その厚さを選択す
ることにより鏡筒ユニット１３を鏡筒ユニット１４に対
して光軸ＡＸ方向に移動させることができる。さらに具
体的には同じ厚さのワッシャ３２ａから３２ｃを使用す
ることにより鏡筒ユニット１３を鏡筒ユニット１４に対
して光軸ＡＸに沿って平行移動（以下、「シフト」とい
う）させることができるとともに、ワッシャ３２ａから
３２ｃの各々の厚さを変えることにより各鏡筒ユニット
を光軸ＡＸに対してチルトさせることもできる。
【００１７】このように、ワッシャ３２は、鏡筒ユニッ
トを光軸に沿って移動させるためのシフト手段と、光軸
に対して傾斜させるためのチルト手段とを構成してい
る。一方、上述の説明では偏心量は抑制されていること
としたが、光軸ＡＸに対する鏡筒ユニットの光軸の偏心
を調整する場合は、嵌合状態に多少余裕をもたせ、たと
えば各鏡筒ユニットの各結合部（３つの連結部）に板ば
ね８０を設け、各鏡筒ユニットを光軸に向かって板ばね
８０によって付勢することにより偏心が調整される。各
結合部は３つの連結部であるので、３つの板ばね８０
ａ、８０ｂ、８０ｃ（図２では８０ａのみ図示）により
偏心が調整され、各板ばねの付勢力を等しくすることに
より偏心を除去し、３つの板ばねのうち１つの板ばね
（たとえば板ばね８０ａ）の付勢力を他の２つの板ばね
よりも大きくしておくことにより、付勢力に応じて偏心
させることができる。
【００１８】図３は、本発明の第２の実施例にかかる反
射屈折式投影光学系の概略的な構成を示す図である。図
３において、たとえばレチクルのようなフォトマスク４
に形成されたパターンをウェハのような被投影基板５に
転写するための反射屈折式投影光学系は、第１の光軸Ａ
Ｘ１に沿って配置された第１の鏡筒ユニット４１および
第１の球面ミラー部４４を備えている。第１の鏡筒ユニ
ット４１は、たとえば２つの光学素子を有しレチクル４
の直下に配設されている。また、第１の鏡筒ユニット４
１と第１の球面ミラー部４４との間には第１の折り曲げ
ミラー部４６が設けられている。
【００１９】また、本実施例の反射屈折式投影光学系は
第２の光軸ＡＸ２に沿って配設された第２の鏡筒ユニッ
ト４２を備えている。第２の鏡筒ユニット４２はたとえ
ば２つの光学素子を有し、第１の折り曲げミラー部４６
と第２の折り曲げミラー部４７との間に位置決めされて
いる。さらに、図示の反射屈折式投影光学系は第３の光
軸ＡＸ３に沿って配設された第３の鏡筒ユニット４３お
よび第２の球面ミラー部４５を備えている。第３の鏡筒
ユニット４３は、たとえば２つの光学素子を有しウェハ
５の上方に配設されている。また、第２の球面ミラー部
４５は、第２の折り曲げミラー部４７を挟んで第３の鏡
筒ユニット４３と反対側に配設されている。
【００２０】図３において、レチクル４を透過した光束
は第１の鏡筒ユニット４１を通過して下降し、第１の球
面ミラー部４４で上方に反射される。第１の球面ミラー
部４４の反射光は、第１の折り曲げミラー部４によって
図中左水平方向に反射され第２の鏡筒ユニット４２に入
射する。次いで、第２の鏡筒ユニット４２を透過した光
は第２の折り曲げミラー部４７で図中上方に反射され、
第２の球面ミラー部４５に入射する。第２の球面ミラー
部４５で図中下方に反射された光は、第３の鏡筒ユニッ
ト４３を介してウェハ５上に結像する。こうして、レチ
クル４のパターンが、ウェハ５上に転写される。
【００２１】図４は、図３の反射屈折式投影光学系の構
成をより具体的に示す図である。図４は、上述の各構成
要素４１、４２、４３、４４、４５、４６、４７が反射
屈折式投影光学系のボディ４８に取り付けられている様
子を示しており、構成的には図３に一致している。
【００２２】図５は、第１の鏡筒ユニット４１の位置決
め調整手段について説明する図である。図５（ａ）は第
１の鏡筒ユニット４１の上面図であり、図５（ｂ）は第
１の鏡筒ユニット４１の側部分断面図である。図５にお
いて、第１の鏡筒ユニット４１は、３つのボルト６１
ａ、６１ｂ、６１ｃおよび対応する３つのワッシャ６２
ａ、６２ｂ、６２ｃを介して支持部材６６に固定されて
いる。ボルト６１ａから６１ｃは、図示のように光軸Ａ
Ｘを中心とする円をほぼ３等分するように配置されてい
るのが好ましい。
【００２３】支持部材６６は、３つのボルト６５ａ、６
５ｂ、６５ｃを介して投影光学系のボディ４８に固定さ
れている。３つのボルト６５ａから６５ｃも、図示のよ
うに光軸を中心とする円をほぼ３等分するように配置さ
れている。ボルト６１ａから６１ｃおよび６５ａから６
５ｃの６つのボルトは、図示のように光軸を中心とする
円をほぼ６等分するように配置されている。投影光学系
のボディ４８には、２つの当て駒６３ａおよび６３ｂが
対応する２組の一対ボルト６４ａおよび６４ｂによって
固定されている。さらに具体的には、２つの当て駒６３
ａおよび６３ｂは光軸ＡＸと直交する２つの軸線ＡＹお
よびＡＺ上に配置されている。
【００２４】図５の第１の鏡筒ユニット４１において
は、当て駒６３ａおよび６３ｂをそれぞれボルト６４ａ
および６４ｂに対するボルト穴のクリアランス分だけ軸
線ＡＹおよびＡＺ方向に移動させることができるように
構成されている。したがって、当て駒６３ａおよび６３
ｂを第１の鏡筒ユニット４１に当接させて位置決めする
ことにより、第１の鏡筒ユニット４１を光軸ＡＸと直交
する方向に位置決め調整することができる。換言すれ
ば、第１の鏡筒ユニット４１の光軸偏心を調整すること
ができる。このように、当て駒６３ａ、６３ｂは、第１
の鏡筒ユニット４１の光軸直交方向位置決め調整手段を
構成している。
【００２５】一方、ワッシャ６２ａから６２ｃは、その
厚さを選択することにより鏡筒ユニット４１を光軸ＡＸ
方向に移動させることができる。さらに具体的には同じ
厚さのワッシャ６２ａから６２ｃを使用することにより
鏡筒ユニット４１を光軸ＡＸに沿ってシフトさせること
ができるとともに、ワッシャ６２ａから６２ｃの各々の
厚さを変えることにより鏡筒ユニット４１を光軸ＡＸに
対してチルトさせることもできる。このように、ワッシ
ャ６２ａから６２ｃは、第１の鏡筒ユニット４１を光軸
に沿って移動させるためのシフト手段と、光軸に対して
傾斜させるためのチルト手段とを構成している。なお、
第３の鏡筒ユニット４３、第１の球面ミラー部４４およ
び第２の球面ミラー部４５の位置決め調整手段も同様に
構成することができる。
【００２６】図６は、第２の鏡筒ユニット４２の位置決
め調整手段について説明する図である。図６（ａ）は第
２の鏡筒ユニット４２の正面図であり、図５（ｂ）は第
２の鏡筒ユニット４２の側面部分断面図である。図６に
おいて、第２の鏡筒ユニット４２は、３つのボルト７１
ａ、７１ｂ、７１ｃおよび対応する３つのワッシャ７２
ａから７２ｃを介して投影光学系のボディ４８に固定さ
れている。ボルト７１ａから７１ｃは、等角度間隔で配
置されている（ある円をほぼ３等分するように均等に配
置されている）のが好ましい。
【００２７】投影光学系のボディ４８には、２つの当て
駒７３ａおよび７３ｂが対応する２組の一対ボルト７４
ａおよび７４ｂによって固定されている。さらに具体的
には、当て駒７３ａは光軸ＡＸと軸線ＡＺとを含む平面
に垂直に延び、当て駒７３ｂは光軸ＡＸと軸線ＡＺとを
含む平面に平行に延びている。図６の第２の鏡筒ユニッ
ト４２においては、当て駒７３ａおよび７３ｂをそれぞ
れボルト７４ａおよび７４ｂに対するボルト穴のクリア
ランス分だけ光軸ＡＸおよびＡＹ方向に移動させること
ができるように構成されている。したがって、当て駒７
３ａを第２の鏡筒ユニット４２に当接させて位置決めす
ることにより、第２の鏡筒ユニット４２を光軸ＡＸ方向
にシフトさせて位置決め調整することができる。また、
当て駒７３ｂを第２の鏡筒ユニット４２に当接させて位
置決めすることにより、第２の鏡筒ユニット４２を光軸
ＡＸと直交する軸線ＡＹ方向に位置決め調整することが
できる。
【００２８】一方、ワッシャ７２ａから７２ｃは、その
厚さを選択することにより鏡筒ユニット４２を光軸ＡＸ
と直交する軸線ＡＺ方向に移動させたり、光軸ＡＸに対
して傾斜させたりすることができる。さらに具体的には
同じ厚さのワッシャ７２ａから７２ｃを使用することに
より鏡筒ユニット４２を光軸ＡＸと直交する軸線ＡＺに
沿って移動させることができるとともに、ワッシャ７２
ａから７２ｃの各々の厚さを変えることにより鏡筒ユニ
ット４２を光軸ＡＸに対してチルトさせることもでき
る。このように、当て駒７３ａは第２の鏡筒ユニット４
２を光軸に沿って移動させるためのシフト手段を構成
し、当て駒７３ｂは第２の鏡筒ユニット４２の光軸直交
方向位置決め調整手段を構成している。
【００２９】さらに、ワッシャ７２ａから７２ｃは、第
２の鏡筒ユニット４２の光軸直交方向位置決め調整手段
と、光軸に対して傾斜させるためのチルト手段とを構成
している。なお、第１の折り曲げミラー部４６および第
２の折り曲げミラー部４７の位置決め調整手段も同様に
構成することができる。また、第２の実施例における鏡
筒ユニット４１、４２、４３のそれぞれが複数（たとえ
ば１１個）の光学素子からなる場合は、第１の実施例の
ように、１０個の光学素子を分割して各鏡筒ユニットの
それぞれについて、分割鏡筒としてもよい。これによ
り、各鏡筒ユニット４１、４２、４３のそれぞれについ
て、所望の光学素子ユニットのみを光学調整することが
できる。
【００３０】なお、上述の第１実施例において、シフト
手段およびチルト手段としてワッシャおよび偏心補正手
段として板ばねを用いる例を示したが、本発明の範囲を
逸脱することなく各々の手段にそれぞれ別個の適当な手
段を用いることもできる。たとえば特開平４−１３４８
１３号公報に開示されているようにピエゾ素子を用いて
鏡筒ユニットを駆動（シフト、チルト、偏心）してもよ
い。また、マイクロヘッド駆動、モータ駆動、油圧ジャ
ッキ駆動により鏡筒ユニットを駆動してもよい。
【００３１】また、上述の第１実施例において、上方鏡
筒ユニットと下方鏡筒ユニットとの連結をボルト締結に
より形成しているが、他の真空吸着、電磁石等の適当な
連結手段を用いることもできることは明らかである。ま
た、上述の第１実施例において、上下の隣接するユニッ
トは円筒状の突出部と開口部とで緊密に嵌合して偏心量
を抑制しているか、もしくは板ばねによる平行移動機構
により偏心を調整することとしたが、Ｖブロック等の当
て駒等で偏心を調整する構成としてもよい。
【００３２】以上のような第１および第２実施例におけ
るシフト、チルト、偏心手段（ワッシャ、ピエゾ、板ば
ね等）は、焦点位置や倍率やディストーション等の収差
を変化させるために、各鏡筒ユニットを駆動させるよう
にしてもよい。さらに、第１実施例および第２実施例の
いずれの場合も、鏡筒ユニット間の連結に密封機構と特
開昭６０−７８４５４号公報のような圧力制御機構とを
付加しておけばユニット間の空気圧力が変化可能とな
り、密封機構と温度コントロール機構とを設ければ温度
もコントロールすることも可能になる。これにより、倍
率等の投影光学系の光学特性を変化させることができ
る。密封機構としては、たとえば第１の実施例の場合は
嵌合部にＯリングを使用する。第２の実施例の場合は、
さらに密封ブロックを追加する。
【００３３】
【効果】以上のように、本発明によれば、交換可能な複
数の鏡筒ユニットに分割されているので、たとえば標準
機を利用することによって分割ユニット毎に光学調整を
行えば投影光学系の全系または他のユニットに影響を及
ぼすことなく独立に且つ効率良く所望ユニットの光学調
整を行うことができる。したがって、光学調整に要する
時間が著しく短縮される。また、ユニットの交換が可能
なので、あるユニットに不都合が生じたときにも、同じ
光学特性のユニットまたは必要に応じて異なる光学特性
のユニットで置換することができる。したがって、作業
負担が少なくなるとともにメンテナンス性が向上し、投
影光学系、ひいては投影露光装置の信頼性が著しく向上
する。さらに、各ユニットの光学性能評価を予め行うこ
とができるので、各ユニットの光学性能の不足部分をキ
ャンセルするように組み合わせることによって、全体的
に優れた光学性能を有する投影光学系を構成することが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施例にかかる屈折式投影光学
系の概略的な構成を示す図である。
【図２】第１の実施例の各鏡筒ユニット間の連結構造を
示す断面詳細図である。
【図３】本発明の第２の実施例にかかる反射屈折式投影
光学系の概略的な構成を示す図である。
【図４】図３の反射屈折式投影光学系の構成をより具体
的に示す図である。
【図５】図３の第１の鏡筒ユニット４１の位置決め調整
手段について説明する図である。
【図６】図３の第２の鏡筒ユニット４２の位置決め調整
手段について説明する図である。
【図７】従来の屈折式投影光学系の概略的な構成を示す
図である。
【符号の説明】
１ 鏡筒 ２ レンズ枠 ３ 押さえ環 ４ レチクル ５ ウェハ ６ 開口部 ７ 突出部 ８ 開口部 ＡＸ 光軸 １１、４１ 第１鏡筒ユニット １２、４２ 第２鏡筒ユニット １３、４３ 第３鏡筒ユニット １４ 第４鏡筒ユニット １５ 第５鏡筒ユニット ３１ 突出部 ３２ ワッシャ ３３ ボルト ３４ 上部フランジ ３５ 下部フランジ ４４ 第１球面ミラー部 ４５ 第２球面ミラー部 ４６ 第１折り曲げミラー部 ４７ 第２折り曲げミラー部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/20 ５２１ 9122−2Ｈ Ｇ０３Ｇ 15/04 １１１ 9122−2Ｈ

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 パターンが形成されたマスクを所定波長
    域の照明光で照明して、前記パターンの像を投影光学系
    を介して被投影基板上に結像させる投影露光装置におい
    て、 前記投影光学系は、それぞれ１枚以上の光学素子を収容
    した複数の鏡筒ユニットを備え、 前記鏡筒ユニットの各々は、前記投影光学系に着脱自在
    に取り付けられるように構成されていることを特徴とす
    る投影露光装置。
  2. 【請求項２】 前記鏡筒ユニットの各々は、前記投影光
    学系の所定位置に各鏡筒ユニットを位置決めするための
    位置決め調整手段を備えていることを特徴とする請求項
    １に記載の投影露光装置。
  3. 【請求項３】 前記投影光学系は屈折式の投影光学系で
    あって、各鏡筒ユニットの光軸に沿った移動調整、各鏡
    筒ユニットの光軸に対する傾斜調整、および前記光学素
    子の光軸に対する偏心調整のうち少なくとも１つの調整
    を行うための調整手段を備えていることを特徴とする請
    求項１に記載の投影露光装置。
  4. 【請求項４】 前記投影光学系は反射屈折式の投影光学
    系であって、各鏡筒ユニットの光軸に沿った移動調整、
    各鏡筒ユニットの光軸に対する傾斜調整、および各鏡筒
    ユニットの光軸と直交する方向の位置決め調整のうち少
    なくとも１つの調整を行うための調整手段を備えている
    ことを特徴とする請求項に記載の投影露光装置。
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