JP2009542021A - リソグラフィ投影対物器械を修正/修理する方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】屈折力を有する少なくとも1つの第1の光学要素を含む複数の光学要素を対物面(12)と像平面(16)の間に含むリソグラフィ投影露光装置(10)の投影対物器械を修正/修理する方法は、光学要素の全てを差し替えることなく、少なくとも1つの第1の光学要素を現場で投影対物器械から取り外す段階、少なくとも1つの第1の予備光学要素を少なくとも1つの第1の光学要素の位置で投影対物器械内に挿入する段階、及び投影対物器械の像品質を望ましい品質へと調節する段階を含む。
【選択図】図1
Description
より具体的には、本発明は、リソグラフィ投影露光装置の投影対物器械を修正/修理する方法に関する。
一般的に、リソグラフィ投影露光装置の投影対物器械は、対物面と像平面の間に複数の光学要素を含む。ここで「の間」という用語は、対物面から出射して像平面に到達する投影光が各光学要素に少なくとも1回当たるような方法で複数の光学要素が配置されると理解されるものとする。同様に、「の前」及び「の後」のような用語は、伝播する投影光の順であると理解されるものとする。異なる種類の投影対物器械、すなわち、屈折、反射、及び反射屈折投影対物器械が存在する。屈折投影対物器械は、屈折光学要素のみを含む。反射投影対物器械は、反射光学要素のみを含む。反射屈折投影対物器械は、屈折光学要素、並びに反射光学要素を含む。本明細書では、本発明を屈折及び反射屈折投影対物器械に関して説明し、その複数の光学要素は、少なくとも1つの屈折光学要素を含む。投影対物器械の最後の光学要素と像平面の間に液浸液が存在する場合には、投影対物器械は、液浸型のものであると呼ばれる。液浸液自体は、光学要素に含まれない。2つの液浸液が存在し、かつ投影対物器械の最後の光学要素が、これらの2つの液浸液の間に置かれている場合には、投影対物器械は、2重液浸型のものであると呼ばれる。従って、あらゆる2重液浸型の投影対物器械は、液浸型の投影対物器械でもある。
他の稼働時間によって惹起される光学要素の劣化は、屈折率変化、光学要素の材料における応力等とすることができる。従って、ある一定の稼働時間の後、投影対物器械が高精度光学性能に影響を与える劣化をもたらす時には、投影対物器械を修理又は修正すべきである。
従って、現場で、すなわち、投影対物器械が用いられている顧客の場所において実施することができ、投影対物器械の全ての光学要素の差し替えを必要としない投影対物器械を修理する方法の必要性が存在する。
一方、一部の事例では、顧客は、投影対物器械によって基板へと投影される特定のレチクル、及び/又はリソグラフィ処理に用いられるある一定の照明設定に像欠陥の量を適応させてしまうことを望む。一部の場合には、コマ収差のようなある一定の像欠陥を像内に導入することが望まれる。
WO2005/069055A2は、屈折力を有する光学要素を最後の光学要素として有する液浸型投影対物器械を開示している。
WO2006/121009及びWO2006/126522は、平行平面板を最後の光学要素として有する2重液浸型の投影対物器械を開示している。
本発明の別の目的は、顧客での投影対物器械の使用休止時間を低減するリソグラフィ投影露光装置の投影対物器械を修正/修理する方法を提供することである。
本発明の別の目的は、所用時間を要さず、及び/又は経費負担の小さいリソグラフィ投影露光装置の投影対物器械を修正/修理する方法を提供することである。
投影対物器械の別の目的は、顧客の要求に従って投影対物器械の像品質を適応させることができるリソグラフィ投影露光装置の投影対物器械を修正/修理する方法を提供することである。
少なくとも1つの第1の予備光学要素自体が劣化を受けることは必要ではない。しかし、光学システムの劣化の影響を相殺するためには、少なくとも第1の予備光学要素は、光学システムの光学要素から適正に選択すべきである。特に有利なのは、顧客によって用いられる結像設定に依存して、光学システムの瞳平面の近く、視野平面の近くの位置であり、これらの間の平面が必要になる可能性もある。結像設定は、マスク及び照明設定に依存して、顧客毎に異なる可能性があり、特定の異なる劣化の影響を引き起こす。従って、少なくとも第1の予備光学要素は、光学システム毎に異なるものとすることができる。
第1の予備光学要素の性質が、加工、例えば、別の好ましい実施形態において与えられているように機械加工を受け入れ、特に、別の好ましい実施形態において与えられているように、少なくとも1つの第1の予備光学要素の少なくとも1つの表面に非球面又は更に非回転対称の表面形状を与えるとする場合、この手段は、第1の予備光学要素が、例えば、第1の予備光学要素と交換される第1の光学要素に対する第1の予備光学要素の光学効果の差を相殺するための望ましい像品質補正をもたらすことができるという利点を有する。また、第1の予備光学要素の加工は、元の状態における投影対物器械の像品質に対して、投影対物器械の像品質を変更するのに用いることができる。
この手段は、投影対物器械の修理経費負担を更に低減するという利点を有する。投影対物器械の光学要素が、製造という点で非常に高価であることを考慮すると、投影対物器械からの取り外し、及び光学要素又はそのコーティングから材料欠陥を除去するためのその後の加工の後の第1の光学要素の再使用は、投影対物器械の修理の経費負担低減に著しく寄与することができる。
少なくとも1つの第1の光学要素の加工により、少なくとも1つの第1の光学要素の厚みは、少なくとも1つの第1の光学要素の元の状態のものの厚みに対して低減される可能性がある。
第1の予備光学要素は、劣化した第1の光学要素を投影対物器械又は別の投影対物器械から取り外して再加工した後のものとすることができることを前に説明したが、少なくとも1つの第1の予備光学要素は、取り外した第1の光学要素の元の状態のものと同じ種類の本質的に同一の光学要素とすることも可能である。
更に別の好ましい実施形態では、本方法は、更に、複数の光学要素から少なくとも1つの第2の光学要素を選択する段階、少なくとも1つの第2の光学要素を投影対物器械から取り外す段階、及び少なくとも1つの第2の予備光学要素を第2の光学要素の位置で投影対物器械内に挿入する段階を含み、少なくとも1つの第2の予備光学要素は、測定によって得られる実際の像品質と望ましい像品質の間の差に応じて加工及び/又は選択される。
好ましくは、少なくとも1つの第2の予備光学要素の加工段階は、少なくとも1つの第2の予備光学要素の材料の厚みを変更する段階を含む。
少なくとも1つの第2の予備光学要素の材料の厚みを変更する段階は、第1の予備光学要素が、その元の状態の第1の光学要素に対して低減した厚みを有する場合に適切な補正機構であることが分かっている。
少なくとも1つの第2の予備光学要素に非球面又は更に非回転対称の表面形状を与える段階により、望ましい像品質に調節することを可能にするための改善された補正機能を獲得することができる。
更に好ましい実施形態では、本方法は、更に、少なくとも1つの第1の予備光学要素を挿入した後、かつ少なくとも1つの第2の予備光学要素を加工する前に、現場で投影対物器械の像品質を測定する段階、及び測定された像品質に応じて少なくとも1つの第2の予備光学要素に関する補正プロフィールを計算する段階、並びに計算された補正プロフィールに応じて少なくとも1つの第2の予備光学要素を加工する段階を含む。
この「1段階」処理は、所用時間の短縮という点で有利であり、特に第1の予備光学要素が、投影対物器械内に挿入される時の変形に感受性がないか又は低い場合に用いることができる。
この手段の利点は、投影対物器械の指紋が、修正/修理処理によって少なくともほぼ変更されないことである。
像品質の調節段階が、例えば、投影対物器械の使用における作動要件に従って少なくとも1つの特定の像欠陥を増加及び低減することにより、光学システムの劣化の前の像品質に対して像品質を変更する段階を含む場合も好ましいものとすることができる。
そのような作動要件は、投影露光装置の照明設定及び/又は投影対物器械によって結像すべき物体を含むことができる。
光学要素の1つ又はそれよりも多くの位置の調節段階は、適切なアクチュエータ又はマニピュレータによるx、y、及び/又はz平行移動的及び/又は回転的位置決め段階を含むことができ、適するアクチュエータ又はマニピュレータによって変形させることができる能動レンズ要素の場合には、調節段階は、そのような光学要素の形状を調節する段階を含むことができる。代替的又は追加的に、能動レンズ要素のマニピュレータは、光学要素が屈折型のものである場合には光学要素の屈折率分布を変えることができる。これは、屈折要素を加熱及び/又は冷却、圧搾及び/又は屈曲することによって達成することができる。
更に別の好ましい実施形態では、少なくとも1つの第1の光学要素は、2重液浸型投影対物器械における最後から2番目のレンズ要素である。
既に上述のように、特に液浸型投影対物器械の最後のレンズ要素は、例えば、レンズ要素の液浸液との接触又はコーティングを傷つけることに起因して、多くの場合に劣化を受ける。最後の光学要素は、入射側に大きな曲率を有し、好ましくは、像平面の隣に平面表面を有する比較的肉厚なレンズとすることができる。また、このレンズは、像に近い大きな屈折力集中に起因する劣化を受ける可能性もある。
補正要素として選択されることになる第2の光学要素としての平行平面板の使用は、凹及び/又は凸表面を有する光学要素に対して、補正表面を有するそのような要素を設ける点におけるより良好な統御性という利点を有する。
本発明の範囲内では、一方が投影対物器械の視野平面の近くに配置され、他方が瞳平面の近くに配置された補正要素として選択することができる2つの第2の光学要素が存在する場合には特に好ましい。
更に別の利点及び特徴は、以下の説明及び添付図面から明らかになるであろう。
上述の特徴及び下記に更に説明することになるものは、所定の組合せにおいて適用可能であるのみならず、本発明の範囲から逸脱することなく他の組合せ又は単独でも適用可能であることは理解されるものとする。
例示的な実施形態を図面に示し、これを参照してそれを以下に説明する。
投影露光装置10は、投影対物器械11を含み、投影対物器械11は、投影対物器械11の対物面12内に配置された物体(レチクル)14を投影対物器械11の像平面16内に配置された基板18(ウェーハ)上に結像する。物体14を基板16上に結像するための光は、光源20(例えば、レーザ)によって生成され、照明光学器具22によって物体14上に導かれ、光は、物体14から投影対物器械11の中に入射する。
投影対物器械11は、投影対物器械11を通じる光の伝播方向(z方向)に配置された複数の光学要素を含む。図示の実施形態では、投影対物器械11は、6つの光学要素を含み、そのうちの4つは、屈折力を有する光学要素、すなわち、光学要素32、34、36、及び38である。残りの2つの光学要素40及び42は、屈折力を持たない光学要素であり、図示の実施形態では平行平面板である。
光学要素32から42のうちの一部、この実施形態では32から42の全ての光学要素には、各光学要素32から42の位置を調節するために、アクチュエータ又はマニピュレータ32bから42bが割り当てられる。アクチュエータ又はマニピュレータは、光学要素32から42を図1に示す座標系に従ってx、y、及び/又はz方向に位置決めすることが可能なものとすることができる。平行移動だけではなく、x、y、及び/又はz軸回りの回転移動も可能であることは理解されるものとする。更に、光学要素32から42のうちの一部は、能動的に変形可能な要素として構成することができ、及び/又はこれらが屈折型のものである場合には、その屈折率分布を変えることができ、アクチュエータ32bから42bのうちの一部は、対応する光学要素32から42を変形し、及び/又はこれらの光学要素が屈折型のものである場合には、その屈折率分布を変えることができるように設計することができる。
例えば、投影対物器械11が液浸リソグラフィに用いられる場合には、最後の光学要素38は、光学要素38のコーティング及びバルク材料に対して腐食性を有する液浸液(示していない)と接触状態にある。ある一定の稼働時間の後には、光学要素38は、投影対物器械11を修理すべきである程度まで劣化する場合がある。
下記に説明する方法は、現場、すなわち、顧客の場所で光学要素32から42の全てを差し替える必要なしに実施することができ、光学要素32から42のうちの2つの差し替えのみを必要とする。これらの2つの光学要素は、劣化した第1の光学要素38、及び以下に第2の光学要素と呼ぶ光学要素40及び42の一方である。
54では、現場で実際の修理処理が実施される時の応答時間を短縮するために、全ての第1及び第2の予備光学要素をプール内に収集する。
修理が望ましい場合は、参照番号56で示すように、プールから第1及び第2の予備光学要素が取り出される。
補正表面形状は、通常は非球面又は更に非回転対称形状である。
62では、段階60で計算した補正表面形状を有する第2の予備光学要素を設けるために、第2の予備光学要素を加工、例えば、機械加工する。
64では、第1の光学要素38及び第2の光学要素40を投影対物器械11から取り外す。
66では、第1及び第2の予備光学要素は、投影対物器械内でそれぞれの光学要素が投影対物器械11からのこれらの光学要素の取り外しの前に配置されていた位置に挿入される。
68では、望ましい像品質に調節するために、投影対物器械11の像品質が、特にアクチュエータ又はマニピュレータ32bから42bを用いることによって調節される。
前に説明した投影対物器械11を修理する方法は、「1段階」処理である。
段階50a、50b、52a、52b、54、及び56は、前に説明した方法の対応する段階に等しい。図3では、図2における段階58を省略しているが、段階58は、図3による方法において用いることもできる。
図3による方法と図2による方法の間の差は、第2の予備光学要素によってもたらされる補正が、投影対物器械11内への第1の予備光学要素の挿入の前ではなく後に計算される点である。
次に、第1の予備光学要素を位置調節し(78において)、像品質を測定する(80において)。
82では、第2の予備光学要素によってもたらされることになる必要な補正を前の測定段階の結果に基づいて計算する。
86では、第2の予備光学要素11を投影対物器械11内に挿入し、投影対物器械11を調節し(88において)、更に90において像品質を再度測定する。第1の予備光学要素の投影対物器械11への挿入の後に計算段階82が実施されているので、通常図3による方法は、第2の予備光学要素の補正の繰返しを必要としない。
図2及び3に関して既に説明したように、複数の第1及び第2の予備光学要素は、図2及び3に参照番号54で示すプール内に補給のために保持することが好ましい。更に、補給のために保持される第1及び第2の予備光学要素は、新たに製造された要素であることを上述した。しかし、既存の投影対物器械から取り外され、同じか又は他の投影対物器械における再使用に向けて再加工された光学要素から、少なくとも第1の予備光学要素のプールを構築することを想定することができる。
まず図1の投影対物器械11で、劣化した第1の光学要素38を投影対物器械11から取り外す。
次に、光学要素からコーティング及び/又は材料欠陥を除去するために、第1の光学要素38を再加工する。そのような再加工は、投影対物器械11からの取り外しの後に第1の光学要素38を機械加工することによって行うことができる。
再加工された第1の光学要素38の厚みの著しい低減は、同じ投影対物器械11、又は投影対物器械11と同じ種類の別の投影対物器械において第1の予備光学要素として再使用される時に、投影対物器械の像品質の著しい変化を引き起こすことになる。
以下の補正処理及びこれらの処理の組合せを実施することができる。
補正処理のうちの1つは、好ましくは、移動の平行及び回転自由度、並びに与えられて入れば変形を含む光学要素32から42の移動の全ての自由度を用いて光学要素32から42の位置を再調節するために、アクチュエータ又はマニピュレータ32bから42bを用いる段階にある。
更に別の補正処理は、複数の光学要素32から42から第2の光学要素、例えば、光学要素40及び/又は光学要素42を選択する段階、及びこれらの第2の光学要素に非球面又は更に非回転対称補正表面を設ける段階にある。
代替的に又は上述の補正処理に加えて、非球面又は更に非回転対称補正表面が設けられた第2の光学要素、又は複数の光学要素32から42のうちの別の光学要素は、第1の光学要素38の厚み低減によって引き起こされる像欠陥を相殺するために第2又は別の光学要素の厚みが変更、例えば低減されるように加工される。
好ましくは、上述の補正処理の組合せは、同時に又は段階的に実施される。
図4の第1の柱は、光学要素32から42の再位置決めを用いる上記第1の補正処理を用いた後の残留「RMS Z5」を示している。相応に「RMS Z5」は、指標1だけ低減している。
第2の柱は、第1の柱に用いられた補正処理を用い、更に、第2の光学要素の厚み変更を用いた後の残留「RMS Z5」を示している。
4番目の柱は、基本段階(第1の柱)及び第2の光学要素上の非球面補正表面を付加的に用いた後の残留「RMS Z5」を示している。
最後に5番目の柱は、柱1から4による全ての補正処理の組合せを用いた「RMS Z5」を示している。最終波面誤差Z5は、0.3nmRMSの許容限界値よりも十分に低い。
更に、上述の実施形態に関して、屈折力を有する光学要素32から38のうちの1つの光学要素の差し替えの後に、補正要素として選択することができる2つの第2の光学要素を投影対物器械11内に設けることができることに注意されたい。
特に、視野依存性を有する像欠陥を相殺するのみならず、視野にわたって実質的に一定の像欠陥を補正することを可能にするように、第2の光学要素40の一方は、視野平面の近くの位置に配置することができ、第2の光学要素40、42のうちの他方は、投影対物器械11の瞳平面の近くの位置に配置すべきである。
図6は、光学要素201を第1の光学要素とし、第2の光学要素とする光学要素202が平行平面板である液浸型反射屈折投影対物器械の別の設計200を示している。第2の光学要素は、投影対物器械の瞳平面内に置かれる。点で印したレンズ及び/又はミラーは、非球面のものである。
図7は、光学要素301を第1の光学要素とし、第2の光学要素とする光学要素302が平行平面板である2重液浸型投影対物器械300を示している。第2の光学要素は、投影対物器械の視野平面の近くに置かれる。2つの液浸液は、303及び304である。最後の2つの図には点が存在しないが、この投影対物器械にも同様に非球面レンズ及び/又はミラーが存在してもよい。
12 対物面
16 像平面
Claims (27)
- 屈折力を有する少なくとも1つの第1の光学要素を含む複数の光学要素を対物面と像平面の間に含む、リソグラフィ投影露光装置の投影対物器械を修正/修理する方法であって、該光学要素の全てを差し替えることなく、
少なくとも1つの第1の光学要素を現場で投影対物器械から取り外す段階と、
少なくとも1つの第1の予備光学要素を前記少なくとも1つの第1の光学要素の位置で前記投影対物器械内に挿入する段階と、
前記投影対物器械の像品質を望ましい品質に調節する段階と、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記少なくとも1つの第1の予備光学要素を前記投影対物器械内にそれを挿入する前に加工する段階を更に含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記加工する段階は、前記少なくとも1つの第1の予備光学要素を機械加工する段階を含むことを特徴とする請求項2に記載の方法。
- 前記加工する段階は、前記少なくとも1つの第1の予備光学要素の少なくとも1つの表面に非球面又は更に非回転対称の表面形状を与える段階を含むことを特徴とする請求項2又は請求項3に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの第1の予備光学要素は、前記投影対物器械からの取り外し及びその後の加工の後の前記第1の光学要素であることを特徴とする請求項2から請求項4のいずれか1項に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの第1の光学要素の前記加工により、該少なくとも1つの第1の光学要素の厚みが、該少なくとも1つの第1の光学要素のその元の状態の厚みに比べて低減することを特徴とする請求項5に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの第1の予備光学要素は、前記取り外された第1の光学要素のその元の状態と同じ種類の本質的に同一の光学要素であることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の方法。
- 像品質を調節する前記段階は、像品質を測定する段階、及び少なくとも1つの更に別の光学要素の移動及び/又は変形によって該像品質を調節する段階、及び/又はこの更に別の光学要素が屈折型のものである場合に該更に別の光学要素の屈折率分布を変える段階を含むことを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の方法。
- 前記投影対物器械は、液浸型のもの又は2重液浸型のものであることを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の方法。
- 前記第1の光学要素は、BaF2、LiF、BaLiF3、LUAG、又はスピネルのうちの1つであることを特徴とする請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の方法。
- 前記複数の光学要素から少なくとも1つの第2の光学要素を選択する段階、該少なくとも1つの第2の光学要素を前記投影対物器械から取り外す段階、及び少なくとも1つの第2の予備光学要素を該第2の光学要素の位置で該投影対物器械内に挿入する段階を更に含み、
前記少なくとも1つの第2の予備光学要素は、測定によって得られる実際の像品質と前記望ましい像品質との間の差に応じて設計される、
ことを特徴とする請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の方法。 - 前記第2の予備光学要素を前記投影対物器械内に挿入する前に該少なくとも1つの第2の予備光学要素を加工する段階を更に含むことを特徴とする請求項11に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの第2の予備光学要素を前記加工する段階は、該少なくとも1つの第2の予備光学要素の材料の厚みを変更する段階を含むことを特徴とする請求項12に記載の方法。
- 前記加工する段階は、前記少なくとも1つの第2の予備光学要素の少なくとも1つの表面に非球面又は更に非回転対称の表面形状を与える段階を含むことを特徴とする請求項12又は請求項13に記載の方法。
- 以前に取り外された少なくとも1つの第2の光学要素が、前記少なくとも1つの第2の予備光学要素であることを特徴とする請求項11から請求項14のいずれか1項に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの第1の予備光学要素を挿入した後でかつ前記少なくとも1つの第2の予備光学要素を加工する前に現場で前記投影対物器械の像品質を測定する段階、及び該測定された像品質に応じて該少なくとも1つの第2の予備光学要素に対する補正プロフィールを計算する段階、及び該計算された補正プロフィールに応じて該少なくとも1つの第2の予備光学要素を加工する段階を更に含むことを特徴とする請求項12から請求項15のいずれか1項に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの第2の予備光学要素は、前記第1の予備光学要素の光学効果のシミュレーションに基づく前記望ましい像品質に応じて加工され、その後に、該第1及び第2の予備光学要素は、前記投影対物器械内に挿入されることを特徴とする請求項12から請求項16のいずれか1項に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの第2の光学要素は、BaF2、LiF、BaLiF3、LUAG、又はスピネルのうちの1つであることを特徴とする請求項11から請求項17のいずれか1項に記載の方法。
- 前記像品質を前記調節する段階は、光学システムの劣化の前の像品質を少なくともほぼ維持する段階を含むことを特徴とする請求項1から請求項18のいずれか1項に記載の方法。
- 前記像品質を前記調節する段階は、光学システムの劣化の前の像品質に対して該像品質を変更する段階を含むことを特徴とする請求項1から請求項19のいずれか1項に記載の方法。
- 前記像品質を前記変更する段階は、前記投影対物器械の使用時の作動要件に従って少なくとも1つの特定の像欠陥を増加及び低減する段階の少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項20に記載の方法。
- 前記作動要件は、前記投影露光装置の照明設定及び前記投影対物器械によって結像される物体の種類のうちの少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項21に記載の方法。
- 前記像品質を前記調節する段階は、前記複数の光学要素のうちの前記光学要素の少なくとも1つの位置及び形状の一方を調節する段階を含むことを特徴とする請求項1から請求項22のいずれか1項に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの第1の光学要素は、前記像平面に最も近いレンズ要素であることを特徴とする請求項1から請求項23のいずれか1項に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの第2の光学要素は、前記像平面に最も近いレンズ要素であることを特徴とする請求項11から請求項24のいずれか1項に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの第2の光学要素は、屈折力を持たない要素、特に平行平面板であることを特徴とする請求項11から請求項25のいずれか1項に記載の方法。
- 請求項1から請求項26のいずれか1項に従って修正/修理されたことを特徴とする、投影露光装置の投影対物器械。
Applications Claiming Priority (3)
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