JP2007013179A5

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リソグラフィ投影対物系の補正方法およびリソグラフィ投影対物系

本発明は、リソグラフィ投影露光機の投影対物系の少なくとも１つのイメージ欠陥を補正する方法に関し、この投影対物系は、複数のレンズおよび少なくとも１つのミラーを含む光学配置構造を含む。
本発明は、さらにこの種の投影対物系に関する。

上記のような型式の投影対物系はリソグラフィ法で使用し、特に半導体のマイクロリソグラフィによる製造でよく使用するが、この場合焦点板（レチクル）とも称される構造を有するオブジェクトを、ウェーハといわれるキャリアー上へ投影対物系によって画像化する。このキャリアーは感光層を備えており、投影対物系を介した光によってその上に露光が行われると、オブジェクトの構造を感光層上へ転写する。この感光層を現像し、次いで必要な構造をキャリアー上に製造し、この露光操作を状況に応じて複数の方法で繰り返す。

この方法の場合に使用し、多数のレンズおよび少なくとも１つのミラーを含む光学配置構造を有する投影対物系を、カタディオプトリック（反射屈折結像系）ともいう。このカタディオプトリック投影対物系は、たとえば下記特許文献１に記述されている。高アパーチャ（口径）投影対物系の中で、カタディオプトリック投影対物系は重要性が増大しているが、それは、純粋な屈折（ディオプトリック）投影対物系と比較すると、このカタディオプトリック投影対物系によって、種々の需要家特有の要求を満たす目的のために、全体的に見て経済的な妥協が可能となるからである。

このようなカタディオプトリック投影対物系で用いる少なくとも１つ、多くの場合は数個のミラーは、２つの種類、特に反射光学倍率を有するものおよび反射光学倍率を有さないものへ細分することができる。反射光学倍率を有するミラーは、主としてゼロ分散の反射光学倍率を実現するのに役立ち、主として像面の補正に対して適切かつ明確に貢献する。このため、古典的でかつ純粋に屈折のみによる設計と比較して、多くのレンズを省くことができるようになる。折り返しミラーと呼ぶ反射光学倍率を有さないミラーは、ビームガイドの目的に役立ち、おおむね設計要件として必要とされる。

本発明の範疇においては、少なくとも１つのミラーは反射光学倍率を有するか、または反射光学倍率を有さないミラーとすることができる。カタディオプトリック投影対物系に関する問題は、ミラーの光学的作用表面では公差条件が狭いということである。この公差条件の狭いことは、ミラーの表面の歪みの光学的効果が、レンズの表面の場合の２倍超であるという事実による。この理由は、ミラーの歪みΔｚはその入射光および反射光ビームが横切る、すなわち２回横切られるが、レンズ表面の表面歪みΔｚは１度だけ横切られることになり、さらにレンズの屈折率が通常＞１であるからである。

ミラーの表面の欠陥は、製作中の不正確さ、またはミラーコーティングの層応力によって引き起こされる場合がある。欠陥は、さらにミラーを取り外す際および設置する際に、これまでの設置位置を正確に再現することができるとは限らないため生じる場合がある。コーティングとミラーの基体との熱膨脹係数が異なり、このミラーの形が光の照射で変化するという事実があるために、層応力に起因する歪みが頻繁に生じる。同様の影響は、ミラーの基体をコーティングした後のリラクセーション工程によって生じる場合がある。

投影対物系内でミラーを使用すると、投影対物系の組立てのときには知られていなかった使用ミラーの歪みを調整する必要が出てきて、結果的に調節に対してより多くの経費が必要となる。欠陥のあるミラー面では投影光の波面のエラーが起こり、そのためキャリアー（ウェーハ）上に対するオブジェクト（焦点板）の画像処理を欠陥のあるものとしてしまうが、製造する半導体構造では小型化が現在必要とされていることを考慮すると、このことは許容することができない。

したがって、このような波面エラー（すなわちカタディオプトリック投影対物系のイメージ欠陥）を補正するためのふさわしい方法、および少なくとも大幅にエラー補償できるカタディオプトリック投影対物系の必要性がある。１つ以上の欠陥のあるミラーによって引き起こされる、カタディオプトリック投影対物系のイメージ欠陥を補償する１つの策は、研磨またはイオンビームエッチングによって、局所的に非球面化して欠陥のあるミラー面（単数または複数）を直接補正することであろう。しかしながら、ある時にはこの欠陥のあるミラー（単数または複数）を数回投影対物系から取り出し、次いでその対物レンズの中に再設置する必要があり、この操作は再設置したミラー（単数または複数）の調節に特に高度な条件が必要となるため、この方法は、時には非常に複雑になることがある。さらに、上述のように、ミラーの欠陥の光学効果は、レンズの欠陥の光学効果より実質的に大きい。さらに、ミラー面上の非球面化工程を精度よく操作するにおいては問題があるため、ミラー面を頻繁に直接補正することはできない。

この目的に対する代替可能な策は、関連する欠陥のあるミラーのきわめて近傍で光学的操作レンズ表面を非球面化することである。
しかしながら、下記特許文献２の図１による投影対物系の場合のように、レンズというものは必ずしも関連するミラーのすぐ近傍に設けてあるというわけではないので、この方法の手順はカタディオプトリック投影対物系のすべての設計にとって可能というわけではない。その上、適切なレンズは確かに存在するが、設計型式のために非球面化にふさわしくないという場合がさらに生じる場合がある。

したがって、カタディオプトリック投影対物系の少なくとも１つの収差の補正にふさわしい方法、および収差が１つ以上のミラー面で欠陥によって引き起こされ、エラー補償されたカタディオプトリック投影対物系のさらなる必要性がある。
国際公開第２００４／０１９１２８号パンフレット国際公開第２００２／０４４７８６号パンフレット国際公開第２００４／１０７０１１号パンフレット欧州特許出願公開第１３１８４２５号明細書

本発明は、カタディオプトリック（反射屈折）投影対物系の少なくとも１つのイメージ欠陥を補正するための改良された方法を提供することを目的とする。
本発明のさらなる目的は、少なくとも１つの欠陥のあるミラーによって引き起こされるイメージ欠陥が少なくとも低減される、改良されたカタディオプトリック投影対物系を規定することである。

本発明の第１の局面によれば、リソグラフィ投影露光機の投影対物系の少なくとも１つのイメージ欠陥を補正する方法が提供される。この投影対物系は、複数のレンズおよび少なくとも１つのミラーから構成される光学配置構造を含み、前記少なくとも１つのミラーが、欠陥を有する可能性があり、したがって少なくとも１つの収差の原因となる光学的作用表面を有する。前記方法は、
前記少なくとも１つのミラーの前記光学的作用表面における周辺光線高さｈ_MＲに対する主光線高さｈ_MＨの比ＶＭを少なくとも近似的に決定するステップと、
前記レンズのレンズ表面のうち、周辺光線高さｈ _L Ｒに対する主光線高さｈ _L Ｈの比であるＶＬの大きさが比ＶＭに少なくとも最も近い少なくとも１つの光学的作用レンズ表面を近似的に決定し、好ましくはこの光学活性なレンズ表面をＶＬがさらにＶＭと同符号を持つように決定するステップと、
画像欠陥の補正のために少なくとも１つの決定したレンズ表面を選択するステップとを含んでいる。

本発明のさらなる局面によれば、複数のレンズおよび少なくとも１つのミラーから構成される光学配置構造を含むリソグラフィ投影露光機の投影対物系が提供される。少なくとも１つのミラーが、この光学配置構造の少なくとも１つの画像欠陥を引き起こす可能性がある光学的作用表面を有し、この画像欠陥の補正のためにレンズのレンズ表面のうち、周辺光線高さｈ _R Ｌに対する主光線高さｈ _L Ｈの比であるＶＬの大きさが、少なくとも１つのミラーの光学活性な表面の周辺光線高さｈ _M Ｒに対する主光線高さｈ _M Ｈの比ＶＭに少なくとも最も近い少なくとも１つの光学的作用レンズ表面が選択されており、好ましくは、さらにＶＬがＶＭと同符号を有するように選択されている。

本発明は、少なくとも１つの欠陥のあるミラー自体の、またはそのミラーの近傍での欠陥、すなわち歪みを補正することが絶対に必要であるわけではなく、その光学的な影響を補償することで十分であるとの考えに端を発している。この補償、たとえば光学的作用表面の非球面化の光学的効果は、局所的な非球面化の形の関数であるだけでなく、投影光学では光学面の位置によって決定されるものである。投影対物系内における光学面上の周辺光線高さに対する主光線高さの比は、たとえば前記光学面の位置の非球面化などの光学的効果の信頼性にとって重要である。主光線高さは、絶対的には最大のフィールド高さを有しているオブジェクトフィールドのフィールドポイントの主光線の光線高さとして理解できる。周辺光線高さは、オブジェクトフィールドの中央から放射される最大口径の光線の高さである。

本発明の意味するところでは、「光学的作用表面」は、一般的な意味で理解してよく、あるミラーのこのような表面は、焦点を合わせ、焦点をずらし、または単にビームのガイドをすることができる（ビーム曲げ）。光学的作用表面は、おおむね投影対物系内で、ミラーの設置された状態で光によって使用される表面である。
本発明は、以下の事実に基づいている。すなわち、少なくとも１つのミラーの歪みによって引き起こされた波面エラーを補償するために設ける、少なくとも１つのレンズ表面を最良に選択する第１ステップは、そのミラーの光学的作用表面上の周辺光線高さに対する主光線高さの（符号付きの）比を使用して、投影対物系の内部のミラーの位置を決定することである。次いで、さらなるステップは、収差の補償すなわち補正のために、複数のレンズの複数の表面のうち少なくとも１つの光学的作用レンズ表面を選択するステップであって、そこにおいては、その光学的作用を有するミラー面で、周辺光線高さに対する主光線高さの比が、できるだけ周辺光線高さに対する主光線高さの比に近づけるか、または同じにするステップからなる。換言すれば、この画像欠陥を補正するために、欠陥のあるミラー面に対して、少なくとも、ほとんど対になっているレンズ表面を選択するが、これは、このミラーに必ずしも隣接している必要がないということである。

本発明のさらなる好ましい改良例では、既述のように、選択した少なくとも１つのレンズ表面を非球面化することによって、少なくとも１つの画像欠陥の補正を実行するか、または、選択したレンズ表面を有する少なくとも１枚のレンズにアクチュエーターを割り当てて、たとえば傾斜させたりまたは変位させたりすることにによって、もしくはこのレンズの光学軸に垂直な平面内で回転させることによって、またはこれらの位置調節の組み合わせによって、少なくとも１つの画像欠陥が位置の調節によって補正することができるようにするか、かつ／または選択されたレンズ表面を有する少なくとも１枚のレンズにアクチュエーターを割り当て、この少なくとも１つの収差をレンズの変位によって補正することができるようにする。

本発明のさらなる利点および特徴を、添付する図に関連させて、好ましい典型的な実施形態の記述をもって以下に示すこととする。

本発明の典型的な実施形態を選択し、図面に示し、かつこれらを参照しつつより詳細に以下に説明する。
図の詳細に入る前に、最初に、リソグラフィ投影露光機のカタディオプトリック投影対物系の少なくとも１つのイメージ欠陥を補正する方法を全体として述べることとする。カタディオプトリック投影対物系は、複数のレンズおよび少なくとも１つのミラーを含む光学的配置構造を有する。

この少なくとも１つのミラーは、製造工程からくる欠陥を含む光学的作用表面を有する可能性があり、これは少なくとも１つの画像欠陥の原因となる。
工程中では、第１に、投影対物系の内部の少なくとも１つのミラーの光学的作用表面の位置を決定する。
この決定は、少なくとも１つのミラーの光学的作用表面上での周辺光線高さｈ_MＲに対する主光線高さｈ_MＨの比ＶＭを使用して行なう。

この主光線高さとは、最大のフィールド高さを有するオブジェクトフィールドのフィールドポイントの主光線の高さである。周辺光線高さとは、オブジェクトフィールドの中央から放射する最大口径を有する光線の高さである。
周辺光線高さｈ_MＲに対する主光線高さｈ_MＨの比ＶＭを、少なくとも１つのミラーの欠陥を有する可能性のある光学的作用表面で決定した後、光学的作用ミラー面に対して少なくともほぼ対になっている少なくとも１つの光学的作用レンズ表面が、投影対物系の中に存在するレンズの表面の全体の中から決定される。周辺光線高さｈ_MＲに対する主光線高さｈ_LＨの比ＶＬの大きさは、比ＶＭに少なくとも近似し、その偏差は、たとえば２０％未満、好ましくは１５％未満、さらに好ましくは１０％未満である。

上記の少なくとも１つの少なくともほぼ結合されている光学的作用レンズ表面を、さらにＶＬの符号がＶＭの符号に一致するように選択することが特に好ましい。
投影対物系の個々の光学的作用表面での周辺光線高さに対する主光線高さの比の決定の前に、レンズ曲率、レンズ材料、ミラー曲率や、光学部品、オブジェクト位置および像平面位置の相互間隔、アパーチャ寸法、フィールド寸法等の投影対物系の設計データを決定する。

投影対物系の少なくとも１つのミラーの光学的作用表面の位置を決定するために、また、少なくとも１つのミラーの欠陥のある可能性のある光学的作用表面によって引き起こされる画像欠陥の補正のために少なくとも１つの光学的作用レンズ表面を決定するために、対応する光学的作用表面がひとみ近接表面か、フィールド近接表面かどうかを判断すれば十分であることがあり、この場合は比ＶＭまたはＶＬを正確に決定する必要がなくなる。

ここで、ある表面上の周辺光線高さに対する主光線高さの比Ｖの大きさが、１／ｎ未満である場合、光学的作用表面はひとみ近接状態、または、同義的にひとみ平面に近接した状態にあることを意味し、ある表面上の周辺光線高さに対する主光線高さの比Ｖの大きさがｎ／１０より大きい場合、光学的作用表面はフィールド近接状態、または同義的にフィールド平面に近接した状態にあることを意味する。ここに、パラメーターｎは、値５、好ましくは１０、非常に好ましくは２０であるように選択される。ある光学的作用表面の少なくとも１つが、ひとみの近傍に位置する場合、その光学機能部品は、ひとみ近接状態、またはひとみ平面に近接していることを意味する。ある光学的作用表面の少なくとも１つが、フィールドの近くに位置する場合、その光学機能部品は、フィールドに近接した状態、またはフィールド平面に近接した状態にあることを意味する。

したがって、本発明の目的にとって、第１に、ひとみ平面および投影対物系のフィールド平面を決定すれば十分である。前者は、少なくともほぼ光学軸に垂直な平面であり、おおよそ光学軸上にないすべてのフィールドポイントの主光線はすべてこの光学軸と交差する。すなわち、周辺光線高さに対する主光線高さの上記の比Ｖは、およそ０である。後者は少なくともほぼ光学軸に垂直な平面であり、それぞれのフィールドポイントに属するアパーチャ光線はすべて、少なくともほぼ、すべてフィールドポイントに合体させられる。すなわち、周辺光線高さに対する主光線高さの上記の比Ｖは、大きさの点からほぼ無限となる。後者は、対象面、中間像および像平面へと分割される。

周辺光線高さに対する主光線高さの比Ｖの符号は、ひとみ平面またはフィールド平面を介しての各パスで変化する。図１に、本発明による方法を適用している投影対物系の第１の典型的な実施形態を示す。
投影対物系の全体を、図１において、参照符号１０で示す。射影の投影１０の詳述に関連しては、上記特許文献１を参照されたい。

投影対物系１０には３つのレンズグループおよび３つのミラーがあり、第１レンズグループは、Ｌ₁₁ないしＬ₁₁₀のレンズ群を有し、第２のレンズグループは、レンズＬ₂₁およびＬ₂₂を有し、３番目のレンズグループはＬ₃₁ないしＬ₃₁₅のレンズ群を有している。
Ｍ₃₁およびＭ₃₃は、平らな２つの折り返しミラーを表わし、ＣＭ（＝Ｍ₃₂）は凹面鏡を表わす。Ｒは対象面すなわち焦点板（レチクル）平面を表わし、Ｗは像平面またはウェーハ平面を表わす。

図１中の投影対物系１０はＦ₁ないしＦ₄の４つのフィールド平面があり、具体的には、オブジェクトフィールドＦ₁、折り返しミラーＭ₃₁と折り返しミラーＭ₃₁に近接しているミラーＣＭとの間のフィールドＦ₂、ミラーＣＭとミラーＭ₃₂に近接している折り返しミラーＭ₃₃との間のフィールドＦ₃、およびフィールドＦ₄である。
さらに、図１の投影対物系１０には３つのひとみ平面があり、具体的にはレンズＬ₁₄とＬ₁₅との間のひとみ平面Ｐ₁、ミラーＣＭの上のひとみ平面Ｐ₂、およびレンズＬ₃₁₀とＬ₃₁₁との間のひとみ平面Ｐ₃である。
したがって、ミラーＣＭはひとみ平面の近くに配置されており、ここでは、定義にあるように、周辺光線高さに対する主光線高さの比はおよそ０である。画像欠陥を生じさせるその可能性のある表面の歪みは、Ｐ₁ないしＰ₃の３つのひとみ平面のうちの１つの近傍に配置されているＬ₁₁ないしＬ₃₁₅のレンズの少なくとも１つのレンズ表面を補正することを選択することによって補正することができる。投影対物系１０の場合には、好ましくは下記のようなレンズ表面が考えられる。すなわち：
レンズＬ₁₄のレンズ表面Ｓ₆₀₈、
レンズＬ₁₅のレンズ表面Ｓ₆₀₉、
レンズＬ₂₁のレンズ表面Ｓ_623,629、
レンズＬ₂₂のレンズ表面Ｓ_625,627、
レンズＬ₃₁₀のレンズ表面Ｓ₆₄₁および／または
レンズＬ₃₁₁のレンズ表面Ｓ₆₄₃。

対照的に、２つの折り返しミラーＭ₃₁およびＭ₃₃は、フィールド平面Ｆ₂およびＦ₃の近傍に配置され、かつひとみ平面Ｐ₂およびフィールド平面Ｆ₂およびＦ₃によって互いに隔離されている。続いて、ミラーＭ₃₁およびＭ₃₃の表面で、比ｈ_MＨ／ｈ_MＲは、大きさの点から類似しているが、符号が異なる。したがって、非球面化には、少なくともさらに２つの光学的作用レンズ表面を用意することが必要となる。

折り返しミラーＭ₃₁の表面の歪みの補正すなわち補償のために、レンズＬ₁₁₀のレンズ表面Ｓ₆₂₀またはレンズＬ₁₉のレンズ表面Ｓ₆₁₈を選択することができるし、またはレンズＬ₃₁₅のレンズ表面Ｓ₆₅₂を選択することができる。
周辺光線高さに対する主光線高さの比が大きさ、および符号の点で適切であるレンズＬ₃₁のレンズ表面Ｓ₆₃₂またはレンズＬ₃₂のレンズ表面Ｓ₆₃₄または、たとえばレンズ₁₁のレンズ表面Ｓ₆₀₁またはレンズ表面Ｓ₆₀₂を、折り返しミラーＭ₃₃の表面の歪みの補正すなわち補償のために選択することができる。

したがって、単にそれぞれ、１つの個々のレンズ表面を、個々のミラー面の補正に対して選択している場合、ミラーＭ₃₁、Ｍ₃₃およびＣＭの歪みの補正のために選択することができるレンズ表面の組み合わせは、１０の可能性があることになる。ミラーＭ₃₁、Ｍ₃₃およびＣＭの歪みによって引き起こされた画像欠陥の補正は、上記の選択されたレンズ表面、またはこれらのレンズ表面の個々の上での非球面化により行なうことができる。

さらに、上記のレンズ表面に関連したレンズにアクチュエーター（図示せず）を設けることができ、これによってたとえば、補正用に選択されたレンズを傾斜または変位させることによって、または光学軸に垂直な平面内で回転させることによって、またはこれらの位置の調節の組み合わせによって、これらのレンズを容易にその位置で調節することができるようになる。さらに、このようなアクチュエーターはまた、レンズの歪みに影響する可能性がある。

まとめると、図１による投影対物系１０は、ひとみ平面Ｐ₂の近傍にミラーＣＭを有し、かつ投影対物系のフィールド平面Ｆ₂、Ｆ₃の近傍に２つのミラーＭ₃₁、Ｍ₃₃を有する。比ＶＭ₁およびＶＭ₂は、ミラーＭ₃₁、Ｍ₃₃上で異なる符号を有している。Ｐ₁ないしＰ₃のひとみ平面の近傍に配置されている投影対物系１０の光学的作用レンズ表面を、ミラーＣＭの歪みの補正のために選択する。投影対物系１０のＦ₁ないしＦ₄のフィールド平面の近傍に配置されている投影対物系１０のレンズのこのような光学的作用表面を、ミラーＭ₃₁およびＭ₃₃の歪みによって引き起こされた画像欠陥の補正のために選択するが、レンズ表面上の周辺光線高さに対する主光線高さの比ＶＬは符号が異なっている。

補正レンズとして選択することができるレンズは、図１中に斜線を付してあり、Ｋ₃₁、Ｋ_31'、Ｋ₃₂、Ｋ_32'、Ｋ₃₃、Ｋ_33'、Ｋ_33''で示す。補正レンズも以下の図中で斜線を付してあり、「Ｋ」を付している。
参照符号２０で全体を表す投影対物系を図２に示すが、これは、Ｅ₁からＥ₁₃までのレンズとＭ₂₁ないしＭ₂₆の６つのミラーとを有している。この投影対物系２０の詳細は、上記特許文献２を参照されたい。

射影の投影２０が、フィールド平面Ｆ₁（対象面）、フィールド平面Ｆ₂（中間の像平面）およびフィールド平面Ｆ₃（像平面）を有している。さらに、投影対物系２０は、ひとみ平面Ｐ₁およびひとみ平面Ｐ₂を有している。
以下のように、Ｍ₂₁ないしＭ₂₆のミラーのそれぞれの光学活性な表面における周辺光線高さｈ_MＲに対する主光線高さｈ_MＨの比ＶＭに関連して、Ｍ₂₁ないしＭ₂₆のミラーの位置を決定するが、ひとみ平面Ｐ₁の近傍に位置するので少なくともミラーＭ₂₂はひとみ近接状態であり、少なくともミラーＭ₂₅はフィールド近接状態にある。

たとえば、ミラーＭ₂₂の光学的作用表面上の歪み、およびそれによって引き起こされた画像欠陥の補正すなわち補償のために、レンズＫ₂₂（＝Ｅ₃）または、レンズＫ_22'（＝Ｅ₈）のうちの１つ（または両方）のレンズ表面を選択することができる。たとえば、レンズＫ₂₅（＝Ｅ₁）の後部レンズ表面をミラーＭ₂₅の補正のために選択することができる。要約すると、ミラーＭ₂₂がひとみ近接状態で、ミラーＭ₂₅がフィールド近接状態であることが投影対物系２０にあてはまる。投影対物系２０のひとみ平面の近傍に配置される少なくとも１つのレンズ表面、および投影対物系２０のフィールド平面の近傍に配置されるレンズ表面であって、その周辺光線高さに対する主光線高さの比がミラーＭ₂₅の対応する比に対する符号と一致するものが、上記のミラー上の可能な歪みの補正のために選択される。投影対物系２０の補正に続いて、今度は、選択されたレンズ表面上を非球面化することによってかつ／またはこれらのレンズ表面を有するレンズにアクチュエーターを割り当てることによって、補正用に選択されたレンズを傾斜させ、かつ／または変位させ、かつ／または変形させるようにすることが好ましい。

本発明による方法はまた、以下のような投影対物系に適用することができる。すなわち、その光学配置構造が、投影対物系の少なくとも１つのひとみ平面の近傍に配置されている少なくとも２つのミラーを有し、そこにおいては比ＶＭ₁およびＶＭ₂には異なる符号を有し、投影対物系２０の少なくとも１つのひとみ平面の近傍に配置されている少なくとも２つのレンズ表面が補正に選択される。これらのレンズ表面では、比ＶＬ₁とＶＬ₂とは異なる符号を有する。

同様に本発明による方法は、以下のような投影対物系に適用できる。すなわち、投影対物系の少なくとも１つのフィールド平面の近傍に配置されている少なくとも２つのミラーからなる光学配置構造を有し、そこでは比ＶＭ₁およびＶＭ₂が同じ符号を有し、この場合投影対物系のフィールド平面の近傍に配置されている少なくとも１つのレンズ表面を補正に選択し、比ＶＬが比ＶＭ₁およびＶＭ₂と同じ符号を有しているものである。

参照符号３０で全体を示すさらなる投影対物系を図３に示す。
投影対物系３０は、第１の純粋に屈折光学系である部分Ｇ₁を有し、これは第１のひとみ平面Ｐ₁を介して第１の中間像（フィールド２（Ｆ₂））上へ対象面Ｒを画像化する。投影対物系３０はさらに第２の反射光学系部分Ｇ₂を有し、ミラーＭ₁₁およびＭ₁₂を含んでおり、これは第２のひとみ平面Ｐ₂を介して第２の中間像（フィールド３（Ｆ₃））上へ第１中間像Ｆ₂を画像化する。２つのミラーＭ₁₁およびＭ₁₂は凹面鏡であり、これらはフィールド近接状態で配置されており、第２のひとみ平面Ｐ₂のそれぞれ上流および下流に位置している。

投影対物系３０は、さらに第３の屈折光学系部分Ｇ₃を有し、これは第３のひとみ平面Ｐ₃を介して像平面Ｗ上に第２の中間像Ｆ₃を画像化する。
第１ひとみ平面Ｐ₁の上流のフィールド近接レンズＫ₁₁は、ミラーＭ₁₁によって引き起こされる可能性がある収差の補正のために補正レンズとして選択することができる。さらにこの代替として、第２の中間像Ｆ₃の下流にあり、かつ第３のひとみ平面Ｐ₃の上流のフィールド近接補正レンズＫ_11'を、ミラーＭ₁₁によって引き起こされる収差の補正のために使用することができる。

さらに、第１ひとみ平面Ｐ₁の下流でありかつ第１中間像Ｆ₂の上流のフィールド近接レンズＫ₁₂、および／または第３のひとみ平面Ｐ₃の下流のフィールド近接レンズＫ_12'をミラーＭ₁₂によって引き起こされる収差の補正のために使用する。
レンズＫ₁₁、Ｋ_11'、Ｋ₁₂およびＫ_12'は、非球面化に用いる少なくとも１つの表面を有するレンズであり、かつ／または位置を移動させることができ、かつ／または変形可能なレンズである。

参照符号４０で全体を示す投影対物系を図４に示すが、上記特許文献３の図１４でその設計原理に関連してより詳細に記述されている。この点について上記文献３を参照する。
光伝達の方向において、本投影対物系４０は、第１のカタディオプトリック部分Ｌ₁ないしＭ₆₃の構成要素を有しており、第１のひとみ平面Ｐ₁を介して第１の中間像Ｆ２の上に対象面Ｒを画像化し、かつ少なくとも１つのひとみ近接状態ミラーＭ₆₁、および第１ひとみ平面Ｐ₁の下流の少なくとも１つのフィールド近接ミラーＭ₆₃を含んでいる。

本投影対物系４０はさらにＭ₆₄ないしＭ₆₆の構成要素を有する第２の反射光学系部分を有しており、第２のひとみ平面Ｐ₂を介して第２の中間像Ｆ₃の上に第１中間像Ｆ₂を画像化し、かつ少なくとも１つのフィールド近接ミラーＭ₆₄およびひとみ近接状態ミラーＭ₆₅を含んでいる。
最終的に、投影対物系４０は第３の屈折光学系部分を有し、Ｌ₅からＬ₂₀までのレンズを含み、第３のひとみ平面Ｐ₃を介して画像Ｗ（フィールド４）上に第２の中間像Ｆ₃を画像化する。

フィールド近接補正レンズＫ₆₃（＝Ｌ₂₀）は、「フィールド近接ミラーＭ₆₃を補正する」（より正確には、ミラーＭ₆₃によって引き起こされる画像欠陥が補正される）ために第３のひとみ平面Ｐ₃の下流に設け、かつフィールド近接補正レンズＫ₆₅（＝Ｌ１）を、ミラーＭ₆₅を補正するために第１ひとみ平面Ｐ₁の上流に設ける。
さらに（加えて）または代替として、フィールド近接補正レンズＫ_65'（＝Ｌ₅）を、ミラーＭ₆₅の補正のために第２の中間像Ｆ₃の下流にかつ第３のひとみ平面Ｐ₃の上流に設け、かつひとみ近接補正レンズＫ₆₁（＝Ｌ₄）を、ミラーＭ₆₁およびＭ₆₅を補正するために、第１ひとみ平面Ｐ₁の近傍に設けるが、こうすることによって、さらにまたは代替として、ミラーＭ₆₁およびＭ₆₅を補正するための第３のひとみ平面Ｐ₃の近傍にひとみ近接補正レンズＫ_61'（＝Ｌ₁₅）を備えることが可能となる。

Ｋ₆₁からＫ_65'の補正レンズは、非球面化に用いる少なくとも１つの表面を有するレンズであり、かつ／またはその位置を移動させることができ、かつ／または変形可能なレンズである。
参照符号５０で全体を表すさらなる投影対物系を図５に示す。
投影対物系５０は、対象面Ｒに始まり、第１の屈折光学系部分を有し、これは第１のひとみ平面Ｐ₁を介して第１の中間像Ｆ₂の上に対象面Ｒを画像化する。第１の屈折光学系部分に隣接して、本投影対物系５０は第２のカタディオプトリック部分を有し、これは第２の像平面Ｐ₂を介して第２の中間像Ｆ₃の上に第１中間像Ｆ₂を画像化し、第２のひとみ平面Ｐ₂の上流に少なくとも１つのフィールド近接ミラーＭ₅₁、および少なくとも１つのひとみ近接ミラーＭ₅₂を含んでいる。

この方向のより遠方に、本投影対物系５０は、第３のひとみ平面Ｐ₃を介して第３の中間像Ｆ₄の上への第２の中間像Ｆ₃を画像化する第３のカタディオプトリック部分、およびひとみ近接ミラーＭ₅₃を有する。
最終的に、投影対物系５０は、第４のひとみ平面Ｐ₄を介して、像平面Ｗ（＝Ｆ₅）の上に第３の中間像Ｆ₄を画像化する第４のカタディオプトリック部分を有し、これは第４のひとみ平面Ｐ₄の上流にフィールド近接ミラーＭ₅₄を含んでいる。

フィールド近接補正レンズＫ₅₁は、ミラーＭ₅₁およびＭ₅₄を補正するために第１のひとみ平面Ｐ₁の上流に設けられる。
さらに、または代替として、ミラーＭ₅₁およびＭ₅₄の補正のために、第１中間像Ｆ₂の下流でありかつ第２のひとみ平面Ｐ₂の上流にフィールド近接補正レンズＫ_51'を設ける。

さらに、または代替として、ミラーＭ₅₁およびＭ₅₄の補正のために、第２の中間像Ｆ₃の下流でありかつ第３のひとみ平面Ｐ₃の上流にフィールド近接補正レンズＫ_51''を設ける。
ひとみ近接補正レンズＫ₅₂を、ミラーＭ₅₂およびＭ₅₃を補正するために第１ひとみ平面Ｐ₁の近傍に設ける。

さらに、または代替として、ひとみ近接補正レンズＫ_52'を、ミラーＭ₅₂およびＭ₅₃を補正するために第２のひとみ平面Ｐ₂の近傍に設ける。
さらに、または代替として、ひとみ近接補正レンズＫ_52''を、ミラーＭ₅₂およびＭ₅₃を補正するために第３のひとみ平面Ｐ₃の近傍に設ける。
さらに、または代替として、ひとみ近接補正レンズＫ_52'を、ミラーＭ₅₂およびＭ₅₃を補正するために第４のひとみ平面Ｐ₄の近傍に設ける。

Ｋ₅₁からＫ_52'の補正レンズは、非球面化のために用いる少なくとも１つの表面を有するレンズであり、かつ／またはその位置を移動させることができ、かつ／または変形可能なレンズである。
図６に、参照符号６０で全体を示すさらなる投影対物系を示す。この投影対物系の設計原理の説明は、上記特許文献１を参照されたい。本投影対物系６０は、図１の投影対物系１０の設計の変形である。同様に、本投影対物系６０は第１の屈折光学系部分を有し、これは第１のひとみ平面Ｐ₁を介して第１の中間像Ｆ₂の上に対象面を画像化する。さらに、この投影対物系６０は第２のひとみ平面Ｐ₂を介して第２の中間像Ｆ₃の上に第１中間像Ｆ₂を画像化する第２のカタディオプトリック部分を有し、第２のひとみ平面Ｐ₂の上流の第１のフィールド近接ミラーＭ₇₁およびひとみ近接ミラーＭ₇₂を有する。最後に、この投影対物系６０は、第３のひとみ平面Ｐ₃を介して画像Ｗ（Ｆ₄）の上に第２の中間像Ｆ₃を画像化する第３のカタディオプトリック部分を有し、かつ第３のひとみ平面Ｐ₃の上流に第２のフィールド近接ミラーＭ₇₃を含んでいる。ミラーＭ₇₁およびＭ₇₃は、ミラーＭ₃₁およびＭ₃₃と同様の折り返しミラーであり、ミラーＭ₇₂は凹面鏡である。

補正レンズＫ₇₁を、第１のミラーＭ₇₁および第３のミラーＭ₇₃の補正のために第１のひとみ平面Ｐ₁の上流に設ける。さらに、または代替として、ミラーＭ₇₁およびミラーＭ₇₃の補正のために、第２のフィールド平面Ｆ₃（第２の中間像）の下流で、かつ第３のひとみ平面Ｐ₃の上流に、フィールド近接補正レンズＫ_71'を設ける。ミラーＭ₇₂を補正するために、ひとみ近接状態レンズＫ₇₂を、第１のひとみ平面Ｐ₁の近傍に設け、かつ／または、ひとみ近接レンズＫ_72'を、第２のひとみ平面Ｐ₂の近傍に設け、かつ／または、ひとみ近接レンズＫ_72''を、第３のひとみ平面Ｐ₃の近傍に設ける。

Ｋ₇₁ないしＫ_72''の補正レンズは、非球面化に用いる少なくとも１つの表面を有するレンズであり、かつ／またはその位置が変更され、かつ／または変形可能なレンズである。
最後に、図７に、参照符号７０で全体を示す投影対物系を示すが、この設計原理に関連しては、上記特許文献４中に、より詳細に記述してある。この点について上記文献を参照する。

投影対物系７０は、第１のひとみ平面Ｐ₁を介して第１の中間像Ｆ₂の上に対象面Ｒを画像化するＬ₁₁からＭ₄₂までの構成部品を有する第１のカタディオプトリック部分、および少なくとも１つのひとみ近接ミラーＭ₄₁、および第１のひとみ平面Ｐ₁の下流の少なくとも１つのフィールド近接ミラーＭ₄₂を有する。さらに、投影対物系７０は、第２のひとみ平面Ｐ₂を介して画像（フィールド３）上へ中間像Ｆ₂を画像化する第２の屈折光学系部分を有する。

ひとみ近接補正レンズＫ₄₁（＝Ｌ₁₃）は、ミラーＭ₄₁を補正するために、第１のひとみ平面Ｐ₁の近傍に設ける。さらに代替または追加として、ひとみ近接補正レンズＫ_41'を、ミラーＭ₄₁を補正するために、第２のひとみ平面Ｐ₂の近傍に設ける。
フィールド近接補正レンズＫ₄₂（＝Ｌ₁₂）は、ミラーＭ₄₂の補正のために、第１のひとみ平面Ｐ₁の下流で、かつ中間像Ｆ₂の上流に設ける。

補正レンズＫ₄₁、Ｋ_41'およびＫ₄₂は、非球面化に用いる少なくとも１つの表面を有するレンズであり、かつ／またはその位置が変更され、かつ／または変形可能なレンズである。

第１の例示的な実施形態によるカタディオプトリック投影対物系を示す図である。第２の例示的な実施形態によるカタディオプトリック投影対物系を示す図である。第３の例示的な実施形態によるカタディオプトリック投影対物系を示す図である。第４の例示的な実施形態によるカタディオプトリック投影対物系を示す図である。第５の例示的な実施形態によるカタディオプトリック投影対物系を示す図である。第６の例示的な実施形態によるカタディオプトリック投影対物系を示す図である。第７の例示的な実施形態によるカタディオプトリック投影対物系を示す図である。

Claims

リソグラフィ投影露光機の投影対物系の少なくとも１つの画像欠陥を補正する方法であって、
前記投影対物系が、複数のレンズおよび少なくとも１つのミラーから構成される光学配置構造を含み、
欠陥を有する可能性があり、したがって前記少なくとも１つの画像欠陥の原因となる光学的作用表面を、前記少なくとも１つのミラーが有し、
前記少なくとも１つのミラーの前記光学的作用表面における周辺光線高さｈ_MＲに対する主光線高さｈ_MＨの比ＶＭを少なくとも近似的に決定するステップと、
前記レンズのレンズ表面のうち、周辺光線高さｈ _L Ｒに対する主光線高さｈ _L Ｈの比であるＶＬの大きさが前記比ＶＭに少なくとも最も近い少なくとも１つの光学的作用レンズ表面を近似的に決定するステップと、
前記少なくとも1つの決定したレンズ表面を、前記画像欠陥の補正のために選択するステップとを含む方法。
前記比ＶＬが、前記少なくとも１つの選択されたレンズ表面の前記比ＶＭと同じ符号を有する請求項１に記載の方法。
前記少なくとも１つのミラーが、フィールド平面の近傍に配置されている請求項２に記載の方法。
前記光学配置構造が、前記投影対物系のひとみ平面の近傍に配置されている少なくとも１つのミラーを有し、前記投影対物系のひとみ平面の近傍に配置されている少なくとも１つのレンズ表面が、前記補正用に選択される請求項１ないし３に記載の方法。
前記光学配置構造が、前記投影対物系の少なくとも１つのフィールド平面の近傍に配置されている少なくとも２つのミラーを有し、そこにおいて比ＶＭ₁とＶＭ₂とが異なる符号を有し、かつ前記投影対物系の少なくとも１つのフィールド平面の近傍に配置されており、かつそこにおいて比ＶＬ₁とＶＬ₂とが異なる符号を有する少なくとも２つのレンズ表面が、前記補正用に選択される請求項１ないし４に記載の方法。
前記光学配置構造が、前記投影対物系の少なくとも１つのフィールド平面の近傍に配置されている少なくとも２つのミラーを有し、そこにおいて比ＶＭ₁とＶＭ₂とが同じ符号を有し、かつ前記投影対物系のフィールド平面の近傍に配置されており、そこにおいて比ＶＬが比ＶＭ₁およびＶＭ₂と同じ符号を有する少なくとも１つのレンズ表面が、前記補正用に選択される請求項１ないし５に記載の方法。
前記比ＶＬの前記比ＶＭからの偏差が、２０％未満、好ましくは１５％未満、好ましくは１０％未満である請求項１から６のいずれかに記載の方法。
前記少なくとも１つの選択されたレンズ表面に対して、前記少なくとも１つの画像欠陥を補正するための非球面化を行う請求項１ないし７のいずれかに記載の方法。
少なくとも１つの選択されたレンズ表面を有する前記少なくとも１枚のレンズにアクチュエーターを割り当て、このアクチュエーターによる前記少なくとも１枚のレンズの位置の調節および／または変形によって画像欠陥を補正する請求項１ないし８のいずれかに記載の方法。
リソグラフィ投影露光機の投影対物系であって、
複数のレンズおよび少なくとも１つのミラーから構成される光学配置構造を含み、
前記光学配置構造の少なくとも１つの画像欠陥を引き起こす可能性のある光学的作用表面を、前記少なくとも１つのミラーが有し、
前記画像欠陥の補正のために前記レンズのレンズ表面のうち、周辺光線高さｈ _R Ｌに対する主光線高さＬ _L Ｈの比ＶＬの大きさが、前記少なくとも１つのミラーの前記光学的作用表面における周辺光線高さｈ _M Ｒに対する主光線高さｈ _M Ｈの比ＶＭに少なくとも最も近い少なくとも１つの光学的作用レンズ表面が選択されている、
リソグラフィ投影露光機の投影対物系。
前記比ＶＬが、前記少なくとも１つの選択されたレンズ表面において、前記比ＶＭと同じ符号を有する請求項１０に記載の投影対物系。
前記光学配置構造が、前記投影対物系のひとみ平面の近傍に配置されている少なくとも１つのミラーを有し、かつ前記投影対物系のひとみ平面の近傍に配置されている少なくとも１つのレンズ表面が補正用に選択されている請求項１０または１１に記載の投影対物系。
前記光学配置構造が、前記投影対物系の少なくとも１つのフィールド平面の近傍に配置されている少なくとも２つのミラーを有し、そこにおいて比ＶＭ₁とＶＭ₂とが異なる符号を有し、かつ前記投影対物系の少なくとも１つのフィールド平面の近傍に配置されており、そこにおいて比ＶＬ₁とＶＬ₂とが異なる符号を有する少なくとも２つのレンズ表面が補正用に選択されている、請求項１０ないし１２のいずれかに記載の投影対物系。
前記光学配置構造が、投影対物系の少なくとも１つのフィールド平面の近傍に配置されている少なくとも２つのミラーを有し、そこにおいて比ＶＭ₁とＶＭ₂とが同じ符号を有し、前記投影対物系のフィールド平面の近傍に配置されており、そこにおいて前記比ＶＬが、比ＶＭ₁およびＶＭ₂と同じ符号を有している少なくとも１つのレンズ表面が補正用に選択されている請求項１０ないし１３のいずれかに記載の投影対物系。
前記比ＶＬの前記比ＶＭからの偏差が、２０％未満、好ましくは１５％未満、好ましくは１０％未満である請求項１０ないし１４のいずれかに記載の投影対物系。
前記少なくとも１つの選択されたレンズ表面が非球面化されている請求項１０ないし１５のいずれかに記載の投影対物系。
前記少なくとも１つの選択されたレンズ表面を有する前記少なくとも１つのレンズに、位置の調節および／またはレンズの変形のためのアクチュエーターが割り当てられている請求項１０ないし１６のいずれかに記載の投影対物系。
請求項１０ないし１７のいずれかに記載の投影対物系であって、
光学的作用を有する以下のサブアセンブリーである、
第１のひとみ平面を介して第１の中間像上へ対象面を画像化する第１の屈折光学系部分と、
第２のひとみ平面を介して第２の中間像上へ前記第１中間像を画像化する第２の反射光学系部分であって、それぞれ前記第２のひとみ平面の上流および下流に、第１および第２のそれぞれのフィールドに近接した凹面鏡（Ｍ₁₁およびＭ₁₂）を含む第２の反射光学系部分と、
第３のひとみ平面を介して前記像平面上へ前記第２の中間像を画像化する第３の屈折光学系部分とを、光路上、この順序で含み、
前記第１の凹面鏡（Ｍ₁₁）の補正のために設けられたフィールド近接補正レンズ（Ｋ₁₁）が、第１のひとみ平面の上流に配置されており、かつ／または、
前記第１凹面鏡（Ｍ₁₁）の補正のために設けられたフィールド近接補正レンズ（Ｋ_11'）が、前記第２の中間像の下流で、かつ前記第３のひとみ平面の上流に配置されており、かつ、
前記第２の凹面鏡（Ｍ₁₂）の補正のために設けられたフィールド近接補正レンズ（Ｋ₁₂）が、前記第1のひとみ平面の下流で、かつ前記第１の中間像の上流に配置されており、かつ／または、
前記第２の凹面鏡（Ｍ₁₂）の補正のために設けられたフィールド近接補正レンズ（Ｋ_12'）が、前記第３のひとみ平面の下流に配置されている投影対物系。
請求項１０ないし１７のいずれかに記載の投影対物系であって、
光学的作用を有する以下のサブアセンブリーである、
第１のひとみ平面を介して中間像上へ対象面を画像化する第１のカタディオプトリック部分であって、少なくとも１つの第１のミラー（Ｍ₂₂）がひとみに近接している少なくとも２つの偶数のミラー（Ｍ₂₁ないしＭ₂₄）を含んでいる第１のカタディオプトリック部分と、
第２のひとみ平面を介して前記画像上へ前記中間像を画像化し、第２のフィールド近接ミラー（Ｍ₂₅）を含む第２のカタディオプトリック部分とを、光路上、この順序で含み、
前記第１のミラー（Ｍ₂₂）を補正するために設けられたひとみ近接補正レンズ（Ｋ₂₂）が、前記第１のひとみ平面の近傍に設けられており、かつ／または、
前記第１のミラー（Ｍ₂₂）の補正のために設けられたひとみ近接補正レンズ（Ｋ_22'）が、前記第２のひとみ平面の近傍に設けられており、かつ、
前記第２のミラー（Ｍ₂₅）の補正のために設けられたフィールド近接補正レンズ（Ｋ₂₅）が、前記第１のひとみ平面の上流に設けられている投影対物系。
請求項１０ないし１７のいずれかに記載の投影対物系であって、
光学的作用を有する以下のサブアセンブリーである、
第１のひとみ平面を介して第１の中間像上へ対象面を画像化する第１のカタディオプトリック部分であって、前記第１のひとみ平面の下流に第１のフィールド近接ミラー（Ｍ₃₁）を含んでいる第１のカタディオプトリック部分と、
第２のひとみ平面を介して第２の中間像上へ前記第１の中間像を画像化する第２のカタディオプトリック部分であって、第２のひとみ近接ミラー（Ｍ₃₂）を含んでいる第２のカタディオプトリック部分と、
第３のひとみ平面を介して前記画像上へ前記第２の中間像を画像化する第３のカタディオプトリック部分であって、前記第３のひとみ平面の上流に第３のフィールド近接ミラー（Ｍ₃₃）を含んでいる第３のカタディオプトリック部分とを、光路上、この順序で含み、
前記第１のミラー（Ｍ₃₁）の補正のために設けられたフィールド近接補正レンズ（Ｋ₃₁）が、前記第１のひとみ平面の下流で、かつ前記第１中間像の上流に設けられており、かつ／または、
前記第１のミラー（Ｍ₃₁）の補正のために設けられたフィールド近接補正レンズ（Ｋ_31'）が、前記第３のひとみ平面の下流に設けられており、かつ、
前記第３のミラー（Ｍ₃₃）の補正のために設けられたフィールド近接補正レンズ（Ｋ₃₂）が、前記第１のひとみ平面の上流に設けられており、かつ／または、
前記第３のミラー（Ｍ₃₃）の補正のために設けられたフィールド近接補正レンズ（Ｋ_32'）が、前記第２の中間像の下流で、かつ前記第３のひとみ平面の上流に設けられており、かつ、
前記第２のミラー（Ｍ₃₂）の補正のために設けられたひとみ近接補正レンズ（Ｋ₃₃）が、前記第１のひとみ平面の近傍に設けられており、かつ／または、
前記第２のミラー（Ｍ₃₂）の補正のために設けられたひとみ近接補正レンズ（Ｋ_33'）が、前記第２のひとみ平面の近傍に設けられており、かつ／または、
前記第２のミラー（Ｍ₃₂）の補正のために設けられたひとみ近接補正レンズ（Ｋ_33''）が、前記第３のひとみ平面の近傍に設けられている投影対物系。
請求項１０ないし１７のいずれかに記載の投影対物系であって、
光学的作用を有する以下のサブアセンブリーである、
第１のひとみ平面を介して第１の中間像上へ対象面を画像化する第１のカタディオプトリック部分であって、第１のひとみ近接ミラー（Ｍ₄₁）および第２のフィールド近接ミラー（Ｍ₄₂）を含み、後者が、前記第１のひとみ平面の下流に配置されている第１のカタディオプトリック部分と、
第２のひとみ平面を介して前記画像上へ前記中間像を画像化する第２の屈折光学系部分とを、光路上、この順序で含み、
前記第１のミラー（Ｍ₄₁）の補正のために設けられたひとみ近接補正レンズ（Ｋ₄₁）が、前記第１のひとみ平面の近傍に設けられており、かつ／または、
前記第１のミラー（Ｍ₄₁）の補正のために設けられたひとみ近接補正レンズ（Ｋ_41'）が、前記第２のひとみ平面の近傍に設けられており、かつ、
前記第２のミラー（Ｍ₄₂）の補正のために設けられたフィールド近接補正レンズ（Ｋ₄₂）が、前記第１のひとみ平面の下流で、かつ前記中間像の上流に設けられている投影対物系。
請求項１０ないし１７のいずれかに記載の投影対物系であって、
光学的作用を有する以下のサブアセンブリーである、
第１のひとみ平面を介して第１の中間像上へ対象面を画像化する第１の屈折光学系部分と、
第２のひとみ平面を介して第２の中間像上へ前記第１の中間像を画像化する第２のカタディオプトリック部分であって、前記第２のひとみ平面の上流の第１のフィールド近接ミラー（Ｍ₅₁）、および第２のひとみ近接ミラー（Ｍ₅₂）を含んでいる第２のカタディオプトリック部分と、
第３のひとみ平面を介して第３の中間像上へ前記第２の中間像を画像化する第３のカタディオプトリック部分であって、第３のひとみ近接ミラー（Ｍ₅₃）を含んでいる第３のカタディオプトリック部分と、
第４のひとみ平面を介して前記画像上へ前記第３の中間像を画像化する第４のカタディオプトリック部分であって、前記第４のひとみ平面の上流に第４のフィールド近接ミラー（Ｍ₅₄）を含むカタディオプトリック部分とを、光路上、この順序で含み、
前記第１および第４のミラー（Ｍ₅₁、Ｍ₅₄）の補正のために設けられたフィールド近接補正レンズ（Ｋ₅₁）が、前記第１のひとみ平面の上流に設けられており、かつ／または、
前記第１および第４のミラー（Ｍ₅₁、Ｍ₅₄）の補正のために設けられたフィールド近接補正レンズ（Ｋ₅₁）が、前記第１中間像の下流で、かつ前記第２のひとみ平面の上流に設けられており、かつ／または、
前記第１および第４のミラー（Ｍ₅₁、Ｍ₅₄）の補正のために設けられたフィールド近接補正レンズ（Ｋ_51''）が、前記第２の中間像の下流で、かつ前記第３のひとみ平面の上流に設けられており、かつ、
前記第２および第３のミラー（Ｍ₅₂、Ｍ₅₃）の補正のために設けられたひとみ近接補正レンズ（Ｋ₅₂）が、前記第１のひとみ平面の近傍に設けられており、かつ／または、
前記第２および第３のミラー（Ｍ₅₂、Ｍ₅₃）の補正のために設けられたひとみ近接補正レンズ（Ｋ_52'）が、前記第２のひとみ平面の近傍に設けられており、かつ／または、
前記第２および第３のミラー（Ｍ₅₂、Ｍ₅₃）の補正のために設けられたひとみ近接補正レンズ（Ｋ_52''）が、前記第３のひとみ平面の近傍に設けられており、かつ／または、
前記第２および第３のミラー（Ｍ₅₂、Ｍ₅₃）の補正のために設けられたひとみ近接補正レンズ（Ｋ_52'''）が、前記第４のひとみ平面の近傍に設けられている投影対物系。
請求項１０ないし１７のいずれかに記載の投影対物系であって、
光学的作用を有する以下のサブアセンブリーである、
第１のひとみ平面を介して第１の中間像上へ対象面を画像化する第１のカタディオプトリック部分であって、第１のひとみ近接ミラー（Ｍ₆₁）、および少なくとも１つの第２のフィールド近接ミラー（Ｍ₆₃）を含んでおり、後者が、前記第１のひとみ平面の下流に配置されているカタディオプトリック部分と、
第２のひとみ平面を介して第２の中間像上へ前記第１の中間像を画像化する第２の反射光学系部分であって、前記第２のひとみ平面の上流の第３のフィールド近接ミラー（Ｍ₆₄）、および第４のひとみ近接ミラー（Ｍ₆₅）を含んでいる第２の反射光学系部分と、
第３のひとみ平面を介して前記画像上へ前記第２の中間像を画像化する第３の屈折光学系部分とを、光路上、この順序で含み、
前記第２のミラー（Ｍ₆₃）の補正のために設けられたフィールド近接補正レンズ（Ｋ₆₃）が、前記第３のひとみ平面の下流に配置されており、かつ、
前記第３のミラー（Ｍ₆₄）の補正のために設けられたフィールド近接補正レンズ（Ｋ₆₄）が、前記第１のひとみ平面の上流に設けられており、かつ／または、
前記第３のミラー（Ｍ₆₄）の補正のために設けられたフィールド近接補正レンズ（Ｋ_64'）が、前記第２の中間像の下流で、かつ前記第３のひとみ平面の上流に設けられており、かつ、
前記ミラー（Ｍ₆₁、Ｍ₆₅）の補正のために設けられたひとみ近接補正レンズ（Ｋ₆₁）が、前記第１のひとみ平面の近傍に設けられており、かつ／または、
前記ミラー（Ｍ₆₁、Ｍ₆₅）の補正のために設けられたひとみ近接補正レンズ（Ｋ_61'）が、前記第３のひとみ平面の近傍に設けられている投影対物系。
請求項１０ないし１７のいずれかに記載の投影対物系であって、
光学的作用を有する以下のサブアセンブリーである、
第１のひとみ平面を介して第１の中間像上へ対象面を画像化する第１の屈折光学系部分と、
第２のひとみ平面を介して第２の中間像上へ前記第１の中間像を画像化する第２のカタディオプトリック部分であって、前記第２のひとみ平面の上流の第１のフィールド近接ミラー（Ｍ₇₁）、およびひとみ近接ミラー（Ｍ₇₂）を含んでいる第２のカタディオプトリック部分と、
第３のひとみ平面を介して前記画像上へ前記第２の中間像を画像化する第３のカタディオプトリック部分であって、前記第３のひとみ平面の上流に第２のフィールド近接ミラー（Ｍ₇₃）を含む第３のカタディオプトリック部分とを、光路上、この順序で含み、
前記第１および第３のミラー（Ｍ₇₁、Ｍ₇₃）の補正のために設けられたフィールド近接補正レンズ（Ｋ₇₁）が、前記第１のひとみ平面の上流に設けられており、かつ／または、
前記第１および第３のミラー（Ｋ₇₁、Ｍ₇₃）の補正のために設けられたフィールド近接補正レンズ（Ｋ_71'）が、前記第２の中間像の下流で、かつ前記第３のひとみ平面の上流に設けられており、かつ、
前記第２のミラー（Ｍ₇₂）の補正のために設けられたひとみ近接補正レンズ（Ｋ₇₂）が、前記第１のひとみ平面の近傍に設けられており、かつ／または、
前記第２のミラー（Ｍ₇₂）の補正のために設けられたひとみ近接補正レンズ（Ｋ_72'）が、前記第２のひとみ平面の近傍に設けられており、かつ／または、
前記第２のミラー（Ｍ₇₂）の補正のために設けられたひとみ近接補正レンズ（Ｋ_72''）が、前記第３のひとみ平面の近傍に設けられている投影対物系。