JPH11149029A - レンズ支持装置、支持方法および投影露光装置 - Google Patents
レンズ支持装置、支持方法および投影露光装置Info
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- JPH11149029A JPH11149029A JP9332324A JP33232497A JPH11149029A JP H11149029 A JPH11149029 A JP H11149029A JP 9332324 A JP9332324 A JP 9332324A JP 33232497 A JP33232497 A JP 33232497A JP H11149029 A JPH11149029 A JP H11149029A
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 大口径のレンズでも均等に支持することがで
き、レンズの自重による変形がほとんどなく、高性能な
レンズもその性能を劣化させることなく支持することが
できるレンズ支持装置等を提供すること。 【解決手段】 円筒部材の内面の円周方向に沿って３ヶ
所にほぼ等間隔で第１の支持部を設け、該第１の支持部
でレンズ部材の周縁部を支持するレンズ支持装置におい
て、前記第１の支持部に支持されたレンズ部材の周縁部
を重力に抗して押し上げつつ支持する第２の支持部を、
前記第１の支持部の間に設けている。
き、レンズの自重による変形がほとんどなく、高性能な
レンズもその性能を劣化させることなく支持することが
できるレンズ支持装置等を提供すること。 【解決手段】 円筒部材の内面の円周方向に沿って３ヶ
所にほぼ等間隔で第１の支持部を設け、該第１の支持部
でレンズ部材の周縁部を支持するレンズ支持装置におい
て、前記第１の支持部に支持されたレンズ部材の周縁部
を重力に抗して押し上げつつ支持する第２の支持部を、
前記第１の支持部の間に設けている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レンズを支持する
レンズ支持装置および支持方法、特に半導体露光装置に
使用される投影レンズ鏡筒のレンズ支持装置、支持方法
さらに投影露光装置に関する。
レンズ支持装置および支持方法、特に半導体露光装置に
使用される投影レンズ鏡筒のレンズ支持装置、支持方法
さらに投影露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のレンズ支持装置、特に半導体露光
装置用の投影レンズ鏡筒のレンズ支持装置では、単純に
レンズの全周で支持すること、あるいはレンズを支持し
た際のレンズ変形を少なくするためにレンズの円周方向
に等間隔な３点で支持すること、などが行われている。
装置用の投影レンズ鏡筒のレンズ支持装置では、単純に
レンズの全周で支持すること、あるいはレンズを支持し
た際のレンズ変形を少なくするためにレンズの円周方向
に等間隔な３点で支持すること、などが行われている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、レンズの全周
で支持する一周支持の場合、支持部材のレンズと接触す
る面（座面）のうねりの影響のため、レンズと接触する
のは事実上２点となることが多い。このため、レンズの
自重変形が大きくなりレンズ性能が劣化するので、高精
度を要する光学系では好ましくないという問題がある。
で支持する一周支持の場合、支持部材のレンズと接触す
る面（座面）のうねりの影響のため、レンズと接触する
のは事実上２点となることが多い。このため、レンズの
自重変形が大きくなりレンズ性能が劣化するので、高精
度を要する光学系では好ましくないという問題がある。
【０００４】また、レンズの円周方向に等間隔な３点で
支持する（３点支持）の場合、径の大きいレンズでは、
支持点の間でのレンズ自重による変形が大きくなってし
まう。近年、高性能投影レンズは大口径化しているので
レンズ容積も大きくなり、３点支持でもレンズ自重によ
る変形が発生し問題である。
支持する（３点支持）の場合、径の大きいレンズでは、
支持点の間でのレンズ自重による変形が大きくなってし
まう。近年、高性能投影レンズは大口径化しているので
レンズ容積も大きくなり、３点支持でもレンズ自重によ
る変形が発生し問題である。
【０００５】さらに、レンズの支持点を増やして４点支
持以上にすると、各支持点に作用する荷重が不均一とな
り、レンズ性能上好ましくないとう問題がある。
持以上にすると、各支持点に作用する荷重が不均一とな
り、レンズ性能上好ましくないとう問題がある。
【０００６】本発明は、かかる問題点に鑑みてなされた
ものであり、大口径のレンズでも均等に支持することが
でき、レンズの自重による変形がほとんどなく、高性能
なレンズもその性能を劣化させることなく支持すること
ができるレンズ支持装置、支持方法および投影露光装置
を提供することを目的とする。
ものであり、大口径のレンズでも均等に支持することが
でき、レンズの自重による変形がほとんどなく、高性能
なレンズもその性能を劣化させることなく支持すること
ができるレンズ支持装置、支持方法および投影露光装置
を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決する為の手段】上記目的を達成するために
本発明のレンズ支持装置は、円筒部材の内面の円周方向
に沿って３ヶ所にほぼ等間隔で第１の支持部を設け、該
第１の支持部でレンズ部材の周縁部を支持するレンズ支
持装置において、前記第１の支持部に支持されたレンズ
部材の周縁部を重力に抗して押し上げつつ支持する第２
の支持部を、前記第１の支持部の間に設けている。ここ
で、好ましくは前記第１の支持部は、前記円筒部材と一
体に設けられていることが望ましい。
本発明のレンズ支持装置は、円筒部材の内面の円周方向
に沿って３ヶ所にほぼ等間隔で第１の支持部を設け、該
第１の支持部でレンズ部材の周縁部を支持するレンズ支
持装置において、前記第１の支持部に支持されたレンズ
部材の周縁部を重力に抗して押し上げつつ支持する第２
の支持部を、前記第１の支持部の間に設けている。ここ
で、好ましくは前記第１の支持部は、前記円筒部材と一
体に設けられていることが望ましい。
【０００８】かかる構成の本発明のレンズ支持装置で
は、レンズ等を該装置に載置し、その後、接着剤やネジ
でレンズを固定する。これにより、レンズは円筒と一体
に形成されている第１の支持部により高剛性で堅固に固
定される。同時に、第２の支持部は前記第１の支持部に
支持されたレンズ部材の周縁部を重力に抗して押し上げ
つつ支持している。従って、レンズの縁の自重変形を抑
制し、結果として、レンズ全体の自重変形を大きく低減
することが出来る。
は、レンズ等を該装置に載置し、その後、接着剤やネジ
でレンズを固定する。これにより、レンズは円筒と一体
に形成されている第１の支持部により高剛性で堅固に固
定される。同時に、第２の支持部は前記第１の支持部に
支持されたレンズ部材の周縁部を重力に抗して押し上げ
つつ支持している。従って、レンズの縁の自重変形を抑
制し、結果として、レンズ全体の自重変形を大きく低減
することが出来る。
【０００９】また、本発明のレンズ支持装置では、前記
第２の支持部は、前記円筒部材の内面の円周方向に沿っ
て３ヶ所にほぼ等間隔で設けられ、前記第１の支持部お
よび前記第２の支持部は、前記円筒部材の内面の円周方
向に沿って互いに等間隔に設けられていることが好まし
い。かかる構成により第１の支持部による堅固な３点支
持に加え、第２の支持部によっても３点支持を行うこと
ができる。
第２の支持部は、前記円筒部材の内面の円周方向に沿っ
て３ヶ所にほぼ等間隔で設けられ、前記第１の支持部お
よび前記第２の支持部は、前記円筒部材の内面の円周方
向に沿って互いに等間隔に設けられていることが好まし
い。かかる構成により第１の支持部による堅固な３点支
持に加え、第２の支持部によっても３点支持を行うこと
ができる。
【００１０】また、本発明のレンズ支持装置では、前記
第２の支持部は弾性部材を含むこと、または前記第１の
支持部の間に設けられた弾性力を有する支え部材上に設
けられていることが好ましい。これにより第２の支持部
は、かかる弾性力によりレンズ部材の周縁部を重力に抗
して押し上げつつ支持することができる。
第２の支持部は弾性部材を含むこと、または前記第１の
支持部の間に設けられた弾性力を有する支え部材上に設
けられていることが好ましい。これにより第２の支持部
は、かかる弾性力によりレンズ部材の周縁部を重力に抗
して押し上げつつ支持することができる。
【００１１】また、本発明のレンズ支持装置では、前記
第２の支持部のレンズ支持点は、前記レンズ部材が支持
されていない状態で、前記第１の支持部のレンズ支持点
よりも高く形成されることが好ましい。かかる第１およ
び第２の支持部のレンズ支持点の高さの相違により、第
２の支持部はレンズ周縁部を重力に抗して押し上げて支
持することができる。
第２の支持部のレンズ支持点は、前記レンズ部材が支持
されていない状態で、前記第１の支持部のレンズ支持点
よりも高く形成されることが好ましい。かかる第１およ
び第２の支持部のレンズ支持点の高さの相違により、第
２の支持部はレンズ周縁部を重力に抗して押し上げて支
持することができる。
【００１２】また、本発明のレンズ支持方法では、円筒
部材の内面の円周方向に沿ってほぼ等間隔で３ヶ所に設
けられた第１の支持部にレンズ部材の周縁部を支持する
レンズ支持方法において、前記第１の支持部の間で、前
記第１の支持部に支持されたレンズ部材の周縁部を付勢
することを特徴とする。かかるレンズ支持方法により、
レンズは第１の支持部により固定されると同時に、その
周縁部を付勢されることとなる。従って、レンズの縁の
自重変形を抑制し、結果として、レンズ全体の自重変形
を大きく低減することが出来る。
部材の内面の円周方向に沿ってほぼ等間隔で３ヶ所に設
けられた第１の支持部にレンズ部材の周縁部を支持する
レンズ支持方法において、前記第１の支持部の間で、前
記第１の支持部に支持されたレンズ部材の周縁部を付勢
することを特徴とする。かかるレンズ支持方法により、
レンズは第１の支持部により固定されると同時に、その
周縁部を付勢されることとなる。従って、レンズの縁の
自重変形を抑制し、結果として、レンズ全体の自重変形
を大きく低減することが出来る。
【００１３】また、本発明による投影露光装置では、マ
スクのパターンを基板上に投影するための投影光学系
と、該投影光学系を構成する少なくとも一つのレンズ素
子を支持するためのレンズ支持装置とを有する投影露光
装置において、前記レンズ支持装置は、円筒部材と、該
円筒部材の内面の円周方向に沿ってほぼ等間隔で３ヶ所
に設けられた第１の支持部と、該第１の支持部の間に設
けられ、前記第１の支持部に支持されたレンズの周縁部
を重力に抗して押し上げる第２の支持部とを備えてい
る。かかる構成により、まず、レンズは第１の支持部に
より支持される。同時に、第２の支持部は前記第１の支
持部に支持されたレンズ部材の周縁部を重力に抗して押
し上げつつ支持している。従って、レンズの縁の自重変
形を抑制し、結果として、レンズ全体の自重変形を大き
く低減することが出来る。
スクのパターンを基板上に投影するための投影光学系
と、該投影光学系を構成する少なくとも一つのレンズ素
子を支持するためのレンズ支持装置とを有する投影露光
装置において、前記レンズ支持装置は、円筒部材と、該
円筒部材の内面の円周方向に沿ってほぼ等間隔で３ヶ所
に設けられた第１の支持部と、該第１の支持部の間に設
けられ、前記第１の支持部に支持されたレンズの周縁部
を重力に抗して押し上げる第２の支持部とを備えてい
る。かかる構成により、まず、レンズは第１の支持部に
より支持される。同時に、第２の支持部は前記第１の支
持部に支持されたレンズ部材の周縁部を重力に抗して押
し上げつつ支持している。従って、レンズの縁の自重変
形を抑制し、結果として、レンズ全体の自重変形を大き
く低減することが出来る。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、添付図面に基づいて本発明
の実施の形態について説明する。図１は、本発明の実施
の形態にかかるレンズ支持装置の概略構成を示す図であ
る。なお、図１において、このレンズ支持装置にレンズ
を支持したときのレンズの光軸方向とほぼ平行な方向を
Ｚ方向とする。
の実施の形態について説明する。図１は、本発明の実施
の形態にかかるレンズ支持装置の概略構成を示す図であ
る。なお、図１において、このレンズ支持装置にレンズ
を支持したときのレンズの光軸方向とほぼ平行な方向を
Ｚ方向とする。
【００１５】金属、セラミックス等の円柱材または円筒
材を機械加工して、円筒１および円筒１の内筒面に円周
方向に中心を見込む角度でほぼ６０度の等間隔で３つの
座２および３つの座３を設ける。かかる座２および座３
の配置を図２に示す。図２からも明らかなように、座２
はほぼ１２０度間隔で３つ設けられ、さらに座３は座２
の間に等間隔に設けられている。また、３つの座２の間
にはそれぞれいわゆるステー（支え部）４が生成されて
おり、３つの座３は各々ステー４上に形成されている。
また、図３に示すように座３の高さは、座２の高さに比
較して、レンズ６を支持していない状態で適当な量だけ
高くなるようにする。
材を機械加工して、円筒１および円筒１の内筒面に円周
方向に中心を見込む角度でほぼ６０度の等間隔で３つの
座２および３つの座３を設ける。かかる座２および座３
の配置を図２に示す。図２からも明らかなように、座２
はほぼ１２０度間隔で３つ設けられ、さらに座３は座２
の間に等間隔に設けられている。また、３つの座２の間
にはそれぞれいわゆるステー（支え部）４が生成されて
おり、３つの座３は各々ステー４上に形成されている。
また、図３に示すように座３の高さは、座２の高さに比
較して、レンズ６を支持していない状態で適当な量だけ
高くなるようにする。
【００１６】ステー４は、ワイヤーカットにより座３と
円筒１の間を、円筒１の内筒面に沿って、座３を中心に
円周方向に８０度程度切断することで作製する。ステー
４が円筒１の内面から切り離されているため、ステー４
上に形成された座３は、Ｚ方向に弾力性を有することに
なる。
円筒１の間を、円筒１の内筒面に沿って、座３を中心に
円周方向に８０度程度切断することで作製する。ステー
４が円筒１の内面から切り離されているため、ステー４
上に形成された座３は、Ｚ方向に弾力性を有することに
なる。
【００１７】次に本発明の実施の形態にかかるレンズ支
持装置にレンズを支持させる手順を説明する。まず、レ
ンズ６の縁を座２および座３の上面に接触するように搭
載する。そして、接着剤またはネジでレンズ６を固定す
る。これにより、円筒１に一体に設けられている座２に
より、レンズ６は高剛性で固定される。同時に、ステー
４によりＺ方向に弾性力を有する座３は、座２よりも高
さが高いために、レンズ６の縁を図示Ｚ方向に重力に抗
して押し上げる。このため、レンズ６の縁の自重変形を
抑えることが出来るので、レンズ６全体の自重変形が低
滅することとなる。この結果、自重の重い高性能な大口
径レンズでも、自重変形を生ずることなく、該性能を維
持した状態で支持する事ができる。
持装置にレンズを支持させる手順を説明する。まず、レ
ンズ６の縁を座２および座３の上面に接触するように搭
載する。そして、接着剤またはネジでレンズ６を固定す
る。これにより、円筒１に一体に設けられている座２に
より、レンズ６は高剛性で固定される。同時に、ステー
４によりＺ方向に弾性力を有する座３は、座２よりも高
さが高いために、レンズ６の縁を図示Ｚ方向に重力に抗
して押し上げる。このため、レンズ６の縁の自重変形を
抑えることが出来るので、レンズ６全体の自重変形が低
滅することとなる。この結果、自重の重い高性能な大口
径レンズでも、自重変形を生ずることなく、該性能を維
持した状態で支持する事ができる。
【００１８】また、本発明の実施の形態の変形例とし
て、図４に示すように、座２と座３を同じ高さに形成し
ておいて、レンズ６を搭載する際に、座３とレンズ６の
間に薄板７を挟んで使用してもよい。かかる薄板７を用
いることで、座３の高さを薄板７の厚み分だけ高くした
のと同様の効果を得ることが出来る。
て、図４に示すように、座２と座３を同じ高さに形成し
ておいて、レンズ６を搭載する際に、座３とレンズ６の
間に薄板７を挟んで使用してもよい。かかる薄板７を用
いることで、座３の高さを薄板７の厚み分だけ高くした
のと同様の効果を得ることが出来る。
【００１９】また、ステー４により大きな弾性を持たせ
るために、図５に示すような複数の切り欠き５をステー
４に設けてもよい。かかる切り欠き５により、座３がレ
ンズ６をＺ方向に重力に抗して持ち上げる作用をより大
きくすることが出来るので、よりレンズの自重変形を小
さくすることができる。
るために、図５に示すような複数の切り欠き５をステー
４に設けてもよい。かかる切り欠き５により、座３がレ
ンズ６をＺ方向に重力に抗して持ち上げる作用をより大
きくすることが出来るので、よりレンズの自重変形を小
さくすることができる。
【００２０】また、本発明の実施の形態にかかるレンズ
支持装置を投影露光装置に用いた例を示す。図６は、本
発明の実施の形態にかかるレンズ支持装置を組み込んだ
投影露光装置の構成概略を示す図である。該装置は、レ
チクル１０上に形成された所定パターンをウエハ１２上
に投影露光するものである。図６において、露光用光源
１４から射出された光束は、レチクルステージ１６に保
持されたレチクル１０を照明する。レチクル１０を透過
した光は、投影光学装置２０によって、ウエハステージ
１８上に載置されたウエハ１２に達し、レチクル１０の
パターンが露光領域に投影露光される。ウエハステージ
１８上には、反射ミラー２２が固定され、干渉計２４か
らの光を反射するようになっている。干渉計２４は、反
射ミラー２２から戻った光に基づいて、ウエハステージ
１８、即ちウエハ１２の位置を検出する。ウエハステー
ジ１８には、駆動装置２６が接続され得ており、干渉計
２４によって検出されたウエハ１２の位置に基づいてウ
エハステージ１８を駆動するようになっている。
支持装置を投影露光装置に用いた例を示す。図６は、本
発明の実施の形態にかかるレンズ支持装置を組み込んだ
投影露光装置の構成概略を示す図である。該装置は、レ
チクル１０上に形成された所定パターンをウエハ１２上
に投影露光するものである。図６において、露光用光源
１４から射出された光束は、レチクルステージ１６に保
持されたレチクル１０を照明する。レチクル１０を透過
した光は、投影光学装置２０によって、ウエハステージ
１８上に載置されたウエハ１２に達し、レチクル１０の
パターンが露光領域に投影露光される。ウエハステージ
１８上には、反射ミラー２２が固定され、干渉計２４か
らの光を反射するようになっている。干渉計２４は、反
射ミラー２２から戻った光に基づいて、ウエハステージ
１８、即ちウエハ１２の位置を検出する。ウエハステー
ジ１８には、駆動装置２６が接続され得ており、干渉計
２４によって検出されたウエハ１２の位置に基づいてウ
エハステージ１８を駆動するようになっている。
【００２１】次に、図７は、投影光学装置２０内のレン
ズ支持装置の構成を説明する図である。５枚のレンズ４
２、４４、４６、４８、５０は、それぞれレンズ枠（レ
ンズ支持装置）５２、５４、５６、５８、６０によって
それぞれ鏡筒６２内に保持される。また、これらのレン
ズ枠５２、５４、５６、５８、６０はそれぞれ図１に示
す構造を有しており、鏡筒６２内に積み重ねられ、押え
環６４によって鏡筒６２内に固定されている。
ズ支持装置の構成を説明する図である。５枚のレンズ４
２、４４、４６、４８、５０は、それぞれレンズ枠（レ
ンズ支持装置）５２、５４、５６、５８、６０によって
それぞれ鏡筒６２内に保持される。また、これらのレン
ズ枠５２、５４、５６、５８、６０はそれぞれ図１に示
す構造を有しており、鏡筒６２内に積み重ねられ、押え
環６４によって鏡筒６２内に固定されている。
【００２２】かかる投影露光装置では、レンズ支持装置
を用いて各レンズごとに支持しているので、レンズ枚数
に関わりなく各レンズの自重変形の影響なく、高精度な
投影露光をすることができる。
を用いて各レンズごとに支持しているので、レンズ枚数
に関わりなく各レンズの自重変形の影響なく、高精度な
投影露光をすることができる。
【００２３】
【発明の効果】以上説明したように本発明のレンズ支持
装置、支持方法および投影露光装置ではレンズの自重変
形および支持変形を低滅することができる。したがっ
て、高性能（高精度）な半導体露光装置用の投影レンズ
等を支持した場合でも、自重変形等による性能劣化がな
く、レンズ性能を充分発揮させることができる。
装置、支持方法および投影露光装置ではレンズの自重変
形および支持変形を低滅することができる。したがっ
て、高性能（高精度）な半導体露光装置用の投影レンズ
等を支持した場合でも、自重変形等による性能劣化がな
く、レンズ性能を充分発揮させることができる。
【図１】本発明の実施の形態にかかるレンズ支持装置の
外観構成を示す斜視図である。
外観構成を示す斜視図である。
【図２】本発明の実施の形態にかかるレンズ支持装置を
上方から見た図である。
上方から見た図である。
【図３】本発明の実施の形態にかかるレンズ支持装置の
Ａ−Ａ断面図である。
Ａ−Ａ断面図である。
【図４】本発明の実施の形態にかかるレンズ支持装置の
変形例である。
変形例である。
【図５】本発明の実施の形態にかかるレンズ支持装置の
他の変形例である。
他の変形例である。
【図６】本発明の実施の形態にかかるレンズ支持装置を
用いた投影露光装置の概略構成を示す図である。
用いた投影露光装置の概略構成を示す図である。
【図７】本発明の実施の形態にかかるレンズ支持装置を
用いた投影露光装置におけるレンズ支持構成の詳細を示
す図である。
用いた投影露光装置におけるレンズ支持構成の詳細を示
す図である。
１ 円筒 ２、３ 座 ４ ステー ５ 切り欠き ６ レンズ ７ 薄板
Claims (8)
- 【請求項１】 円筒部材の内面の円周方向に沿って３ヶ
所にほぼ等間隔で第１の支持部を設け、該第１の支持部
でレンズ部材の周縁部を支持するレンズ支持装置におい
て、 前記第１の支持部に支持されたレンズ部材の周縁部を重
力に抗して押し上げつつ支持する第２の支持部を、前記
第１の支持部の間に設けたことを特徴とするレンズ支持
装置。 - 【請求項２】 前記第１の支持部は、前記円筒部材と一
体に設けられていることを特徴とする請求項１記載のレ
ンズ支持装置。 - 【請求項３】 前記第２の支持部は、前記円筒部材の内
面の円周方向に沿って３ヶ所にほぼ等間隔で設けられ、 前記第１の支持部および前記第２の支持部は、前記円筒
部材の内面の円周方向に沿って互いに等間隔に設けられ
ていることを特徴とする請求項１記載のレンズ支持装
置。 - 【請求項４】 前記第２の支持部は、弾性部材を含むこ
とを特徴とする請求項１記載のレンズ支持装置。 - 【請求項５】 前記第２の支持部は、前記第１の支持部
の間に設けられた弾性力を有する支え部材上に設けられ
ていることを特徴とする請求項１記載のレンズ支持装
置。 - 【請求項６】 前記第２の支持部のレンズ支持点は、前
記レンズ部材が支持されていない状態で、前記第１の支
持部のレンズ支持点よりも高く形成されることを特徴と
する請求項１記載のレンズ支持装置。 - 【請求項７】 円筒部材の内面の円周方向に沿ってほぼ
等間隔で３ヶ所に設けられた第１の支持部にレンズ部材
の周縁部を支持するレンズ支持方法において、 前記第１の支持部の間で、前記第１の支持部に支持され
たレンズ部材の周縁部を付勢することを特徴とするレン
ズ支持方法。 - 【請求項８】 マスクのパターンを基板上に投影するた
めの投影光学系と、該投影光学系を構成する少なくとも
一つのレンズ素子を支持するためのレンズ支持装置とを
有する投影露光装置において、 前記レンズ支持装置は、円筒部材と、該円筒部材の内面
の円周方向に沿ってほぼ等間隔で３ヶ所に設けられた第
１の支持部と、該第１の支持部の間に設けられ、前記第
１の支持部に支持されたレンズの周縁部を重力に抗して
押し上げる第２の支持部とを備えることを特徴とする投
影露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33232497A JP3956454B2 (ja) | 1997-11-18 | 1997-11-18 | レンズ支持装置、支持方法および投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33232497A JP3956454B2 (ja) | 1997-11-18 | 1997-11-18 | レンズ支持装置、支持方法および投影露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6239924B1 (en) | 1999-08-31 | 2001-05-29 | Nikon Corporation | Kinematic lens mounting with distributed support and radial flexure |
| JP2001343576A (ja) * | 2000-03-30 | 2001-12-14 | Canon Inc | 光学要素の支持構造、それを用いた露光装置及び半導体デバイスの製造方法 |
| JP2005066735A (ja) * | 2003-08-22 | 2005-03-17 | Topcon Corp | 軸出器 |
| US7031082B2 (en) | 2003-02-17 | 2006-04-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Retainer, exposure apparatus, and device fabrication method |
| JPWO2006016469A1 (ja) * | 2004-08-10 | 2008-05-01 | 株式会社ニコン | 照明光学装置、露光装置、および露光方法 |
| KR100973005B1 (ko) | 2008-08-04 | 2010-07-30 | 삼성전기주식회사 | 렌즈 모듈 |
| US7907358B2 (en) | 2008-09-04 | 2011-03-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Holding apparatus and exposure apparatus |
| WO2016067836A1 (ja) * | 2014-10-28 | 2016-05-06 | オリンパス株式会社 | レンズ保持枠、レンズ組立体、およびレンズ組立体の組立方法 |
| JP2017003736A (ja) * | 2015-06-09 | 2017-01-05 | オリンパス株式会社 | レンズの固定構造および固定方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57167408U (ja) * | 1981-04-15 | 1982-10-21 | ||
| JPS6070816U (ja) * | 1983-10-20 | 1985-05-18 | 三菱電機株式会社 | レンズの保持機構 |
| JPH04166904A (ja) * | 1990-10-31 | 1992-06-12 | Olympus Optical Co Ltd | レンズ保持鏡筒 |
| JPH06235852A (ja) * | 1993-02-09 | 1994-08-23 | Minolta Camera Co Ltd | レンズ保持装置 |
| JPH0786152A (ja) * | 1993-09-14 | 1995-03-31 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
-
1997
- 1997-11-18 JP JP33232497A patent/JP3956454B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57167408U (ja) * | 1981-04-15 | 1982-10-21 | ||
| JPS6070816U (ja) * | 1983-10-20 | 1985-05-18 | 三菱電機株式会社 | レンズの保持機構 |
| JPH04166904A (ja) * | 1990-10-31 | 1992-06-12 | Olympus Optical Co Ltd | レンズ保持鏡筒 |
| JPH06235852A (ja) * | 1993-02-09 | 1994-08-23 | Minolta Camera Co Ltd | レンズ保持装置 |
| JPH0786152A (ja) * | 1993-09-14 | 1995-03-31 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4622058B2 (ja) * | 1999-08-31 | 2011-02-02 | 株式会社ニコン | 分散支持体および半径方向屈曲部を備えた運動学的レンズ取付機構及びレンズを保持するための構造体の組立方法 |
| US6239924B1 (en) | 1999-08-31 | 2001-05-29 | Nikon Corporation | Kinematic lens mounting with distributed support and radial flexure |
| US7113263B2 (en) | 2000-03-30 | 2006-09-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Supporting structure of optical element, exposure apparatus having the same, and manufacturing method of semiconductor device |
| JP2001343576A (ja) * | 2000-03-30 | 2001-12-14 | Canon Inc | 光学要素の支持構造、それを用いた露光装置及び半導体デバイスの製造方法 |
| US6867848B2 (en) | 2000-03-30 | 2005-03-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Supporting structure of optical element, exposure apparatus having the same, and manufacturing method of semiconductor device |
| US7031082B2 (en) | 2003-02-17 | 2006-04-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Retainer, exposure apparatus, and device fabrication method |
| JP2005066735A (ja) * | 2003-08-22 | 2005-03-17 | Topcon Corp | 軸出器 |
| JPWO2006016469A1 (ja) * | 2004-08-10 | 2008-05-01 | 株式会社ニコン | 照明光学装置、露光装置、および露光方法 |
| KR100973005B1 (ko) | 2008-08-04 | 2010-07-30 | 삼성전기주식회사 | 렌즈 모듈 |
| US7907358B2 (en) | 2008-09-04 | 2011-03-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Holding apparatus and exposure apparatus |
| WO2016067836A1 (ja) * | 2014-10-28 | 2016-05-06 | オリンパス株式会社 | レンズ保持枠、レンズ組立体、およびレンズ組立体の組立方法 |
| JP2016085409A (ja) * | 2014-10-28 | 2016-05-19 | オリンパス株式会社 | レンズ保持枠、レンズ組立体、およびレンズ組立体の組立方法 |
| CN106687845A (zh) * | 2014-10-28 | 2017-05-17 | 奥林巴斯株式会社 | 透镜保持框、透镜组装体以及透镜组装体的组装方法 |
| US20170205637A1 (en) * | 2014-10-28 | 2017-07-20 | Olympus Corporation | Lens holding frame, lens assembly, and method of assembling the same |
| US10261334B2 (en) | 2014-10-28 | 2019-04-16 | Olympus Corporation | Lens holding frame, lens assembly, and method of assembling the same |
| JP2017003736A (ja) * | 2015-06-09 | 2017-01-05 | オリンパス株式会社 | レンズの固定構造および固定方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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