JP4622058B2 - 分散支持体および半径方向屈曲部を備えた運動学的レンズ取付機構及びレンズを保持するための構造体の組立方法 - Google Patents

分散支持体および半径方向屈曲部を備えた運動学的レンズ取付機構及びレンズを保持するための構造体の組立方法 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の技術分野】
本発明は、レンズ取付構造体に関し、特に、重力および温度因子によるレンズの歪み(ディストーション)を最小限にするための、レンズ周囲に準運動学的に分散されたレンズ取付組立体に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
光学レンズシステムの設計者は、多くの用途のための、例えば、半導体装置を製造するための半導体リソグラフィーに用られる、より強力でより正確な、そしてそれゆえにより精巧なシステムを発展させている。これらのレンズシステムは、非常に精密でなければならず、また、システムを組立、保存および搬送する間の、そしてさらに、レンズシステムを動作する間の、温度変化と、個々のレンズおよびレンズ組立体の両方にかかる重力の作用とによる個々のレンズの歪みを最小限にしなければならない。
【0003】
各レンズは、典型的にはレンズセルに取り付けられる。レンズセルは、個々のレンズを均一に支持し、かつ、システムの組立中に生じる機械的な問題と、温度変化により生じることがある機械的な問題とを最小限にするように設計されている。一般に、各レンズは、レンズを環状に支持する独立したレンズセルに取り付けられる。レンズは様々な方法で取り付けられることができ、例えば、クランプ、クリップ、ねじなどの機械的要素を、単独でまたは組み合わせて、あるいは保持リングもしくはエポキシなどの接着剤を用いることにより取り付けられることができる。取り付け要素により生じる応力、重力、そして特に、温度変化によるレンズ及びセルの伸張および収縮により生じる応力および歪みは、光学特性と、それによりレンズシステムの動作とに重大な影響を与えることになる。
【0004】
これらの望ましくない影響は、レンズシステムを形成するために複数のレンズセルを互いに積み重ねて載置することにより増幅される。10〜20の個々のセルを含むことができるレンズセルが、一般にレンズバレル(鏡筒)組立体中で、一体的に組み合わされる。組立体は、レンズの各々を正確に位置合わせおよび位置決めし、かつ軸方向および半径方向の両方において厳密な許容差範囲内で適切な光学的位置合わせを維持しなければならない。レンズを個々にセル内に取り付けて、次いで個々のレンズの光学面への影響を最小限にしつつ、セルをレンズシステムに正確に組み付けることができることが好ましい。
【0005】
先に述べたように、半導体リソグラフィ装置において用いられる個々のレンズおよびレンズ取付構造体に対する応力および歪みを最小限にすることが特に望ましい。かかる装置は、集積回路における極めて小さい特徴寸法の構造体をフォトリソグラフィにより形成するために用いられる。これらの特徴寸法は1ミクロン未満にまで縮小され続けて、現在は、一般に、数分の1ミクロンである。したがって、これらのレンズシステムのレンズにおいては、非常に小さい歪みでさえも、かかる精密な用途における重大な精度/位置合わせの問題をもたらすことになる。
【0006】
レンズをレンズセル内に取り付け次いでレンズバレル組立体に組み込むための構造体の例が、バサイヒ(Bacihi)に付与された米国特許第4,733,945号に開示されている。バサイヒは、レンズをセルに、セル内に形成されたカンチレバータイプの屈曲部の上に配置された3つの受座地点にて接着している。セルおよびレンズは温度変化によって互いに伸張および収縮するため、カンチレバー屈曲部は、曲がるようにされており、それによりレンズが機械的応力により歪曲しない。しかし、ある用途に関しては、バサイヒの構造体は幾つかの欠点を有する。第1に、バサイヒのレンズは、セルにより、セル周上の3つの位置にて載置(マウント)および支持されているため、レンズが重力によりマウント地点間で撓むことがある。撓みの問題は、バサイヒの構造体にさらなる受座を追加することにより解決され得るであろうが、このような受座を追加することにより、それに付随する問題が生じ得る。例えば、さらなる受座を追加することは、光学軸方向においてレンズを過度に拘束することになり得る。また、機械加工が不完全であることより、レンズ受座が同一平面上にないことがあり、これが、また機械的応力およびレンズの歪曲をもたらすことがある。
【0007】
バサイヒの設計が有し得る別の欠点は、カンチレバータイプの屈曲部が、光学軸方向の荷重によるねじり応力を受けることである。これは、レンズ受座の光学軸方向の剛性を減少させ、それにより、屈曲部の固有振動数を減少させる。もし固有振動数が低すぎると、それは、レンズの望ましくない振動と、それによりレンズシステムの光学特性の歪みとを増大させることになり得る。カンチレバー屈曲部もまた非対称の形状を有し、これが、屈曲部が曲がるときにレンズに幾分かの回転トルクを生じさせることになる。
【0008】
幾つかの従来の設計は、機械式受座を用いずに接着剤によりレンズに取り付けられた3つ以上の半径方向屈曲部を用いている。これは、先に論じた、機械加工の許容差がもたらす誤差を実質的に排除するが、これらの設計は、なお、不均等な加熱の影響に敏感であり、また、セルの歪みをレンズに直接伝達する。
【0009】
屈曲構造体に用いられた従来の機械式締め付け設計は、レンズの半径方向の可撓性を抑制する。接着剤が用いられる場合には、ガス抜き、長期間の安定性、硬化中の収縮および配置安定性、硬化時間が長いことによる長い組立時間、ならびに、分解、調整および再組立中の困難性に関する問題が生じることになる。
【0010】
したがって、レンズをレンズの周囲に分散されたレンズ支持体を用いて、セル内に運動学的または準運動学的に取り付け、歪みの量を最小限にし、かつ、レンズ取付構造体による過度の拘束、取り付けられたレンズにおける重力の作用、温度変化により生じる応力を回避することを達成することが望ましい。
【0011】
本発明の第1の態様に従えば、レンズを取り付けるための構造体であってレンズセル部材であって、該部材の周上でレンズを保持することができるレンズセル部材と、レンズセル部材に取り付けられた複数の半径方向屈曲マウントであって、各々が、半径方向屈曲マウントの両端部から延在する1組の屈曲部と、レンズ外周部を載置するために半径方向屈曲マウントに取り付けられた受座とを含み、かつ該1組の屈曲部の端部がレンズセル部材に固定され、半径方向において低い剛性かつ軸方向において高い剛性を有する半径方向屈曲マウントと、隣り合う半径方向屈曲マウントの間に配置された複数のソフトマウントであって、各々が、レンズ外周部に接触してレンズの重量の少なくとも一部を支持する弾性支持部を含む複数のソフトマウントとを含む、レンズ取付構造体が提供される。
【0012】
本発明のレンズ取付構造体は、重力および温度因子によるレンズの歪みを最小限にするための、支持体がレンズ周方向に分散された準運動学的なレンズ取付組立体である。レンズ取付組立体は、レンズをその中に取り付けるためのセルを含む。次いで、複数のセルが互いに組み合わされて、レンズシステムまたはレンズバレル組立体を形成する。各セルは、セル内に形成された半径方向屈曲支持体に取り付けられた受座の組を含む。屈曲部は、温度変化によりレンズおよびセルが異なるように伸張および収縮することを許容し、かつ、レンズ要素にかかる力と、それによるレンズ要素の歪みとを最小限にする。温度変化が均一である間は、レンズの中心はセルに対して移動しない。受座は各半径方向屈曲マウントに取り付けられて、重力、レンズとセルの異なる伸張または振動による、屈曲部におけるねじりモーメントまたは曲げモーメントを防止する。
【0013】
レンズは、好ましくは、レンズの周りに均等に間隔をあけて配置された3つの取り付け受座を有する。受座は、レンズの面の輪郭(例えば、平面、円錐面、球面など)に整合するように機械加工される。各受座の寸法は、最小化されて、係合しない面の過度の拘束作用を、レンズ材料の許容可能な接触圧力を超えることなく低減する。あるいは、レンズ材料が接触応力に耐えることができるならば、受座において点接触が用いられて(例えば、球面レンズ上の平坦な受座、または、平坦なレンズ面上の凸状の受座)、過度の拘束の可能性をさらに低減し得る。
【0014】
セルは、また、レンズを過度に拘束することなく重力荷重をさらに分散させるために、受座の他にソフトマウントの組を含むことができる。ソフトマウントは、好ましくは、レンズ周囲にて半径方向屈曲マウントの間に均等に間隔をあけて配置される。ソフトマウントは、高度の可撓性を有し、レンズの側部を支持して重力の作用に抗する。各ソフトマウントは、レンズに対して加えられる力が、受座およびソフトマウントの総数により分散されるレンズの総重量に等しいように、予め荷重がかけられている。これは、レンズの重量が全ての受座およびソフトマウントにより均等に支持されることを保証する。
【0015】
温度変化によりレンズがセルに対して伸張および収縮するとき、接線方向屈曲マウントは、レンズに機械的歪曲を生じさせる高い荷重を受けないように半径方向に曲がる。各レンズは、関連する各半径方向屈曲マウントの受座に取り付けられる。受座は、力、例えば重力または機械的振動によるねじりモーメントが屈曲部に実質的にもたらされないように配置されている。レンズ受座は、半径方向の伸張によるねじりモーメントが屈曲部にもたらされないように半径方向屈曲マウントの実質的に中央に配置される。屈曲部は、異なる伸張によるレンズの回転を防止する接線方向屈曲構造を有する。
【0016】
レンズは、屈曲マウントの半径方向の弾性に影響を与えずにレンズ受座に締め付けられる。一具体例において、可撓性のクランプがレンズを各受座に付勢する。このクランプが可撓性であるため、レンズをセル受座に対して締め付ける締付け力は、機械加工許容差、組立技術および温度変化に対して比較的影響されない。可撓性クランプは、また、レンズにおける半径方向または接線方向の力またはモーメントを最小限にする。この機械的締付けは、また、接着剤を塗布しあるいは接着剤による結合を破壊することなくセルを繰り返し組立および分解することを可能にする。
【0017】
本発明により以下のさらなる態様の組立て体及び方法が提供される。本発明の第2の態様に従えば、レンズを取り付けるための構造体であって、
レンズを保持することができるレンズセル部材と、
レンズセル部材と一体的に形成された複数の半径方向屈曲マウントであって、各々が、レンズを取り付けるために半径方向屈曲マウント上に形成された受座と、半径方向屈曲マウントの両端部から延在する1組の屈曲部とを含む複数の半径方向屈曲マウントと、
半径方向屈曲マウントの各々の上に取り付けられるばね組立体であって、各々が、レンズを受座上に固定するための弾性クランプを含むばね組立体とを含み、
上記屈曲部は、半径方向屈曲マウントが半径方向に曲がって、温度変化によるレンズセル部材の伸張または収縮に適合することを可能にするレンズ取付構造体が提供される。
【0018】
本発明の第3の態様に従えば、レンズを取り付けるための構造体であって、
レンズを保持することができるレンズセル部材と、
レンズの重量の少なくとも一部を支持するための複数のソフトマウントであって、ソフトマウントが光学軸方向において位置ずれを生じることに対して構造体が実質的に影響されないように光学軸方向に撓む複数のソフトマウントとを含むレンズ取付構造体が提供される。
【0019】
本発明の第4の態様に従えば、レンズを保持するための構造体を組み立てるための方法であって、前記構造体が、セル部材と、セル部材に連結された半径方向屈曲マウントと、半径方向屈曲マウント上に形成された受座と、半径方向屈曲マウント上に取り付けられた締付組立体とを含み、半径方向屈曲マウントが、抗トルク工具と係合するための特性を含み、
締付組立体を、半径方向屈曲マウントに、少なくとも1つのねじ付き部材を回転させ、締付組立体を通して半径方向屈曲マウントにねじ込むことにより取り付けることと、
抗トルク工具を半径方向屈曲マウントに係合させ、同時に、前記ねじ付き部材を回転させることによりトルクを前記抗トルク工具に加えて、半径方向屈曲マウントに加えられるトルクを相殺することとを含む前記方法が提供される。
【0020】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら、本発明の具体例を説明する。異なる図における同一の参照番号は、構造的および/または機能的に類似または同一の要素を示すように用いられている。
【0021】
図1を参照すると、レンズ10の一具体例が断面図で示されている。一具体例において、レンズ10は半導体リソグラフィ装置(図示せず)において用いられることができる。レンズ10は、典型的には、直径Dが約200〜300mm(約12インチ)であり、重量が約1〜5kgである。しかし、本発明の範囲内で、他の寸法および重量を用いまた考慮することもできる。レンズ10は、好ましくは、レンズ10の周縁14上に形成された周方向のリッジ(隆起部)12を含む。リッジ12は必要ではないが、レンズ10の有用な光学面を増大させるために、機械的締め付け力による、レンズ10の縁部の光学的変形を実質的に低減するために、そして、レンズ10への締め付け力の半径方向の成分を除去するために有利である。先行技術において、レンズは、しばしば、レンズの周面部16で締め付けられまたは固定される。これはレンズ周囲の光学面を遮蔽し、レンズ面を変形させることになる。また、周面部16にて締め付けられたレンズ面は湾曲するため、このような締付け方法は、レンズに半径方向の力を加え、それもまた歪みを生じさせることになる。レンズ10がリッジ12にて保持されかつ締付けられることにより、以下に記載する、機械的締付けにより生じるレンズ10の光路の変形および歪みは、いずれも最小限にされる。
【0022】
図2A〜2Cを参照すると、レンズ10を取り付けるための改良されたセル20の第1の具体例が示されている。セル20は、精密な材料、例えば真鍮から形成されており、この材料は、これはレンズのための非常に安定した取付構造を形成するだけでなく、必要であれば精密に機械加工することができる。セル20は、レンズ10がその上に取り付けられる半径方向に撓曲する複数の取付構造体(マウント)22を含む。半径方向屈曲マウント22は、各々、セル20の本体すなわちリング24から、本体24内に形成されたスロット(溝孔)26に沿って分離されている。しかし、半径方向屈曲マウント22は、半径方向屈曲マウント22の両端にある屈曲部28,30を介して本体24に一体的に結合されている。半径方向屈曲マウント22は、セル本体24の内壁32に形成されている。好ましくは、3つの半径方向屈曲マウントが、セル20の内壁32に形成される。半径方向屈曲マウント22は、各々、半径方向屈曲マウント22の中央点に一体的に形成されまたは取り付けられたレンズ受座34を含む。この中央取付位置は、実質的に、レンズ10とセル本体24との異なる半径方向伸張により生じる、半径方向屈曲マウント22におけるねじりモーメントを排除する。屈曲部28,30は、半径方向屈曲マウント22が半径方向において低い剛性ならびに接線方向および軸方向(鉛直方向)において高い剛性を有するように、同一平面上にある薄い平板として構成されている。さらに、図2(c)に示すように、屈曲部28,30は、屈曲部28,30により画成される平面が受座34のほぼ中央を横切るように配置されている。この配置は、接線方向および軸方向(鉛直方向)の力が半径方向屈曲マウント22にモーメントを生成することを防止する。さらに、半径方向屈曲マウント22は、ばね組立体がその内部に取り付けられることができるロケータ(位置決め)スロット23を含む。ばね組立体については以下に説明する。この半径方向屈曲マウント22の構造は、レンズ10のための望ましい3点取り付けプラットフォームをもたらす。
【0023】
セル本体24は、また、複数のソフトマウントのための切欠き36を含む。切欠き36は、図3に示すように、複数のソフトマウントすなわち支持体38と共に用いられる。切欠き36は、各々、それぞれの通路40を通じてセル本体24の内部と連通している。各ソフトマウント38は、弾性の舌状部すなわち板ばね42を含む。板ばね42は、切欠き36に取り付けられたときに通路40を通って延在する寸法にされている。板ばね42は、固定装置、例えばボルト48により互いに締め付けられた、上側ブロック44と下側ブロック46との間に保持されている。板ばね42は角度θを有して配置されている。角度θは、板ばね42と、セル本体24の内壁32と直交する面とにより、板ばねがレンズ10の重量の望ましい割合の重量により変形されるときに板ばね42の先端部50がレンズ10のリッジ12の面と平行になるように画定される。このことは図13に示されている。図13中、レンズ10がセル20に装填されていないときの板ばね42の位置を仮想線で示してある。ボルト48は、また、ソフトマウント38を切欠き36内に取り付けるために用いられる。板ばね42の先端部50は通路40を通って延在し、かつ、半径方向屈曲マウントの受座34に加えて、レンズ10のための複数の支持部材を構成する。
【0024】
レンズを過度に拘束することなく重力荷重を分散するために、ソフトマウント38の組が選択される。図4に示すような好ましい一具体例において、これらのソフトマウント38は、レンズ10の重量の一部を光学軸方向において支持するための9個のカンチレバー板ばね42を含む。カンチレバー板ばね42は光学軸方向に撓む。したがって、板ばね42は、半径方向屈曲マウント22上の3つの受座34により決定されるレンズの位置決めを過度に拘束しない。むしろ、板ばね42は、単に、レンズ10をより分散して支持して、重力による歪みを防止する。ソフトマウントの可撓性のさらなる利点は、機械加工許容差に対して支持力が低感度であることである。また、セル20が、例えば平坦でない面に対して押し付けられることにより歪曲されても、セルの歪みは、それによるレンズの重大な歪みを引き起こさない。特に、もしセルの歪みがレンズ受座34の1つの位置を変化させることがあっても、レンズ10が光学方向において過度に拘束されていないため、レンズ10に生じた歪みはいずれも最小限にとどまるであろう。
【0025】
好ましくは、ソフトマウント38は、また、異なる伸張差を許容するために半径方向に撓むべきである。カンチレバーばねは半径方向において撓まず、それゆえ、望ましくない半径方向の力を生じることがある。しかし、レンズ10にかかる望ましくない最大の力は、小さい接触力と、カンチレバーばね先端部50とレンズ10との小さい摩擦係数とにより制限される。別のソフトマウントばねも可能であり、それは圧縮または伸張されたコイルばね、磁石または他の適切なばねを含み、これらが半径方向の可撓性を有してもよく、または有さずともよい。
【0026】
図2Aおよび図4に示すように、9個のソフトマウントの板ばね42の組が、3個1組で、3つの半径方向屈曲マウント22の各々の間に均等に間隔をあけて配置されている。これは、荷重を分散し、かつ、ほぼ対称な支持をレンズ受座34と共にもたらす。各板ばね42および各受座34は、レンズ10の重力荷重の1/12を支持するように設計されている。ソフトマウント38の他の組、例えば、3個、6個または9個以上の組もまた用いることができ、それらのマウント38もまた、受座34により均等に間隔をあけて配置されることができる。
【0027】
レンズ10は、板ばね42の先端部50に置かれるが、好ましくは、ばね組立体52により半径方向屈曲マウント22に機械的に締め付けられる。ばね組立体52は、図3,5,6A〜Cおよび7に示されている。ばね組立体52はばね部材54を含む。ばね部材54は、変形された状態で図6A〜Cに最も分かり易く示されている。ばね部材54は、複数のスロット58を有して一方向に曲がるように設計された第1のばね部56を含む。ばね部56は、反対方向に曲がる第2のばね部60から、長手方向のスロット62により分離されている。
【0028】
ばね組立体52は図7に最も分かり易く示されており、ばね部材54、ロケータプレート64、締め付けブロック66およびスペーサブロック68を含む。プレート64は、スペーサブロック68を配置するための開口部70と、取付開口部72と、プレート端部76のロケータスロット74とを含む。ばね部材54とブロック66とは、互いに対応する取付開口部78,80を有する。ブロック66は、さらに、他の部材と組み合う位置決め部82を含む。位置決め部82は、ばね組立体52が半径方向屈曲マウント22に取り付けられるときに、部材54に支持されかつロケータスロット74に嵌めこまれる。ばね組立体52が半径方向屈曲マウント22に取り付けられるときに、締付ブロック66の位置決め部82は、半径方向屈曲マウントのロケータスロット23に嵌り込む。ばね組立体52はボルト84と共に固定されかつボルト84と共に取り付けられる。ボルト84は、例えば、図示されているような六角ソケットヘッドボルトである。ばね組立体52は、ボルト84および適切なレンチ86を用いて取り付けられる。レンチ86は、ボルトを半径方向屈曲マウント22内のねじ付き通路88(図2B)に締め入れるために用いられる。半径方向屈曲マウント22またはレンズ10にかかるトルクを回避するために、抗トルク工具90が、半径方向屈曲マウント22の頂部に形成された1組の開口部92(図2Bおよび2C)に嵌め込まれている。工具90は、ピンまたはロッド96を各々が含む1組のアーム94を含み、ピンまたはロッド96は開口部92に嵌り込んで、ボルト84が締め付けられるときの応力を防止する。工具90はハンドル98を含み、ハンドル98からアーム94が延びている。ハンドル98は、ばね組立体52を組立および分解中に適切な位置に維持するために用いられる。
【0029】
図8,9Aおよび9Bを参照すると、本発明の改良されたレンズセル100の第2の具体例が示されている。セル100の全体の構造はセル20に非常に類似しており、同一の、または機能的に同一の要素は同一の番号を用いて示されている。セル100およびその取付構造体における主要な違いのみを詳細に説明する。セル100は複数の半径方向屈曲マウント102を有する。半径方向屈曲マウント102は半径方向屈曲マウント22に非常に類似しているが、異なるばね組立体104を支持するように形成されている。ばね組立体104はばね組立体52と機能的に類似しているが、ばね組立体104の構造は以下に記載するように異なる。
【0030】
半径方向屈曲マウント102は、先に記載したようなレンズ受座34を含む。さらに、半径方向屈曲マウント102および屈曲部109,110は、先に記載した具体例と同様に、スロット106によりセル本体108内に形成されている。しかし、この第2の具体例においては、薄片状のクランプばね116が締付け力をレンズ10にもたらす。クランプばね組立体104は細長いクランプブロック112を含む。クランプブロック112は、その片側に形成された切り欠き114を有して、薄片状のクランプばね116の取付および屈曲に適応する。
【0031】
図10に示すように、ばね部材116は第2の切り欠き118内に取り付けられる。切り欠き118は、ブロック112の底部に形成され、かつ切り欠き114を超えて延在している。ばね部材116は、上側アーム121,下側アーム123を有するレンズ締付ブロック120を弾性的に付勢してレンズ10(図示せず)をレンズ受座34に締め付ける。レンズ締付ブロック120は、半径方向屈曲マウント102内に形成された位置合わせスロット122内にスライド可能に嵌め込まれる。クランプばね組立体104は、1組のボルト84を用いて半径方向屈曲マウント102上に取り付けられる。ボルト84は、半径方向屈曲マウント102の頂部に形成された、ボルト84と係合するねじ付き通路88にねじ込まれる。
【0032】
図11に一層詳細に示すように、レンズ締付ブロック120は、上側アーム121の上面および下面に形成された2つのスロット125を有する。2つのスロット125は屈曲ヒンジ127を画成している。屈曲ヒンジ127は、締め付けられたときに、レンズ10または半径方向屈曲マウント102の機械的寸法のわずかな変化がクランプの接触面を妨げないように、レンズ締付ブロック120のレンズ接触面129をレンズ10に適合させる。
【0033】
再び図9Aを参照すると、クランプばね組立体104は、また、ボルト84と共に、抗トルク工具124を用いてトルク応力に抗して位置合わせされて取り付けられる。工具124は、また、各々が従動ロッド96を含む1組のアーム126,128を有する。従動ロッド96もまた、半径方向屈曲マウント102に形成された開口部92に嵌め入れられる。工具124もまた、クランプばね組立体104の組立および分解中に半径方向屈曲マウント102にかかるトルク応力を実質的に排除する。
【0034】
また、レンズセル100は、好ましくは、第1の具体例に関して先に記載したソフトマウント38と機能的に均等である複数のソフトマウント130を含む。マウント130は板ばね42を含み、板ばね42は、1組のダブテイル(ありつぎ)ブロック132および134に挿入される1組のボルト48によって締め付けられる。ブロックの組の一方のブロック134は、1組の端部切り欠き136,138を含み、切り欠き136,138は、それらと相補する形状の1組のフィンガー部140,142と係合する。ブロック132および134により形成されるダブテイル構造は、ボルト48が締め付けられるときにブロック132および134とブレードばね42とが互いにスリップしないことを保証する。
【0035】
上記のように、本発明は、レンズの周囲16に準運動学的に拘束される、機械的に締め付けられたレンズ10を含む。セル20または100は、小さい領域の受座34に3点マウントを設けて、受座34によりもたらされる平面接触によりレンズ10が過度に拘束されることを回避する。受座34は、各々、レンズ10の半径方向の伸張を可能にする半径方向屈曲マウント22または102の部分であり、鉛直方向および接線方向の両方においては剛性を有してレンズ10の高度の取付剛性を維持し、これは、望ましい高周波の共振モードをもたらす。
【0036】
ばね組立体52または104は、レンズ10を直接、受座34上に機械的に締め付けて、締め付け力と受座の力とのずれにより生じ得るモーメントを全て除去する。レンズ10を機械的に締め付けることにより、接着剤に固有のガス抜きおよび分解の際に破壊しなければならない問題が回避される。ばね組立体52または104に、開示した可撓性の締付機構を設けることにより、機械的許容差に起こり得る機械的および寸法的差が幾らかあっても、締付力は、実質的に均等かつ一定に加えられる。締付機構は、半径方向屈曲マウント22または102に取り付けられて、レンズ10およびセル20または100の伸張差によるレンズ10の過度の拘束を防止する。
【0037】
上記の配置と別の配置において、ばね組立体52または104およびレンズ受座34の位置は、セル20または100上の他の場所に変更することができる。例えば、各レンズ受座34が、内壁32に、ばね組立体52または104がレンズ受座34上に設けられた状態で設けることができる。この配置においては、半径方向屈曲マウント22または102は、半径方向の位置合わせをもたらすようにのみ機能する。
【0038】
半径方向屈曲マウント22および102によりもたらされる支持構造にソフトマウント38または130を追加することは、重力荷重を、3つの受座34から、さらなる数の地点、好ましくは先に述べたように12の地点に、さらに拡散させる。出願人は、レンズ荷重を分析して、レンズ10上の周方向の12の支持点が、実質的に、重力変形を防止するための最適な性能をもたらすことが分かった。当業者は、レンズが、より大きく、かつ/もしくはより薄く、またはより緊縮したレンズ変形規格を有するならば、さらなるソフトマウントが必要となるであろうことを認識するであろう。ソフトマウント38または130の板ばね42は、好ましくは、非常に精密な厚さを有する平坦な材料(例えば、金属、セラミックまたは他の適切に平坦な材料)から形成された高弾性のカンチレバータイプのばねである。精密な厚さは、板ばね42における剛性の変化を最小にする。厚みの変化は、また、板ばね42の幅を変えて望ましい均一な剛性を維持することにより補償することもできる。スロット26および106ならびに板ばね42は、好ましくは、非常に精密で材料に内部応力を生じないワイヤ電子放電機械加工(EDM)を用いることにより形成される。あるいは、板ばね42は、コイルばねまたは他のタイプの付勢機構(図示せず)に替えられ得る。
【0039】
本発明の原理に従うレンズ取付構造は、フォトリソグラフィシステム(露光装置)、例えば、走査型フォトリソグラフィシステムに適用可能である。このシステムは、基板上にマスクパターンを、マスクステージ上に保持されたマスクと基板ステージ上に保持された基板とを同期して移動させることにより露光する(米国特許第5,473,410号を参照のこと)。さらに、本発明は、ステップアンドリピートタイプのフォトリソグラフィシステム、すなわち、マスクおよび基板が静止している間にマスクパターンで基板を露光し、次の工程で基板を移動させるシステムに適用可能である。さらに、本発明は、投影光学系を用いずに、マスクおよび基板に近接させることによりマスクパターンを基板上に露光するプロキシミティフォトリソグラフィシステムにも適用可能である。
【0040】
フォトリソグラフィシステムの用途が、半導体製造におけるフォトリソグラフィシステムに限定される必要はない。例えば、フォトリソグラフィシステムは、液晶ディスプレイ装置パターンを矩形のガラスプレート上に露光するLCDフォトリソグラフィシステムと、薄膜状の磁気ヘッドを製造するためのフォトリソグラフィシステムに広く適用されることができる。
【0041】
本発明に従うフォトリソグラフィシステムの光源としては、g−線(436nm)、i−線(365nm)、KrFエキシマレーザ(248nm)、ArFエキシマレーザ(193nm)およびFレーザ(157nm)を用いることができるだけでなく、荷電粒子ビーム、例えばx線および電子ビームも用いることができる。例えば、電子ビームを用いる場合には、熱電子放出タイプの六ホウ化ランタン(LaB)またはタンタル(Ta)を電子銃として用いることができる。さらに、電子ビームを用いる場合には、システムの構造は、マスクが用いられるか、または、マスクを用いずにパターンが基板上に直接形成されるような構造であり得る。
【0042】
フォトリソグラフィシステムに含まれる投影光学系の倍率に関しては、システムは、縮小系に限定される必要はない。倍率1倍または拡大系であり得る。
【0043】
投影光学系に関しては、遠紫外線、例えばエキシマレーザが用いられるときには、ガラス材料、例えば紫外線を透過させる水晶および蛍石が用いられることが好ましい。Fタイプのレーザまたはx線を用いるときには、光学系は、好ましくは、カタディオプトリックまたは屈折型にすべきであり(レチクルもまた、好ましくは反射タイプであるべきである)、電子ビームを用いるときには、電子光学素子は、好ましくは、電子レンズおよび偏光器から構成されるべきである。いうまでもなく、電子ビームの光路は真空状態にすべきである。
【0044】
さらに、フォトリソグラフィシステムにおいて、リニアモータ(米国特許第5,623,853号または5,528,118号を参照のこと)が基板ステージまたはマスクステージに用いられるときに、リニアモータは、エアベアリングを用いる空気浮上タイプ、または、ローレンツ力もしくは誘導抵抗力を用いる磁気浮上タイプであることができる。さらに、ステージは、ガイドに沿って移動し得、または、ガイドを用いないガイドレスタイプのステージであり得る。
【0045】
あるいは、ステージは、ステージを電磁力により駆動させる平坦なモータにより駆動され得る。この電磁力は、対向する位置にある、2次元的に配置された磁石を有する磁石ユニットと、2次元的に配置されたコイルを有するアーマチュアコイルユニットとにより発生される。このタイプの駆動システムにより、磁石ユニットまたはアーマチュアコイルユニットのいずれか一方がステージに連結され、他方がステージの移動面側に取り付けられる。
【0046】
先に述べたようなステージの移動は、フォトリソグラフィシステムの性能に影響を与えることがある反作用力を発生させる。ウェーハ(基板)ステージ運動により発生する反作用力は、米国特許第5,528,118号、および特開平8−166475号に記載されているようなフレーム部材の使用により、フロア(地面)から機械的に離隔することができる。さらに、レチクル(マスク)ステージ運動により発生する反作用力は、米国特許第5,874,820号、および特開平8−330224号に記載されているようなフレーム部材の使用により、フロア(地面)から機械的に離隔することができる。
【0047】
先に述べたように、上記の具体例に従うフォトリソグラフィシステムは、特許請求の範囲に記載された各要素を含む種々のサブシステム(構成部品)を、規定された機械的精度、電気的精度および光学的精度が維持されるように組み立てることにより構築することができる。種々の精度を維持するために、組立ての前後に、全ての光学系が、その光学的精度を達成するように調整される。同様に、全ての機械系および全ての電気系が、それぞれの機械的精度および電気的精度を達成するように調整される。各系をフォトリソグラフィシステムに組み立てるプロセスは、各系間の機械的インタフェイス、電気回路配線連結、および空気圧配管連結を含む。いうまでもなく、種々の各系からフォトリソグラフィシステムを組み立てる前の、各系が組み立てられるプロセスがまたある。種々の系を用いてフォトリソグラフィシステムが組み立てられたならば、完成したフォトリソグラフィシステムにおいて全ての精度が維持されるために、全体的な調整が行われる。さらに、温度および清浄度が調節されているクリーンルーム内で露光装置を製造することが望ましい。
【0048】
さらに半導体デバイスは、図12にその全体が示されたプロセスにより、上記装置を用いて加工することができる。段階1201において、デバイスの機能および性能特性が設計される。次に、段階1202において、パターンを有するマスク(レチクル)が、その前の設計段階に従って設計され、また、並行する段階1203において、ウェーハがシリコン材料から製造される。段階1202において設計されたマスクパターンは、段階1204において、段階1203で加工されたウェーハ上に、本文において先に記載した、本発明に従うフォトリソグラフィシステムにより露光される。段階1205において、半導体装置が組み立てられて(ダイシングプロセス、ボンディングプロセスおよびパッケージングプロセスを含む)、最後に、デバイスは段階1206において検査される。
【0049】
本発明を、本発明の好ましい具体例を参照してかなり詳細に記載してきたが、他の具体例も可能であることが理解されるであろう。当業者には、本発明の構造における多くの変更が、本発明の精神および範囲から逸脱せずに提示されることが理解されるであろう。したがって、特許請求の範囲の精神および範囲は、特許請求の範囲に包含される好ましい具体例の記載に限定されるものではない。
【0050】
【発明の効果】
本発明に従うレンズ取付組立体によれば、重力および温度因子によるレンズの歪みを最小限にすることができる。特に、屈曲マウントの屈曲部は、温度変化によりレンズおよびセルが異なるように伸張および収縮することを許容し、かつ、レンズにかかる力と、それによるレンズ要素の歪みとを最小限にすることができる。それゆえ、半導体デバイスなどのリソグラフィー工程に用いられる露光装置に本発明のレンズ取付組立体を備えることにより、極めて高い露光精度で微細パターンの露光を実行することができる。
【0051】
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明に従う、セルに準運動学的に取り付けられるレンズの一具体例の断面図である。
【図2】図2(A)は、本発明に従う、レンズを取り付けるためのセルの一具体例の斜視図であり、図2(B)は、図2(A)のセルの部分拡大斜視図であり、図2(C)は、本発明に従う半径方向屈曲マウントの拡大上面図である。
【図3】図3は、図2Aのセルおよび支持体の部分分解斜視図である。
【図4】図4は、複数のソフトマウントと3つの半径方向屈曲レンズ支持体とによりセルに取り付けられたレンズの上面図である。
【図5】図5は、レンズを半径方向屈曲支持体に歪みを生じずに取り付けるために用いられる工具の操作を示す。
【図6】図6(A)〜(C)は、レンズを屈曲支持体に対して締め付ける締付ばねの一具体例を示す。
【図7】図7は、締付ばね組立体の分解斜視図である。
【図8】図8は、レンズセルの第2の具体例を示す。
【図9】図9(A)および(B)は、図8のレンズセルの分解部分図であり、該レンズセルの組立を示す。
【図10】図10は、本発明に従う締付ばね組立体の第2具体例を示す拡大斜視図である。
【図11】図11は、図10に示したレンズ締付ブロックの詳細を示す拡大側面斜視図である。
【図12】図12は、本発明に従う装置により半導体デバイスを加工するための方法を示すフローチャートである。
【図13】図13は、図3のソフトマウントがレンズを支持する様子を示す拡大部分断面図である。

Claims (10)

  1. レンズを取り付けるための構造体であって、
    レンズセル部材であって、該部材の周上でレンズを保持することができるレンズセル部材と、
    レンズセル部材に取り付けられた複数の半径方向屈曲マウントであって、各々が、半径方向屈曲マウントの両端部から延在する1組の屈曲部と、レンズ外周部を載置するために半径方向屈曲マウントに取り付けられた受座とを含み、かつ該1組の屈曲部の端部がレンズセル部材に固定され、半径方向において低い剛性かつ軸方向において高い剛性を有する半径方向屈曲マウントと、
    隣り合う半径方向屈曲マウントの間に配置された複数のソフトマウントであって、各々が、レンズ外周部に接触してレンズの重量の少なくとも一部を支持する弾性支持部を含む複数のソフトマウントとを含む、レンズ取付構造体。
  2. 上記ソフトマウントが、レンズの重量の一部をその末端部にて弾性的に支持するカンチレバー板部材を含む請求項1に記載の構造体。
  3. 上記ソフトマウントが、レンズの重量の一部をその末端部にて弾性的に支持するばね部材を含む請求項1に記載の構造体。
  4. 上記ソフトマウントが可撓性構造体を含み、該可撓性構造体が、レンズ外周部を支持し、かつ、レンズを、レンズの半径方向において実質的に拘束しない請求項1に記載の構造体。
  5. 前記可撓性構造体が、レンズの重量の少なくとも一部を支持するための少なくとも1つのばね部材を含む請求項4に記載の構造体。
  6. 前記可撓性構造体が、レンズの重量の少なくとも一部を支持するための少なくとも1つのカンチレバー板を含む請求項4に記載の構造体。
  7. 各受座は、半径方向屈曲マウントの中心点から、レンズが屈曲部の平面の位置にて受座に支持されるように延在し、それにより、レンズの軸方向の移動が半径方向屈曲マウントに反作用をもたらさない請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の構造体。
  8. 半径方向屈曲マウントが、レンズを受座上に弾性的に締め付けるための、半径方向屈曲マウント上に取り付けられたばね組立体を含む請求項1から請求項7のいずれか一項に記載の構造体。
  9. 前記複数の半径方向屈曲マウントは、前記レンズセル部材と一体的に形成される請求項1から請求項8のいずれか一項に記載の構造体。
  10. パターンを基板上に写す露光装置であって、請求項1から請求項9のいずれか一項に記載のレンズ取付構造体を含む露光装置。
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Families Citing this family (85)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6650412B1 (en) * 1999-09-10 2003-11-18 Kaiser Optical Systems Thermal compensation for optical apparatus
KR20030051421A (ko) * 2000-03-31 2003-06-25 가부시키가이샤 니콘 광학 부재의 유지 방법 및 장치, 광학 장치, 노광 장치 및디바이스 제조 방법
JP4945845B2 (ja) * 2000-03-31 2012-06-06 株式会社ニコン 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにマイクロデバイスの製造方法。
US6400516B1 (en) * 2000-08-10 2002-06-04 Nikon Corporation Kinematic optical mounting
US6473245B1 (en) 2000-08-10 2002-10-29 Nikon Corporation Catadioptric lens barrel structure having a plurality of support platforms and method of making the same
US6577457B1 (en) 2000-08-10 2003-06-10 Nikon Corporation Catadioptric lens barrel structure having a kinematic alignment structure and method for aligning two planar surfaces
US6639740B1 (en) 2000-08-10 2003-10-28 Nikon Corporation Catadioptric lens barrel structure having a plurality of split lens barrels and a support structure supporting the split lens barrels
AU2001277758A1 (en) 2000-08-18 2002-03-04 Nikon Corporation Optical element holding device
US6653639B1 (en) * 2000-10-17 2003-11-25 Nikon Corporation Chuck for mounting reticle to a reticle stage
JP4081813B2 (ja) * 2000-11-10 2008-04-30 株式会社ニコン 光学装置、露光装置、及びデバイス製造方法
US6439139B1 (en) * 2000-11-17 2002-08-27 Owens Corning Fiberglas Technology, Inc. Method for recycling building materials
DE10100546A1 (de) * 2001-01-08 2002-07-11 Zeiss Carl Vorrichtung zur Verstellung eines optischen Elementes in einem Objektiv
US6381081B1 (en) * 2001-01-19 2002-04-30 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Flexure-ring for centering a concave lens in a bore of a housing for an optical system
JP2002365013A (ja) * 2001-06-04 2002-12-18 Fuji Photo Optical Co Ltd 光波干渉計用参照基準板の支持装置
US6788389B2 (en) * 2001-07-10 2004-09-07 Nikon Corporation Production method of projection optical system
US6603611B1 (en) * 2001-11-06 2003-08-05 Itt Manufacturing Enterprises, Inc. Mount for ultra-high performance of optical components under thermal and vibrational distortion conditions
TW577108B (en) * 2001-11-07 2004-02-21 Nikon Corp Optical device and the manufacturing method thereof, optical system, and manufacturing method of exposure device and micro-device
US20030098965A1 (en) * 2001-11-29 2003-05-29 Mike Binnard System and method for supporting a device holder with separate components
US6909493B2 (en) 2002-03-20 2005-06-21 Canon Kabushiki Kaisha Correction member, retainer, exposure apparatus, and device fabrication method
TWI223863B (en) * 2002-04-22 2004-11-11 Nikon Corp Support apparatus, optical apparatus, exposure apparatus and manufacturing method of device
JP4333078B2 (ja) * 2002-04-26 2009-09-16 株式会社ニコン 投影光学系、該投影光学系を備えた露光装置および該投影光学系を用いた露光方法並びにデバイス製造方法
US7245361B2 (en) 2002-06-04 2007-07-17 Nikon Corporation Method for evaluating refractive index homogeneity of optical member
JPWO2003102529A1 (ja) * 2002-06-04 2005-09-29 株式会社ニコン 光学部材の屈折率均質性を評価する方法
US20030234918A1 (en) * 2002-06-20 2003-12-25 Nikon Corporation Adjustable soft mounts in kinematic lens mounting system
US20030235682A1 (en) * 2002-06-21 2003-12-25 Sogard Michael R. Method and device for controlling thermal distortion in elements of a lithography system
US20030234916A1 (en) * 2002-06-21 2003-12-25 Nikon Corporation Soft supports to reduce deformation of vertically mounted lens or mirror
US6922293B2 (en) 2002-07-02 2005-07-26 Nikon Corporation Kinematic optical mounting assembly with flexures
EP1380899B1 (en) * 2002-07-11 2014-09-03 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
TWI266151B (en) * 2002-07-11 2006-11-11 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
US6649865B1 (en) * 2002-08-07 2003-11-18 Great Computer Corp. Control method for optical lens-seat on a laser processing machine
JP2005534998A (ja) * 2002-08-08 2005-11-17 カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー イメージングデバイスにおける光学式アセンブリを保持するための装置
US20040080730A1 (en) * 2002-10-29 2004-04-29 Michael Binnard System and method for clamping a device holder with reduced deformation
WO2004086148A1 (de) * 2003-03-26 2004-10-07 Carl Zeiss Smt Ag Vorrichtung zur deformationsarmen austauschbaren lagerung eines optischen elements
JP2004363559A (ja) * 2003-05-14 2004-12-24 Canon Inc 光学部材保持装置
JP2004347814A (ja) * 2003-05-21 2004-12-09 Canon Inc 保持装置、露光装置及びデバイス製造方法
DE602004024302D1 (de) * 2003-06-06 2010-01-07 Nippon Kogaku Kk Halteeinrichtung für optische elemente, objektivtubus, belichtungseinrichtung und herstellungsverfahren für bauelemente
DE102004025832A1 (de) * 2004-05-24 2005-12-22 Carl Zeiss Smt Ag Optikmodul für ein Objektiv
US7697222B2 (en) * 2003-12-25 2010-04-13 Nikon Corporation Apparatus for holding optical element, barrel, exposure apparatus, and device producing method
EP1577693B1 (de) * 2004-02-26 2011-07-13 Carl Zeiss SMT GmbH Objektiv mit wenigstens einem optischen Element
DE102004014641B4 (de) * 2004-03-09 2007-09-13 Carl Zeiss Smt Ag Anordnung zur Lagerung eines optischen Bauelements
WO2006096045A1 (en) * 2005-03-09 2006-09-14 Stichting Astron Suspension for keeping an object aligned during large temperature variations; optical system provided with such a suspension.
US20060238735A1 (en) * 2005-04-22 2006-10-26 Vladimir Kamenov Optical system of a projection exposure apparatus
WO2006134910A1 (ja) * 2005-06-14 2006-12-21 Nikon Corporation 光学素子、光学素子保持装置、露光装置、及びデバイス製造方法
EP1899756A2 (de) * 2005-07-01 2008-03-19 Carl Zeiss SMT AG Anordnung zur lagerung eines optischen bauelements
JP5243957B2 (ja) 2005-08-16 2013-07-24 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 液浸リソグラフィー用オブジェクティブ
TWI372271B (en) * 2005-09-13 2012-09-11 Zeiss Carl Smt Gmbh Optical element unit, optical element holder, method of manufacturing an optical element holder, optical element module, optical exposure apparatus, and method of manufacturing a semiconductor device
WO2007132862A1 (ja) * 2006-05-16 2007-11-22 Nikon Corporation 投影光学系、露光方法、露光装置、及びデバイス製造方法
EP1901101A1 (en) 2006-09-14 2008-03-19 Carl Zeiss SMT AG Optical element unit and method of supporting an optical element
US8416386B2 (en) * 2007-03-13 2013-04-09 Nikon Corporation Conforming seats for clamps used in mounting an optical element, and optical systems comprising same
JPWO2008146655A1 (ja) * 2007-05-25 2010-08-19 株式会社ニコン 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置ならびにデバイスの製造方法
WO2009024192A1 (en) * 2007-08-23 2009-02-26 Carl Zeiss Smt Ag Optical element module with minimized parasitic loads
US7990628B1 (en) * 2007-08-29 2011-08-02 Tessera MEMS Technologies, Inc. Planar flexure system with high pitch stiffness
DE102007047186B4 (de) * 2007-10-02 2014-01-09 Carl Zeiss Sms Gmbh Aufnahmevorrichtung zur Aufnahme einer Photolithographiemaske
DE102007063305A1 (de) * 2007-12-27 2009-07-02 Carl Zeiss Smt Ag Optische Einrichtung mit einer Federeinrichtung mit einem Bereich konstanter Federkraft
DE102008022211B3 (de) * 2008-05-06 2010-02-25 Carl Zeiss Surgical Gmbh Linsenträger sowie optische Baugruppe
US9335641B2 (en) * 2008-07-21 2016-05-10 Asml Netherlands B.V. Optical element mount for lithographic apparatus
US8591048B2 (en) * 2009-10-30 2013-11-26 Flir Systems, Inc. Spatially efficient kinematic mirror mount
US8919724B2 (en) 2010-08-24 2014-12-30 Raytheon Company Mount for cryogenic fast switching mechanism
CN102486564B (zh) * 2010-12-06 2014-10-29 上海微电子装备有限公司 透镜挠性固定装置
CN102243359B (zh) * 2011-06-20 2012-11-14 北京空间机电研究所 一种大孔径透镜挠性支撑方法
JP5695011B2 (ja) * 2012-10-31 2015-04-01 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 寄生負荷最小化光学素子モジュール
DE202013011933U1 (de) 2013-01-23 2014-10-28 Jenoptik Optical Systems Gmbh Thermisch kompensierte optische Baugruppe mit einem formschlüssig gehaltenen optischen Bauelement
CN103901571B (zh) * 2014-02-13 2016-03-09 中国科学院上海光学精密机械研究所 大型透反式镜片非垂直放置的挠性支撑装置和支撑方法
CN103885302B (zh) * 2014-04-04 2016-03-30 中国科学院光电技术研究所 一种装卡光学元件的力反馈精密支撑装置
JP5848470B2 (ja) * 2015-02-05 2016-01-27 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 寄生負荷最小化光学素子モジュール
CN106383395A (zh) * 2015-07-29 2017-02-08 上海微电子装备有限公司 一种大口径侧立镜组结构
CN105371763B (zh) * 2015-12-01 2017-09-19 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种大口径光学元件卧式电磁支撑装置
CN107329225B (zh) * 2016-04-29 2020-06-16 上海微电子装备(集团)股份有限公司 侧立镜组及其安装方法
US20170363833A1 (en) * 2016-06-17 2017-12-21 Corning Incorporated Polymer-free compliant optical member support
US10015378B2 (en) 2016-09-15 2018-07-03 Microsoft Technology Licensing, Llc Kinematic mount for split camera
TWI597536B (zh) * 2016-10-27 2017-09-01 財團法人國家實驗硏究院 用於支撐鏡片的支撐裝置與方法及用於支 撐功能元件的支撐組件
US10678018B2 (en) * 2017-10-23 2020-06-09 Magna Electronics Inc. Camera for vehicle vision system with replaceable lens
LT3759537T (lt) * 2018-03-02 2023-08-25 Gooch And Housego Plc Montavimo žiedas optinio įtaiso centravimui palaikyti
GB201804952D0 (en) * 2018-03-27 2018-05-09 Pxyl Ltd Improved scanning optical microscope
US11692816B2 (en) 2018-04-27 2023-07-04 Cognex Corporation Mounting arrangement for optical systems
EP3608627B1 (en) 2018-08-09 2023-11-08 Cognex Corporation Positioning system for components of optical systems
CN109387918A (zh) * 2018-12-03 2019-02-26 长春奥普光电技术股份有限公司 一种主三一体镜定位组合装置及方法
EP3792673A1 (en) * 2019-09-16 2021-03-17 ASML Netherlands B.V. Assembly for collimating broadband radiation
WO2021043516A1 (en) * 2019-09-03 2021-03-11 Asml Netherlands B.V. Assembly for collimating broadband radiation
CN110568576B (zh) * 2019-09-09 2021-04-06 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种透镜柔性支撑装置
CN112068277B (zh) * 2020-08-31 2021-08-20 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 大口径光学透镜的多级柔性支撑结构
CN112128546B (zh) * 2020-09-30 2021-11-05 中国科学院国家天文台南京天文光学技术研究所 用于大尺寸拼接光学元件的支撑结构及其安装方法
DE102021200131A1 (de) * 2021-01-11 2022-07-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Baugruppe mit einem Entkopplungsgelenk zur mechanischen Lagerung eines Elements
CN113917645B (zh) * 2021-11-01 2023-03-31 中国科学院光电技术研究所 一种镜片弹性支撑装置
CN114486939B (zh) * 2022-04-08 2022-07-22 欧普康视科技股份有限公司 一种镜片划痕检测系统及方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06214142A (ja) * 1993-01-19 1994-08-05 Nikon Corp レンズの保持具
JPH06250061A (ja) * 1993-02-26 1994-09-09 Nikon Corp 光学部材保持装置
JPH11149029A (ja) * 1997-11-18 1999-06-02 Nikon Corp レンズ支持装置、支持方法および投影露光装置

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2808762A (en) * 1956-06-25 1957-10-08 Bausch & Lomb Lens mounting means
US2937571A (en) 1957-10-08 1960-05-24 Ernest B Thompson Optical lens mount
DE1262041B (de) * 1965-07-13 1968-02-29 Voigtlaender Ag Halterung fuer Linsen
US3601343A (en) 1969-09-05 1971-08-24 North American Rockwell Strain-free mount
JPS58159509A (ja) * 1982-03-18 1983-09-21 Olympus Optical Co Ltd レンズ保持装置
JPS58187907A (ja) * 1982-04-27 1983-11-02 Olympus Optical Co Ltd レンズ保持装置
US4733945A (en) 1986-01-15 1988-03-29 The Perkin-Elmer Corporation Precision lens mounting
US4929054A (en) 1986-04-28 1990-05-29 The Perkin-Elmer Corporation Mounting for high resolution projection lenses
US4726671A (en) 1986-06-19 1988-02-23 The Perkin-Elmer Corporation High resonance adjustable mirror mount
US5428482A (en) * 1991-11-04 1995-06-27 General Signal Corporation Decoupled mount for optical element and stacked annuli assembly
DE19904152A1 (de) * 1999-02-03 2000-08-10 Zeiss Carl Fa Baugruppe aus einem optischen Element und einer Fassung

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06214142A (ja) * 1993-01-19 1994-08-05 Nikon Corp レンズの保持具
JPH06250061A (ja) * 1993-02-26 1994-09-09 Nikon Corp 光学部材保持装置
JPH11149029A (ja) * 1997-11-18 1999-06-02 Nikon Corp レンズ支持装置、支持方法および投影露光装置

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