CN115729054A - 驱动装置、曝光装置和物品制造方法 - Google Patents

驱动装置、曝光装置和物品制造方法 Download PDF

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CN115729054A CN202211019781.XA CN202211019781A CN115729054A CN 115729054 A CN115729054 A CN 115729054A CN 202211019781 A CN202211019781 A CN 202211019781A CN 115729054 A CN115729054 A CN 115729054A
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Abstract

本发明提供驱动装置、曝光装置和物品制造方法。所述驱动装置包括:保持构件,其被构造为保持待驱动对象;支撑构件,其被构造为经由弹性构件支撑所述保持构件;多个致动器,其被构造为驱动保持所述待驱动对象的所述保持构件;以及约束器,其被构造为,在非驱动方向上,以非接触方式约束所述保持构件相对于所述支撑构件的位置,所述非驱动方向不同于可驱动方向,所述可驱动方向为所述保持构件能够由所述多个致动器驱动的方向。

Description

驱动装置、曝光装置和物品制造方法
技术领域
本发明涉及驱动装置、曝光装置和物品制造方法。
背景技术
在制造诸如半导体设备的微型设备期间用于光刻步骤的曝光装置可用于将包括许多精细图案的原版转印到基板上。为了准确地形成精细图案,在曝光装置中减小负责图案转印的投影光学系统的像差(例如,畸变)很重要。
投影光学系统的像差取决于形成投影光学系统的多个光学元件中的各个光学元件的折射率、表面形状和位置等。在装配阶段,需要以精确的位置装配多个光学元件。在装配之后,测量投影光学系统的性能,并基于测量结果调整光学元件的位置。在装配投影光学系统之后,为了校正由外部干扰(诸如在运输期间对投影光学系统的冲击和曝光装置中的温度变化)引起的波动,可以调整多个光学元件中的全部或一些光学元件的位置。
日本特开2004-31491号公报描述了一种光学系统镜筒,其包括光学元件的保持机构和用于调整光学元件的形状的形状调整机构。形状调整机构通过对光学元件的保持部分施加力矩来校正光学元件的形状误差。保持机构包括:保持光学元件的端部的保持构件,以及支撑保持构件的弹性支撑构件。弹性支撑构件在重力方向上以高刚度支撑保持构件,但在水平方向上弹性地支撑保持构件。形状调整机构包括对弹性支撑构件施加水平位移的致动器。
在仅由弹性构件支撑待驱动对象的驱动装置中,通过降低驱动方向上的刚度,可以在不增大推力的情况下以更长的行程驱动对象。然而,同时也会降低非驱动方向上的刚度,并且这会引起非驱动方向上的驱动误差的增大。非驱动方向上的驱动误差的增大可能由致动器除了驱动方向外还在非驱动方向上生成力、弹性构件的安装误差等引起。
即使改变弹性构件的弹性变形部分的宽度参数、长度参数和厚度参数,也不能单独调整多个方向中的各个方向上的刚度。因此,在仅由弹性构件支撑对象的驱动装置中,很难在驱动方向上实现宽的可移动范围,并在驱动方向以外的方向上实现高刚度。
发明内容
本发明提供了一种有利于在驱动待驱动对象的方向上实现宽的可移动范围、并在驱动方向以外的方向上实现高刚度的技术。
本发明的第一方面提供了一种驱动装置,其包括:保持构件,其被构造为保持待驱动对象;支撑构件,其被构造为经由弹性构件支撑所述保持构件;多个致动器,其被构造为驱动保持所述待驱动对象的所述保持构件;以及约束器,其被构造为,在非驱动方向上,以非接触方式约束所述保持构件相对于所述支撑构件的位置,所述非驱动方向不同于可驱动方向,所述可驱动方向为所述保持构件能够由所述多个致动器驱动的方向。
本发明的第二方面提供了一种曝光装置,其包括将原版的图案投影到基板上的投影光学系统,其中,所述投影光学系统包括如第一方面所限定的驱动装置,并且所述驱动装置被构造为,驱动作为待驱动对象的、所述投影光学系统的光学元件。
本发明的第三方面提供了一种物品制造方法,其包括:制备如第二方面所限定的曝光装置;使用所述曝光装置对基板进行曝光;对经过曝光的所述基板进行显影;以及通过处理经过显影的所述基板来获得物品。
通过以下参照附图对示例性实施例的描述,本发明的其他特征将变得清楚。
附图说明
图1A和图1B是示出根据第一实施例的驱动装置的布置的图;
图2A和图2B是示出根据第二实施例的驱动装置的布置的图;
图3是示出根据第三实施例的驱动装置的布置的图;以及
图4是示出根据实施例的曝光装置的布置的图。
具体实施方式
下文中将参照附图详细描述实施例。注意,以下实施例并不意图限制本发明的范围。在实施例中描述了多个特征,但并不限于需要所有这些特征的发明,而是可以适当组合这些特征。此外,在附图中,对相同或相似的构造赋予相同的附图标记,并且省略其冗余描述。
图1A是根据第一实施例的驱动装置DA的透视图,并且图1B是沿图1A中的线A-A截取的剖视图。驱动装置DA可以被构造为在支撑对象1的同时驱动待驱动对象1。对象1可以是例如光学元件。例如,光学元件可以是透镜、平行板玻璃、棱镜、反光镜、分划板和衍射光学元件(例如,二元光学元件)中的任何一个。对象1可以具有例如圆形形状或多边形(例如,矩形)形状。
驱动装置DA可以包括:保持对象1的保持构件2,经由弹性构件4支撑保持构件2的支撑构件3,以及驱动保持对象1的保持构件2的多个致动器5。驱动装置DA还可以包括非接触约束器6,非接触约束器6在与可驱动方向不同的非驱动方向上,约束保持构件2相对于支撑构件3的位置,可驱动方向为保持构件2可以由多个致动器5驱动的方向。保持构件2和支撑构件3中的各个可以具有与对象1的外部形状相似的图形中内接的形状。
作为保持构件2可以由多个致动器5驱动的方向的可驱动方向可以是通过由多个致动器5驱动保持构件2而引起的保持构件2的位移方向。对象1的位移跟随保持对象1的保持构件2的位移。位移可以包括平行平移(平移运动)和旋转。通过由多个致动器5驱动保持构件2而引起的保持构件2的位移方向可以通过由多个致动器5赋予保持构件2的力的合力来决定。因此,作为保持构件2可以由多个致动器5驱动的方向的可驱动方向可以包括多个方向。非驱动方向是与该多个方向中的任何方向不同的方向。
例如,可驱动方向可以是沿预定平面的任意方向,而非驱动方向可以是与预定平面正交的方向。可驱动方向可以包括沿预定平面的平移方向和围绕与预定平面正交的轴的旋转方向中的至少一个。作为多个致动器5中的各个致动器对保持构件2施加推力的方向的单独的驱动方向可以包括在可驱动方向(其中包括的多个方向)中。
弹性构件4可以具有如下特性、结构或形状:弹性构件4在可驱动方向或可驱动方向的特定方向上容易变形,但在非驱动方向上难以变形。弹性构件4可以是例如板弹簧,但是可以具有其他结构。在第一实施例中,保持对象1的保持构件2在非驱动方向经由多个弹性构件4由支撑构件3支撑并由非接触约束器6约束或支撑。弹性构件4可以在弹性构件4中包括多个变形部分,以便能够改变对支撑构件2施加的力的方向和/或使力增倍。在图1A和图1B所示的示例中,三个弹性构件4被安装在驱动装置DA上。然而,驱动装置DA只需要包括在属于可驱动方向的多个方向上可变形的至少一个弹性构件4。在示例中,可以配设多个弹性构件4,使得一个弹性构件4对应于一个致动器5。
在图1A和图1B所示的示例中,各个致动器5被构造为经由弹性构件4对保持构件2施加力。然而,各个致动器5可以被布置成对保持构件2施加力而在各个致动器5与保持构件2间未介入有弹性构件4,或者各个致动器5可以被布置成直接对保持构件2施加力。在这种情况下,对象1被驱动,使得由多个致动器5中的各个致动器向对象1施加的力和由多个弹性构件4中的各个弹性构件向对象1施加的回复力达到平衡。多个致动器5中的一些致动器可以被布置成经由弹性构件4对保持构件2施加力,并且多个致动器5中的其余致动器可以被布置成对保持构件2施加力而在该其余致动器与保持构件2间未介入有弹性构件4。
在图1A和图1B所示的示例中,多个致动器5中的各个致动器的推力方向指向对象1的中心,并且形成可以在一个平面中驱动对象1的多轴驱动机构。在图1A和图1B所示的示例中,配设了三个致动器5。然而,为了使保持构件2(对象1)在多个方向上移位,只需要配设至少与驱动自由度相同数量的致动器5。致动器5的安装位置、数量和推力方向可以根据多轴驱动机构所需的规格来决定。
非接触约束器6可以在非驱动方向上以非接触方式约束或支撑保持构件2。从另一个角度来看,支撑构件3可以在非驱动方向上,经由非接触约束器6以非接触方式约束或支撑保持构件2。非接触约束器6由支撑构件3支撑。非接触约束器6可以被构造为在非驱动方向上经由间隙将对象1的一部分夹在中间。在图1A和图1B所示的示例中,非接触约束器6被构造为在一个平面中约束对象1,但由非接触约束器6约束的对象1的姿态的自由度可以任意决定。例如,非接触约束器6可以是多轴驱动机构,其在非驱动方向上以非接触方式约束对象1的端部。
例如,非接触约束器6可以包括气体型约束器,其通过压缩空气的压力约束或支撑保持构件2。另选地,非接触约束器6可以包括磁铁型约束器,其通过磁力约束或支撑保持构件2。气体型约束器可以是在固定侧配设有由孔口或多孔材料形成的流路并注入压缩空气的静态压力型约束器,或者可以是通过驱动可移动体来压缩空气的动态压力型约束器。静态压力型约束器适用于由弹性构件4调节驱动量的形式。保持构件2可以不使用气体而使用液体进行约束或支撑,但在这种情况下,摩擦的影响增大,使得定位精度会降低。此外,当使用液体时,需要密封结构和液体收集结构。注意,当使用滚动体代替液体时,通过对滚动表面的一部分进行微小的重复驱动,会出现诸如润滑不均匀的问题。
根据非接触约束器6在非驱动方向上以非接触方式约束或支撑保持构件2的结构,可以在不因摩擦而劣化驱动精度的情况下提高非驱动方向上的刚度。
如上所述,根据第一实施例,可以增大非驱动方向上的刚度与驱动方向上的刚度的比率。因此,可以抑制:在致动器的推力方向上的驱动误差,以及可能由于在弹性构件的制造和装配中的误差而生成的在非驱动方向上的驱动误差。此外,可以抑制由周围的振动而引起的非驱动方向上的位置稳定性的降低。此外,通过非接触约束器6确保非驱动方向上的刚度,也可以降低弹性构件4的刚度。这样,可以在不增大推力的情况下增大位移量,并且可以减小弹性构件的变形部分的应力。这可以增大驱动行程。此外,由于弹性构件在不对其施加力的状态下具有位置再现性,因此不对弹性构件施加力的状态可以用作驱动装置的半位置。
图2A是根据第二实施例的驱动装置DA的透视图,并且图2B是沿图2A中的线B-B截取的剖视图。作为第二实施例未提及的事项可以遵循第一实施例。驱动装置DA可以被构造为在支撑光学元件7的同时驱动作为待驱动对象的光学元件7。例如,光学元件7可以是透镜、平行板玻璃、棱镜、反光镜、分划板和衍射光学元件(例如,二元光学元件)中的任何一个。光学元件7具有光轴8。在图2A和图2B所示的示例中,光学元件7具有以光轴8为中心的圆盘形状,但光轴8的位置和光学元件7的形状因应用而异。例如,当光学元件7为分划板时,其一般具有矩形的形状。
驱动装置DA可以包括:保持光学元件7的保持构件2,经由弹性构件4支撑保持构件2的支撑构件3,以及驱动保持光学元件7的保持构件2的多个致动器5。驱动装置DA还可以包括非接触约束器6,非接触约束器6在与可驱动方向不同的非驱动方向上,以非接触方式约束保持构件2相对于支撑构件3的位置,可驱动方向为保持构件2可以由多个致动器5驱动的方向。作为保持构件2可以由多个致动器5驱动的方向的可驱动方向可以是通过由多个致动器5驱动保持构件2而引起的保持构件2的位移方向。光学元件7的位移跟随保持光学元件7的保持构件2的位移。
在图2A和图2B所示的示例中,多个致动器5中的各个致动器的推力方向指向光学元件7的中心,使得保持构件2(光学元件7)可以相对于在与光轴8正交的平面中的两个平移轴被驱动。如果多个致动器5中的各个致动器的推力方向与光学元件7的切线方向平行,则光学元件7可以相对于在与光轴8正交的平面中的两个平移轴被驱动,并绕光轴8旋转。在图2A和图2B所示的示例中,多轴驱动机构由三个弹性构件4和三个致动器5形成,但弹性构件4的数量和致动器5的数量可以根据多轴驱动机构所需的规格决定。
非接触约束器6可以被构造为在平行于光轴8的方向上约束或支撑保持构件2。非接触约束器6可以包括在相同方向(平行于光轴8的方向)上对保持构件2施加力的第一部分6a和第二部分6b。第一部分6a和第二部分6b可以布置在与光轴8正交的方向或光学元件7的径向方向上。第一部分6a和第二部分6b中的一个可以对保持构件2施加排斥力,另一个可以对保持构件2施加吸引力。这样的布置有利于减小非接触约束器6或驱动装置DA的厚度。
在包含驱动装置DA的光学系统中,多个光学元件可以被布置在从物平面到像平面的空间中。在曝光装置的投影光学系统的情况下,例如,可以布置约10至30个光学元件,并且可以将布置在物平面上的分划板的图案投影到像平面上。在这样的包含大量光学元件的光学系统中,期望减小驱动装置DA在平行于光轴8的方向上的厚度。
当在平行于光轴8的方向上的外部干扰被添加到驱动装置DA时,需要形成非接触约束器6的第一部分6a和第二部分6b通过平衡排斥力和吸引力来维持保持构件2的约束状态。第一部分6a和第二部分6b中的一个可以使用气体生成用于约束保持构件2的力,而第一部分6a和第二部分6b中的另一个可以使用磁力生成用于约束保持构件2的力。例如,第一部分6a和第二部分6b中的一个可以形成为排斥力生成器,其通过向非接触约束器6与保持构件2之间的间隙供给压缩空气,来生成在用于增大该间隙的方向上的力,即排斥力。第一部分6a和第二部分6b中的另一个可以形成为吸引力生成器,其通过磁力来生成在用于减小非接触约束器6与保持构件2之间的间隙的方向的力,即吸引力。排斥力生成器和吸引力生成器中的各个可以被形成为具有环形形状。排斥力生成器优选被布置在吸引力生成器的内侧。
在示例中,第一部分6a和第二部分6b中的各个具有环形形状,第一部分6a被布置在第二部分6b的内侧,第一部分6a被形成为通过气体生成排斥力的排斥力生成器,并且第二部分6b被形成为通过磁力生成吸引力的吸引力生成器。第一部分6a和第二部分6b可以同心地布置。利用上述布置,通过非接触约束器6经由保持构件2对光学元件7造成的畸变(变形)可以被限制在关于光轴8轴对称的部件。在包含光学元件7或驱动装置DA的光学系统中,可以容易地校正由于光学元件7的轴对称畸变(变形)而生成的光学系统的像差。这可以通过调整形成光学系统的多个光学元件中的至少一个光学元件在光轴方向上的位置、或通过驱动用于校正像平面像差或球面像差的光学元件来进行。
在没有施加力的状态下,弹性构件4具有很高的位置再现性。在致动器5未运行的状态下(在由致动器5生成的力为零的状态下),光学元件7被布置在由弹性构件4的位移平衡位置决定的位置。由弹性构件4的位移平衡位置确定的光学元件7的位置可以用作基准位置。如果光学元件7处于基准位置,则可以在这种状态下推进光学系统的装配。在光学元件被安装在装置(例如曝光装置)上之后,当恢复装置的性能时,基准位置可以被用作驱动设备DA的位置原点。
为了高精度地再现基准位置,最好是在切断对致动器5的电力供给以去除由致动器5生成的力的状态下,致动器5没有损害弹性构件4的位置再现性的阻抗。损害弹性构件4的位置再现性的阻抗可以是,例如,在切断对致动器5的电力供给的状态下的保持力。例如,存在谐波齿轮和线性运动螺杆(各自由摩擦力保持)、发挥自锁效应的蜗轮等。线性电机是合适的,因为其由非接触线圈和磁铁形成,并使用由电流供给生成的力作为推力。叠层压电元件根据电压供给生成延伸的推力,并且没有内阻抗。因此,可以在注意到特定的迟滞性的同时,使用叠层压电元件。甚至可以使用其他致动器,除非在切断电力供给的状态下的内阻抗防止弹性构件4使光学元件7返回到基准位置。
在图2A和图2B所示的驱动装置DA中,弹性构件4和非接触约束器6二者均在平行于光轴8的方向上约束或支撑保持构件2,驱动装置DA的整体支撑刚度可以被视为弹性构件4和非接触约束器6的平行支撑刚度。因此,弹性构件4在非驱动方向上的刚度优选小于非接触约束器6在非驱动方向上的刚度。例如,如下布置有利于装配、运输和储存:在未运行排斥力生成器的状态下,保持构件2在由于吸引力生成器生成的吸引力而与支撑构件3和非接触约束器6中的至少一个接触的同时由支撑构件3支撑。
在第二实施例中,由非接触约束器6增大非驱动方向上的刚度。另一方面,当通过致动器5增大光学元件7的驱动行程时,驱动方向上的刚度会相应减小。因此,在切断对具有位置保持功能的致动器5的电力供给的情况下,例如在光学系统的装配、运输和储存期间,光学元件7会由于外部干扰而大幅振动。特别是,在应用于曝光装置时,在运输期间对投影光学系统的冲击比在正常使用期间由曝光装置内的投影光学系统接收的冲击大得多,并且保持构件2会与调节可移动范围的限制部件多次碰撞。然而,由于驱动装置DA包含在投影光学系统中,因此很难拆卸用于固定保持构件2的部件。因此,在装配、运输和储存期间,在不运行排斥力生成器的情况下由吸引力生成器固定保持构件2的上述布置有利于投影光学系统的装配、运输和储存。
图3是根据第三实施例的驱动装置DA的透视图。作为第三实施例未提及的事项可以遵循第二实施例。根据第三实施例的驱动装置DA具有如下布置:控制器10和一个或多个传感器9被添加到根据第二实施例的驱动装置DA。一个或多个传感器9可以被构造为检测光学元件7或保持构件2相对于支撑构件3的相对位置的变化量、或者光学元件7或保持构件2相对于支撑构件3的相对位置。传感器9可以是例如位移传感器。
控制器10可以被构造为基于来自一个或多个传感器9的输出进行多个致动器5的反馈控制,使得光学元件7或保持构件2达到目标状态(目标位置和/或目标旋转角度)。由此,例如,可以将光学系统(诸如包含光学元件7或驱动装置DA的投影光学系统)的性能维持在目标性能。
图4示出了包括投影光学系统15的曝光装置100的布置,该投影光学系统15包含由第二实施例或第三实施例代表的驱动装置DA。曝光装置100被构造为通过投影光学系统15将原版(分划板)12的图案投影到基板(晶片)19上,从而使基板19曝光。
除了投影光学系统15之外,曝光装置100还可以包括例如照明光学系统11、原版台13、基板台16、原版位置测量设备14、基板位置测量设备17、焦点测量设备20等。照明光学系统11照亮由原版台13保持的原版12,并且投影光学系统15将被照亮的原版12的图案投影到由基板台16的基板卡盘18保持的基板19上。原版位置测量设备14测量原版台13的位置。基板位置测量设备17测量基板平台16的位置。焦点测量设备20测量基板19的高度。
投影光学系统15可以包含光学元件7和至少一个驱动装置DA。驱动装置DA有利于以高精度调整光学元件7的位置。为输送投影光学系统15而拆卸投影光学系统15的工作以及在输送后装配投影光学系统15的工作需要很长时间。通过在投影光学系统15中包含驱动装置DA,可以不需要拆卸和装配投影光学系统15。
下面将描述使用曝光装置100制造物品的物品制造方法。物品可以是例如半导体设备或显示设备,但可以是其他设备。该物品制造方法可以包括:制备曝光装置100的制备步骤,使用曝光装置100对基板进行曝光的曝光步骤,对在曝光步骤中曝光的基板进行显影的显影步骤,以及通过处理经过显影步骤的基板来获得物品的处理步骤。要提供给曝光步骤的基板包括感光材料,并且通过曝光步骤中的曝光在感光材料中形成潜像。通过显影步骤将潜像转换为物理图案。处理步骤可以包括例如蚀刻步骤、成膜步骤、切割步骤等。通常,反复进行曝光步骤和显影步骤。该物品制造方法有利于在短时间内制备和调整曝光装置100并相应地在短时间内制造物品。
虽然参照示例性实施例对本发明进行了描述,但是应当理解,本发明并不限于所公开的示例性实施例。应当对所附权利要求的范围给予最宽的解释,以使其涵盖所有这些变型例和等同的结构和功能。

Claims (20)

1.一种驱动装置,其包括:
保持构件,其被构造为保持待驱动对象;
支撑构件,其被构造为经由弹性构件支撑所述保持构件;
多个致动器,其被构造为驱动保持所述待驱动对象的所述保持构件;以及
约束器,其被构造为,在非驱动方向上,以非接触方式约束所述保持构件相对于所述支撑构件的位置,所述非驱动方向不同于可驱动方向,所述可驱动方向为所述保持构件能够由所述多个致动器驱动的方向。
2.根据权利要求1所述的驱动装置,其中,
所述多个致动器中的各个致动器在沿预定平面的方向上对所述保持构件施加力,并且所述非驱动方向是与所述预定平面正交的方向。
3.根据权利要求2所述的驱动装置,其中,
所述可驱动方向包括沿所述预定平面的平移方向。
4.根据权利要求2所述的驱动装置,其中,
所述可驱动方向包括绕与所述预定平面正交的轴的旋转方向。
5.根据权利要求2所述的驱动装置,其中,
所述可驱动方向包括沿所述预定平面的平移方向和绕与所述预定平面正交的轴的旋转方向。
6.根据权利要求1所述的驱动装置,其中,
所述支撑构件经由包括所述弹性构件的多个弹性构件支撑所述保持构件,并且
所述多个致动器中的各个致动器经由所述多个弹性构件中的至少一个弹性构件驱动所述保持构件。
7.根据权利要求1所述的驱动装置,其中,
所述支撑构件经由包括所述弹性构件的多个弹性构件支撑所述保持构件,并且
所述多个致动器和所述多个弹性构件被配设为,使得一个弹性构件对应于一个致动器,并且各致动器经由对应的弹性构件驱动所述保持构件。
8.根据权利要求1所述的驱动装置,其中,
所述支撑构件经由包括所述弹性构件的多个弹性构件支撑所述保持构件,并且
所述多个致动器中的各个致动器驱动所述保持构件而在所述各个致动器与所述保持构件间未介入有所述多个弹性构件中的任一个。
9.根据权利要求1所述的驱动装置,其中,
所述约束器使用气体约束所述保持构件。
10.根据权利要求1所述的驱动装置,其中,
所述约束器使用磁力约束所述保持构件。
11.根据权利要求1所述的驱动装置,其中,
所述约束器使用磁力和气体约束所述保持构件。
12.根据权利要求1所述的驱动装置,其中,
在所述多个致动器未运行的状态下,所述待驱动对象被布置在由所述弹性构件的位移平衡位置确定的位置。
13.根据权利要求11所述的驱动装置,其中,
所述约束器包括:被构造为通过气体生成排斥力的排斥力生成器,以及被构造为通过磁力生成吸引力的吸引力生成器。
14.根据权利要求13所述的驱动装置,其中,
所述排斥力生成器和所述吸引力生成器中的各个具有环形形状。
15.根据权利要求14所述的驱动装置,其中,
所述排斥力生成器被布置在所述吸引力生成器的内侧。
16.根据权利要求14所述的驱动装置,其中,
在所述排斥力生成器未运行的状态下,所述保持构件在与所述支撑构件和所述约束器中的至少一个接触的同时由所述支撑构件支撑。
17.根据权利要求1至16中的任一项所述的驱动装置,其中,
所述弹性构件在所述非驱动方向上的刚度小于所述约束器在所述非驱动方向上的刚度。
18.根据权利要求1至16中的任一项所述的驱动装置,所述驱动装置还包括:
传感器,其被构造为检测所述保持构件相对于所述支撑构件的相对位置,
其中,基于所述传感器的输出来控制所述多个致动器。
19.一种曝光装置,其包括将原版的图案投影到基板上的投影光学系统,其中,
所述投影光学系统包括根据权利要求1至16中的任一项所限定的驱动装置,并且
所述驱动装置被构造为,驱动作为待驱动对象的、所述投影光学系统的光学元件。
20.一种物品制造方法,其包括:
制备根据权利要求19所限定的曝光装置;
使用所述曝光装置对基板进行曝光;
对经过曝光的所述基板进行显影;以及
通过处理经过显影的所述基板来获得物品。
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JPH10206714A (ja) * 1997-01-20 1998-08-07 Canon Inc レンズ移動装置
US6556364B2 (en) * 2000-04-25 2003-04-29 Michael F. Meehan Apparatus, system, and method for precision positioning and alignment of a lens in an optical system
JP2003172858A (ja) * 2001-12-06 2003-06-20 Nikon Corp 光学部品保持装置及び露光装置
JP3805323B2 (ja) * 2003-05-21 2006-08-02 キヤノン株式会社 露光装置、収差低減方法及び光学部材調整機構
JP2006113414A (ja) * 2004-10-18 2006-04-27 Canon Inc 光学素子保持装置、鏡筒、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法

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