JP4586731B2 - 光学素子保持装置、鏡筒、露光装置、及びデバイスの製造方法 - Google Patents
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Description
さらに、本発明のその上の目的は、高集積度のデバイスの歩留まりを向上することのできるデバイスの製造方法を提供することにある。
本発明の第3の態様は、マスク上に形成された所定のパターンの像を基板上に転写する露光装置において、所定のパターンの像を基板上に転写するための本発明の第2の態様の鏡筒を備える露光装置を特徴とする。
図2は、光学素子保持装置38を示す斜視図であり、図3は、光学素子保持装置38の平面図であり、図4は、図3の4−4線における断面図である。光学素子37は、合成石英、蛍石等の所定以上の破壊強度を有する硝材からなり、光学素子37の周縁部には、図4に示すように、フランジ37aが形成されている。図2に示すように、光学素子保持装置38は、積層される他の鏡筒モジュール39aとの接合部としての役割を有する締結部40を有する枠部材41と、支持部材42を介して光学素子37を保持する保持部材としての役割を有するレンズ枠体43とを備える。
(1) この光学素子保持装置38では、光学素子37の位置を調整する変位モジュール82と枠部材41との間にOリング88,90が設けられている。このため、光学素子37の位置調整を行う際に、枠部材41の内部の気密性を維持することができる。これにより、露光装置31においては、露光精度を向上させることができる。
なお、本発明の実施形態は、以下のように変形してもよい。
・ 前記実施形態では、変位モジュール82における駆動力Fを調整するために、調整ワッシャ85及び調整ボタン86を適宜選択して、調整ワッシャ85及び調整ボタン86を交換し、変位ロッド84を変位させる。これに対して、変位モジュール82内に、例えばマイクロメータを装備して、そのマイクロメータの進退により変位ロッド84を変位させてもよい。このようにした場合、駆動力Fの調整作業が容易なものとなるとともに、微調整も容易なものとすることができる。
・ 前記実施形態において、光学素子37の姿勢を検出するセンサを光学素子保持装置38に設けてもよい。このようにした場合、光学素子37のより正確な姿勢制御ができる。
・ 前記実施形態において、レンズ枠体43を省略して、アーム53a1,53a2,53b1,53b2,53c1,53c2の第1端部を、素子側ピボット58を介して支持部材42に直接連結してもよい。
・ この発明の光学素子保持装置38は、前記実施形態の露光装置31の投影光学系35における横置きタイプの光学素子37の保持構成に限定されるものではない。例えば露光装置31の照明光学系33における光学素子の保持構成、縦置きタイプの光学素子37の保持構成に本発明を具体化してもよい。さらに、他の光学機械、例えば顕微鏡、干渉計等の光学系における光学素子の保持構成に本発明を具体化してもよい。
半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、EUV露光装置、X線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクルまたはマスクを製造するために、マザーレチクルからガラス基板又はシリコンウエハへ回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。例えば、DUV(深紫外)又はVUV(真空紫外)光を用いる露光装置では一般に透過型レチクルが用いられ、レチクル基板としては、石英ガラス、フッ素がドープされた石英ガラス、蛍石、フッ化マグネシウム、または水晶などが用いられる。例えば、プロキシミティ方式のX線露光装置又は電子線露光装置では、透過型マスク(ステンシルマスク、メンバレンマスク)が用いられ、マスク基板としてはシリコンウエハが用いられる。
すなわち、まず、照明光学系33、投影光学系35を構成する複数のレンズまたはミラー等の光学素子37の少なくとも一部を前記実施形態または前記各変形例の光学素子保持装置38で保持し、この照明光学系33及び投影光学系35を露光装置31の本体に組み込み、光学調整を行う。次いで、多数の機械部品からなるウエハステージ36(スキャンタイプの露光装置の場合は、レチクルステージ34も含む)を露光装置31の本体に取り付けて配線を接続する。そして、露光光の光路内にガスを供給するガス供給配管を接続した上で、さらに総合調整(電気調整、動作確認など)を行う。
図10は、デバイス(例えば、IC又はLSI等の半導体素子、液晶表示素子、撮像素子(例えば、CCD)、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等)の製造例を示すフローチャートである。図10に示すように、まず、ステップS201(設計ステップ)において、デバイス(マイクロデバイス)の機能及び性能設計(例えば、半導体デバイスの回路設計等)を行い、その機能を実現するためのパターン設計を行う。引き続き、ステップS202(マスク製作ステップ)において、設計した回路パターンを有するマスク(レクチルRt等)を製作する。ステップS203(基板製造ステップ)において、シリコン、ガラスプレート等の材料を用いて基板(シリコン材料を用いた場合にはウエハW)を製造する。
以上説明した本実施形態のデバイス製造方法を用いれば、露光工程(ステップS216)において上記の露光装置31が用いられ、真空紫外域の露光光ELにより解像力の向上が可能となり、しかも露光量制御を高精度に行うことができる。従って、結果的に最小線幅が0.1μm程度の高集積度のデバイスを歩留まりよく生産することができる。
Claims (14)
- 枠部材と、該枠部材の内側に設けられ、光学素子を保持する保持部材とを備える光学素子保持装置において、
前記保持部材と前記枠部材との間に設けられ、前記保持部材に保持された前記光学素子の姿勢を調整する姿勢調整機構と、前記枠部材に設けられた開口部内に収容される第1の調整部品と、前記開口部内に収容される第2の調整部品と、前記第2の調整部品と前記枠部材との間に設けられた第1のシール部材とを備え、
前記第2の調整部品は、前記姿勢調整機構に係合し、前記第1の調整部品は、前記開口部内における前記第2の調整部品の変位量を調整することを特徴とする光学素子保持装置。 - 前記枠部材は、他の枠部材に接合するための接合部を有し、前記枠部材は、前記他の枠部材と前記接合部との間に設けられた第2のシール部材を備えることを特徴とする請求項1に記載の光学素子保持装置。
- 前記第2のシール部材は、前記光学素子の光軸を中心とする円に沿って配置されるOリングを含むことを特徴とする請求項2に記載の光学素子保持装置。
- 前記Oリングは、前記接合部に密着され、かつ弾性変形可能な中空構造を有することを特徴とする請求項3に記載の光学素子保持装置。
- 前記第1の調整部品及び前記第2の調整部品は、前記開口部内に、前記枠部材の内側から外側に向かって、前記第2の調整部品、前記第1の調整部品の順に配置され、前記第1の調整部品を前記開口部から取り外した際、前記第2の調整部品が前記開口部内に留置されることを特徴とする請求項1〜請求項4のうちいずれか一項に記載の光学素子保持装置。
- 前記第1の調整部品は、厚さが異なる複数の第1の調整部品の一つであり、前記第1の調整部品を交換することにより、前記開口部内における前記第2の調整部品の変位量が調整されることを特徴とする請求項1〜請求項5のうちいずれか一項に記載の光学素子保持装置。
- 前記第1の調整部品は、前記開口部内における前記第2の調整部品の変位量を粗調整する粗調整部品と、前記第2の調整部品の変位量を微調整する微調整部品とを含むことを特徴とする請求項6に記載の光学素子保持装置。
- 前記第1のシール部材は、前記第2の調整部品の外周面と、前記開口部の内周面との間に配置されることを特徴とする請求項1〜請求項7のうちいずれか一項に記載の光学素子保持装置。
- 前記開口部内に設けられ、前記第2の調整部品を収容する筒状体を備え、前記第1のシール部材は、前記第2の調整部品の外周面と前記筒状体の内周面との間に設けられることを特徴とする請求項1〜請求項8のうちいずれか一項に記載の光学素子保持装置。
- 前記開口部と前記筒状体との間に設けられるOリングを有することを特徴とする請求項9に記載の光学素子保持装置。
- 少なくとも1つの光学素子を収容する鏡筒において、
前記光学素子の少なくとも1つを保持する、請求項1〜請求項10のうちいずれか一項に記載の光学素子保持装置を備えることを特徴とする鏡筒。 - 前記光学素子は、マスク上に形成された所定のパターンの像を基板上に投影する投影光学系を構成する複数の光学素子の一つであることを特徴とする請求項11に記載の鏡筒。
- マスク上に形成された所定のパターンの像を基板上に転写する露光装置において、
前記所定のパターンの像を前記基板上に転写するための請求項12に記載の鏡筒を備えることを特徴とする露光装置。 - デバイスの製造方法において、
請求項13に記載の露光装置を用いて露光を行うリソグラフィ工程を備えることを特徴とするデバイスの製造方法。
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