JP4655520B2 - 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにデバイスの製造方法 - Google Patents
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Description
この請求項2に記載の発明では、請求項1に記載の発明の作用に加えて、駆動レバーを、枠部材の内部において枠部材の大型化を回避しつつ収容することができるという作用が奏される。
また、請求項6に記載の発明は、請求項5に記載の発明において、前記第1シール部材は、前記第2の穴と前記変位ロッドとの間に配置されることを特徴とするものである。
また、本願請求項7に記載の発明は、請求項1〜請求項6のうちいずれか一項に記載の発明において、前記枠部材の一方の端面または他方の端面の少なくとも一つと、積層される他の枠部材の端面との間に設けられる第2シール部材を備えることを特徴とするものである。
また、本願請求項14に記載の発明は、リソグラフィ工程を含むデバイスの製造方法において、前記リソグラフィ工程で請求項13に記載の露光装置を用いて露光を行うことを特徴とするものである。
次に、前記各請求項に記載の発明にさらに含まれる技術的思想について、それらの作用とともに以下に記載する。
(2) 前記摺動部材は、前記光学素子の光軸と交差する方向には剛性を有するとともに、前記光学素子の光軸方向には可撓性を有するものであることを特徴とする前記(1)に記載の光学素子保持装置。
(4) 前記振動吸収機構は、前記板バネを前記枠部材または前記保持部材の他方に対して付勢する付勢機構を有することを特徴とする前記(3)に記載の光学素子保持装置。
(5) 前記付勢機構は、前記板バネの付勢力を調整する調整機構を有することを特徴とする前記(4)に記載の光学素子保持装置。
インナリング33の外周部には、フレクシャ部材34の接続ブロック48が取り付けられるフレクシャ取付部46が外方に延出するように形成されている。
(ア) この光学素子保持装置28では、インナリング33に連結されるとともに、アウタリング32の内壁38に取り付けられ、光学素子27の位置を調整するフレクシャ部材34が設けられている。そして、アウタリング32に形成された貫通孔73内には、光学素子27の位置を調整するための調整力をフレクシャ部材34に与える変位ロッド79、調整軸82が設けられている。さらに、変位ロッド79とアウタリング32との間に設けられ、貫通孔73を介したアウタリング32の内側と外側とにおけるガスの流通を抑制する中空Oリング88が設けられている。
このため、内部の気密性を高く保ったままで、多くの光学素子27の姿勢を細かく調整することができる。また、鏡筒29内部の不活性ガスでの置換状態を乱すことなく、光学素子27の位置を調整することができる。特に、200nm以下の波長を有する露光光ELを使用する露光装置21においては、鏡筒29の内部に収容された光学系を迅速に調整することができるだけでなく、その後の露光装置21のダウンタイムの大幅に削減することができる。
なお、本発明の実施形態は、以下のように変形してもよい。
・ 前記実施形態では、変位ロッド79と第2の穴78との間に、中空Oリング88を介装したが、このOリングを、中実構造のものとしてもよい。また、この中空Oリング88に代えて、例えば磁性流体シールを用いてもよい。このようにした場合、ヒステリシス要素が排除されるため、露光装置21の動作中に光学素子27の姿勢を制御するような構成において、特に有効である。
・ 前記実施形態において、光学素子27の姿勢を検出するセンサを設けてもよい。このようにした場合、光学素子27のより正確な姿勢制御ができるようになる。
・ 前記実施形態では、変位ロッド79の光学素子27の光軸方向への移動により、各駆動レバー36a,36bに調整力F1,F2を与える構成とした。これに対して、例えば変位ロッド79を、回転させること、または光学素子27の径方向またはその他の方向に移動させること、各駆動レバー36a,36bに調整力F1,F2を与えるような構成としてもよい。
・ この発明の光学素子保持装置28は、前記実施形態の露光装置21の投影光学系25における横置きタイプの光学素子27の保持構成に限定されることなく、例えば露光装置21の照明光学系23における光学素子の保持構成、縦置きタイプの光学素子27の保持構成に具体化してもよい。さらに、他の光学機械、例えば顕微鏡、干渉計等の光学系における光学素子の保持構成に具体化してもよい。
また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、EUV露光装置、X線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクルまたはマスクを製造するために、マザーレチクルからガラス基板やシリコンウエハなどへ回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。ここで、DUV(深紫外)やVUV(真空紫外)光などを用いる露光装置では一般に透過型レチクルが用いられ、レチクル基板としては、石英ガラス、フッ素がドープされた石英ガラス、蛍石、フッ化マグネシウム、または水晶などが用いられる。また、プロキシミティ方式のX線露光装置や電子線露光装置などでは、透過型マスク(ステンシルマスク、メンバレンマスク)が用いられ、マスク基板としてはシリコンウエハなどが用いられる。
すなわち、まず、照明光学系23、投影光学系25を構成する複数のレンズまたはミラー等の光学素子27の少なくとも一部を前記実施形態または前記各変形例の光学素子保持装置28で保持し、この照明光学系23及び投影光学系25を露光装置21の本体に組み込み、光学調整を行う。次いで、多数の機械部品からなるウエハステージ36(スキャンタイプの露光装置の場合は、レチクルステージ24も含む)を露光装置21の本体に取り付けて配線を接続する。そして、露光光の光路内にガスを供給するガス供給配管を接続した上で、さらに総合調整(電気調整、動作確認など)を行う。
図9は、デバイス(ICやLSI等の半導体素子、液晶表示素子、撮像素子(CCD等)、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等)の製造例のフローチャートを示す図である。図9に示すように、まず、ステップS201(設計ステップ)において、デバイス(マイクロデバイス)の機能・性能設計(例えば、半導体デバイスの回路設計等)を行い、その機能を実現するためのパターン設計を行う。引き続き、ステップS202(マスク製作ステップ)において、設計した回路パターンを形成したマスク(レクチルR等)を製作する。一方、ステップS203(基板製造ステップ)において、シリコン、ガラスプレート等の材料を用いて基板(シリコン材料を用いた場合にはウエハWとなる。)を製造する。
以上説明した本実施形態のデバイス製造方法を用いれば、露光工程(ステップS216)において上記の露光装置21が用いられ、真空紫外域の露光光ELにより解像力の向上が可能となり、しかも露光量制御を高精度に行うことができる。従って、結果的に最小線幅が0.1μm程度の高集積度のデバイスを歩留まりよく生産することができる。
Claims (14)
- 光学素子を保持する光学素子保持装置において、
枠部材と、
前記光学素子を保持する保持部材と、
前記枠部材の内側に設けられ、前記保持部材に連結されるフレクシャ部材と、
前記フレクシャ部材に設けられ、前記枠部材の内側に配置される駆動レバーと、
前記枠部材に形成された貫通孔内に設けられ、前記フレクシャ部材を介して、前記保持部材に保持された前記光学素子の位置を調整するための調整力を前記駆動レバーに与える変位ロッドと、
前記変位ロッドと前記枠部材との間に設けられ、前記貫通孔を介した前記枠部材の内側と外側とにおけるガスの流通を抑制する第1シール部材と、を備えたことを特徴とする光学素子保持装置。 - 前記枠部材の内壁に、前記駆動レバーを収容する収容溝を設けたことを特徴とする請求項1に記載の光学素子保持装置。
- 前記貫通孔は、前記枠部材の外壁面から内壁面に向かって凹んだ第1の穴と、前記第1の穴と前記収容溝を連通する第2の穴とを有することを特徴とする請求項2に記載の光学素子保持装置。
- 前記第2の穴は、前記光学素子の光軸と平行な方向に沿って形成され、
前記変位ロッドは、前記光学素子の光軸と平行な方向に沿って変位可能に、前記第2の穴に収容され、かつ前記光学素子の光軸と平行な方向の調整力を前記駆動レバーに与えることを特徴とする請求項3に記載の光学素子保持装置。 - 前記第1の穴に配置され、かつ調整軸を有する調整部材を備え、
前記変位ロッドは、前記調整部材に係合する一端部と、前記駆動レバーに係合する他端部とを有し、前記調整部材の移動に伴い、前記第2の穴の中を変位することを特徴とする請求項4に記載の光学素子保持装置。 - 前記第1シール部材は、前記第2の穴と前記変位ロッドとの間に配置されることを特徴とする請求項5に記載の光学素子保持装置。
- 前記枠部材の一方の端面または他方の端面の少なくとも一つと、積層される他の枠部材の端面との間に設けられる第2シール部材を備えることを特徴とする請求項1〜請求項6のうちいずれか一項に記載の光学素子保持装置。
- 前記保持部材及び前記フレクシャ部材は、前記枠部材の内側であって、かつ前記枠部材の一方の端面を含む面と、前記枠部材の他方の端面を含む面との間に配置されることを特徴とする請求項1〜請求項7のうちいずれか一項に記載の光学素子保持装置。
- 前記フレクシャ部材を介して前記保持部材に伝達される外部環境の振動を吸収する振動吸収機構を備えたことを特徴とする請求項1〜請求項8のうちいずれか一項に記載の光学素子保持装置。
- 前記振動吸収機構は、前記光学素子の位置を調整するときには前記枠部材と前記保持部材との相対移動を許容する摩擦力を有する摩擦機構を備えることを特徴とする請求項9に記載の光学素子保持装置。
- 少なくとも1つの光学素子を収容する鏡筒において、
前記光学素子の少なくとも1つを、請求項1〜請求項10のうちいずれか一項に記載の光学素子保持装置で保持したことを特徴とする鏡筒。 - 前記光学素子は、マスク上に形成された所定のパターンの像を基板上に投影する投影光学系を構成する複数の光学素子の一つであることを特徴とする請求項11に記載の鏡筒。
- マスク上に形成された所定のパターンの像を基板上に露光する露光装置において、
前記所定のパターンの像を請求項12に記載の鏡筒に収容された投影光学系を介して前記基板上に転写することを特徴とする露光装置。 - リソグラフィ工程を含むデバイスの製造方法において、
前記リソグラフィ工程で請求項13に記載の露光装置を用いて露光を行うことを特徴とするデバイスの製造方法。
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