JP2009065043A - 物体吊り下げ装置、露光装置及び吊り下げ支持方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】効率的に制御を行うことができると共に除振性の高い物体吊り下げ装置及び露光装置を提供すること。
【解決手段】吊り下げ部材を介して物体を第1方向に吊り下げる物体吊り下げ装置であって、前記物体と前記吊り下げ部材とが接続される位置を前記物体に対して相対的に移動させる位置調節装置を備える。
【選択図】図3
【解決手段】吊り下げ部材を介して物体を第1方向に吊り下げる物体吊り下げ装置であって、前記物体と前記吊り下げ部材とが接続される位置を前記物体に対して相対的に移動させる位置調節装置を備える。
【選択図】図3
Description
本発明は、物体吊り下げ装置、露光装置及び吊り下げ支持方法に関する。
半導体素子、液晶表示素子等を製造するリソグラフィ工程では、ステップ・アンド・リピート方式の縮小投影露光装置(いわゆるステッパ)や、ステップ・アンド・スキャン方式の走査型投影露光装置(いわゆるスキャニング・ステッパ)などの露光装置が用いられている。このような露光装置は、マスクを支持するマスクステージと、マスク上に形成されたパターンを投影する投影光学系と、基板を支持する基板ステージとを有しており、マスクステージ及び基板ステージを逐次移動しながらマスクのパターンを投影光学系を介して基板に転写するものである。
露光装置に設けられる投影光学系のうち、露光装置の外側のフレーム部材に吊り下げられて支持された構成になっているものが知られている(例えば、特許文献1参照。)。投影光学系を吊り下げる吊り下げ部材として、例えばチェーンやロッドなどが採用されている。
また、吊り下げ部材にはアクチュエータが設けられており、当該吊り下げ部材の位置や傾きを変化させることができるようになっている。このような露光装置においては、電気信号を伝送する配線群が例えば投影光学系に接続されている場合がある。この場合、配線群によって投影光学系には定常的に一定の推力(定常推力)が加えられることになるため、駆動時においては当該定常推力を考慮したうえで吊り下げ部材の位置を調節する必要がある。
国際公開第2006/038952号パンフレット
しかしながら、定常推力を考慮したうえで吊り下げ部材を駆動させる場合、吊り下げ部材のアクチュエータに複雑な制御を強いることになるため、好ましくない。
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、効率的に制御を行うことができる物体吊り下げ装置、露光装置及び吊り下げ支持方法を提供することにある。
本発明に係る物体吊り下げ装置及び露光装置では、上記課題を解決するために、実施の形態に示す各図に対応付けした以下の構成を採用している。但し、各要素に付した括弧付き符号はその要素の例示に過ぎず、各要素を限定するものではない。
本発明に係る物体吊り下げ装置(10)は、吊り下げ部材(35)を介して物体(PL)を第1方向に吊り下げる物体吊り下げ装置であって、前記物体と前記吊り下げ部材とが接続される位置を前記物体に対して相対的に移動させる位置調節装置(36)を備える。
本発明によれば、物体(PL)と吊り下げ部材(35)とが接続される位置を物体に対して相対的に移動させる位置調節装置(36)を備えることとしたので、物体と吊り下げ部材とを接続させたときに接続の位置が吊り下げ部材の鉛直方向に対してずれるように調節することができる。接続の位置が吊り下げ部材の鉛直方向に対してずれると、振り子の原理によって物体の接続の部分が吊り下げ部材の鉛直方向上の位置に移動しようとする力が働く。したがって、この力と上記の定常推力とがつり合うような位置になるように物体と吊り下げ部材との接続の位置を調節することで、見かけ上定常推力を打ち消すことができる。
本発明に係る露光装置(EX)は、上記の吊り下げ装置(10)を備える。
本発明によれば、効率的な制御が可能で除振性の高い吊り下げ装置(10)を備えているため、露光装置(EX)において上記構成によって吊り下げられた物体の制御の信頼性が向上し、振動の影響を最小限に抑えることができる。このため、露光精度を向上させることができる。
本発明によれば、効率的な制御が可能で除振性の高い吊り下げ装置(10)を備えているため、露光装置(EX)において上記構成によって吊り下げられた物体の制御の信頼性が向上し、振動の影響を最小限に抑えることができる。このため、露光精度を向上させることができる。
本発明に係る吊り下げ支持方法は、吊り下げ部材(35)を介して物体(EX)を第1方向に吊り下げて支持する吊り下げ支持方法であって、前記物体に加わる前記第1方向とは異なる第2方向の外力に応じて前記位置を設定することを特徴とする。
本発明によれば、第1方向に吊り下げられて支持された物体に加わる当該第1方向とは異なる第2方向の外力に応じて、物体(PL)と吊り下げ部材(35)とが接続される位置を設定するので、物体と吊り下げ部材とを接続させたときに接続の位置が吊り下げ部材の鉛直方向に対してずれるように調節することができる。このときに物体に働く力と上記の定常推力とがつり合うような位置になるように物体と吊り下げ部材との接続の位置を調節することで、見かけ上定常推力を打ち消すことができる。
本発明によれば、第1方向に吊り下げられて支持された物体に加わる当該第1方向とは異なる第2方向の外力に応じて、物体(PL)と吊り下げ部材(35)とが接続される位置を設定するので、物体と吊り下げ部材とを接続させたときに接続の位置が吊り下げ部材の鉛直方向に対してずれるように調節することができる。このときに物体に働く力と上記の定常推力とがつり合うような位置になるように物体と吊り下げ部材との接続の位置を調節することで、見かけ上定常推力を打ち消すことができる。
本発明によれば、効率的に制御を行うことができる。
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。
図1は、本発明の第1実施形態に係る露光装置EXの概略構成を示す図である。
同図に示す露光装置EXは、レチクルRとウエハWとを一次元方向に同期移動しつつ、レチクルRに形成されたパターンをウエハW上の各ショット領域に転写するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置、すなわち、いわゆるスキャニング・ステッパである。
図1は、本発明の第1実施形態に係る露光装置EXの概略構成を示す図である。
同図に示す露光装置EXは、レチクルRとウエハWとを一次元方向に同期移動しつつ、レチクルRに形成されたパターンをウエハW上の各ショット領域に転写するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置、すなわち、いわゆるスキャニング・ステッパである。
以下の説明においては、必要であれば図中にXYZ直交座標系を設定し、このXYZ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。図1に示すXYZ直交座標系は、X軸及びY軸がウェハWの移動面に平行な面に含まれるよう設定され、Z軸が投影光学系PLの光軸AXに沿う方向に設定されている。また、本実施形態ではレチクルR及びウェハWを同期移動させる方向(走査方向)をY方向に設定している。
この露光装置EXは、床面FL上に大小のペデスタル7A及び7Bを介して載置されており、露光光ELによりレチクルRを照明する照明光学系ILと、レチクルRを保持して移動可能なレチクルステージRSTと、レチクルRから射出される露光光ELをウエハW上に投射する投影光学系PLと、ウエハWを保持して移動可能なウエハステージWSTと、計測用ステージMSTと、投影光学系PL等を保持すると共にウエハステージWSTが搭載される本体コラムCLとを有しており、露光装置EXを統括的に制御する不図示の制御装置等を有している。
照明光学系ILは、レチクルステージRSTに支持されているレチクルRを露光光ELで照明する光学系である。この照明光学系ILは、小型のペデスタル7B上に設けられる露光用光源1から射出された露光光ELの照度を均一化する均一化光学系、ビームスプリッタ、光量調整用の可変減光器、ミラー、リレーレンズ系(これらは照明系チャンバ19A及び19B内に配置される)、レチクルR上の露光光ELによる照明領域をスリット状に設定するレチクルブラインド(射出端19C、入射端19Dに配置される)、結像レンズ系(照明チャンバ19E内に配置される)を有しており、レチクルR上の所定の照明領域をより均一な照度分布の露光光ELで照明可能となっている。露光用光源から射出される露光光ELとしては、例えば水銀ランプから射出される紫外域の輝線(g線、h線、i線)、KrFエキシマレーザ光(波長248nm)、ArFエキシマレーザ光(波長193nm)等の紫外光が用いられる。
レチクルステージRSTは、レチクルベース31上に不図示のエアベアリングを介して支持されており、レチクルRを支持しつつ投影光学系PLの光軸AXに垂直なXY平面内の2次元移動及びZ方向の回転角の調整を行うステージ装置である。レチクルステージRST上に支持されるレチクルRのXY方向の位置及びZ方向の回転角は、例えばレーザ干渉計10、移動鏡Mr及び参照鏡Meによってリアルタイムで測定され、その測定結果は不図示の制御装置に出力されるようになっている。レチクルステージRSTには、例えばリニアモータなどから構成される不図示の駆動系が設けられており、制御装置がレーザ干渉計10の測定結果に基づいてその駆動系を制御することで、レチクルステージRSTに支持されているレチクルRの位置決めが行われるようになっている。レチクルベース31は、防振装置30A及び30Bを介して本体コラムCLに支持されている。レチクルベース31上には、照明系チャンバ19Eを支持するコラム32が設けられている。コラム32の先端には照明系チャンバ19Eから射出される露光光ELを通過させる開口部が設けられており、この開口部内のうち露光光ELの光路に対するX方向両端部に一対のアライメント系21が設けられている。レチクルベース31の中央部底面には、投影光学系PLの上部を収容するための凹部が形成されており、この凹部には露光光ELを通過させる開口部が形成されている。
投影光学系PLは、レチクルRに形成されたパターンを所定の投影倍率でウエハWに投影露光する光学系であり、複数の光学素子が鏡筒17内に収容された構成になっている。投影光学系PLの上部は、本体コラムCLの上部の開口部CLa内を貫通し、レチクルベース31の上記凹部に収納されている。本実施形態において、投影光学系PLは、投影倍率βが例えば1/4あるいは1/5の縮小系である。この投影光学系PLは等倍系及び拡大系のいずれでもよい。鏡筒17の下端側(露光光ELの下流側)には、例えば平面視円形で平板状の計測マウント15が鏡筒17に固定されている。計測マウント15には、レーザ干渉計12Aを保持するセンサ用コラム34Aや、レーザ干渉計10及びレーザ干渉計12Bを保持するセンサ用コラム34B、不図示のアライメントシステムなどが固定されている。センサ用コラム34Bは、本体コラムCLの上部の開口部CLb内を貫通すると共に、上端がレチクルベース31の開口部31a内を貫通しレチクルベース31上に突出するように配置されている。計測フレーム15の下面には、ウエハW表面の複数の計測点にスリット像を投影する投射光学系23Aと、その表面からの反射光を受光してそれらスリット像の再結像の横ずれ量に関する情報を検出する受光光学系23Bとが固定されている。
鏡筒17のうち計測マウント15の上方には、例えば平面視矩形で平板状のフレーム部18が設けられている。フレーム部18は、3つの吊り下げ部材35A〜35Cに接続されている。吊り下げ部材35A〜35Cの下端はフレーム部18に接続されており、吊り下げ部材35A〜35Cの上端は本体コラムCLに接続されている。このように、フレーム部18及び鏡筒17を含めた投影光学系PLは、吊り下げ部材35A〜35Cにより本体コラムCLに吊り下げられて3点支持された状態になっている。フレーム部18上には各吊り下げ部材35A〜35Cの連結位置を調節する位置調節装置36A〜36Cが設けられており、上記3つの吊り下げ部材35A〜35Cはこの位置調節装置36A〜36Cを介してフレーム部18に接続されている。
図2は、フレーム部18上における吊り下げ部材35A〜35C及び位置調節装置36A〜36Cの配置を示す平面図である。
位置調節装置36A及び位置調節装置36Cは、フレーム部18のうち第1の辺(例えば図中下辺)18aに沿った位置に配置されている。このうち位置調節装置36Aは第1の辺18aの一端(例えば図中X方向の右端)に配置されており、位置調節装置36Cは第1の辺の他端(例えば図中X方向の左端)に配置されている。位置調節装置36Bは、第1の辺18aに対向する第2の辺(例えば図中上辺)18bに沿った位置であってこの第2の辺18bのX方向の中央に配置されている。
位置調節装置36A及び位置調節装置36Cは、フレーム部18のうち第1の辺(例えば図中下辺)18aに沿った位置に配置されている。このうち位置調節装置36Aは第1の辺18aの一端(例えば図中X方向の右端)に配置されており、位置調節装置36Cは第1の辺の他端(例えば図中X方向の左端)に配置されている。位置調節装置36Bは、第1の辺18aに対向する第2の辺(例えば図中上辺)18bに沿った位置であってこの第2の辺18bのX方向の中央に配置されている。
吊り下げ部材35Aは位置調節装置36Aに接続されており、吊り下げ部材35Bは位置調節装置36Bに接続されており、吊り下げ部材35Cは位置調節装置36Cに接続されている。吊り下げ部材35A〜35C及び位置調節装置36A〜36CのXY平面状の配置を上記のようにすることにより、フレーム部18はXY平面内において全ての方向に移動させ易いようになっている。
図1に戻って、吊り下げ部材35A〜35Cと本体コラムCL上部との接続部分にはそれぞれエアマウント37A〜37Cが設けられており、吊り下げ部材35A〜35Cは当該エアマウント37A〜37Cを介して本体コラムCLに接続されている。
このように、本実施形態では、物体としての投影光学系PLと、吊り下げ部材35A〜35Cと、位置調節装置36A〜36Cと、エアマウント37A〜37Cとによって物体吊り下げ装置10が構成されている。
このように、本実施形態では、物体としての投影光学系PLと、吊り下げ部材35A〜35Cと、位置調節装置36A〜36Cと、エアマウント37A〜37Cとによって物体吊り下げ装置10が構成されている。
本体コラムCLの上部底面の3箇所には、Z方向に伸びるコラム33が固定されている。これらのコラム33と投影光学系PLのフランジ部フレーム部18との間には、非接触方式の6自由度の位置決め装置が設けられている。また、フレーム部18には、電気信号を伝送する配線群19が取り付けられている。
ウエハステージWSTは、ウエハ定盤WB上にエアベアリングによって支持されており、ウエハWを保持しつつXY平面内で移動可能に案内されるようになっている。このウエハステージWSTは、不図示のリニアモータによってX方向、Y方向及びθZ方向の3自由度方向に移動可能になっている。ウエハステージWSTのX方向、Y方向及びθZ方向の位置は、レーザ干渉計12A、移動鏡Mw及び参照鏡Mf1によってリアルタイムで測定され、測定結果が制御装置に出力されるようになっている。
計測ステージMSTは、ウエハステージWSTと同様、ウエハ定盤WB上にエアベアリングによって支持されており、不図示のリニアモータによってウエハ定盤WB上にXY平面内で移動可能に支持・案内されるようになっている。計測ステージMSTのX方向、Y方向及びθZ方向の位置は、レーザ干渉計12B、移動鏡Mm及び参照鏡Mf2によってリアルタイムで測定され、測定結果が制御装置に出力されるようになっている。
計測ステージMSTは、ウエハステージWSTと同様、ウエハ定盤WB上にエアベアリングによって支持されており、不図示のリニアモータによってウエハ定盤WB上にXY平面内で移動可能に支持・案内されるようになっている。計測ステージMSTのX方向、Y方向及びθZ方向の位置は、レーザ干渉計12B、移動鏡Mm及び参照鏡Mf2によってリアルタイムで測定され、測定結果が制御装置に出力されるようになっている。
図3は、物体吊り下げ装置10の構成を概略的に示す図である。以下、物体吊り下げ装置10の構成を説明するに当たっては、上記の3組の吊り下げ部材35A〜35C、位置調節装置36A〜36C及びエアマウント37A〜37Cのうち1組の吊り下げ部材、位置調節装置及びエアマウントを例に挙げて説明することとする。この場合、各部を「吊り下げ部材35」「位置調節装置36」「エアマウント37」と表記する。
図3に示すように、吊り下げ部材35は、第1部材51と、第2部材52と、第3部材53とを有している。これら第1部材51、第2部材52及び第3部材53は、例えば金属などによって構成された剛体である。第1部材51の下端が位置調節装置36に接続されており、第1部材51の上端と第2部材52の下端とが連結されている。また、第2部材52の上端と第3部材53の下端とが連結されており、第3部材53の上端がエアマウント37に接続されている。また、第1部材51、第2部材52及び第3部材53のそれぞれには不図示のアクチュエータが取り付けられており、制御装置からの信号によってこれらの各部材の位置を独立して調節することが可能になっている。
図4は、位置調節装置36の構成及び当該位置調節装置36の近傍での吊り下げ部材35の構成を示す概略断面図である。
同図に示すように、第1部材51は、位置調節装置36の内部に設けられたベース51aと、第2部材52を連結させる連結部51bと、ベース51aと連結部51bとを接続する接続部51cと、連結部51bの上部に設けられたフランジ51dと、連結部51b内に設けられた球面状部材51eとを有している。接続部51cによってベース51aと連結部51bとが一体的に接続されており、ベース51aの移動に伴って連結部51bが移動するようになっている。フランジ51d及び連結部51bには、第2部材52の一部を貫通させる貫通孔51g及び貫通孔51hが設けられている。貫通孔51gは、図3の紙面の垂直方向に一定のマージン(隙間)が設けられている。球面状部材51eは、所定の径(r1とする)を有する球体によって構成されている。
同図に示すように、第1部材51は、位置調節装置36の内部に設けられたベース51aと、第2部材52を連結させる連結部51bと、ベース51aと連結部51bとを接続する接続部51cと、連結部51bの上部に設けられたフランジ51dと、連結部51b内に設けられた球面状部材51eとを有している。接続部51cによってベース51aと連結部51bとが一体的に接続されており、ベース51aの移動に伴って連結部51bが移動するようになっている。フランジ51d及び連結部51bには、第2部材52の一部を貫通させる貫通孔51g及び貫通孔51hが設けられている。貫通孔51gは、図3の紙面の垂直方向に一定のマージン(隙間)が設けられている。球面状部材51eは、所定の径(r1とする)を有する球体によって構成されている。
一方、第2部材52は、棒状部52aの下端に輪状部52bが設けられた構成になっている。輪状部52bは、第1部材51に設けられた貫通孔51g及び貫通孔51h内を貫通するように第1部材51に係合されている。輪状部52bには、滑り軸受52cが設けられている。滑り軸受52cは、球面状部材51eの径r1よりも大きい径r2を有する球面状の軸受面を備えている。輪状部52bが第1部材51に係合された状態において、滑り軸受52cが球面状部材51eを支持するようになっている。このとき、滑り軸受52cの径r2が球面状部材51eの径r1よりも大きいため、球面状部材51eと滑り軸受52cとが1点で接触することになる(点接触)。このとき、球面状部材51eと滑り軸受け52cとは球面転がり構造として機能させることができる。また、球面転がり構造ではなく、球面滑り構造として機能させることも可能である。
不図示のアクチュエータによって第1部材51と第2部材52とが相対移動する際には、球面状部材51eと滑り軸受け51cとの接触点を中心に回転方向(図3の左右方向(第2方向)及び図3の紙面の垂直方向(第2方向))を含め全方向に第1部材51及び第2部材52が回転するようになっている。球面状部材51eと滑り軸受け51cとの間が点接触であるため、回転移動の際の接触抵抗が低減され、当該回転方向についての吊り下げ部材35全体の剛性が低減されるようになっている。第1部材51と第2部材52とが連結された状態において、輪状部52bとフランジ51dとの間には隙間52dが形成されている。この隙間52dは、第1部材51と第2部材52とが相対移動する際のマージンである。
上記のように第1部材51と第2部材52とを連結することによって、図3の上下方向(第1方向)に対しては第1部材51と第2部材52との間の相対位置が規定されるようになっている。また、当該第1方向とは異なる方向、例えば、図3の左右方向(第2方向)及び図3の紙面の垂直方向(第2方向)を含む方向に関しては、第1部材51と第2部材52との間で相対運動が可能なようになっている。したがって、例えば、不図示のアクチュエータなどによって、第1部材51を第2部材52に対して変位させることが可能である。
また、図4に示すように、位置調節装置36は、平面視矩形の保持部材61と、例えばビスなどから構成され平面視で保持部材61の各辺に1つずつ設けられた位置調節部材62とを有している。図4では、紙面に垂直な方向に設けられる位置調節部材(紙面手前側及び奥側のビス)の図示を省略している。
保持部材61はフレーム部18に固着されており、フレーム部18との間の相対的な位置が外力によって変わらないようになっている。当該保持部材61には、内部にベース51aを収容する収容部61aが設けられており、天井部61bにおいてベース51aを保持するようになっている。収容部61aの寸法はベース51aの寸法に比べて大きくなっており、ベース51aを収容した状態でベース51aと保持部材61の側部61cとの間に隙間が生じるようになっている。
各位置調節部材62は、ネジ山が形成されたネジ部分62aを有しており、当該ネジ部分62aが保持部材61の側部61cに螺合されている。ネジ部分62aの長さ(図示の位置調節部材62については図中左右方向の寸法)は当該側部61cの厚さ(図示の場合には図中左右方向の寸法)よりも大きくなっており、ネジ部分62aが保持部材61の側部61cを貫通するようになっている。
各位置調節部材62の先端62bはベース51aに当接されており、このままの状態ではベース51aが図中左右方向又は紙面に垂直な方向に移動しないようになっている。各位置調節部材62を回転させることで、位置調節部材62の先端62bの位置が移動するようになっている。図4に示される2つの位置調節部材62の場合、回転させることによって先端62bの位置が図中左右方向に移動するようになっている。図4において図示を省略した2つの位置調節部材62の場合、回転させることによって先端62bの位置が紙面に垂直な方向に移動するようになっている。各位置調節部材62を回転させ、先端62bの位置を調節することにより、保持部材61に対するベース51aの位置、すなわち、フレーム部18に対するベース51aの位置を、図中左右方向及び紙面に垂直な方向に調節することができるようになっている。
図5は、第2部材52と第3部材53との連結の構成を示す断面図である。
同図に示すように、第3部材53は、エアマウント37に接続された棒状部53aと、第2部材52と連結される連結部53bと、当該連結部53bの上方に設けられたフランジ53cと、連結部53b内に設けられた球面状部材53dとを有している。連結部53bには、第2部材52の一部を貫通させる貫通孔53eが設けられている。球面状部材53dは、所定の径(r3とする)を有する球体によって構成されている。
同図に示すように、第3部材53は、エアマウント37に接続された棒状部53aと、第2部材52と連結される連結部53bと、当該連結部53bの上方に設けられたフランジ53cと、連結部53b内に設けられた球面状部材53dとを有している。連結部53bには、第2部材52の一部を貫通させる貫通孔53eが設けられている。球面状部材53dは、所定の径(r3とする)を有する球体によって構成されている。
一方、第2部材52は、棒状部52aの上端に輪状部52eが設けられた構成になっている。輪状部52eは、第3部材53に設けられた貫通孔53e内を貫通するように第3部材53に係合されている。輪状部52eには、滑り軸受52fが設けられている。滑り軸受52fは、球面状部材53dの径r3よりも大きい径r4を有する球面状の軸受面を備えている。輪状部52eが第3部材53に係合された状態において、滑り軸受52fが球面状部材53dを支持するようになっている。滑り軸受52fの径r4が球面状部材53dの径r3よりも大きいため、球面状部材53dと滑り軸受52fとが1点で接触することになる(点接触)。このとき、球面状部材53dと滑り軸受け52fとは球面転がり構造として機能させることができる。また、球面転がり構造ではなく、球面滑り構造として機能させることも可能である。
不図示のアクチュエータによって第2部材52と第3部材53とが相対移動する際には、球面状部材53dと滑り軸受け52fとの接触点を中心とした回転方向(図4の左右方向(第2方向)及び図4の紙面の垂直方向(第2方向))に第2部材52及び第3部材53が回転するようになっている。球面状部材53dと滑り軸受け52fとの間が点接触であるため、回転移動の際の接触抵抗が低減され、当該回転方向についての吊り下げ部材35全体の剛性が低減されるようになっている。第2部材52と第3部材53とが連結された状態において、輪状部52eと連結部53bとの間には隙間52gが形成されている。この隙間52gは、第2部材52と第3部材53とが相対移動する際のマージンである。
上記のように第2部材52と第3部材53とを連結することによって、図4の上下方向(第1方向)に対しては第2部材52と第3部材53との間の相対位置が規定されるようになっていると共に、当該第1方向とは異なる方向(例えば、図5の左右方向(第2方向)及び図4の紙面の垂直方向(第2方向)を含む方向に関しては、第2部材52と第3部材53との間で相対運動が可能なようになっている。したがって、例えば、不図示のアクチュエータなどによって、第3部材53を第2部材52に対して変位させることが可能である。
図6は、エアマウント37の構成を示す概略断面図である。
同図に示すように、エアマウント37は、吊り下げ部材35を支持するものであり、内部に空間Sを形成する収容部材71と、当該収容部材71の内部に図5の上下方向(第1方向)に沿って設けられるガイド部材72と、当該ガイド部材72に沿って図5の上下方向に移動可能に支持される可動部材73と、空間Sを密閉する密閉部材74とを備えている。このエアマウント37には、空間S内の圧力を調節する不図示の圧力調節装置が取り付けられている。
同図に示すように、エアマウント37は、吊り下げ部材35を支持するものであり、内部に空間Sを形成する収容部材71と、当該収容部材71の内部に図5の上下方向(第1方向)に沿って設けられるガイド部材72と、当該ガイド部材72に沿って図5の上下方向に移動可能に支持される可動部材73と、空間Sを密閉する密閉部材74とを備えている。このエアマウント37には、空間S内の圧力を調節する不図示の圧力調節装置が取り付けられている。
収容部材71は、例えば円筒形の外壁71aと、当該外壁71aによって形成される円筒の底面(図中下側)の一部を塞ぐ底部71bと、当該円筒の上面(図中上側)の一部を塞ぐ天井部71cと、天井部71cから図中上方に延びる突出部71dとを有している。底部71bのうち平面視中央部には開口部71eが設けられている。天井部71cのうち平面視中央部には開口部71fが設けられている。突出部71dは、開口部71fの周縁に沿って形成されている。
ガイド部材72は、収容部材71の突出部71dに密着するように設けられた円筒形の部材である。ガイド部材72には自身を貫通する貫通孔72aが設けられている。貫通孔72aによって、ガイド部材72の円筒内の空間と収容部材71の外壁71a、天井部71c及び底部71bによって囲まれた空間とが連通されている。この連通された空間が上記の空間Sに相当する。
可動部材73は、ガイド部材72に沿うように図5の上下方向に移動可能に設けられており、平面視でガイド部材72の内径に沿って形成された蓋部73aと、当該蓋部73aと一体的に設けられ空間Sを貫通して収容部材71の外部に突出する軸部73bとを有している。軸部73bの下端は、上記の第3部材53に一体的に接続されている(図2参照)。
密閉部材74は、空間Sを密閉するものであり例えば樹脂などから構成され可撓性を有する膜状の部材である。当該密閉部材74は、ガイド部材72と可動部材73との間の隙間を塞ぐように設けられている。例えば開口部71f側では、可動部材73の蓋部73aとガイド部材72の内面との間を塞ぐように図示しない接着部材によって貼付されており、蓋部73aとガイド部材72との間に図中上側に撓むように設けられている。また、例えば開口部71e側では、可動部材73の軸部73bとガイド部材72との間に図示しない接着部材によって貼付されており、軸部73bとガイド部材72との間に図中下側に撓むように設けられている。
上記のエアマウント37は、不図示の圧力調節装置によって空間S内の圧力を変化させることにより、当該圧力の変化に伴って可動部材73が移動するようになっている。例えば空間S内の圧力を減少させることにより、可動部材73は空間Sが縮小する方向、すなわち図5の位置から図中下側へ移動するようになっている。また、例えば空間S内の圧力を増加させることにより、可動部材73は空間Sが膨張する方向、すなわち図5の位置から図中上側へ移動するようになっている。
次に、上記のように構成された露光装置EXの動作を説明する。
露光動作に先立って、フレーム部18と吊り下げ部材35との連結の位置を調整する。フレーム部18には図1に示される配線群19が取り付けられており、当該配線群19の張力によってフレーム部18が定常的な推力(定常推力)を受けている状態になっている。定常推力を受けている状態においては、この定常推力の影響を考慮して不図示のアクチュエータを駆動する必要があり、フレーム部18の位置の微調整が困難となる。アクチュエータを駆動させてフレームに定常推力に対抗する推力を作用させることもできるが、その場合、アクチュエータの発熱が周囲に悪影響を与える可能性がある。また、アクチュエータに求められる推力が大きくなってアクチュエータが大型化し、その設置場所を充分に取れない可能性もある。そこで、図4に示す構成では、位置調節装置36の位置調節部材62によってフレーム部18と吊り下げ部材35との接続の位置を調節するようにしている。
露光動作に先立って、フレーム部18と吊り下げ部材35との連結の位置を調整する。フレーム部18には図1に示される配線群19が取り付けられており、当該配線群19の張力によってフレーム部18が定常的な推力(定常推力)を受けている状態になっている。定常推力を受けている状態においては、この定常推力の影響を考慮して不図示のアクチュエータを駆動する必要があり、フレーム部18の位置の微調整が困難となる。アクチュエータを駆動させてフレームに定常推力に対抗する推力を作用させることもできるが、その場合、アクチュエータの発熱が周囲に悪影響を与える可能性がある。また、アクチュエータに求められる推力が大きくなってアクチュエータが大型化し、その設置場所を充分に取れない可能性もある。そこで、図4に示す構成では、位置調節装置36の位置調節部材62によってフレーム部18と吊り下げ部材35との接続の位置を調節するようにしている。
具体的には、フレーム部18と吊り下げ部材35とを連結させたときに連結位置が吊り下げ部材35の鉛直方向に対してずれるように当該連結位置を調節する。連結位置が吊り下げ部材35の鉛直方向に対してずれると、振り子の原理によってフレーム部18の連結部分が吊り下げ部材35の鉛直方向上の位置に移動しようとする力が働く。したがって、この力と上記の定常推力とがつり合うような位置になるようにフレーム部18と吊り下げ部材35との連結位置を調節し、見かけ上定常推力が打ち消されるようにする。
フレーム部18と吊り下げ部材35との連結位置の調整を行った状態で、露光装置EXによる露光処理が行われる。具体的には、露光用光源1から射出された露光光ELが、各種レンズやミラー等からなる照明光学系ILにおいて、必要な大きさ及び照度均一性に整形された後にパターンが形成されたレチクルRを照明し、このレチクルRに形成されたパターンが投影光学系PLを介して、ウエハステージWST上に保持されたウエハW上の各ショット領域に縮小転写される。フレーム部18に加えられる定常推力が見かけ上ゼロの状態で不図示のアクチュエータを駆動させることで、フレーム部18の位置の調整が容易に行われることになる。これにより、微細なパターンがウエハW上に高精度に形成される。
本実施形態によれば、投影光学系PLと吊り下げ部材35とが接続される位置を当該投影光学系PLに対して相対的に移動させる位置調節装置36を備えることとしたので、投影光学系PLと吊り下げ部材35とを接続させたときに接続の位置が吊り下げ部材35の鉛直方向に対してずれるように調節することができる。当該接続の位置が吊り下げ部材35の鉛直方向に対してずれると、振り子の原理によって投影光学系PLとの接続の部分が吊り下げ部材35の鉛直方向上の位置に移動しようとする力が働く。したがって、この力と上記の定常推力とがつり合うような位置になるように投影光学系PLと吊り下げ部材35との接続の位置を調節することで、見かけ上定常推力を打ち消すことができる。これにより、効率的な制御が可能になる。
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
例えば、上記実施形態においては、吊り下げ装置10を構成する物体として投影光学系PLを例に挙げて説明したが、これに限られることは無く、当該物体が例えばレーザ干渉計システム(干渉計)22や各種計測装置が設けられた不図示の計測部材などであっても勿論構わない。
また、上記実施形態においては、位置調節装置36によって投影光学系PLに加えられる定常推力を打ち消す構成を説明したが、これに限られることは無い。例えば、フレーム部18にアクチュエータ(吊り下げ部材35に取り付けられた不図示のアクチュエータとは別のアクチュエータ)を連結させ、当該アクチュエータによって投影光学系PLを上記第2方向に移動させる構成であっても構わない。
また、上記実施形態においては、位置調節装置36に設けられた位置調節部材62としてビスを例に挙げて説明したが、これに限られることは無い。例えば、ベース51に当接させる当接部材と当該当接部材に接続されたピストン機構とを用いてピストン機構の圧力を調節することで当接部材を移動させる構成であっても構わない。
なお、上記各実施形態では、半導体デバイス製造用の半導体ウエハを露光する例を説明したが、このほかにディスプレイデバイス用のガラス基板や、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版(合成石英、シリコンウエハ)等を露光する場合においても同様の説明が可能である。
露光装置EXとしては、レチクルRとウエハWとを同期移動してレチクルRのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置(スキャニングステッパ)の他に、レチクルRとウエハWとを静止した状態でレチクルRのパターンを一括露光し、ウエハWを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置(ステッパ)にも適用することができる。また、本発明はウエハW上で少なくとも2つのパターンを部分的に重ねて転写するステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。
露光装置EXの種類としては、ウエハWに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子(CCD)あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。
また、本発明が適用される露光装置の光源には、KrFエキシマレーザ(248nm)、ArFエキシマレーザ(193nm)、F2レーザ(157nm)等のみならず、g線(436nm)及びi線(365nm)を用いることができる。さらに、投影光学系の倍率は縮小系のみならず等倍および拡大系のいずれでもよい。また、上記実施形態では、反射屈折型の投影光学系を例示したが、これに限定されるものではなく、投影光学系の光軸(レチクル中心)と投影領域の中心とが異なる位置に設定される屈折型の投影光学系にも適用可能である。
また、本発明は、投影光学系と基板との間に局所的に液体を満たし、該液体を介して基板を露光する、所謂液浸露光装置に適用したが、液浸露光装置については、国際公開第99/49504号パンフレットに開示されている。さらに、本発明は、特開平6−124873号公報、特開平10−303114号公報、米国特許第5,825,043号などに開示されているような露光対象の基板の表面全体が液体中に浸かっている状態で露光を行う液浸露光装置にも適用可能である。
また、本発明は、基板ステージ(ウエハステージ)が複数設けられるツインステージ型の露光装置にも適用できる。ツインステージ型の露光装置の構造及び露光動作は、例えば特開平10−163099号公報及び特開平10−214783号公報(対応米国特許6,341,007号、6,400,441号、6,549,269号及び6,590,634号)、特表2000−505958号(対応米国特許5,969,441号)或いは米国特許6,208,407号に開示されている。更に、本発明を本願出願人が先に出願した特願2004−168481号のウエハステージに適用してもよい。
また、本発明が適用される露光装置は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
次に、本発明の実施形態による露光装置及び露光方法をリソグラフィ工程で使用したマイクロデバイスの製造方法の実施形態について説明する。図7は、マイクロデバイス(ICやLSI等の半導体チップ、液晶パネル、CCD、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等)の製造例のフローチャートを示す図である。
まず、ステップS10(設計ステップ)において、マイクロデバイスの機能・性能設計(例えば、半導体デバイスの回路設計等)を行い、その機能を実現するためのパターン設計を行う。引き続き、ステップS11(マスク製作ステップ)において、設計した回路パターンを形成したマスク(レチクル)を製作する。一方、ステップS12(ウエハ製造ステップ)において、シリコン等の材料を用いてウエハを製造する。
次に、ステップS13(ウエハ処理ステップ)において、ステップS10〜ステップS12で用意したマスクとウエハを使用して、後述するように、リソグラフィ技術等によってウエハ上に実際の回路等を形成する。次いで、ステップS14(デバイス組立ステップ)において、ステップS13で処理されたウエハを用いてデバイス組立を行う。このステップS14には、ダイシング工程、ボンティング工程、及びパッケージング工程(チップ封入)等の工程が必要に応じて含まれる。最後に、ステップS15(検査ステップ)において、ステップS14で作製されたマイクロデバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経た後にマイクロデバイスが完成し、これが出荷される。
図8は、半導体デバイスの場合におけるステップS13の詳細工程の一例を示す図である。
ステップS21(酸化ステップ)おいては、ウエハの表面を酸化させる。ステップS22(CVDステップ)においては、ウエハ表面に絶縁膜を形成する。ステップS23(電極形成ステップ)においては、ウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップS24(イオン打込みステップ)においては、ウエハにイオンを打ち込む。以上のステップS21〜ステップS24のそれぞれは、ウエハ処理の各段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選択されて実行される。
ステップS21(酸化ステップ)おいては、ウエハの表面を酸化させる。ステップS22(CVDステップ)においては、ウエハ表面に絶縁膜を形成する。ステップS23(電極形成ステップ)においては、ウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップS24(イオン打込みステップ)においては、ウエハにイオンを打ち込む。以上のステップS21〜ステップS24のそれぞれは、ウエハ処理の各段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選択されて実行される。
ウエハプロセスの各段階において、上述の前処理工程が終了すると、以下のようにして後処理工程が実行される。この後処理工程では、まず、ステップS25(レジスト形成ステップ)において、ウエハに感光剤を塗布する。引き続き、ステップS26(露光ステップ)において、上で説明したリソグラフィシステム(露光装置)及び露光方法によってマスクの回路パターンをウエハに転写する。次に、ステップS27(現像ステップ)においては露光されたウエハを現像し、ステップS28(エッチングステップ)において、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去る。そして、ステップS29(レジスト除去ステップ)において、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらの前処理工程と後処理工程とを繰り返し行うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
また、半導体素子等のマイクロデバイスだけではなく、光露光装置、EUV露光装置、X線露光装置、及び電子線露光装置等で使用されるレチクル又はマスクを製造するために、マザーレチクルからガラス基板やシリコンウエハ等ヘ回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。ここで、DUV(深紫外)やVUV(真空紫外)光等を用いる露光装置では、一般的に透過型レチクルが用いられ、レチクル基板としては石英ガラス、フッ素がドープされた石英ガラス、蛍石、フッ化マグネシウム、又は水晶等が用いられる。また、プロキシミティ方式のX線露光装置や電子線露光装置等では、透過型マスク(ステンシルマスク、メンブレンマスク)が用いられ、マスク基板としてはシリコンウエハ等が用いられる。なお、このような露光装置は、WO99/34255号、WO99/50712号、WO99/66370号、特開平11−194479号、特開2000−12453号、特開2000−29202号等に開示されている。
EX…露光装置 PL…投影光学系(物体) 10…吊り下げ装置 17…鏡筒 18…フレーム部 19…配線群 10、12A、12B…レーザ干渉計 35…吊り下げ部材 36…位置調節装置 37…エアマウント 51…第1部材 51e、53d…球面状部材 52…第2部材 52c、52f…滑り軸受 53…第3部材 61…保持部材 62…位置調節部材 71…収容部材 72…ガイド部材 73…可動部材 74…密閉部材
Claims (12)
- 吊り下げ部材を介して物体を第1方向に吊り下げる物体吊り下げ装置であって、
前記物体と前記吊り下げ部材とが接続される位置を前記物体に対して相対的に移動させる位置調節装置を備える物体吊り下げ装置。 - 前記位置調節装置は、前記物体に加わる前記第1方向とは異なる第2方向の外力に応じて前記位置を調節する請求項1に記載の物体吊り下げ装置。
- 前記位置調節機構は、前記物体に連結され前記物体を前記第2方向に移動可能なアクチュエータである請求項1又は請求項2に記載の物体吊り下げ装置。
- 前記吊り下げ部材及び前記位置調節機構は、前記物体に対して複数設けられている請求項1から請求項3のうちいずれか一項に記載の物体吊り下げ装置。
- 前記吊り下げ部材を支持するためのエアマウントをさらに備え、
前記エアマウントは、所定の空間を形成する収容部材と、前記収容部材に対して前記第1方向に相対移動可能に支持されるとともに前記空間内を貫通して前記収容部材の外部に突出する可動部材と、前記収容部材と前記可動部材との間に設けられて前記空間を密閉するための密閉部材と、を有し、
前記可動部材と前記吊り下げ部材とが接続されている請求項1から請求項4のうちいずれか一項に記載の物体吊り下げ装置。 - 前記物体は前記吊り下げ部材を介さずに該物体に接続された接続部材を有しており、前記接続部材によって前記外力が発生する請求項2記載の物体吊り下げ装置。
- 前記物体は、投影光学系で請求項1から請求項6のうちいずれか一項に記載の物体吊り下げ装置。
- 前記物体は、干渉計である請求項1から請求項7のうちいずれか一項に記載の物体吊り下げ装置。
- 前記物体は、計測装置が設けられた計測部材である請求項1から請求項8のうちいずれか一項に記載の物体吊り下げ装置。
- 請求項1から請求項9のうちいずれか一項に記載の物体吊り下げ装置を備える露光装置。
- 吊り下げ部材を介して物体を第1方向に吊り下げて支持する吊り下げ支持方法であって、
前記物体に加わる前記第1方向とは異なる第2方向の外力に応じて前記物体と前記吊り下げ部材とが接続される位置を設定する吊り下げ支持方法。 - 前記物体は前記吊り下げ部材を介さずに該物体に接続された接続部材を有しており、前記接続部材によって前記外力が発生する請求項11記載の物体吊り下げ支持方法。
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