JP2008263091A - 光洗浄部材、メンテナンス方法、洗浄方法、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光洗浄部材101は、照明光ILが透過する略平坦な平面101aと、Y軸方向に関する照明光ILとの相対位置に応じて、平面101aを透過した照明光ILを異なる方向に反射する球面から成る反射面101bとを有しているので、光洗浄部材101の照明光ILとのY軸方向に関する相対位置を変更するのみで、反射面101bで反射して平面101aを透過する照明光ILをノズルユニット32の下面及び先端レンズ191の下面の異なる位置に照射することができる。これにより、ノズルユニット32の下面及び先端レンズ191の下面の広い範囲を光洗浄することが可能である。
【選択図】図6
Description
Claims (60)
- 液体を介して照明光で物体を露光する露光装置の前記液体と接する接触部材を前記照明光で光洗浄するために用いられる光洗浄部材であって、
前記照明光が透過する略平坦な第1面と、前記第1面と平行な所定方向に関する前記照明光との相対位置に応じて、前記第1面を透過した照明光を異なる方向に反射する第2面とを有し、前記第2面で反射して前記第1面を透過した照明光を前記接触部材に照射する光洗浄部材。 - 前記第2面は、曲面状の反射面を有する請求項1に記載の光洗浄部材。
- 前記曲面状の反射面は、前記第1面側に突出した凸面状の反射面である請求項2に記載の光洗浄部材。
- 前記第1面と前記第2面とは、略板状の透明部材の一部である請求項1〜3のいずれか一項に記載の光洗浄部材。
- 前記第2面は、少なくとも前記所定方向に関して形状が変化する請求項1〜4のいずれか一項に記載の光洗浄部材。
- 前記第1面は、前記光洗浄時に液体が接触する請求項1〜5のいずれか一項に記載の光洗浄部材。
- 前記第1面は、撥液性を有する請求項1〜6のいずれか一項に記載の光洗浄部材。
- 液体を介して照明光で物体を露光する露光装置のメンテナンス方法であって、
前記照明光を請求項1〜7のいずれか一項に記載の光洗浄部材に照射するとともに、前記光洗浄部材の第1面と平行な所定方向に関して前記照明光と前記光洗浄部材との相対位置を変化させ、前記露光装置の前記液体と接する接触部材に前記光洗浄部材の第2面で反射される照明光を照射して前記接触部材を光洗浄するメンテナンス方法。 - 前記光洗浄部材は、前記第1面の少なくとも一部が前記照明光を射出する光学部材と対向して配置される請求項8に記載のメンテナンス方法。
- 前記光洗浄時に前記光学部材と前記光洗浄部材の第1面との間に液体が満たされる請求項9に記載のメンテナンス方法。
- 前記光洗浄時に前記光学部材と前記第1面との間に満たされる液体は、前記露光時に前記光学部材と前記物体との間に満たされる液体と同一である請求項10に記載のメンテナンス方法。
- 前記光洗浄時に前記光学部材と前記第1面との間に満たされる液体は、前記露光時に前記光学部材と前記物体との間に満たされる液体と異なる請求項10に記載のメンテナンス方法。
- 前記接触部材は、前記露光時に前記光学部材と前記物体との間の前記照明光の光路を含む液浸空間を形成する液浸空間形成部材を含む請求項9〜12のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 前記光学部材の液体接触面の少なくとも一部にも前記照明光を照射する請求項9〜13のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 前記接触部材は、前記露光時に前記物体上に形成される液浸領域の液体の供給及び回収を行う液浸装置の少なくとも一部である請求項8〜14のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 前記光洗浄時に少なくとも前記光洗浄部材が前記所定方向に移動される請求項8〜15のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 前記光洗浄に先立って前記光洗浄部材を移動体に装着する請求項16に記載のメンテナンス方法。
- 前記光洗浄部材を有する移動体を、前記物体を保持する移動体との交換で前記照明光の照射位置に配置する請求項16又は17に記載のメンテナンス方法。
- 前記第2面で反射される照明光は、前記接触部材上で少なくとも前記所定方向に関して移動する請求項8〜18のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- 前記第1面上での前記照明光の照射領域は前記所定方向と交差する方向に関して延びる請求項8〜19のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
- リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法において、
前記リソグラフィ工程では、請求項8〜20のいずれか一項に記載のメンテナンス方法を用いて、前記露光装置の前記接触部材を光洗浄するデバイス製造方法。 - 液体を介して照明光で物体を露光する露光装置の前記液体と接する接触部材を洗浄する洗浄方法であって、
前記照明光を請求項1〜7のいずれか一項に記載の光洗浄部材に照射するとともに、前記光洗浄部材の第1面と平行な所定方向に関して前記照明光と前記光洗浄部材との相対位置を変化させ、前記接触部材に前記光洗浄部材の第2面で反射される照明光を照射する洗浄方法。 - 液体を介して照明光で物体を露光する露光装置の前記液体と接する接触部材を洗浄する洗浄方法であって、
前記照明光が透過する略平坦な第1面と、前記第1面を透過した照明光を反射する第2面とを有する光洗浄部材と前記照明光とを、前記第1面と平行な所定方向に関して相対移動して、前記接触部材の異なる位置に前記第2面で反射される照明光を照射する洗浄方法。 - 前記第2面で反射される照明光は、前記接触部材上で少なくとも前記所定方向に関して移動する請求項22又は23に記載の洗浄方法。
- 前記光洗浄部材は、前記第1面の少なくとも一部が前記照明光を射出する光学部材と対向して配置される請求項22〜24のいずれか一項に記載の洗浄方法。
- 前記洗浄時に前記光学部材と前記光洗浄部材の第1面との間に液体が満たされる請求項25に記載の洗浄方法。
- 前記洗浄時に前記光学部材と前記第1面との間に満たされる液体は、前記露光時に前記光学部材と前記物体との間に満たされる液体と同一である請求項26に記載の洗浄方法。
- 前記洗浄時に前記光学部材と前記第1面との間に満たされる液体は、前記露光時に前記光学部材と前記物体との間に満たされる液体と異なる請求項26に記載の洗浄方法。
- 前記接触部材は、前記露光時に前記光学部材と前記物体との間の前記照明光の光路を含む液浸空間を形成する液浸空間形成部材を含む請求項25〜28のいずれか一項に記載の洗浄方法。
- 前記光学部材の液体接触面の少なくとも一部にも前記照明光を照射する請求項25〜29のいずれか一項に記載の洗浄方法。
- 前記接触部材は、前記露光時に前記物体上に形成される液浸領域の液体の供給及び回収を行う液浸装置の少なくとも一部である請求項22〜30のいずれか一項に記載の洗浄方法。
- 前記洗浄時に少なくとも前記光洗浄部材が前記所定方向に移動される請求項22〜31のいずれか一項に記載の洗浄方法。
- 前記洗浄に先立って前記光洗浄部材を移動体に装着する請求項32に記載の洗浄方法。
- 前記洗浄後に、前記移動体から前記光洗浄部材を取り外す請求項33に記載の洗浄方法。
- 前記光洗浄部材を有する移動体を、前記物体を保持する移動体との交換で前記照明光の照射位置に配置する請求項32〜34のいずれか一項に記載の洗浄方法。
- 前記第1面上での前記照明光の照射領域は前記所定方向と交差する方向に関して延びる請求項22〜35のいずれか一項に記載の洗浄方法。
- リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法において、
前記リソグラフィ工程では、請求項22〜36のいずれか一項に記載の洗浄方法を用いて、前記露光装置の前記接触部材を洗浄するデバイス製造方法。 - 請求項22〜36のいずれか一項に記載の洗浄方法を用いて、前記露光装置の前記接触部材を洗浄する工程と;
前記露光装置を用いて前記物体を前記液体を介して露光する工程と;を含む露光方法。 - 前記光洗浄部材は、前記物体を保持するステージで移動される請求項38に記載の露光方法。
- 前記光洗浄部材は、前記物体を保持するステージとは異なるステージで移動される請求項38に記載の露光方法。
- リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法において、
前記リソグラフィ工程では、請求項38〜40のいずれか一項に記載の露光方法を用いるデバイス製造方法。 - 液体を介して照明光で物体を露光する露光装置であって、
請求項1〜7のいずれか一項に記載の光洗浄部材を有する移動体を備える露光装置。 - 液体を介して照明光で物体を露光する露光装置であって、
請求項1〜7のいずれか一項に記載の光洗浄部材を着脱可能な移動体と;
前記移動体を駆動して、前記照明光に対して前記光洗浄部材を相対移動する駆動装置と;を備える露光装置。 - 液体を介して照明光で物体を露光する露光装置であって、
請求項1〜7のいずれか一項に記載の光洗浄部材と前記照明光との相対位置を変化させる調整装置を備える露光装置。 - 液体を介して照明光で物体を露光する露光装置であって、
前記照明光が透過する略平坦な第1面と、前記第1面を透過した照明光を反射する第2面とを有する洗浄ユニットと;
前記照明光と前記洗浄ユニットとを所定方向に相対移動する調整装置と;を備え、
前記相対移動によって前記液体と接する接触部材の異なる位置に前記第2面で反射される照明光を照射する露光装置。 - 前記調整装置は、少なくとも前記洗浄ユニットを移動する請求項45に記載の露光装置。
- 前記調整装置は、前記洗浄ユニットをその一部に有する移動体を含む請求項46に記載の露光装置。
- 前記移動体は、前記物体を保持する移動体である請求項42、43、47のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記移動体は、前記物体を保持する移動体とは異なる請求項42、43、47のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記移動体は、前記物体を保持する移動体との交換で前記照明光の照射位置に配置される請求項49に記載の露光装置。
- 前記第2面で反射される照明光は、前記接触部材上で少なくとも前記所定方向に関して移動する請求項42〜50のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記照明光を射出しかつ射出面の少なくとも一部が前記液体と接する光学部材を備え、前記第1面はその少なくとも一部が前記光学部材と対向して配置される請求項42〜51のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記接触部材への前記照明光の照射時に前記光学部材と前記第1面との間に液体が満たされる請求項52に記載の露光装置。
- 前記照射時に前記光学部材と前記第1面との間に満たされる液体は、前記露光時に前記光学部材と前記物体との間に満たされる液体と同一である請求項53に記載の露光装置。
- 前記照射時に前記光学部材と前記第1面との間に満たされる液体は、前記露光時に前記光学部材と前記物体との間に満たされる液体と異なる請求項53に記載の露光装置。
- 前記露光時に前記光学部材と前記物体との間の前記照明光の光路を含む液浸空間を形成する液浸空間形成部材を備え、前記第2面で反射される照明光を前記液浸空間形成部材に照射する請求項52〜55のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記光学部材の液体接触面の少なくとも一部にも前記第2面で反射される照明光を照射する請求項52〜56のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記露光時に前記物体上に形成される液浸領域の液体の供給及び回収を行う液浸装置を備え、前記第2面で反射される照明光を前記液浸装置の少なくとも一部に照射する請求項42〜57のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記第1面上での前記照明光の照射領域は前記所定方向と交差する方向に関して延びる請求項42〜58のいずれか一項に記載の露光装置。
- リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法において、
前記リソグラフィ工程では、請求項42〜59のいずれか一項に記載の露光装置を用いるデバイス製造方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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