JP5154564B2 - 像収差を低減するための交換可能で操作可能な補正構成を有する光学システム - Google Patents
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Description
その上、結像に用いられる照明視野の特定の角度分布、いわゆる「セッティング」が、上述の投影露光装置のオペレータ側で益々認識されてきている。多くの場合に非常に特定の上述のセッティングの対称特性は、対応する温度分布表現に関して変換され、これらのセッティングに類似する対称性を有する外乱を生じる。
しかし、光学システムの設計段階中に、すなわち、特にマニピュレータが選択されて設計される時に、光学システムが将来作動することになる使用条件は、常に推定することができるわけではない。一例として、対称性と照度が関連するようになり、これに関して最初に設けられた補正構成及びそこに用いられたマニピュレータによる上述の外乱の補正が、可能であるが必ず困難を伴うか又は極端な場合はもはや全く可能ではなくなるという意味で、要件が変化する場合がある。
図1は、半導体リソグラフィのための投影露光装置1を示している。この装置は、感光材料によって被覆された基板上へ構造を露光するように機能し、この基板は、例えばコンピュータチップのような半導体構成要素の製造に向けて、一般的に主にシリコンから成り、ウェーハ2と呼ばれる。
この場合、基本的な機能原理は、レチクル5内に導入された構造をウェーハ2上に結像することに備えるものである。
処理パラメータを改善するために、この場合のステップ走査システムでは、レチクル5は、スロット切削された絞りを通じて連続して走査される。
投影ビーム11によってレチクル5の像が発生し、上述したように、投影対物器械7によって相応にウェーハ2に転写される。投影対物器械7は、例えば、レンズ、ミラー、プリズム、及び終端プレートなどのような多くの個々の屈折、回折、及び/又は反射光学要素を有する。
照明セッティングの角度分布及びレチクルでの回折効果も、用いられる電磁放射線の角度分布の対称性を決める。この角度分布は、瞳に近い光学要素内での同じ対称性の対応する強度分布及び従って温度分布へと変換される。
例えば、投影露光装置の設計段階中に及び特にマニピュレータを選択する時に、非常に特定の対称性を有する照明セッティングは、例えば、未だ考慮に入れられていないかもしれない。この場合には、上述の矩形スキャナスロットの対称性破壊に起因する2次対称性を有する外乱のみが設計中に考慮される。その結果、視野(上述の外乱が発生する場所)の近くに位置決めされ、かつ例えば補償する2次外乱、例えば変形(スキャナスロットの向きによって規定される好ましい方向の)が、「正しい」(ほぼ普遍的な)関係にある非点像収差及び歪像を補正するマニピュレータのみが、設計段階中に準備される。図1は、一例として参照記号8’によってそのようなマニピュレータを示している。
マニピュレータの使用例は、従来技術、特に、EP0851304A2及びJP10142555にも見出される。
瞳におけるこの付加的な対称性破壊は、特に瞳近くのレンズにおいて、大きな2次、4次、6次、更に可能性として更に高次の温度分布の線形組合せを招く。更に、これらの用途は、一段と小さい開口角(25°よりも小さい)及び一段と小さい極のリング幅(Δσ≒0.1に至るまで小さい)を有する更に一層極端な双極子に向う傾向にある。
−視野に近いマニピュレータは、X双極子の非点オフセットのある一定の部分を付随的に補正することができるが、それにも関わらず、視野に近いマニピュレータによって歪像は過補償され(ある一定の状況下では相当に)、従って、寄生的に設定される。他の寄生像収差も、視野に近い要素の補正潜在力を低減する。
−Y双極子の場合は、レンズ加熱によって誘起される瞳からの非点収差成分は、視野からの非点収差成分を過補償する。全体的に、非点収差は、単方向性のマニピュレータによっては補正することができない符号を伴って確立される。しかし、視野に近いマニピュレータが双方向性のものであったとしても、かなりの歪像(及び他の像収差)が、ここでもまた寄生的に確立されると考えられる。
上述の例から、光学システム及び特に半導体リソグラフィのための投影露光装置に対する重要な今後の要件は、変化する要件に対してシステムの柔軟性を高めることにあることが明らかになる。従来技術、例えば、WO2005064404A1は、それ自体では操作することができない光学補正要素を投影対物器械に交換可能な方式で配列する概念を開示している。
例えば、半導体リソグラフィのための投影露光装置のような本発明による光学システムは、像収差を低減するための少なくとも1つのマニピュレータを提示する。この場合には、マニピュレータは、少なくとも1つのアクチュエータを用いて操作することができて交換可能な方式で光学システム内に形成された少なくとも1つの光学要素を収容する。
近軸部分口径比は、次式で与えられる。
すなわち、双方向非点変形及び/又は高次変形、例えば、4次変形又はそれ以外の高次変形を有する変形可能光学要素。アクチュエータによって必要とされる構造空間を低減するために、アクチュエータは、例えば、圧電アクチュエータ又は特殊圧電膜として達成することができる。アクチュエータは、同様に圧電アクチュエータ、ローレンツアクチュエータ、熱、空気圧、又は液圧アクチュエータとして形成することができる。
この場合には、レーザ光を光学要素上の望ましい位置にもたらすために、光学導波管として光ファイバを有利に用いることができる。
熱加熱は、光学的に用いられる領域内外での適切な加熱ワイヤの構成によって全区域にわたって行うことができる。この場合には、加熱ワイヤ及び給電線は、この構造での回折効果及び遮蔽が結像品質に対して僅かな影響しか持たないように分配及び寸法決めされる。
本発明の一部の変形、実施形態、及び効果を図を参照して下記に例示的に説明する。
従って、本発明による解決法は、特に、出射瞳内での時間に依存する視野一定の例えばZ5、Z6、Z12、Z13、又はZ17、Z18視野プロフィール、及び同じく時間に依存する歪像Z2/Z3視野プロフィール、又は時間に依存する線形Z10/Z11視野プロフィール(全視野内での)の補正を可能にする。
時間に依存する用途特定の収差は、照射されるリソグラフィ対物器械の少なくとも1回の較正測定において判断される。その後、第2段階で、最適なマニピュレータ補正概念が、対物器械内の少なくとも1つの交換可能なマニピュレータに対して判断される。第3段階は、マニピュレータを製造して対物器械内の該当位置に設置する段階を含む。
この場合には、呈示する概念は、当然ながらレンズ加熱に誘起される収差の補正だけに限定されず、異なる原因を有する収差の補正も、説明する概念を用いて考えることができる。
この場合に、2つの平面プレート8a及び8bの各々を光学システムの横方向の開口部(同じく例示していない)を通じてこのシステムから取り外すか又はこのシステム内に導入することができる。
交換の際に、平面プレート8a及び8b又はそうでなければマニピュレータ14全体を光学システムから取り外すことができる方向は、図5及び同じくその後の図6から8において矢印17によって示している。
この場合には、説明した基準システムは、平面プレート8a及び8bをターゲットにする方式で互いに対して移動することができるように、制御装置によって利用することができる。
迅速な収差補正を達成するために、要求される像収差補正のために必要な第1の平面プレート8aの第2の平面プレート8bに対する位置変更をモデルに基づいて予め判断することができ、その後、対応するパラメータを制御システムに記憶して取得することができる。この場合には、制御システムは、基準システムの一部とすることができる。
図10は、基礎マウント12、ベローズとして形成されたアクチュエータ13、給送ライン22、及び内側マウント20を含む構成を示している。ここでは、例示している変形の傑出した特徴は、ベローズ13が、内側マウント20のu字形切除部内に配列された2つの部分ベローズ13a及び13bに分割されるという事実にあり、この場合には、基礎マウント12から現れる給送ライン22は、直接的にベローズ12内の2つの部分ベローズ13a及び13bの間の領域内へと誘導される。給送ライン22が、内側マウント20へと2つの部分ベローズ13a及び13bのみを通じて接続されるという事実により、給送ライン22の内側マウント20からの実質的な分離が生じる。例えば、ベローズ13の十分に低い剛性が仮定される場合には、内側マウント20の移動の結果として、給送ライン22及び従って基礎マウント12へと力が全く伝播されないか、又は僅かな力しか伝播されない。これは、上述のように、内側マウント20の移動の場合に、比較的柔軟なベローズ13の結果として、給送ライン22及び従って基礎マウント12へと力が伝播されないので、内側マウント20のu字形部分が給送ライン22に対して移動することができることによるものである。
図13は、この場合はレンズ8として形成された光学要素の支持要素23上の支持領域内の条件を示している。レンズ8が、支持区域24に対面する側に大きな曲率半径を有する図13aに例示している事例では、言及した大きい角度の場合にレンズ8の光軸方向の位置変更は可能性が低いので、支持区域24の精度及び製造公差から成る要件は低い。対応する表面の半径が小さくなる時に、図13bに例示しているように条件は変化する。
更に、図15に例示しているように、支持要素23をその中にアクチュエータ13を一体化することができるような方式で実現する可能性が存在する。この手段により、光学要素の屈曲という上述の機能が可能になる。
13 アクチュエータ
14 マニピュレータ
Claims (57)
- 少なくとも1つのアクチュエータ(13)と該アクチュエータ(13)を用いて操作することができる少なくとも1つの光学要素(8)とを収容する像収差を低減するための少なくとも1つのマニピュレータ(14)を含む、半導体リソグラフィのための投影露光装置(1)であって、
マニピュレータ(14)が、交換可能な方式で形成され、
前記マニピュレータ(14)は、少なくとも1つのアクチュエータ(13)を用いて互いに対して位置決めすることができる複数の光学要素(8)を有し、
前記複数の光学要素(8)中、第1の平面プレート(8a)として形成された第1の光学要素が、該複数の光学要素(8)中、第2の平面プレート(8b)として形成された第2の光学要素に対して位置決めすることができるように配列され、該第1及び第2の平面プレート(8a)及び(8b)の波面変形の効果が互いに補償し合うように、補正すべき像収差の原始関数に対応する形態を有する非球面表面が該第1及び第2の平面プレート(8a)及び(8b)上に付与される
ことを特徴とする、半導体リソグラフィのための投影露光装置(1)。 - 前記光学要素(8)の少なくとも1つは、前記マニピュレータ(14)の交換なしにそれ自体で交換可能な方式で形成されることを特徴とする請求項1に記載の半導体リソグラフィのための投影露光装置(1)。
- 前記光学要素(8)の少なくとも1つは、少なくとも1つの非球面で形成された表面を有し、該表面は、該光学要素(8)の該表面の互いに対する変位、回転、又は傾斜のイベントにおいて前記光学システムを伝播する波面の変形が生じるような方式で実現されることを特徴とする請求項1に記載の半導体リソグラフィのための投影露光装置(1)。
- 前記マニピュレータ(14)又はその構成部品の少なくとも1つは、投影露光装置(1)の光軸の方向又は投影露光装置(1)の光軸に対して直交する方向に位置決めすることができることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の半導体リソグラフィのための投影露光装置(1)。
- 前記マニピュレータ(14)は、Alvarez素子であることを特徴とする請求項3又は請求項4に記載の半導体リソグラフィのための投影露光装置(1)。
- 前記マニピュレータ(14)は、少なくとも2つの隣接する光学要素(8)を有し、該光学要素(8)は、それらの横方向の広がりに関して、投影露光装置(1)の光軸に対して基本的に直交し、該光学要素(8)の各々において、少なくとも1つのアクチュエータ(13)が、投影露光装置(1)の該光軸の方向に投影される該アクチュエータ(13)の寸法が重ならないような方法で配列されることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の半導体リソグラフィのための投影露光装置(1)。
- 2つの基本的に円形の光学要素(8)が存在し、その各々において、3つのアクチュエータ(13)が、それぞれ、120°の角距離で配列されることを特徴とする請求項5に記載の半導体リソグラフィのための投影露光装置(1)。
- 第1の光学要素(8a)において、投影露光装置(1)の光軸の方向に該光学要素(8a)を移動するための少なくとも1つのアクチュエータ(13b)が存在し、第2の光学要素(8b)において、投影露光装置の光軸に沿って該光学要素(8b)を移動し、また、2つの軸に沿って該光学要素(8b)を傾斜させるための少なくとも1つのアクチュエータ(13c)が存在することを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の半導体リソグラフィのための投影露光装置(1)。
- 前記アクチュエータ(13)の少なくとも1つは、それが前記マニピュレータ(14)の交換のイベントにおいて投影露光装置(1)に留まるような方式で投影露光装置(1)に配列されることを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の半導体リソグラフィのための投影露光装置(1)。
- 前記マニピュレータ(14)は、移動誘導システム(18)を用いて互いに接続された少なくとも2つの光学要素(8a、8b)を有することを特徴とする請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の半導体リソグラフィのための投影露光装置(1)。
- 前記マニピュレータ(14)は、少なくとも1つの基礎マウント(12)を有し、該基礎マウント(12)には、前記少なくとも1つの光学要素(8)が配列された少なくとも1つの内側マウント(20)が配列されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体リソグラフィのための投影露光装置(1)。
- 前記内側マウント(20)は、それが投影露光装置(1)の光軸に関して基本的に回転対称であるように形成されることを特徴とする請求項11に記載の半導体リソグラフィのための投影露光装置(1)。
- 前記少なくとも1つのアクチュエータ(13)は、前記内側マウント(20)上に配列されることを特徴とする請求項11又は請求項12に記載の半導体リソグラフィのための投影露光装置(1)。
- 4つのアクチュエータ(13)が、前記内側マウント(20)上に約90°の角距離で配列されることを特徴とする請求項13に記載の半導体リソグラフィのための投影露光装置(1)。
- 前記少なくとも1つのアクチュエータ(13)は、付加された流体を有する機能を備えて、薄い壁の金属ベローズ、圧電アクチュエータ、ローレンツ・アクチュエータ、熱又は水圧アクチュエータとして形成されることを特徴とする請求項1から請求項14のいずれか1項に記載の半導体リソグラフィのための投影露光装置(1)。
- 少なくとも1つの付加的な支持要素(23)が、前記内側マウント(20)上に配列されることを特徴とする請求項14に記載の半導体リソグラフィのための投影露光装置(1)。
- 前記支持要素(23)は、前記内側マウント(20)と一体的に形成されないことを特徴とする請求項16に記載の半導体リソグラフィのための投影露光装置(1)。
- 前記マニピュレータ(14)は、投影露光装置(1)の光軸の方向に<20mm、好ましくは、<10mmの構造高さを有することを特徴とする請求項1から請求項17のいずれか1項に記載の半導体リソグラフィのための投影露光装置(1)。
- 前記アクチュエータ(13)は、流体を付加することができるベローズであり、該ベローズは、給送ライン(22)を通じて、該給送ライン(22)が前記内側マウント(20)と直接に機械的に接触することなく該ベローズ内に誘導されるような方法で前記基礎マウント(12)に接続されていることを特徴とする請求項13に記載の半導体リソグラフィのための投影露光装置(1)。
- 前記給送ライン(22)は、流体を付加することができる前記ベローズの2つの対向する部分(13a、13b)の間に基本的に中心に配列され、該部分は、前記内側マウント(20)上に支持されていることを特徴とする請求項19に記載の半導体リソグラフィのための投影露光装置(1)。
- 前記マニピュレータ(14)は、投影露光装置の照明システム又はリソグラフィ対物器械に配列されることを特徴とする請求項1から請求項20のいずれか1項に記載の半導体リソグラフィのための投影露光装置(1)。
- 前記マニピュレータ(14)は、0.25よりも小さい大きさ、特に、0.1よりも小さい大きさの部分口径比に対応する瞳からの距離に配列されることを特徴とする請求項1から請求項21のいずれか1項に記載の半導体リソグラフィのための投影露光装置(1)。
- 前記少なくとも1つのアクチュエータ(13)は、それによって前記光学要素(8)を変形することができるような方法で形成されることを特徴とする請求項1から請求項22のいずれか1項に記載の半導体リソグラフィのための投影露光装置(1)。
- 前記少なくとも1つのアクチュエータ(13)は、それによって少なくとも前記光学要素(8)の領域の温度を統御することができるような方法で形成されることを特徴とする請求項1から請求項23のいずれか1項に記載の半導体リソグラフィのための投影露光装置(1)。
- 少なくとも1つのアクチュエータ(13)は、それによって前記光学要素(8)を少なくとも領域的に加熱することができるような方法で形成されることを特徴とする請求項1から請求項24のいずれか1項に記載の半導体リソグラフィのための投影露光装置(1)。
- 前記アクチュエータ(8)は、前記光学要素(8)を加熱するための少なくとも1つの電磁放射線源を有することを特徴とする請求項24に記載の半導体リソグラフィのための投影露光装置(1)。
- 前記マニピュレータ(14)は、それを投影露光装置(1)における操作不能で交換可能な光学補正要素の代わりに配列することができるような方法で形成されることを特徴とする請求項1から請求項26のいずれか1項に記載の半導体リソグラフィのための投影露光装置(1)。
- 前記マニピュレータ(14)は、それを投影露光装置(1)における該マニピュレータ(14)のものとは異なる数又は種類の自由度を有するマニピュレータの代わりに配列することができるような方法で形成されることを特徴とする請求項1から請求項27のいずれか1項に記載の半導体リソグラフィのための投影露光装置(1)。
- 前記内側マウント(20)は、弾性連結部として形成された少なくとも3つの接続点(21)を通じて前記基礎マウント(12)に接続されることを特徴とする請求項11に記載の半導体リソグラフィのための投影露光装置(1)。
- 少なくとも1つのアクチュエータ(13)と該アクチュエータ(13)を用いて操作することができる少なくとも1つの光学要素(8)とを収容する、光学システムの像収差を低減するためのマニピュレータ(14)であって、
マニピュレータ(14)が、光学システムにおいて交換可能な方式で形成され、
少なくとも1つのアクチュエータ(13)を用いて互いに対して位置決めすることができる複数の光学要素(8)を有し、
前記複数の光学要素(8)中、第1の平面プレート(8a)として形成された第1の光学要素が、該複数の光学要素(8)中、第2の平面プレート(8b)として形成された第2の光学要素に対して位置決めすることができるように配列され、該第1及び第2の平面プレート(8a)及び(8b)の波面変形の効果が互いに補償し合うように、補正すべき像収差の原始関数に対応する形態を有する非球面表面が該第1及び第2の平面プレート(8a)及び(8b)上に付与されることを特徴とする、マニピュレータ(14)。 - 前記光学要素(8)の少なくとも1つは、マニピュレータ(14)を交換することなくそれ自体で交換可能な方式で形成されることを特徴とする請求項30に記載のマニピュレータ(14)。
- 前記光学要素(8)の少なくとも1つは、非球面で形成された少なくとも1つの表面を有し、該表面は、該光学要素(8)の該表面の互いに対する変位、回転、又は傾斜のイベントにおいて前記光学システムを伝播する波面の変形が生じるような方法で実現されることを特徴とする請求項30に記載のマニピュレータ(14)。
- それ自体又はその構成部品の少なくとも1つを前記光学システムにおいてその光軸の方向又は該光軸に対して直交する方向に位置決めすることができることを特徴とする請求項30から請求項32のいずれか1項に記載のマニピュレータ(14)。
- Alvarez素子であることを特徴とする請求項32又は請求項33に記載のマニピュレータ(14)。
- 少なくとも2つの隣接する光学要素(8)を有し、該光学要素(8)は、それらの横方向の広がりに関して、前記システムの光軸に対して基本的に直交し、該光学要素(8)の各々において、少なくとも1つのアクチュエータ(13)が、該光学システムの該光軸の方向に投影される該アクチュエータ(13)の寸法が重ならないような方法で配列されることを特徴とする請求項30から請求項34のいずれか1項に記載のマニピュレータ(14)。
- 2つの基本的に円形の光学要素(8)が存在し、その各々において、3つのアクチュエータ(13)が、それぞれ、120°の角距離で配列されることを特徴とする請求項34に記載のマニピュレータ(14)。
- 第1の光学要素(8a)において、前記システムの前記光軸の方向に該光学要素(8a)を移動するための少なくとも1つのアクチュエータ(13b)が存在し、第2の光学要素(8b)において、該システムの該光軸に沿って該光学要素(8b)を移動し、また、2つの軸に沿って該光学要素(8b)を傾斜させるための少なくとも1つのアクチュエータ(13c)が存在することを特徴とする請求項30から請求項34のいずれか1項に記載のマニピュレータ(14)。
- 移動誘導システム(18)を用いて互いに接続された少なくとも2つの光学要素(8a、8b)を有することを特徴とする請求項30から請求項37のいずれか1項に記載のマニピュレータ(14)。
- 少なくとも1つの基礎マウント(12)を有し、該基礎マウント(12)には、前記少なくとも1つの光学要素(8)が配列された少なくとも1つの内側マウント(20)が配列されていることを特徴とする請求項30に記載のマニピュレータ(14)。
- 前記内側マウント(20)は、それが投影露光装置(1)の光軸に関して基本的に回転対称であるように形成されることを特徴とする請求項39に記載のマニピュレータ(14)。
- 前記少なくとも1つのアクチュエータ(13)は、前記内側マウント(20)上に配列されることを特徴とする請求項39又は請求項40に記載のマニピュレータ(14)。
- 4つのアクチュエータ(13)が、前記内側マウント(20)上に約90°の角距離で配列されることを特徴とする請求項41に記載のマニピュレータ(14)。
- 前記少なくとも1つのアクチュエータ(13)は、付加された流体を有する機能を備えて、薄い壁の金属ベローズ、圧電アクチュエータ、ローレンツ・アクチュエータ、熱又は水圧アクチュエータとして形成されることを特徴とする請求項30から請求項42のいずれか1項に記載のマニピュレータ(14)。
- 少なくとも1つの付加的な支持要素(23)が、前記内側マウント(20)上に配列されることを特徴とする請求項42に記載のマニピュレータ(14)。
- 前記支持要素(23)は、前記内側マウント(20)と一体的に形成されないことを特徴とする請求項44に記載の光学要素。
- 前記光学システムの光軸の方向に<20mm、好ましくは、<10mmの構造高さを有することを特徴とする請求項30から請求項45のいずれか1項に記載のマニピュレータ(14)。
- 前記アクチュエータ(13)は、流体を付加することができるベローズであり、該ベローズは、給送ライン(22)を通じて、該給送ライン(22)が前記内側マウント(20)と直接に機械的に接触することなく該ベローズ内に誘導されるような方法で前記基礎マウント(12)に接続されていることを特徴とする請求項41に記載のマニピュレータ(14)。
- 前記給送ライン(22)は、流体を付加することができる前記ベローズの2つの対向する部分(13a、13b)の間に基本的に中心に配列され、該部分は、前記内側マウント(20)上に支持されていることを特徴とする請求項47に記載のマニピュレータ(14)。
- 前記光学システムは、半導体リソグラフィのための投影露光装置のサブシステム、特に、照明システム又はリソグラフィ対物器械であることを特徴とする請求項30から請求項48のいずれか1項に記載のマニピュレータ(14)。
- 0.25よりも小さい大きさ、特に、0.1よりも小さい大きさの部分口径比に対応する瞳からの距離に配列されることを特徴とする請求項30から請求項49のいずれか1項に記載のマニピュレータ(14)。
- 前記少なくとも1つのアクチュエータ(13)は、それによって前記光学要素(8)を変形することができるような方法で形成されることを特徴とする請求項30から請求項50のいずれか1項に記載のマニピュレータ(14)。
- 前記少なくとも1つのアクチュエータ(13)は、それによって少なくとも前記光学要素(8)の領域の温度を統御することができるような方法で形成されることを特徴とする請求項30から請求項51のいずれか1項に記載のマニピュレータ(14)。
- 少なくとも1つのアクチュエータ(13)は、それによって前記光学要素(8)を少なくとも領域的に加熱することができるような方法で形成されることを特徴とする請求項30から請求項52のいずれか1項に記載のマニピュレータ(14)。
- 前記アクチュエータ(8)は、前記光学要素(8)を加熱するための少なくとも1つの電磁放射線源を有することを特徴とする請求項52に記載のマニピュレータ(14)。
- 前記光学システムにおける操作不能で交換可能な光学補正要素の代わりに配列することができるような方法で形成されることを特徴とする請求項30から請求項54のいずれか1項に記載のマニピュレータ(14)。
- 前記光学システムにおけるマニピュレータ(14)のものとは異なる数又は種類の自由度を有するマニピュレータの代わりに配列することができるような方法で形成されることを特徴とする請求項30から請求項55のいずれか1項に記載のマニピュレータ(14)。
- 前記内側マウント(20)は、弾性連結部として形成された少なくとも3つの接続点(21)を通じて前記基礎マウント(12)に接続されることを特徴とする請求項39に記載のマニピュレータ(14)。
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