JP4384181B2 - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
(1)ステップ・モード
マスク・テーブルMTおよび基板テーブルWTが基本的に静止状態に維持され、投影ビームに付与されたパターン全体がターゲット部分Cに1回で投影される(すなわち単一静止露光)。次に、基板テーブルWTがX方向および/またはY方向にシフトされ、異なるターゲット部分Cが露光される。ステップ・モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一静止露光で結像されるターゲット部分Cのサイズが制限される。
(2)走査モード
投影ビームに付与されたパターンがターゲット部分Cに投影されている間にマスク・テーブルMTおよび基板テーブルWTが同期走査される(すなわち単一動的露光)。マスク・テーブルMTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPLの縮小率およびイメージ反転特性によって決まる。走査モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一動的露光におけるターゲット部分の幅(非走査方向の幅)が制限され、また走査運動の長さによってターゲット部分の高さ(走査方向の高さ)が決まる。
(3)その他のモード
プログラム可能パターニング・デバイスを保持するようにマスク・テーブルMTが基本的に静止状態に維持され、また、投影ビームに付与されたパターンがターゲット部分Cに投影されている間に基板テーブルWTが移動または走査される。このモードでは、通常、パルス放射線源が使用され、走査中、基板テーブルWTが移動する毎に、あるいは連続する放射線パルスと放射線パルスの間に、プログラム可能パターニング・デバイスを更新することができる。この動作モードは、上で言及したタイプのプログラム可能ミラー・アレイなどのプログラム可能パターニング・デバイスを利用しているマスクレス・リソグラフィに容易に適用することができる。
Claims (15)
- パターニング・デバイスによって付与されたパターンを有する放射線のビームを基板のターゲット部分に投影するように構築された投影システムと、
チャック・システムであって、
前記基板又は前記パターニング・デバイスを保持するように構築されたチャック、
前記チャックを保持するように構築されたフレーム、および
前記チャックと前記フレームの間で動作可能な、前記チャックを前記フレームに対して支持するように構築されたチャック支持構造であって、該チャック支持構造が、前記チャックと前記フレームの間に結合されたたわみ要素を含み、該たわみ要素が少なくとも1つの自由度で可撓であるチャック支持構造と
少なくとも1つの自由度における前記チャックの変形を予測するように構築されたチャック変形予測デバイスと、
前記チャック変形予測デバイスに接続された投影調整デバイスであって、前記チャック変形予測デバイスによって出力された予測信号に応答して、(i)前記放射線ビームの特性、又は、(ii)前記パターン付与された放射線ビーム中のパターンの位置、又は、(iii)(i)及び(ii)の両方を調整するように構築された投影調整デバイスと
を含むチャック・システムと
を有するリソグラフィ装置。 - 前記たわみ要素は、前記フレームが移動可能な方向に平行な平面内における変形に対して耐性を有している請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記チャック支持構造は、前記チャックと前記フレームの間の空間内に延びている請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記たわみ要素は前記空間内で少なくとも部分的に延びている請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記チャック支持構造は、前記たわみ要素が可撓である方向の変形に対して耐性を有している請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記チャック支持構造が、前記フレーム、又は、前記チャック、又は、前記フレーム及び前記チャックの両方から機械的に絶縁および分離されている請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記フレームが凹所を有し、前記チャックが前記凹所内に配置された請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記放射線のビームを提供するように構築された照明システムと、
前記パターニング・デバイスを支持するように構築されたパターニング・デバイス支持構造と、
前記基板を保持するための基板テーブルと
をさらに有し、
前記パターニング・デバイス支持構造、又は、前記基板テーブル、又は、前記パターニング・デバイス支持構造及び前記基板テーブルの両方が前記チャック・システムを有している請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - デバイス製造方法であって、
基板のターゲット部分に放射線のビームを投影するステップと、
パターニング・デバイスを使用して前記放射線のビームの断面にパターンを付与し、パターン被付与ビームを形成するステップと、
チャック・システムを使用して、前記基板、又は、前記パターニング・デバイス、又は、前記基板及び前記パターニング・デバイスの両方を可撓な状態に支持するステップであって、前記チャック・システムが、前記基板又は前記パターニング・デバイスを保持するチャックと、該チャックを保持するフレームとを含み、また、前記チャックと前記フレームの間に少なくとも1つの自由度の可撓サポートを提供するステップと、
前記チャックの変形を予測するステップと、
予測された前記チャックの変形に応答して、(i)前記放射線のビームの特性、又は、(ii)パターン被付与ビーム中のパターンの位置、又は、(iii)(i)及び(ii)の両方を調整するステップと
を含む方法。 - リソグラフィ装置内のオブジェクトを支持するように構築されたチャック・システムであって、
前記オブジェクトを保持するように構築されたチャックと、
前記チャックを保持するように構築されたフレームと、
前記チャックと前記フレームの間で動作可能な、前記チャックを前記フレームに対して支持するように構築されたチャック支持構造と、
少なくとも1つの自由度における前記チャックの変形を予測するように構築されたチャック変形予測デバイスと、
前記チャック変形予測デバイスに接続された投影調整デバイスであって、前記チャック変形予測デバイスによって出力された予測信号に応答して、(i)前記放射線ビームの特性、又は、(ii)前記パターン付与された放射線ビーム中のパターンの位置、又は、(iii)(i)及び(ii)の両方を調整するように構築された投影調整デバイスとを含み、
前記チャック支持構造がたわみ要素を含み、該たわみ要素が前記チャックと前記フレームの間に結合され、また前記たわみ要素が少なくとも1つの自由度で可撓であるチャック・システム。 - 前記オブジェクトが、基板、又は、放射線のビームの断面にパターンを付与するように構築されたパターニング・デバイスである請求項10に記載のチャック・システム。
- 前記たわみ要素は、前記フレームが移動可能な方向に平行な平面内における変形に対して耐性を有している請求項10に記載のチャック・システム。
- 前記チャック支持構造は、前記チャックと前記フレームの間の空間内に延びている請求項10に記載のチャック・システム。
- 前記たわみ要素は前記空間内で少なくとも部分的に延びている請求項13に記載のリソグラフィ装置。
- 前記チャック支持構造は、前記たわみ要素が可撓である方向の変形に対して耐性を有している請求項10に記載のリソグラフィ装置。
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