JP4582306B2 - 光学系及び露光装置 - Google Patents
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また、本発明は、非回転対称な収差の補正を迅速に行うことができる露光技術を提供することを第2の目的とする。
本発明において、その駆動機構は、そのマウント部に固定された固定部(31a)と、この固定部に対してその光軸に交差する方向に可撓性を持つ第1変位部(31b)と、その固定部に対してその光軸の方向に可撓性を持つとともに、その第1変位部のその光軸に交差する方向の変位に連動して実質的にその光軸の方向に変位する第2変位部(31c)とを有し、その第2変位部がその板ばねの一部に固定されている。これによって、簡単な機構でその光軸に交差する方向の変位をその光軸の方向の変位に変換できる。
次に、本発明の露光装置は、パターン(R)の像を投影光学系(PL)を介して基板(W)上に投影する露光装置において、その投影光学系は、本発明の光学系を含むものである。
また、駆動機構によって、光学系の光軸に交差する方向の変位をその光軸の方向の変位に変換することによって、その光学系の側面方向から容易にその駆動機構を操作できる。
次に、本例の投影光学系PL(光学系)の結像特性としてのセンターアス等の非回転対称な収差を補正するための補正機構について説明する。なお、本例の投影光学系PLの光軸AX(Z軸に平行)は鉛直線に平行である。
図3に戻り、ヒンジブロック31の溝部31d及び開口部31eの周囲の弾性変形可能なヒンジ構造によって、ヒンジブロック31の上端部31b(第1変位部)は取り付け部31aに対してほぼX方向に変位可能であり、ヒンジブロック31の底部の先端部31c(第2変位部)は取り付け部31aに対してほぼZ方向に変位可能である。言い換えると、上端部31b及び先端部31cはそれぞれ取り付け部31aに対してほぼX方向及びZ方向に可撓性を有しており、スピンドル34によって上端部31bを所定の中立位置からほぼ−X方向(又は+X方向)に変位させると、上記のヒンジ構造の弾性変形によって、上端部31bに連動して先端部31cはほぼ−Z方向(又は+Z方向)に変位する。
なお、上記の実施形態では投影光学系PLの瞳面の近傍のレンズL1の周縁部の変位分布を制御していたが、例えば投影光学系PLの瞳面の近傍の複数枚のレンズの周縁部の変位分布を独立に制御することで、より高精度に非回転対称な収差を補正することも可能である。また、投影光学系PLの物体面又は像面の近傍の光学部材の周縁部の変位分布を制御することも可能であり、これによって、種々の非回転対称な収差の補正を行うことが可能である。
また、本発明は、半導体デバイス製造用の露光装置への適用に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに形成される液晶表示素子、若しくはプラズマディスプレイ等のディスプレイ装置用の露光装置や、撮像素子(CCD等)、マイクロマシーン、薄膜磁気ヘッド、及びDNAチップ等の各種デバイスを製造するための露光装置にも広く適用できる。更に、本発明は、各種デバイスのマスクパターンが形成されたマスク(フォトマスク、レチクル等)をフォトリソグフィ工程を用いて製造する際の、露光工程(露光装置)にも適用することができる。
Claims (7)
- マウント部とこの近傍に配置された光学部材とを有する光学系において、
前記光学部材の周縁部を支持する一端を有する板ばねと、
前記光学部材の光軸に交差する方向に変位可能な第1変位部と、前記板ばねの他端が取り付けられ、かつ前記第1変位部の前記光軸に交差する方向の変位に連動して、前記光軸の方向に変位する第2変位部とを備え、前記マウント部に固定されるヒンジブロックと、
前記第1変位部に変位力を与え、前記第2変位部を介して前記板ばねの一端を前記光軸の方向に変位させる部材とを備えたことを特徴とする光学系。 - 前記ヒンジブロックは、
前記マウント部に固定された固定部を有し、
前記第1変位部は、前記固定部に対して前記光軸に交差する方向に可撓性を持ち、
前記第2変位部は、前記固定部に対して前記光軸の方向に可撓性を持つことを特徴とする請求項1に記載の光学系。 - 前記板ばねは、前記他端よりも前記一端に近い部分が前記マウント部に固定されており、
前記板ばねの前記他端の変位に対して、前記板ばねの前記一端の変位は逆方向で、かつ変位量が少ないことを特徴とする請求項1又は2に記載の光学系。 - 前記光学部材は回転対称な部材であり、前記マウント部は前記光学部材を囲むように配置された枠状の部材であり、
前記板ばね、前記ヒンジブロック及び前記変位させる部材は、前記光学部材の周縁部に実質的に等角度間隔で少なくとも2箇所に配置されていることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の光学系。 - 前記光学系を支持するためのコラム機構に支持されるフランジ部をさらに備え、
前記マウント部は、前記フランジ部の近傍に組み込まれていることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の光学系。 - パターンの像を投影光学系を介して基板上に投影する露光装置において、
前記投影光学系は、請求項1から5のいずれか一項に記載の光学系を含むことを特徴とする露光装置。 - 前記投影光学系の結像特性を補正するために、前記駆動機構によって前記光学部材を変形させることを特徴とする請求項6に記載の露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004345320A JP4582306B2 (ja) | 2004-11-30 | 2004-11-30 | 光学系及び露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004345320A JP4582306B2 (ja) | 2004-11-30 | 2004-11-30 | 光学系及び露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006156713A JP2006156713A (ja) | 2006-06-15 |
JP4582306B2 true JP4582306B2 (ja) | 2010-11-17 |
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ID=36634611
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004345320A Expired - Fee Related JP4582306B2 (ja) | 2004-11-30 | 2004-11-30 | 光学系及び露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4582306B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4994598B2 (ja) * | 2005-03-18 | 2012-08-08 | キヤノン株式会社 | 駆動装置 |
JP5171061B2 (ja) * | 2007-02-20 | 2013-03-27 | キヤノン株式会社 | 駆動機構 |
EP2255237B1 (en) * | 2008-02-29 | 2021-09-08 | Corning Incorporated | Kinematic optical mount |
DE102012218220A1 (de) * | 2012-10-05 | 2013-11-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsbelichtungsanlage mit Untersetzungskinematik |
DE102016225899A1 (de) * | 2016-12-21 | 2018-06-21 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Modifizieren von Abbildungseigenschaften eines optischen Systems für die Mikrolithographie |
CN111736287B (zh) * | 2020-07-16 | 2022-06-28 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 一种激光系统光学调整架及其电调装置和电调方法 |
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JP2002131605A (ja) * | 2000-08-18 | 2002-05-09 | Nikon Corp | 保持装置、光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにマイクロデバイスの製造方法 |
JP2002244008A (ja) * | 2000-10-31 | 2002-08-28 | Carl-Zeiss-Stiftung Trading As Carl Zeiss | 光学エレメント用の取付装置 |
JP2003532136A (ja) * | 2000-04-25 | 2003-10-28 | エーエスエムエル ユーエス,インコーポレイテッド | 光学システムにおいてレンズを精密に配置および整列する装置、システム、および方法 |
-
2004
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2002244008A (ja) * | 2000-10-31 | 2002-08-28 | Carl-Zeiss-Stiftung Trading As Carl Zeiss | 光学エレメント用の取付装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006156713A (ja) | 2006-06-15 |
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A621 | Written request for application examination |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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