JP4985392B2 - 基板保持装置、露光装置およびデバイスの製造方法 - Google Patents
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
また、円弧状の照明領域内のウエハレチクル180およびウエハ190の移動方向と交差する方向(非スキャン方向)において、レチクル180またはウエハ190に歪みがあった場合、ウエハ制御部310は、更に、基板保持装置200の電極232に個別に駆動電圧を印加する制御も担う。これにより、円弧状の照明領域内の非スキャン方向におけるレチクル180又はウエハ190の歪みも補償できる。
まず、ステップS101(設計ステップ)において、マイクロデバイスの機能・性能設計(例えば、半導体デバイスの回路設計等)を行い、その機能を実現するためのパターン設計を行う。引き続き、ステップS102(マスク製作ステップ)において、設計した回路パターンを形成したマスク(レチクル190など)を製作する。一方、ステップS103(基板製造ステップ)において、シリコン、ガラス、セラミックス等の材料を用いて基板(シリコン材料を用いた場合にはウエハWとなる。)を製造する。
110 光源部
112 ターゲットノズル
114、121、126、141、144 凹面反射鏡
120 照明光学系
122、123 フライアイ反射鏡
124 オプティカルインテグレータ
125、142、143 凸面反射鏡
127 平面反射鏡
128 可動遮光羽根
129 固定遮光羽根
130 レチクルステージ
131 基部
132、152 ステージ部
133 ヒンジ
134 チャック部
135 支持部
137 アクチュエータ
140 投影光学系
150 ウエハステージ
154 チャック部
160 チャンバ
161 本体部
162 封止窓
163 蓋
164 排気孔
170 レーザ光源
172 集光レンズ
180 レチクル
190 ウエハ
200 基板保持装置
201 全体領域
202 基板
203 パターン領域
205 隆起部
210 ベース部
220 弾性支持部
222 隔離空間
224 接触部
226 支持台
230 駆動部
232 電極
234 駆動線
236 連通管
238 制御弁
300 制御系
310 制御部
320 レチクル表面測定部
330 ウエハ表面測定部
Claims (11)
- ベース部と、
基板の一方の面を支持し、前記ベースから突出した複数の突出部を有する支持部と、
前記基板の一方の面内の異なる領域に対して、互いに異なる引き付け力を生成し、互いに異なる前記引き付け力で前記ベース部に前記基板の一方の面を引き付ける駆動部と、
前記駆動部により生成される前記引き付け力のそれぞれを制御する制御部と、
を備え、
前記駆動部は、前記ベース部に設けられ、かつ前記複数の突出部が突出した領域とは異なる領域に備えられる複数の電極を有し、
前記制御部は、前記複数の電極の各々に個別の電圧を印加することにより生成された前記電極ごとの静電力によって、前記引き付け力のそれぞれを制御する、
基板保持装置。 - 前記電極は、前記ベース部の内部に設けられることを特徴とする請求項1に記載の基板保持装置。
- 前記基板は、露光工程によって表面が加工される被加工基板、または、前記被加工基板に形成するためのパターンを備える反射型のパターン形成基板である請求項1または請求項2に記載の基板保持装置。
- 前記支持部は、前記基板に接触する接触部と、前記ベース部に前記接触部を支持する支持台とを有し、
前記接触部は、前記ベース部よりも弾性変形の度合いが大きい材質で形成される、
請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の基板保持装置。 - 前記支持部は、前記ベース部より弾性変形の度合いが大きい材質で形成される請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の基板保持装置。
- 前記支持部は、マトリックス状に配列されたピン状の複数の凸部を有する、
請求項1から請求項5の何れか一項に記載の基板保持装置。 - 第1の基板上に形成されたパターンを第2の基板に形成する露光装置において、
前記第1の基板を保持する第1の基板保持装置と、
前記第2の基板を保持する第2の基板保持装置とを備え、
前記第1の基板保持装置および前記第2の基板保持装置の少なくとも一方を請求項1から請求項6の何れか一項に記載の基板保持装置で構成する露光装置。 - 前記第1の基板保持装置に保持された前記第1の基板と、前記第2の基板保持装置に保持された前記第2の基板とを所定方向に同期移動させる駆動装置をさらに備え、
前記制御部は、前記所定方向と異なる方向において前記引き付け力を制御する、
請求項7に記載の露光装置。 - 前記支持部は、前記異なる方向に繰り返す構造で形成される、
請求項8に記載の露光装置。 - 前記支持部は、前記所定方向に長辺を有するストライプ状の凸部を有する、
請求項8に記載の露光装置。 - パターンが形成されたマスク基板を用意する段階と、
請求項1から請求項6の何れか一項に記載の基板保持装置に前記マスク基板を載置する段階と、
前記基板保持装置の前記制御部により、前記ベース部に対する前記基板の引き付け力を前記マスク基板の一方の面内における異なる領域ごとに制御する段階と、
前記マスク基板に光を照射すると共に、前記マスク基板を介した前記光を感光材料が塗布された感光基板に照射する段階と、
を備えたデバイスの製造方法。
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