JP2009302149A - 露光装置およびデバイスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ベース部に支持されつつパターン面に対して他方の面においてパターン形成基板に接してパターン形成基板を支持する弾性支持部、および、パターン形成基板の互いに異なる領域毎に異なる力を他方の面から加えてパターン面を変形させる駆動部を有する保持部と、保持部に保持されたパターン形成基板のパターン面の表面形状を測定して測定データを生成する測定部と、パターン面の目標形状に関する目標データを格納する格納部と、測定データおよび目標データに基づいて、異なる領域毎の駆動部を個別に制御することにより、パターン面の表面形状を目標形状に近づける制御部と、を備える。
【選択図】図7
Description
まず、ステップS101(設計ステップ)において、マイクロデバイスの機能・性能設計(例えば、半導体デバイスの回路設計等)を実行して、その機能を実現するためのパターン設計を実施する。引き続き、ステップS102(マスク製作ステップ)において、設計した回路パターンを形成したマスク(レチクル180など)を製作する。一方、ステップS103(基板製造ステップ)において、シリコン、ガラス、セラミックス等の材料を用いて基板(シリコン材料を用いた場合にはウエハWとなる。)を製造する。
Claims (11)
- パターンが形成されたパターン面を有するパターン形成基板を用いてパターン露光する露光装置であって、
ベース部、前記ベース部に支持され、かつ前記ベース部の弾性率よりも小さな弾性率を有し、前記パターン面に対して前記パターン形成基板の他方の面に接して前記パターン形成基板を支持する弾性支持部、および、前記パターン形成基板の互いに異なる領域毎に異なる力を前記他方の面から加えて前記パターン面を変形させる駆動部を有する保持部と、
前記保持部に保持された前記パターン形成基板の前記パターン面の表面形状を測定して測定データを生成する測定部と、
前記パターン面の目標形状に関する目標データを格納する格納部と、
前記測定データおよび前記目標データに基づいて、前記異なる領域毎の前記駆動部を個別に制御することにより、前記パターン面の表面形状を前記目標形状に近づける制御部と、
を備える露光装置。 - 前記ベース部は、前記駆動部として、前記パターン面の異なる領域に個別に対向して配置された複数の電極を有し、
前記制御部は、前記複数の電極の各々に印加する電圧を個別に制御して、前記パターン面の表面形状を前記目標形状に近づける
請求項1に記載の露光装置。 - 前記弾性支持部は、支持した前記パターン形成基板の前記他方の面と、前記ベース部の表面との間に、複数の隔離空間を形成する隔離壁を有し、
前記制御部は、前記隔離空間の内部圧力を変化させることにより、前記パターン面の表面形状を前記目標形状に近づける、
請求項1に記載の露光装置。 - パターンが形成されたパターン面を有するパターン形成基板を保持する保持部と、
前記パターン形成基板の異なる領域に個々に対応して設けられ、前記パターン面を変形させる駆動部と、
前記保持部に保持された前記パターン形成基板の前記パターン面の表面形状を測定して測定データを生成する測定部と、
前記パターン面の目標形状に関する目標データを格納する格納部と、
前記測定データおよび前記目標データに基づいて、前記異なる領域毎の前記駆動部を個別に制御することにより、前記パターン面の表面形状を前記目標形状に近づける制御部と、
を備える露光装置。 - 前記駆動部は、前記パターン形成基板の内部に埋設され、
前記パターン面から前記駆動部までの距離は、前記パターン面に対して他方の面から前記駆動部までの距離に比較して短い、
請求項4に記載の露光装置。 - 前記目標形状は平坦面である、
請求項1から請求項5までの何れか一項に記載の露光装置。 - 前記パターン形成基板を所定方向に移動させる駆動装置をさらに備え、
前記制御部は、
前記駆動装置による前記パターン形成基板の移動に従い、前記測定データを前記格納部から読み出すデータ読出部と、
前記データ読出部が読み出した前記測定データから、前記パターン面の前記異なる領域ごとの補正信号を生成する補正信号生成部と、
を有する、請求項1から請求項6の何れか一項に記載の露光装置。 - パターンが形成されたパターン面および他方の面を有するパターン形成基板を用意する段階と、
前記パターン形成基板を保持する段階と、
保持された前記パターン形成基板の前記パターン面の表面形状を測定して測定データを生成する測定段階と、
前記測定データおよび格納部に格納された目標形状を示す目標データを参照して、前記パターン面の異なる領域に対し互いに異なる力を加えて前記パターン面を変形させることにより、前記パターン面の表面形状を前記目標形状に近づける制御段階と、
を備えるデバイスの製造方法。 - 前記測定段階で測定した前記測定データを前記格納部に格納する段階をさらに備え、
前記制御段階は、
前記パターン形成基板の移動に従い前記測定データを前記格納部から読み出すデータ読出段階と、
前記データ読出段階で読み出した前記測定データから、前記パターン面の前記異なる領域ごとの補正信号を生成する補正信号生成段階と、
を有する請求項8に記載のデバイスの製造方法。 - 前記制御段階の後、さらに前記制御段階で前記目標形状に近づけた前記パターン面の表面形状を測定して第2測定データを生成する第2測定段階と、
前記第2測定データを参照して、前記パターン面の表面形状を前記目標形状に近づける第2制御段階と、
を備える請求項9に記載のデバイスの製造方法。 - 前記測定データを、前記第2測定データに置き換える段階、
をさらに備える請求項10に記載のデバイスの製造方法。
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